JP4198742B2 - オキシメチルホウ素化合物 - Google Patents

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Description

本発明は、芳香環にオキシメチル基（例えば、種々のアルコキシメチル基やヒドロキシメチル基）の導入反応に有用なホウ素化合物に関する。特に、本発明は、種々のアルコキシメチル基の導入反応に有用なホウ素化合物もしくはその塩またはそれらの溶媒和物に関し、例えば、一般式、Ｘ−Ｏ−ＣＨ２−ＢＦ２ＦｍＭｋ、で表される金属アルコキシメチルトリフルオロボレート等に関する。なお、式中、Ｍはアルカリ金属等を示し、Ｘは、置換基を有していてもよいＣ１−６アルキル基または置換基を有していてもよいＣ３−８シクロアルキル基等を示し、ｍおよびｋはそれぞれ独立して０または１を示す。
パラジウム触媒を用いて芳香環にアルコキシメチル基あるいはヒドロキシメチル基等のオキシメチル基を導入するカップリング反応において、アルコキシメチルスズ試薬等の有機スズ試薬を用いることが報告されている。この反応に用いられている有機スズ試薬として、非特許文献１に開示されているメトキシメチルトリブチルスズ試薬あるいは非特許文献２に開示されているヒドロキシメチルトリブチルスズ試薬等が報告されている。
Chem.Lett. 1984, 1225。 Chem.Lett. 1985, 997。
これらの有機スズ試薬はスズ試薬特有の毒性を有するという問題点がある。また、これらの有機スズ試薬の製造は、その多くにおいて、シリカゲルを用いたクロマトグラフィーによる精製が必要となり、工業上の大量生産に向かないという問題がある。これら問題とは別に、またはこれら問題に加えて、カップリング反応が進行しない芳香環基質や反応性の低い芳香環基質があるため、該スズ試薬は適用可能な基質に制限があるという課題もある。
芳香環へのヒドロキシメチル化についても同様の課題が存在している。
一方、オキシメチル基が導入可能なホウ素化合物は、カップリング反応への適用については知られていない。
特に、パラジウム触媒を用いて芳香環をアルコキシメチル化あるいはヒドロキシメチル化するカップリング反応において、有機スズ試薬に替わる安全性に優れた化合物が要望されている。
また、シリカゲル等を用いたクロマトグラフィー精製を必要とせず、大量生産に好適な化合物およびその製造方法も望まれている。
上記課題とは別に、またはこれら問題に加えて、有機スズ試薬を使用する場合には、通常カップリング反応が進行しない芳香環基質やクロロベンゼンのように反応性の低い芳香環基質に対しても反応が進行する化合物が望まれている。
また、種々の官能基を有するアルコキシメチル基の導入が可能である化合物も望まれている。
そこで、本発明の目的は、上記課題を解決することにある。
即ち、本発明の目的は、パラジウム触媒を用いて芳香環をオキシメチル化するカップリング反応において、有機スズ試薬に替わる安全性に優れた化合物を提供することにある。
また、本発明の目的は、上記目的とは別に、または上記目的に加えて、調製の際に、シリカゲル等を用いたクロマトグラフィー精製を必要とせず、大量生産に好適な化合物を提供することにある。
さらに、本発明の目的は、上記目的とは別に、または上記目的に加えて、有機スズ試薬ではカップリング反応が進行しない芳香環基質あるいはクロロベンゼンのような反応性の低い芳香環基質に対しても反応が進行する化合物を提供することにある。
また、本発明の目的は、上記目的とは別に、または上記目的に加えて、芳香環基等へ種々の官能基を有するアルコキシメチル基の導入が可能である化合物を提供することにある。
本発明者らは、芳香環にオキシメチル基を導入可能なホウ素化合物により、上記課題を解決できることを見出した。即ち、以下の発明により、上記課題を解決できることを見出した。
＜１＞ 芳香環にオキシメチル基を導入することができるホウ素化合物もしくはその塩またはそれらの溶媒和物。
＜２＞ 上記＜１＞において、オキシメチル基がアルコキシメチル基またはヒドロキシメチル基であるのがよい。
＜３＞ 上記＜１＞又は＜２＞において、ホウ素化合物がホウ酸誘導体であるのがよい。
＜４＞ 上記＜１＞〜＜３＞のいずれかにおいて、ホウ素化合物が下記部分構造式を有するのがよい。
Figure 0004198742
＜５＞ 下記式Ｉ
（式中、Ｍはアルカリ金属、Ｎ（Ｒ１）（Ｒ２）（Ｒ３）（Ｒ４）またはＰ（Ｒ１）（Ｒ２）（Ｒ３）（Ｒ４）（Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４はそれぞれ独立して、Ｃ１−６アルキル基またはＣ７−１５アラルキル基を意味する。）を意味し；
Ｘは、下記Ａ群から選ばれる１〜３個の基を有していてもよいＣ１−６アルキル基、下記Ａ群から選ばれる１〜３個の基を有していてもよいＣ３−８シクロアルキル基、下記Ｂ群から選ばれる１〜３個の基を有していてもよい５−６員非芳香族へテロ環式基、またはＲ５Ｃ（＝Ｏ）（Ｒ５は水素原子、Ｃ１−６アルキル基またはＣ３−８シクロアルキル基を意味する）を意味し；
Ａ群は、Ｃ１−６アルキル基もしくはＣ３−８シクロアルキル基を有していてもよいアミノ基、ヒドロキシ基、Ｃ１−６アルキル基、Ｃ３−８シクロアルキル基、Ｃ１−６アルコキシ基、Ｃ３−８シクロアルコキシ基および下記Ｂ群より選ばれる１〜３個の基を有していてもよい５−６員非芳香族へテロ環式基を示し；
Ｂ群は、Ｃ１−６アルキル基またはＣ１−６アルコキシカルボニル基を示し；
ｍは０または１の整数を示し；
ｋは０または１の整数を示す。但し、ｍ＝０のとき、Ｘがホウ素原子と一緒になって環構造を形成することができる。）で表される化合物またはその溶媒和物：
Ｘ−Ｏ−ＣＨ２−ＢＦ２ＦｍＭｋ （式Ｉ）。
＜６＞ 下記式Ｉ−ａ
（式中、Ｍはアルカリ金属、Ｎ（Ｒ１）（Ｒ２）（Ｒ３）（Ｒ４）またはＰ（Ｒ１）（Ｒ２）（Ｒ３）（Ｒ４）（Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４はそれぞれ独立して、Ｃ１−６アルキル基またはＣ７−１５アラルキル基を意味する。）（但し、Ｍは、分子内の陰イオンとイオン対を形成する。）を意味し；
Ｘは、下記Ａ群から選ばれる１〜３個の基を有していてもよいＣ１−６アルキル基、下記Ａ群から選ばれる１〜３個の基を有していてもよいＣ３−８シクロアルキル基、下記Ｂ群から選ばれる１〜３個の基を有していてもよい５−６員非芳香族へテロ環式基、またはＲ５Ｃ（＝Ｏ）（Ｒ５は水素原子、Ｃ１−６アルキル基またはＣ３−８シクロアルキル基を意味する）を意味し；
Ａ群は、Ｃ１−６アルキル基もしくはＣ３−８シクロアルキル基を有していてもよいアミノ基、ヒドロキシ基、Ｃ１−６アルキル基、Ｃ３−８シクロアルキル基、Ｃ１−６アルコキシ基、Ｃ３−８シクロアルコキシ基および下記Ｂ群より選ばれる１〜３個の基を有していてもよい５−６員非芳香族へテロ環式基を示し；
Ｂ群は、Ｃ１−６アルキル基またはＣ１−６アルコキシカルボニル基を示す）で表される化合物：
Ｘ−Ｏ−ＣＨ２−ＢＦ３Ｍ （式Ｉ−ａ）；
下記式ＩＩ（式中、Ｘは前記定義と同義である）で表される化合物：
Ｘ−Ｏ−ＣＨ２−ＢＦ２ （式ＩＩ）；または
下記式ＩＩＩ（式中、Ｍは前記定義と同義であり、ｎは２または３の整数を示す）で表される化合物またはそれらの溶媒和物。
Figure 0004198742
＜７＞ 上記＜５＞または＜６＞において、Ｍがアルカリ金属であるのがよい。
＜８＞ 上記＜５＞〜＜７＞のいずれかにおいて、Ｍがカリウムまたはナトリウムであるのがよい。
＜９＞ 上記＜５＞〜＜８＞のいずれかにおいて、５−６員非芳香族へテロ環式基がテトラヒドロフラニル基、テトラヒドロピラニル基、ピペリジル基、ピロリジニル基またはモルホリニル基であるのがよい。
＜１０＞ 上記＜５＞〜＜９＞のいずれかにおいて、Ｘが下記Ａ１群から選ばれる１〜３個の基を有していてもよいＣ１−６アルキル基であり；
Ａ１群が、Ｃ１−６アルキル基もしくはＣ３−８シクロアルキル基を有していてもよいアミノ基、ヒドロキシ基、Ｃ１−６アルキル基、Ｃ３−８シクロアルキル基、Ｃ１−６アルコキシ基、Ｃ３−８シクロアルコキシ基および下記Ｂ１群より選ばれる１〜３個の基を有していてもよい５−６員非芳香族へテロ環式基であり；
Ｂ１群がＣ１−６アルキル基またはＣ１−６アルコキシカルボニル基であるのがよい。
＜１１＞ ポタシウム ｔ−ブトキシメチル トリフルオロボレート、ポタシウム メトキシメチル トリフルオロボレート、ポタシウム エトキシメチル トリフルオロボレート、ポタシウム（２−メトキシエトキシメチル）トリフルオロボレート、ポタシウム シクロプロピルメトキシメチル トリフルオロボレート、ポタシウム ｛［2-（ジメチルアミノ）エトキシ］メチル｝ トリフルオロボレート、ポタシウム シクロブトキシメチル トリフルオロボレート、ポタシウム ２−ピペリジン−１−イル−エトキシ−メチル トリフルオロボレート、ポタシウム [（２−モルホリン−４−イルエトキシ）メチル] トリフルオロボレート、ポタシウム トリフルオロ［（３−モルホリン−4−イルプロポキシ）メチル］ボレート、ポタシウム （１−メチル−ピペリジン−４−イルオキシ）−メチル トリフルオロボレート、テトラブチルアンモニウム メトキシメチル トリフルオロボレート、ポタシウム ｛［２−（１−メチルピペラジン−4−イル）エトキシ］メチル｝ トリフルオロボレート、ポタシウム ４−（ジメチルアミノ）ブトキシ−メチル トリフルオロボレート、ポタシウム {２−[シクロヘキシル（メチル）アミノ]エトキシ}メチル トリフルオロボレート、（２−メチルプロポキシ）メチル ボロニック アシッド、ソジウム シクロプロピルメトキシメチル トリフルオロボレート、ポタシウム ブトキシメチル トリフルオロボレート、ソジウム [[[[３Ｒ]−１−ｔ−ブトキシカルボニル]ピロリジン−３−イル]オキシ]メチル（トリフルオロ）ボレート、ソジウム イソプロポキシメチル トリフルオロボレート、ソジウム テトラヒドロ−フラン−２−イルメトキシメチル トリフルオロボレート、ソジウム テトラヒドロピラン−４−イルオキシ−メチル トリフルオロボレート、ソジウム ２−シクロヘキシルオキシ−エトキシメチル トリフルオロボレート、ソジウム ３−メトキシ−１−プロポキシメチル トリフルオロボレート、ソジウム （２−ヒドロキシエトキシ）メチル トリフルオロボレート、ポタシウム アセトキシメチル トリフルオロボレート、ソジウム ホルミルオキシメチル トリフルオロボレート、ソジウム [（シクロペンチルカルボニル）オキシ]メチル トリフルオロボレート及びソジウム [（２，２−ジメチル）プロピオニルオキシ]メチル トリフルオロボレート；からなる群から選ばれる化合物またはその溶媒和物。
＜Ｐ１＞ 下記式Ｉｐで表される化合物またはその溶媒和物：
Ｘｐ−Ｏ−ＣＨ２−ＢＦ３Ｍｐ （式Ｉｐ）
式中、Ｍｐは、アルカリ金属を意味する。
Ｘｐは、下記Ａｐ群から選ばれる１〜３個の基を有していてもよいＣ１−６アルキル基、下記Ａｐ群から選ばれる１〜３個の基を有していてもよいＣ３−８シクロアルキル基、下記Ｂｐ群から選ばれる１〜３個の基を有していてもよいピロリジン−３−イル基、下記Ｂｐ群から選ばれる１〜３個の基を有していてもよいピペリジン−３−イル基、下記Ｂｐ群から選ばれる１〜３個の基を有していてもよいピペリジン−４−イル基、テトラヒドロフラン−３−イル基またはテトラヒドロピラン−４−イル基を意味する。
Ａｐ群は、Ｃ１−６アルキル基、下記Ｂｐ群から選ばれる１〜３個の基を有していてもよいＣ３−８シクロアルキル基、Ｃ１−６アルコキシ基、Ｃ３−８シクロアルキルオキシ基、テトラヒドロフラン−２−イル基、テトラヒドロフラン−３−イル基、テトラヒドロピラン−２−イル基、テトラヒドロピラン−３−イル基、テトラヒドロピラン−４−イル基、下記Ｂｐ群から選ばれる１〜３個の基を有していてもよいピロリジン−２−イル基、下記Ｂｐ群から選ばれる１〜３個の基を有していてもよいピロリジン−３−イル基、下記Ｂｐ群から選ばれる１〜３個の基を有していてもよいピペリジン−２−イル基、下記Ｂｐ群から選ばれる１〜３個の基を有していてもよいピペリジン−３−イル基、下記Ｂｐ群から選ばれる１〜３個の基を有していてもよいピペリジン−４−イル基、下記Ｂｐ群から選ばれる１〜３個の基を有していてもよいモルホリン−２−イル基、下記Ｂｐ群から選ばれる１〜３個の基を有していてもよいモルホリン−３−イル基、下記Ｂｐ群から選ばれる１〜３個の基を有していてもよいピペラジン−２−イル基および式−Ｘｐ ２−Ｘｐ ３（式中、Ｘｐ ２は、下記Ｂｐ群から選ばれる１〜２個の基を有していてもよいメチレン基を意味する。Ｘｐ ３は、式−ＮＲｐ ２Ｒｐ ３（式中、Ｒｐ ２およびＲｐ ３は、それぞれ独立して水素原子、Ｃ１−６アルキル基またはＣ３−８シクロアルキル基を意味する。）で表わされる基、水酸基、アゼチジン−1−イル基、ピロリジン−1−イル基、ピペリジン−1−イル基、アゼパン−1−イル基、アゾカン−1−イル基、モルホリン−４−イル基、チオモルホリン−４−イル基または下記Ｂｐ群から選ばれる１個の基を有していてもよいピペラジン−1−イル基を意味する。）で表わされる基からなる群を意味する。
Ｂｐ群は、Ｃ１−６アルキル基を意味する。
＜Ｐ２＞ 上記＜Ｐ１＞において、Ｍｐがカリウムまたはナトリウムであるのがよい。
＜Ｐ３＞ 上記＜Ｐ１＞において、Ｍｐがカリウムであるのがよい。
＜Ｐ４＞ 上記＜Ｐ１＞〜＜Ｐ３＞のいずれかにおいて、Ｘｐが、下記Ａｐ２群から選ばれる１個の基を有していてもよいＣ１−６アルキル基であるのがよい。ここで、Ａｐ２群は、２−ジメチルアミノエチル基、２−メトキシエチル基およびシクロプロピルメチル基からなる群である。
＜Ｐ５＞ 上記＜Ｐ１＞〜＜Ｐ３＞のいずれかにおいて、Ｘｐが、Ｃ１−６アルキル基、上述のＡｐ２群から選ばれる１個の基を有するエチル基または下記Ａｐ２群から選ばれる１個の基を有するメチル基であるのがよい。
＜Ｐ６＞ 上記＜Ｐ１＞〜＜Ｐ３＞のいずれかにおいて、Ｘｐが、シクロプロピルメチル基、ｔ−ブチル基、メチル基、２−ジメチルアミノエチル基または２−メトキシエチル基であるのがよい。
＜Ｐ７＞ 上記＜Ｐ１＞〜＜Ｐ６＞のいずれかの化合物またはその溶媒和物の、芳香環をアルコキシメチル化するカップリング反応におけるカップリング試薬としての用途。
＜Ｐ８＞ パラジウム触媒を用いて芳香環をアルコキシメチル化するカップリング試薬であって、上記式Ｉで表されるカップリング試薬。
＜Ｐ９＞ 上記＜Ｐ８＞において、上記＜Ｐ１＞〜＜Ｐ６＞のいずれかの特徴を有するのがよい。
本発明により、上記課題を解決することができる。
即ち、本発明により、パラジウム触媒を用いて芳香環をオキシメチル化するカップリング反応において、有機スズ試薬に替わる安全性に優れた化合物を提供することができる。
また、本発明により、上記効果とは別に、または上記効果に加えて、調製の際に、シリカゲル等を用いたクロマトグラフィー精製を必要とせず、大量生産に好適な化合物を提供することができる。
したがって、本発明にかかる化合物は、オキシメチル基を芳香環に導入するための反応試薬としても有用である。
さらに、本発明により、上記効果とは別に、または上記効果に加えて、アルコキシメチルスズ試薬ではカップリング反応が進行しない芳香環基質、あるいはクロロベンゼンのような反応性の低い芳香環基質に対しても反応が進行する化合物を提供することができる。
また、本発明により、上記効果とは別に、または上記効果に加えて、オキシメチル化の際に、種々の置換基の導入が可能である化合物を提供することができる。
以下、本発明を詳細に説明する。
本発明は、芳香環にオキシメチル基を導入することができるホウ素化合物もしくはその塩またはそれらの溶媒和物である。
次に、本明細書において使用される各種の用語について説明する。
本発明において、「芳香環」とは、芳香性を有する環状の化合物を意味し、単環でも二環でもよく、芳香族炭化水素環式基でも芳香族へテロ環式基でもよく、また置換基を有していてもよく、具体的に例えば、ベンゼン環、ナフタレン環、フラン環、チオフェン環、ピロール環、イミダゾール環、トリアゾール環、テトラゾール環、チアゾール環、ピラゾール環、オキサゾール環、イソオキサゾール環、イソチアゾール環、フラザン環、チアジアゾール環、オキサジアゾール環、ピリジン環、ピラジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、トリアジン環、プリニル環、プテリジン環、キノリン環、イソキノリン環、ナフチリジン環、キノキサリン環、シンノリン環、キナゾリン環、フタラジン環、イミダゾピリジン環、イミダゾチアゾール環、イミダゾオキサゾール環、ベンゾチアゾール環、ベンゾオキサゾール環、ベンゾイミダゾール環、インドール環、イソインドール環、インダゾール環、ピロロピリジン環、チエノピリジン環、フロピリジン環、ベンゾチアジアゾール環、ベンゾオキサジアゾール環、ピリドピリミジン環、ベンゾフラン環、ベンゾチオフェン環、ベンゾ[１，３]ジオキソール環、チエノフラン環等が挙げられる
本発明において、「オキシメチル基」とは、アルコキシメチル基またはヒドロキシメチル基のことを意味し、加水分解等所定の処理によりヒドロキシメチル基へ変換されるものも含まれる。
本発明において、「ホウ素化合物」とは、その構造にホウ素原子を有するものを意味し、例えば、下記式（ＩＶ）で表されるようなホウ酸誘導体
ＸＯ−ＣＨ２−Ｂ（ＯＨ）２ （式ＩＶ）
（式中、Ｘは、下記Ａ群から選ばれる１〜３個の基を有していてもよいＣ１−６アルキル基、下記Ａ群から選ばれる１〜３個の基を有していてもよいＣ３−８シクロアルキル基、下記Ｂ群から選ばれる１〜３個の基を有していてもよい５−６員非芳香族へテロ環式基、またはＲ５Ｃ（＝Ｏ）（Ｒ５は水素原子、Ｃ１−６アルキル基またはＣ３−８シクロアルキル基を意味する）を意味し；
Ａ群は、Ｃ１−６アルキル基もしくはＣ３−８シクロアルキル基を有していてもよいアミノ基、ヒドロキシ基、Ｃ１−６アルキル基、Ｃ３−８シクロアルキル基、Ｃ１−６アルコキシ基、Ｃ３−８シクロアルコキシ基および下記Ｂ群より選ばれる１〜３個の基を有していてもよい５−６員非芳香族へテロ環式基を示し；
Ｂ群は、Ｃ１−６アルキル基またはＣ１−６アルコキシカルボニル基を示す。）
や下記部分構造式で表される化合物や下記式Ｉで表される化合物等が挙げられるが、好ましくは式Ｉで表される化合物である。
Figure 0004198742
Ｘ−Ｏ−ＣＨ２−ＢＦ２ＦｍＭｋ （式Ｉ）
（式中、式中、Ｍはアルカリ金属、Ｎ（Ｒ１）（Ｒ２）（Ｒ３）（Ｒ４）またはＰ（Ｒ１）（Ｒ２）（Ｒ３）（Ｒ４）（Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４はそれぞれ独立して、Ｃ１−６アルキル基またはＣ７−１５アラルキル基を意味する。）（但し、Ｍは、分子内の陰イオンとイオン対を形成する。）を意味し;
Ｘは、下記Ａ群から選ばれる１〜３個の基を有していてもよいＣ１−６アルキル基、下記Ａ群から選ばれる１〜３個の基を有していてもよいＣ３−８シクロアルキル基、下記Ｂ群から選ばれる１〜３個の基を有していてもよい５−６員非芳香族へテロ環式基、またはＲ５Ｃ（＝Ｏ）（Ｒ５は水素原子、Ｃ１−６アルキル基またはＣ３−８シクロアルキル基を意味する）を意味し；
Ａ群は、Ｃ１−６アルキル基もしくはＣ３−８シクロアルキル基を有していてもよいアミノ基、ヒドロキシ基、Ｃ１−６アルキル基、Ｃ３−８シクロアルキル基、Ｃ１−６アルコキシ基、Ｃ３−８シクロアルコキシ基および下記Ｂ群より選ばれる１〜３個の基を有していてもよい５−６員非芳香族へテロ環式基を示し；
Ｂ群は、Ｃ１−６アルキル基またはＣ１−６アルコキシカルボニル基を示し；
ｍは０または１の整数を示し；
ｋは０または１の整数を示す。但し、ｍ＝０のとき、Ｘがホウ素原子と一緒になって環構造を形成することができる。）
Ｘは、下記Ａ群から選ばれる１〜３個の基を有していてもよいＣ１−６アルキル基またはＲ５Ｃ（＝Ｏ）（Ｒ５は水素原子、Ｃ１−６アルキル基またはＣ３−８シクロアルキル基を意味する）が好ましい。
Ａ群は、Ｃ１−６アルキル基もしくはＣ３−８シクロアルキル基を有していてもよいアミノ基、ヒドロキシ基、Ｃ１−６アルキル基、Ｃ３−８シクロアルキル基、Ｃ１−６アルコキシ基、Ｃ３−８シクロアルキルオキシ基および下記Ｂ群より選ばれる１〜３個の基を有していてもよい５−６員非芳香族へテロ環式基を意味する。なお、５−６員非芳香族へテロ環式基がテトラヒドロフラニル基、テトラヒドロピラニル基、ピペリジル基、ピロリジニル基またはモルホリニル基であるのが好ましい。
Ｂ群は、Ｃ１−６アルキル基またはＣ１−６アルコキシカルボニル基を意味する。メチル基またはｔ−ブチルオキシカルボニル基が好ましい。
また、本発明は、式Ｉ−ａで表される化合物、式ＩＩで表される化合物、または式ＩＩＩで表されるホウ素化合物を提供する。なお、式Ｉ−ａ、及びＩＩＩにおいて、Ｍは上述と同義であり、式Ｉ−ａ、ＩＩ及びＩＩＩにおいて、Ｘは、上述と同義である。好ましくは、式Ｉ−ａで表される化合物である。
Ｘ−Ｏ−ＣＨ２−ＢＦ３Ｍ （式Ｉ−ａ）
Ｘ−Ｏ−ＣＨ２−ＢＦ２ （式ＩＩ）
Figure 0004198742
本願において「アルカリ金属」とは、周期表１族に属する金属をいい、例えば、リチウム、ナトリウムまたはカリウム等を挙げることができる。
本願において「Ｃ１−６アルキル基」とは、炭素数１〜６個の脂肪族炭化水素から任意の水素原子を１個除いて誘導される一価の基である、炭素数１〜６個の直鎖状または分枝鎖状のアルキル基を意味する。具体的には例えばメチル基、エチル基、１−プロピル基、２−プロピル基、２−メチル−１−プロピル基、２−メチル−２−プロピル基、１−ブチル基、２−ブチル基、１−ペンチル基、２−ペンチル基、３−ペンチル基、２−メチル−１−ブチル基、３−メチル−１−ブチル基、２−メチル−２−ブチル基、３−メチル−２−ブチル基、２，２−ジメチル−１−プロピル基、１−へキシル基、２−へキシル基、３−へキシル基、２−メチル−１−ペンチル基、３−メチル−１−ペンチル基、４−メチル−１−ペンチル基、２−メチル−２−ペンチル基、３−メチル−２−ペンチル基、４−メチル−２−ペンチル基、２−メチル−３−ペンチル基、３−メチル−３−ペンチル基、２，３−ジメチル−１−ブチル基、３，３−ジメチル−１−ブチル基、２，２−ジメチル−１−ブチル基、２−エチル−１−ブチル基、３，３−ジメチル−２−ブチル基、２，３−ジメチル−２−ブチル基等を挙げることができる。
また、本願において「Ｃ３−８シクロアルキル基」とは、炭素数３〜８個の環状の脂肪族炭化水素基を意味し、具体的には例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチニル基等を挙げることができる。
本願において「Ｃ１−６アルコキシ基」とは、前述した「Ｃ１−６アルキル基」が結合したオキシ基を意味する。具体的には例えばメトキシ基、エトキシ基、１−プロピルオキシ基、２−プロピルオキシ基、２−メチル−１−プロピルオキシ基、２−メチル−２−プロピルオキシ基、１−ブチルオキシ基、２−ブチルオキシ基、１−ペンチルオキシ基、２−ペンチルオキシ基、３−ペンチルオキシ基等を挙げることができる。
本願において「Ｃ３−８シクロアルキルオキシ基」とは前記定義の「Ｃ３−８シクロアルキル基」が結合したオキシ基を意味する。具体的には例えば、シクロプロピルオキシ基、シクロブチルオキシ基、シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、シクロヘプチルオキシ基、シクロオクチニルオキシ基等を挙げることができる。
本願において「Ｃ１−６アルコキシカルボニル基」とは、前記定義の「Ｃ１−６アルコキシ基」が結合したカルボニル基を意味する。具体的には例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、１−プロピルオキシカルボニル基、２−プロピルオキシカルボニル基等が挙げられる。
本願において「５−６員非芳香族へテロ環式基」とは、ｉ）環を構成する原子の数が５または６であり、ｉｉ）環を構成する原子中に１〜２個のヘテロ原子を含有し、ｉｉｉ）環中に二重結合を１〜２個含んでいてもよく、ｉｖ）環中にカルボニル基を１〜３個含んでいてもよい、ｖ）単環式である非芳香族性の環式基を意味し、具体例としては、例えばピロリジニル基、ピペリジニル基、ピペラジニル基、モルホリニル基、チオモルホリニル基、テトラヒドロフリル基、テトラヒドロピラニル基、ジオキサニル基、テトラヒドロチエニル基、テトラヒドロチオピラニル基、オキサゾリジニル基、チアゾリジニル基等が挙げられる。
本願において、「Ｃ７−１５アラルキル基」とは、前記「Ｃ１−６アルキル基」にＣ６−１４アリール基（炭素数が６ないし１４個の芳香族の炭化水素環式基を意味し、具体例としては、例えばフェニル基、ナフチル基（１−ナフチル基、２−ナフチル基）インデニル基、アズレニル基、ヘプタレニル基、インダセニル基、ビフェニレニル基、アセナフチレニル基、フルオレニル基、フェナレニル基、フェナントレニル基、アントラセニル基等が挙げられる。）が結合した官能基を意味し、具体的に例えば、ベンジル基、α−ナフチルメチル基、β−ナフチルメチル基、インデニルメチル基、１−フェネチル基、２−フェネチル基、１−ナフチルエチル基、２−ナフチルエチル基、１−フェニルプロピル基、２−フェニルプロピル基、３−フェニルプロピル基、１−ナフチルプロピル基、２−ナフチルプロピル基、３−ナフチルプロピル基、１−フェニルブチル基、２−フェニルブチル基、３−フェニルブチル基、４−フェニルブチル基、１−ナフチルブチル基、２−ナフチルブチル基、３−ナフチルブチル基、４−ナフチルブチル基、１−フェニルペンチル基、２−フェニルペンチル基、３−フェニルペンチル基、４−フェニルペンチル基、５−フェニルペンチル基、１−ナフチルペンチル基、２−ナフチルペンチル基、３−ナフチルペンチル基、４−ナフチルペンチル基、５−ナフチルペンチル基、１−フェニルヘキシル基、２−フェニルヘキシル基、３−フェニルヘキシル基、４−フェニルヘキシル基、５−フェニルヘキシル基、６−フェニルヘキシル基、１−ナフチルヘキシル基、２−ナフチルヘキシル基、３−ナフチルヘキシル基、４−ナフチルヘキシル基、５−ナフチルヘキシルまたは６−ナフチルヘキシル基等が挙げられる。
また、本願明細書における「溶媒和物」とは、本発明にかかる化合物と溶媒により形成される溶媒和物であり、溶媒和物における溶媒の種類、溶媒和物における化合物に対する溶媒の比等、特に限定されない。
溶媒和物として好ましくは溶媒和物、アルコール和物（例えばメタノール和物、エタノール和物、プロパノール和物、イソプノパノール和物等）、エステル和物（酢酸エチル和物等）、エーテル和物（メチルエーテル和物、エチルエーテル和物、テトラハイドロフラン等）、またはジメチルホルムアミド和物等であり、特に好ましくは水和物、またはアルコール和物（例えばメタノール和物、エタノール和物）等であり、また、薬理学的に許容される溶媒が好ましい。
また、本発明は、ある面において、下記式Ｉｐで表される化合物またはその溶媒和物を提供する。
Ｘｐ−Ｏ−ＣＨ２−ＢＦ３Ｍｐ 式Ｉｐ。
式中、Ｍｐはアルカリ金属を意味する。Ｍｐは、カリウムまたはナトリウムであるのが好ましく、より好ましくはカリウムであるのがよい。
また、式中、Ｘｐは、下記Ａｐ群から選ばれる１〜３個の基を有していてもよいＣ１−６アルキル基、下記Ａｐ群から選ばれる１〜３個の基を有していてもよいＣ３−８シクロアルキル基、下記Ｂｐ群から選ばれる１〜３個の基を有していてもよいピロリジン−３−イル基、下記Ｂｐ群から選ばれる１〜３個の基を有していてもよいピペリジン−３−イル基、下記Ｂｐ群から選ばれる１〜３個の基を有していてもよいピペリジン−４−イル基、テトラヒドロフラン−３−イル基またはテトラヒドロピラン−４−イル基を意味する。
Ａｐ群は、Ｃ１−６アルキル基、下記Ｂｐ群から選ばれる１〜３個の基を有していてもよいＣ３−８シクロアルキル基、Ｃ１−６アルコキシ基、Ｃ３−８シクロアルキルオキシ基、テトラヒドロフラン−２−イル基、テトラヒドロフラン−３−イル基、テトラヒドロピラン−２−イル基、テトラヒドロピラン−３−イル基、テトラヒドロピラン−４−イル基、下記Ｂｐ群から選ばれる１〜３個の基を有していてもよいピロリジン−２−イル基、下記Ｂｐ群から選ばれる１〜３個の基を有していてもよいピロリジン−３−イル基、下記Ｂｐ群から選ばれる１〜３個の基を有していてもよいピペリジン−２−イル基、下記Ｂｐ群から選ばれる１〜３個の基を有していてもよいピペリジン−３−イル基、下記Ｂｐ群から選ばれる１〜３個の基を有していてもよいピペリジン−４−イル基、下記Ｂｐ群から選ばれる１〜３個の基を有していてもよいモルホリン−２−イル基、下記Ｂｐ群から選ばれる１〜３個の基を有していてもよいモルホリン−３−イル基、下記Ｂｐ群から選ばれる１〜３個の基を有していてもよいピペラジン−２−イル基および式−Ｘｐ ２−Ｘｐ ３（式中、Ｘｐ ２は、下記Ｂｐ群から選ばれる１〜２個の基を有していてもよいメチレン基を意味する。Ｘｐ ３は、式−ＮＲｐ ２Ｒｐ ３（式中、Ｒｐ ２およびＲｐ ３は、それぞれ独立して水素原子、Ｃ１−６アルキル基またはＣ３−８シクロアルキル基を意味する。）で表わされる基、水酸基、アゼチジン−1−イル基、ピロリジン−1−イル基、ピペリジン−1−イル基、アゼパン−1−イル基、アゾカン−1−イル基、モルホリン−４−イル基、チオモルホリン−４−イル基または下記Ｂｐ群から選ばれる１個の基を有していてもよいピペラジン−1−イル基を意味する。）で表わされる基からなる群を意味する。
Ｂｐ群は、Ｃ１−６アルキル基を意味する。
Ｘｐは、Ｃ１−６アルキル基、下記Ａ２群から選ばれる１個の基を有するエチル基または下記Ａｐ２群から選ばれる１個の基を有するメチル基であるのが好ましい。
ここで、Ａｐ２群は、２−ジメチルアミノエチル基、２−メトキシエチル基およびシクロプロピルメチル基からなる群である。
また、より好ましくは、Ｘｐは、シクロプロピルメチル基、ｔ−ブチル基、メチル基、２−ジメチルアミノエチル基または２−メトキシエチル基であるのがよい。
次に、芳香環にオキシメチル基を導入することができるホウ素化合物の製造方法について説明する。
後述するような、ボロン酸誘導体やボロン酸エステルなどの化合物とオキシメチル基を有する化合物との当業者に通常知られたカップリング反応により製造することができる。
式Ｉで表わされる化合物（Ｉ）および式ＩＶで表される化合物（ＩＶ）の製造法について説明する。化合物は、例えば以下の＜製造方法Ａ＞または＜製造方法Ｃ＞で製造することができる。
＜製造方法Ａ＞
本発明の、式Ｉで表される化合物（Ｉ）または式ＩＶで表される化合物（ＩＶ）は、以下に記載する方法により製造することができる。但し、本発明の化合物の製造方法は、これらに限定されるものではない。
Figure 0004198742
式中、Ｘ、Ｍ、ｍおよびｋは、それぞれ前記定義と同意義である。Ｔは、ハロゲン原子またはメタンスルホニル基等の脱離基を意味する。
[工程Ａ−１]
本工程は、溶剤中、有機金属試薬と化合物（１ａ）（ＣＡＳ．Ｎｏ．６６８−７３−３）との反応により生成するアニオン化した化合物と化合物（２ａ）とを反応することにより化合物（３ａ）を製造する工程である。
本工程は、例えば、第４版実験化学講座２５（２３０ページ〜２３３ページ、実施例６・８４）等、一般に用いられている方法により行うことができる。また、本工程は、より具体的には、後述の実施例２Ａ−１等に記載された反応条件、反応後操作、精製方法等を参考にして行うことができる。
本反応は、窒素、アルゴン等の不活性気体の気流下または雰囲気下でも行うことができる。
化合物（２ａ）としては、公知の化合物、購入可能な化合物またはこれらの購入可能な化合物から当業者が通常行う方法により容易に製造することができる化合物等を用いることができる。
本反応に用いる溶剤としては、出発原料をある程度溶解するものであり、かつ、反応を阻害しないものであれば、特に制限はないが、例えば、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン、メチル−ｔ−ブチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル、ジシクロペンチルエーテル等のエーテル系溶剤、ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素系溶剤、ヘプタン、ヘキサン等の脂肪族炭化水素系溶剤またはこれらの混合溶剤等を用いることができ、好適には、テトラヒドロフランである。
上記有機金属試薬とは、例えばｎ−ブチルリチウム、リチウムジイソプロピルアミド（ＬＤＡ）、リチウムヘキサメチルジシラジド等を意味するが、好適には、リチウムジイソプロピルアミド（ＬＤＡ）である。なお、リチウムジイソプロピルアミド（ＬＤＡ）は、ジイソプロピルアミンとｎ−ブチルリチウムより調製することができる。
反応時間は、通常、出発原料、溶剤、その他反応に用いる試薬、反応温度によって異なり、適宜選択されるが、好適には、アニオン化した化合物と化合物（２ａ）とを混合した後、下記反応温度にて１〜５時間撹拌するのが好適であり、約３時間撹拌するのがより好適である。
[アニオン化反応での反応温度]
反応温度は、通常、出発原料、溶剤、その他反応に用いる試薬によって異なり、適宜選択されるが、試薬の添加時の温度は、−６０℃以下（外温）であり、より好適には、−７５℃〜−７０℃（反応容器中の内温）である。
試薬添加後の温度は、−１０℃〜１０℃（外温）であり、より好適には、約５℃（反応容器中の内温）である。
[アニオン化した化合物と化合物(２ａ)との反応での反応温度]
反応温度は、通常、出発原料、溶剤、その他反応に用いる試薬によって異なり、適宜選択されるが、試薬の添加時の温度は、−６０℃以下（外温）であり、より好適には、−７５℃〜−７０℃（反応容器中の内温）である。
試薬添加後の温度は、−１０℃〜室温（外温）であり、より好適には、室温（外温）である。
化合物（２ａ）は、化合物（１ａ）に対して０．８〜１．２倍モルの量を用いることができるが、好適には、１倍モルの量を用いることができる。
上記有機金属試薬は、化合物（１ａ）に対して０．８〜１．２倍モルの量を用いることができるが、好適には、１倍モルの量を用いることができる。
[工程Ａ−２]
本工程は、溶剤中、塩基と化合物（６ａ）との反応により生成するアニオン化した化合物と化合物（５ａ）とを反応することにより化合物（３ａ）を製造する工程である。
本工程は、例えばＷＯ０２／０８２２６（９７ページ、実施例４８）等、一般に用いられている方法により行うことができる。また、本工程は、より具体的には、後述の実施例５Ａ−３等に記載された反応条件、反応後操作、精製方法等を参考にして行うことができる。
本反応は、窒素、アルゴン等の不活性気体の気流下または雰囲気下でも行うことができる。
化合物（６ａ）としては、公知の化合物、購入可能な化合物またはこれらの購入可能な化合物から当業者が通常行う方法により容易に製造することができる化合物等を用いることができる。
化合物（５ａ）としては、後述の実施例５Ａ−２化合物または、Ｓｙｎｔｈｅｔｉｃ Ｃｏｍｍｕｎｉｃａｔｉｏｎｓ， Ｖｏｌ．２４， Ｎｏ．８， ｐｐ． １１１７−１１２０等の記載の方法により製造することができる化合物等を用いることができる。
本反応に用いる溶剤としては、出発原料をある程度溶解するものであり、かつ、反応を阻害しないものであれば、特に制限はないが、例えば、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン、メチル−ｔ−ブチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル、ジシクロペンチルエーテル等のエーテル系溶剤、ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素系溶剤、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリジノン等のアミド系溶剤、ジメチルスルホキシドまたはこれらの混合溶剤等を用いることができ、好適には、テトラヒドロフランまたはＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドである。
上記塩基とは、例えば、水素化ナトリウム、水素化カリウム等を意味するが、好適には、水素化ナトリウムである。
反応時間は、通常、出発原料、溶剤、その他反応に用いる試薬、反応温度によって異なり、適宜選択されるが、好適には、化合物（６ａ）と塩基を混ぜた後、下記温度にて３０〜６０分間撹拌し、当該混合物に化合物（５ａ）を加えた後、下記温度で１〜１２時間撹拌する。
[アニオン化反応での反応温度]
反応温度は、通常、出発原料、溶剤、その他反応に用いる試薬によって異なり、適宜選択されるが、試薬の添加時の温度は、５℃以下（外温）であり、より好適には、０℃〜５℃（外温）である。
試薬添加後の温度は、１０℃〜室温（外温）であり、より好適には、室温（外温）である。
[アニオン化した化合物と化合物(５ａ)との反応での反応温度]
反応温度は、通常、出発原料、溶剤、その他反応に用いる試薬によって異なり、適宜選択されるが、試薬の添加時の温度は、５℃以下（外温）であり、より好適には、０℃〜５℃（外温）である。
試薬添加後の温度は、１０℃〜室温（外温）であり、より好適には、室温（外温）である。
化合物（５ａ）は、化合物（６ａ）に対して０．５〜１．５倍モルの量を用いることができるが、好適には、０．８〜１．２倍モルの量を用いることができる。
上記塩基は、化合物（６ａ）に対して０．５〜１．５倍モルの量を用いることができるが、好適には、０．８〜１．２倍モルの量を用いることができる。
[工程Ａ−３]
本工程は、溶剤中、有機金属試薬と化合物（３ａ）との反応により生成するアニオン化した化合物とボロン酸エステル（トリイソプロピルボレート、トリメチルボレート、２−イソプロポキシ−４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン等）とを反応させ、続いてハイドロゲンフルオリド塩（ポタシウム ハイドロゲンフルオリドまたはソジウム ハイドロゲンフルオリド等）とを反応させることにより化合物（Ｉ）を製造する工程である。また、本工程は、より具体的には、後述の実施例２Ａ−２または８Ａ-２等に記載された反応条件、反応後操作、精製方法等を参考にして行うことができる。
本反応は、窒素、アルゴン等の不活性気体の気流下または雰囲気下でも行うことができる。
本反応に用いる溶剤としては、出発原料をある程度溶解するものであり、かつ、反応を阻害しないものであれば、特に制限はないが、例えば、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン、メチル−ｔ−ブチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル、ジシクロペンチルエーテル等のエーテル系溶剤、ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素系溶剤、ヘプタン、ヘキサン等の脂肪炭化水素系溶剤またはこれらの混合溶剤等を用いることができ、好適には、テトラヒドロフランである。
上記有機金属試薬とは、例えば、ｎ−ブチルリチウム、ｓｅｃ−ブチルリチウム、メチルリチウム等を意味するが、好適には、ｎ−ブチルリチウムである。
下記３つの手法で 化合物（Ｉ）を得ることができるが、副反応（ｎ−ブチルトリフルオロボレートの生成）を抑制するために下記(ｉ)または(ｉｉｉ)の手法が好ましい。有機金属試薬と 化合物（３ａ）とを反応させて生成するアニオンが不安定な場合等、(ｉ)では反応が困難な場合は(ｉｉｉ)の手法が好ましい。なお、下記(ｉ)、（ｉｉ）および(ｉｉｉ)中の温度は、いずれも反応混合物中の内温を示す。
(i)溶剤中、有機金属試薬と化合物（３ａ）とを−７５〜−６０℃（好適には−７５〜−７０℃）、３０〜１２０分間（好適には３０〜６０分間）攪拌する。次いで当該混合物に、ボロン酸エステルを−７５〜−７０℃で加え、その後、当該混合物を０℃〜室温（好適には０〜５℃）、１０〜１２０分間（好適には２０〜８０分間）攪拌する。
当該混合物に、ハイドロゲンフルオリド塩を０〜５℃で加え、その後、水を同温度で加え、反応混合物を室温に昇温することにより、化合物（Ｉ）を得ることができる。
(ii)溶剤中、有機金属試薬と化合物（３ａ）とを−７５〜−６０℃（好適には−７５〜−７０℃）、３０〜１２０分間（好適には３０〜６０分間）攪拌する。次いで当該混合物をカニューラを用いて、ボロン酸エステルと溶剤の混合物に−７５〜−７０℃で滴下し、その後、当該混合物を０℃〜室温（好適には０〜５℃）、１０〜１２０分間（好適には２０〜８０分間）攪拌する。
当該混合物に、ハイドロゲンフルオリド塩を０〜５℃で加え、その後、水を同温度で加え、反応混合物を室温に昇温することにより、化合物（Ｉ）を得ることができる。
(iii)溶剤中、ボロン酸エステルと化合物（３ａ）の混合物に−７５〜−６０℃（好適には−７５〜−７０℃）で有機金属試薬を加え、−７５〜５℃（好適には０〜５℃）、１０〜１２０分間（好適には２０〜６０分間）攪拌する。
当該混合物に、ハイドロゲンフルオリド塩を０〜５℃で加え、その後、水を同温度で加え、反応混合物を室温に昇温することにより、化合物（Ｉ）を得ることができる。
上記有機金属試薬は、化合物（３ａ）に対して０．８〜１．２倍モルの量を用いることができるが、好適には、１倍モルの量を用いることができる。
上記ボロン酸エステルは、化合物（３ａ）に対して１〜２倍モルの量を用いることができるが、好適には、１〜１．２倍モルの量を用いることができる。
上記ハイドロゲンフルオリド塩は、化合物（３ａ）に対して３〜１０倍モルの量を用いることができるが、好適には、３〜７倍モルの量を用いることができる。
[工程Ａ−４]
本工程は、有機金属試薬と化合物（４ａ）との反応により生成するアニオン化した化合物とボロン酸エステルとを反応させ、続いてハイドロゲンフルオリド塩（ポタシウム ハイドロゲンフルオリドまたはソジウム ハイドロゲンフルオリド等）とを反応することにより化合物（Ｉ）を製造する工程である。
本工程は、溶剤中または化合物（４ａ）を溶剤として大量に用い、反応を行うことができる。また、本工程は塩基存在下行うことができる。
本工程は、例えば、第５版実験化学講座１８（２０ページ〜２３ページ）、Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔｅｒｓ， Ｖｏｌ．２４， Ｎｏ．３１， ｐｐ． ３１６５−３１６８等、一般に用いられている方法により行うことができる。また、本工程は、より具体的には、後述の実施例１Ａに記載された反応条件、反応後操作、精製方法等を参考にして行うことができる。
本反応は、窒素、アルゴン等の不活性気体の気流下または雰囲気下でも行うことができる。
化合物（４ａ）としては、公知の化合物、購入可能な化合物またはこれらの購入可能な化合物から当業者が通常行う方法により容易に製造することができる化合物等を用いることができる。
本反応に用いる溶剤としては、出発原料をある程度溶解するものであり、かつ、反応を阻害しないものであれば、特に制限はないが、例えば、ヘプタン、ヘキサン等の脂肪炭化水素系溶剤等を用いることができる。好適には化合物（４ａ）を溶剤として大量に用いる。
上記有機金属試薬とは、ｔ−ブチルリチウム、sec−ブチルリチウム等を意味するが、好適には、sec−ブチルリチウムである。
上記塩基とは、ポタシウム ｔ−ブトキシド、ポタシウム sec−ブトキシド、ポタシウム メトキシド等を意味するが、好適には、ポタシウム ｔ−ブトキシドである。
下記温度は、特記しない限り、反応混合物中の内温を示す。
化合物（４ａ）と溶剤の混合物に、有機金属試薬を−７５〜−６０℃（好適には−７５〜−７０℃）で加え、次いで、−２０〜０℃（好適には−１０〜−５℃）５〜３０分間（好適には５〜１０分間）攪拌する。次いで当該混合物に、ボロン酸エステルを−７５〜−７０℃で加え、その後、当該混合物を１０℃〜室温（好適には室温）、１０〜６０分間（好適には１０〜３０分間）攪拌する。
当該混合物に、ハイドロゲンフルオリド塩を０〜５℃（外温）で加え、その後、水を同温度で加え、反応混合物を室温に昇温することにより、化合物（Ｉ）を得ることができる。
上記塩基は、上記有機金属試薬に対して好適には、０．６〜１倍モルの量を用いることができる。
上記ボロン酸エステルは、上記有機金属試薬に対して１〜２倍モルの量を用いることができるが、好適には、１〜１．８倍モルの量を用いることができる。
上記ハイドロゲンフルオリド塩は、上記ボロン酸エステル化合物に対して３〜１０倍モルの量を用いることができるが、好適には、３〜７倍モルの量を用いることができる。
[工程Ａ−５]
本工程は、溶剤中、有機金属試薬と化合物（３ａ）との反応により生成するアニオン化した化合物とボロン酸エステル（トリイソプロピルボレート、トリメチルボレート、２−イソプロポキシ−４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン等）とを反応し、さらに塩基で処理することにより本発明にかかるホウ酸誘導体である化合物（ＩＶ）を製造する工程である。また、本工程は、より具体的には、後述の実施例１６Ａ−２に記載された反応条件、反応後操作、精製方法等を参考にして行うことができる。
本反応は、窒素、アルゴン等の不活性気体の気流下または雰囲気下でも行うことができる。
本反応に用いる溶剤としては、出発原料をある程度溶解するものであり、かつ、反応を阻害しないものであれば、特に制限はないが、例えば、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン、メチル−ｔ−ブチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル、ジシクロペンチルエーテル等のエーテル系溶剤、ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素系溶剤、ヘプタン、ヘキサン等の脂肪炭化水素系溶剤またはこれらの混合溶剤等を用いることができ、好適には、テトラヒドロフランである。
上記有機金属試薬とは、例えば、ｎ−ブチルリチウム、メチルリチウム等を意味するが、好適には、ｎ−ブチルリチウムである。
上記塩基とは、例えば、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム等を意味するが、好適には、水酸化ナトリウムである。
溶剤中、有機金属試薬と化合物（３ａ）とを−７５〜−６０℃（好適には−７５〜−７０℃）、３０〜１２０分間（好適には３０〜６０分間）攪拌する。次いで当該混合物に、ボロン酸エステルを−７５〜−７０℃で加え、その後、当該混合物を０℃〜室温（好適には０〜５℃）、１０〜１２０分間（好適には２０〜８０分間）攪拌する。
当該混合物に、塩基を１０〜４０℃（好適には室温）で加えることにより、化合物（ＩＶ）を得ることができる。
次に化合物（Ｉ）の使用例を説明する。化合物（Ｉ）を使用することにより、各種の芳香環基質を有する化合物を製造することができる。
＜製造方法Ｂ＞
本発明の化合物（Ｉ）は、以下に記載する反応条件にて、反応試薬として使用することができる。但し、本発明の化合物の反応試薬としての使用は、これら反応に限定されるものではない。
Figure 0004198742
式中、Ｘ、Ｍ、ｍおよびｋは、それぞれ前記定義と同意義である。
Ｚは、それぞれアルコキシ基、アルキル基およびニトロ基等の置換基群から選ばれる１〜４個の基を有していてもよい、芳香族炭化水素環（ベンゼン、ナフタレン等）または芳香族へテロ環（ピリジン、キノリン等）を意味する。Ｕは、ハロゲン原子、トリフルオロメタンスルホニルオキシ基等の脱離基を意味する。
[工程Ｂ−１]
本工程は、溶剤中、化合物（１ｂ）と化合物（Ｉ）とを反応することにより化合物（２ｂ）を製造する工程である。
本工程は、塩基、パラジウム化合物およびホスフィン化合物の存在下で、反応を行うことができる。
本工程は、後述の実施例Ｂ−１〜Ｂ−１１及びＢ−１３に記載された反応条件、反応後操作、精製方法を参考にして行うことができる。
本反応は、窒素、アルゴン等の不活性気体の気流下または雰囲気下でも行うことができる。
化合物（１ｂ）としては、公知の化合物、購入可能な化合物またはこれらの購入可能な化合物から当業者が通常行う方法により容易に製造することができる化合物等を用いることができる。
本反応に用いる溶剤としては、出発原料をある程度溶解するものであり、かつ、反応を阻害しないものであれば、特に制限はないが、例えば、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン、メチル−ｔ−ブチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル、ジシクロペンチルエーテル等のエーテル系溶剤、ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素系溶剤、ヘプタン、ヘキサン等の脂肪炭化水素系溶剤、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリジノン等のアミド系溶剤、ジメチルスルホキシドまたはこれらの混合溶剤等を用いることができ、好適には、１，４−ジオキサンまたはトルエンである。
上記塩基とは、例えば、ポタシウム ホスフェート トリベーシック、炭酸セシウム、セシウム フルオリド等を意味するが、好適には、炭酸セシウムまたはポタシウム ホスフェート トリベーシックである。
上記パラジウム化合物とは、例えば酢酸パラジウム（ＩＩ）、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０）、パラジウム カーボン、ビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（ＩＩ）クロリド、ビス（トリ-t-ブチルホスフィン）パラジウム（０）、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム（０）、１，１’―ビス（ジフェニルホスフィノフェロセン）ジクロロパラジウム（ＩＩ）等を意味するが、好適には、酢酸パラジウム（ＩＩ）である。
上記ホスフィン化合物とは、例えばトリフェニルホスフィン、トリ−ｏ−トリルホスフィン、トリ−ｔ−ブチルホスフィン、トリシクロヘキシルホスフィン、ジフェニルホスフィノフェロセン、２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，６’−ジメトキシビフェニル、２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，４’，６’−トリイソプロピルビフェニル、２−ジ−ｔ−ブチルホスフィノ−２’，４’，６’−トリイソプロピルビフェニル、２−ジ−ｔ−ブチルホスフィノビフェニル、２−ジシクロヘキシルホスフィノビフェニル、２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ビフェニル、２−ジ−ｔ−ブチルホスフィノ−２’−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ビフェニル、２，２’−ビス（ジフェニルホスフィノ）−１，１’−ビナフチル、１，２−ビス（ジフェニルホスフィノ）エタン、１，３−ビス（ジフェニルホスフィノ）プロパン、１，４−ビス（ジフェニルホスフィノ）ブタン、等を意味するが、好適には、ジフェニルホスフィノフェロセン、トリフェニルホスフィン、トリ−ｏ−トリルホスフィン、２，２’−ビス（ジフェニルホスフィノ）−１，１’−ビナフチル、１，４−ビス（ジフェニルホスフィノ）ブタン、または２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，６’−ジメトキシビフェニルである。
反応時間は、通常、出発原料、溶剤、その他反応に用いる試薬、反応温度によって異なり、適宜選択されるが、好適には、試薬を加えた後、下記反応温度にて１〜７２時間撹拌するのが好適であり、４〜１２時間撹拌するのがより好適である。
反応温度は、通常、出発原料、溶剤、その他反応に用いる試薬によって異なり、適宜選択されるが、好適には、６０℃〜１３０℃（外温）であり、より好適には、９５℃〜１０５℃（外温）である。
化合物（Ｉ）は、化合物（１ｂ）に対して１〜３倍モルの量を用いることができるが、好適には、１〜２倍モルの量を用いることができる。
上記塩基は、化合物（Ｉ）に対して１〜４倍モルの量を用いることができるが、好適には、２〜３倍モルの量を用いることができる。
上記パラジウム化合物は、化合物（１ｂ）に対して０．００１〜０．５倍モルの量を用いることができるが、好適には、０．０５〜０．２倍モルの量を用いることができる。
上記ホスフィン化合物は、化合物（１ｂ）に対して０．００１〜３倍モルの量を用いることができるが、好適には、０．０５〜１倍モルの量を用いることができる。
[工程Ｂ−２]
本工程は、上記化合物（２ｂ）のＸがＲ５Ｃ（＝Ｏ）（Ｒ５は水素原子、Ｃ１−６アルキル基またはＣ３−８シクロアルキル基を意味する。）の場合、化合物（２ｂ）をさらに酸または塩基存在下で加水分解することにより、化合物（２ｃ）を得る工程である。
本工程は、当業者に通常知られた加水分解の条件により行うことができる。
[工程Ｂ−３]
本工程は、上記化合物（２ａ）のＸがＲ５Ｃ（＝Ｏ）（Ｒ５は水素原子、Ｃ１−６アルキル基またはＣ３−８シクロアルキル基を意味する。）の場合、化合物（２ａ）から化合物（２ｃ）を得る工程である。
本工程は、上記工程Ｂ−１と同様の条件により行うことができる。本工程は、より具体的には、後述の実施例Ｂ−１２又はＢ−１４に記載された反応条件、反応後操作、精製方法等を参考にして行うことができる。
＜製造方法Ｃ＞
本発明の式Ｉで表される化合物（Ｉ）は、以下に記載する方法により製造することもできる。
Figure 0004198742
式中、Ｘ、Ｍ、ｍおよびｋは、それぞれ前記定義と同意義である。ＹおよびＺはそれぞれ独立して、ハロゲン原子を意味する。
上記式（２ｃ）の一部であり下記式Ｘで表される基は、下記式Ｘ−１〜Ｘ−６に列挙するような環状ボロン酸エステル基を意味する。
Figure 0004198742
Figure 0004198742
[工程Ｃ−１]
本工程は、有機金属試薬と化合物（１ｃ）との反応により生成するアニオン化した化合物とボロン酸エステルとを反応させ、続いて酸を加えることにより反応混合物を中和し、最後にピナコール等のジオールと反応させ化合物（２ｃ）を製造する工程である。本工程は、より具体的には、後述の実施例Ｃ１又はＣ２に記載された反応条件、反応後操作、精製方法等を参考にして行うことができる。
本反応は、化合物（１ｃ）とボロン酸エステルとの混合物に有機金属試薬を加え、化合物（１ｃ）のアニオンの生成と同時にボロン酸エステルと反応させることもできる。
本反応は、窒素、アルゴン等の不活性気体の気流下または雰囲気下でも行うことができる。
化合物（１ｃ）としては、例えばクロロヨードメタン、ジブロモメタン、ブロモヨードメタン等を用いることができる。好適にはクロロヨードメタン、ジブロモメタンである。
本反応に用いる溶剤としては、出発原料をある程度溶解するものであり、かつ、反応を阻害しないものであれば、特に制限はないが、例えば、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン、メチル−ｔ−ブチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル、ジシクロペンチルエーテル等のエーテル系溶剤、ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素系溶剤、ヘプタン、ヘキサン等の脂肪族炭化水素系溶剤またはこれらの混合溶剤等を用いることができ、好適には、テトラヒドロフランである。
上記ボロン酸エステルとは、例えば、トリメチルボレート、トリイソプロピルボレート等を意味するが、好適には、トリイソプロピルボレートである。
上記有機金属試薬とは、例えば、ｎ−ブチルリチウム、s−ブチルリチウム等を意味するが、好適には、ｎ−ブチルリチウムである。
上記酸とは、例えば、メタンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸、塩酸−酢酸エチル溶液、塩酸−メタノール溶液等を意味するが、好適には、メタンスルホン酸、塩酸−酢酸エチル溶液である。
反応時間は、通常、出発原料、溶剤、その他反応に用いる試薬、反応温度によって異なり、適宜選択されるが、好適には、化合物（１ｃ）と有機金属試薬から−７８℃（外温）で調製したアニオン化した化合物と、ボロン酸エステルとの混合物を、下記温度にて１〜３時間撹拌する。下記温度にて当該混合物を中和後、続いてジオールを加え、下記反応温度にて１０〜６０分間撹拌する。
[アニオン化した化合物とボロン酸エステルとの反応での反応温度]
反応温度は、通常、出発原料、溶剤、その他反応に用いる試薬によって異なり、適宜選択されるが、アニオン化した化合物とボロン酸エステルとの混合物を０℃〜室温（外温）、より好適には、室温（外温）で攪拌する。
[中和反応とジオールとの反応での反応温度]
反応温度は、通常、出発原料、溶剤、その他反応に用いる試薬によって異なり、適宜選択されるが、中和反応およびジオールの添加時の温度は、−２０℃〜室温（外温）であり、より好適には、０℃（外温）である。
ジオール添加後の温度は、０℃〜室温（外温）であり、より好適には、室温（外温）である。
ボロン酸エステルは化合物（１ｃ）に対して０．８〜１．２倍モルの量を用いることができるが、好適には、０．９〜１倍モルの量を用いることができる。
上記有機金属試薬は、化合物（１ｃ）に対して０．８〜１．２倍モルの量を用いることができるが、好適には、０．８〜１倍モルの量を用いることができる。
[工程Ｃ−２]
本工程は、溶剤中、塩基と化合物（６ａ）との反応により生成するアニオン化した化合物と化合物（２ｃ）とを反応させ、続いてハイドロゲンフルオリド塩（ポタシウム ハイドロゲンフルオリドまたはソジウム ハイドロゲンフルオリド等）と反応させることにより化合物（Ｉ）を製造する工程である。本工程は、より具体的には、後述の実施例Ｃ３〜Ｃ１５に記載された反応条件、反応後操作、精製方法等を参考にして行うことができる。
本工程はヨウ化カリウム、ヨウ化テトラブチルアンモニウム等のヨウ素化合物の存在下で行うこともできる。
本反応は、窒素、アルゴン等の不活性気体の気流下または雰囲気下でも行うことができる。
化合物（６ａ）としては、公知の化合物、購入可能な化合物またはこれらの購入可能な化合物から当業者が通常行う方法により容易に製造することができる化合物等を用いることができる。
本反応に用いる溶剤としては、出発原料をある程度溶解するものであり、かつ、反応を阻害しないものであれば、特に制限はないが、例えば、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン、メチル−ｔ−ブチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル、ジシクロペンチルエーテル等のエーテル系溶剤、ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素系溶剤、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリジノン等のアミド系溶剤、ジメチルスルホキシドまたはこれらの混合溶剤等を用いることができ、好適には、テトラヒドロフランまたはＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドである。
上記塩基とは、例えば、水素化ナトリウム、ポタシウム ビス（トリメチルシリル）アミド、水素化カリウムを意味するが、好適には、水素化ナトリウムおよびポタシウム ビス（トリメチルシリル）アミドである。ＸがＲ５Ｃ（＝Ｏ）（Ｒ５は前記定義と同意義である）の場合は、塩基として水酸化カリウム、炭酸セシウム、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム等も用いることができ、好適には、水酸化ナトリウムあるいは水酸化カリウムである。
反応時間は、通常、出発原料、溶剤、その他反応に用いる試薬、反応温度によって異なり、適宜選択されるが、好適には、化合物（６ａ）のアニオン化反応の後、下記温度にて３０〜６０分間撹拌し、当該混合物に化合物（２ｃ）を加えた後、下記温度で１〜１２時間撹拌する。
[アニオン化反応での反応温度]
反応温度は、通常、出発原料、溶剤、その他反応に用いる塩基によって異なり、適宜選択されるが、塩基の添加時の温度は、０℃〜室温（外温）であり、より好適には、０℃（外温）である。
塩基添加後の温度は、０℃〜７０℃（外温）であり、より好適には、室温〜５０℃（外温）である。
[アニオン化した化合物と化合物(２ｃ)との反応での反応温度]
反応温度は、通常、出発原料、溶剤、その他反応に用いる試薬によって異なり、適宜選択されるが、化合物（２ｃ）の添加時の温度は、０℃〜室温（外温）であり、より好適には、０℃（外温）である。
化合物（２ｃ）添加後の温度は、室温〜１００℃（外温）であり、より好適には、室温〜７０℃（外温）である。
[ハイドロゲンフルオリド塩を加える反応での反応温度]
反応温度は、通常、出発原料、溶剤、その他反応に用いる試薬によって異なり、適宜選択されるが、試薬の添加時の温度は、０℃〜室温（外温）であり、より好適には、０℃（外温）である。
試薬添加後の温度は、０℃〜室温（外温）であり、より好適には、室温（外温）である。
化合物（６ａ）は、化合物（２ｃ）に対して１〜１０倍モルの量を用いることができ、好適には、１〜１．８倍モルの量を用いることができる。
上記塩基は、化合物（２ｃ）に対して１〜２倍モルの量を用いることができ、好適には、１〜１．８倍モルの量を用いることができる。
上記ハイドロゲンフルオリド塩は、化合物（２ｃ）に対して２〜８倍モルの量を用いることができるが、好適には、２〜６倍モルの量を用いることができる。
なお、ハイドロゲンフルオリド塩は化合物（２ｃ）に対して、１〜２倍モル当量添加した場合、一般式（Ｉ）におけるｍが０である化合物（Ｘはホウ素とともに環構造を形成することができる。）、一般式（ＩＩ）または（ＩＩＩ）で表される化合物を得ることができる。
化合物（Ｉ）におけるＭがアルカリ金属を意味する場合さらに、テトラアルキルアンモニウム ヒドロキシドあるいはテトラアルキルホスホニウム ヒドロキシド等を反応させることにより、ＭがＮ（Ｒ１）（Ｒ２）（Ｒ３）（Ｒ４）またはＰ（Ｒ１）（Ｒ２）（Ｒ３）（Ｒ４）（Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４はそれぞれ独立して、Ｃ１−６アルキル基またはＣ７−１５アラルキル基を意味する。）である化合物（Ｉ）に変換することができる。本工程は、Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔｅｒｓ， Ｖｏｌ．４２， ｐｐ． ９０９９−９１０３ を参考にして行うことができ、より具体的には、後述の実施例１２Ａに記載された反応条件、反応後操作、精製方法を参考にして行うことができる。なお、上記テトラアルキルアンモニウム ヒドロキシドとは、例えば、テトラブチルアンモニウム ヒドロキシドである。また、上記テトラアルキルホスホニウム ヒドロキシドとは、例えば、テトラブチルホスホニウム ヒドロキシドである。
本反応に用いる溶剤としては、ジクロロメタンあるいはクロロホルムと水の混合溶剤を用いることができる。
反応時間は、室温（外温）で１分から３０分であり、好適には、１から５分である。
反応温度は、１０−５０℃であり、好適には、室温（外温）付近である。
なお、本工程において、ハイドロゲンフルオリド塩の添加をせずに、工程Ａ−５と同様に塩基で処理することにより前記式（ＩＶ）で表される化合物を得ることができる。
上記各方法、各工程の反応終了後、各工程の目的化合物は常法に従い、反応混合物から採取することができる。
例えば、反応混合物全体が液体の場合、反応混合物を所望により室温に戻すか、冷却（氷冷〜−７８℃）下、適宜、酸、アルカリ、酸化剤または還元剤を加えて中和し、水と酢酸エチルのような混和せずかつ目的化合物と反応しない有機溶剤を加え、目的化合物を含む層を分離する。次に、得られた層と混和せず目的化合物と反応しない溶剤を加え、目的化合物を含む層を洗浄し、当該層を分離する。加えて、当該層が有機層であれば、無水硫酸マグネシウムまたは無水硫酸ナトリウム等の乾燥剤を用いて乾燥し、溶剤を留去することにより、目的化合物を採取することができる。また、当該層が水層であれば、電気的に脱塩した後、凍結乾燥することにより、目的化合物を採取することができる。
また、反応混合物全体が液体であって、かつ、可能な場合には、常圧または減圧下、目的化合物以外のもの（例えば、溶剤、試薬等）を留去することのみにより、目的化合物を採取することができる。
また、反応混合物全体が液体であって、かつ、可能な場合には、反応混合物を種々のクロマトグラフィー（薄層クロマトグラフィー、カラムクロマトグラフィー等）を用いることにより精製し、目的化合物を採取することができる。
さらに、目的化合物のみが固体として析出している場合、または、上記反応混合物全体が液体の場合であって、採取の過程で目的化合物のみが固体として析出した場合、まず、ろ過法により目的化合物をろ取し、ろ取した目的化合物を適当な有機または水などの無機溶剤で洗浄し、乾燥する。また，母液を上記反応混合物全体が液体の場合と同様に処理することにより、さらに目的化合物を採取することができる。
またさらに、試薬または触媒のみが固体として存在するか、または、上記反応混合物全体が液体の場合であって、採取の過程で試薬または触媒のみが固体として析出した場合であって、かつ、目的化合物が溶液に溶解している場合、まず、ろ過法により試薬または触媒をろ去し、ろ去した試薬または触媒を適当な有機または無機溶剤で洗浄し、得られる洗浄液を母液と合わせ、得られる混合液を上記反応混合物全体が液体の場合と同様に処理することにより、目的化合物を採取することができる。
特に、反応混合物に含まれる目的化合物以外のものが次工程の反応を阻害しない場合、特に目的化合物を単離することなく、反応混合物のまま、次の工程に使用することもできる。
上記製造方法ＡまたはＣで採取した目的化合物の純度を向上させるため、適宜、再結晶法、各種クロマトグラフィー法、蒸留法を実施することができる。
採取した目的化合物が固体の場合、通常、再結晶法により目的化合物の純度を向上させることができる。再結晶法においては、目的化合物と反応しない単一溶剤または複数の混合溶剤を用いることができる。具体的には、まず目的化合物を、目的化合物と反応しない単一または複数の溶剤に、室温または加熱下に溶解する。得られる混合液を氷水等で冷却するかまたは室温にて放置することにより、その混合液から目的化合物を晶出させることができる。
採取した目的化合物が液体の場合、各種クロマトグラフィー法により目的化合物の純度を向上させることができる。一般的には、メルク社製シリカゲル６０（７０−２３０ｍｅｓｈまたは３４０−４００ｍｅｓｈ）または関東化学株式会社シリカゲル６０（０．０４０−０．０５０ｍｍ）のような弱酸性のシリカゲル類を用いることができる。目的化合物が酸性で不安定な場合、関東化学株式会社製中性シリカゲル６０Ｎ（０．１０−０．２１ｍｍ）等を用いることもできる。目的化合物が塩基性を有する場合等は、富士シリシア化学株式会社製のプロピルアミンコーティングシリカゲル（ＮＨ−シリカゲルカラムクロマトグラフィー）（２００−３５０ｍｅｓｈ）等を用いることもできる。また、目的化合物が双性イオンの構造を有する場合またはメタノール等の高極性溶剤での溶出が必要な場合等は、ナム研究所製ＮＡＭ−２００ＨまたはＮＡＭ−３００Ｈを用いることもできる。これらのシリカゲルを用いて、目的化合物と反応しない単一または複数の溶剤で目的化合物を溶出させ、溶剤を留去することにより、純度が向上した目的化合物を得ることができる。
採取した目的化合物が液体の場合、蒸留法によっても目的化合物の純度を向上させることができる。蒸留法においては、目的化合物を室温または加熱下に減圧することにより、目的化合物を留出させることができる。
以上が本発明にかかる化合物（Ｉ）の製造方法の代表例であるが、本発明化合物の製造における原料化合物・各種試薬は、塩や水和物あるいは溶媒和物を形成していてもよく、いずれも出発原料、使用する溶媒等により異なり、また反応を阻害しない限りにおいて特に限定されない。用いる溶媒についても、出発原料、試薬等により異なり、また反応を阻害せず出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定されないことは言うまでもない。本発明に係る化合物（Ｉ）がフリー体として得られる場合、前記の化合物（Ｉ）が形成していてもよい塩またはそれらの溶媒和物の状態に常法に従って変換することができる。
本発明に係る化合物（Ｉ）が化合物（Ｉ）の溶媒和物として得られる場合、前記の化合物（Ｉ）のフリー体から常法に従って変換することができる。
また、本発明に係る化合物（Ｉ）について得られる種々の異性体（例えば幾何異性体、光学異性体、回転異性体、立体異性体、互変異性体、等）は、通常の分離手段、例えば、再結晶、ジアステレオマー塩法、酵素分割法、種々のクロマトグラフィー（例えば薄層クロマトグラフィー、カラムクロマトグラフィー、ガスクロマトグラフィー等）を用いることにより精製し、単離することができる。
（実施例）
以下、実施例に基づいて、本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
なお、以下の実施例において、「Ａ」とあるのは、上記製造方法Ａで製造された本発明に係る化合物（ただし、参考例１６Ａを除く）の例を示す。また、「Ｂ」とあるのは、上記製造方法Ｂによる本発明にかかる化合物を用いた例を示す。さらに、「Ｃ」とあるのは、上記製造方法Ｃで製造された本発明に係る化合物（ただし、参考例Ｃ１及びＣ２を除く）の例を示す。
（実施例１Ａ） ポタシウム ｔ−ブトキシメチル トリフルオロボレートの合成
Figure 0004198742
ｔ−ブチルメチルエーテル (３０ｍｌ)とポタシウム ｔ−ブトキシド（３３０ｍｇ、３．０ｍｍｏｌ）の混合物に−７８℃（外温）でsec−ブチルリチウム(５．０ｍｌ、 ４．９ｍｍｏｌ)を滴下した。当該混合物を内温−１０℃まで昇温後、５分間攪拌させ、再び−７８℃（外温）に冷却した。その後、当該混合物に−７８℃（外温）でトリイソプロピルボレート(２．０ｍｌ、 ８．５ｍｍｏｌ)を滴下後、反応混合物を室温で３０分間攪拌した。反応混合物に０℃（外温）でテトラヒドロフラン（６０ｍｌ）とポタシウム ハイドロゲンフルオリド（２．７ｇ、３４ｍｍｏｌ）を加え、次いで水（３０ｍｌ）を１５分かけて滴下した。反応混合物を室温に昇温後、減圧下溶媒溜去した。得られた残渣をジエチルエーテル（１００ｍｌ）で洗浄した。固体にアセトン（２００ｍｌ）を加えろ過した。ろ液を減圧下溶媒溜去後、アセトニトリルを用いて再結晶し、標記化合物(１５０ｍｇ、 ０．７７ｍｍｏｌ、１５％)を得た。
1H−NMR Spectrum (DMSO-d6)δ(ppm): 1.15(9H,
s), 2.30(2H, q, J=5.5Hz).
（実施例２Ａ） ポタシウム メトキシメチル トリフルオロボレートの合成
Figure 0004198742
（２Ａ−１）トリブチル−メトキシメチル−スズ
Figure 0004198742
ジイソプロピルアミン（９．４ｍｌ、６７ｍｍｏｌ）とテトラヒドロフラン（１５０ｍｌ）の混合物に−７８℃（外温）でｎ−ブチルリチウム（２．４Ｍ ｎ−ヘキサン溶液、２５ｍｌ、６１ｍｍｏｌ）を滴下し、次いで反応混合物を３０分間攪拌した。当該混合物へ−７８℃（外温）で水素化トリブチルスズ（１６ｍｌ、６１ｍｍｏｌ）を滴下し、次いで反応混合物を０℃（外温）で３０分間攪拌した。反応混合物を−７８℃（外温）に冷却後、反応混合物にクロロメチルメチルエーテル（４．６ｍｌ、６１ｍｍｏｌ）を滴下した。当該混合物を室温（外温）で１時間攪拌後、反応混合物に水とジエチルエーテルを加え、有機層を分離した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、減圧下溶媒溜去した。残渣を中性シリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘプタン：酢酸エチル＝３０：１）にて精製し、標記化合物（１８ｇ、０．５２ｍｍｏｌ、８６％）を得た。
1H−NMR Spectrum (CDCl3)δ(ppm): 0.88-0.93(15H,
m), 1.26-1.35(6H, m), 1.47-1.55(6H, m) ,3.30(3H, s), 3.71(2H, t, J=6.8Hz).
（２Ａ−２）ポタシウム メトキシメチル トリフルオロボレート
Figure 0004198742
トリブチル−メトキシメチル−スズ（３６０ｍｇ、１．１ｍｍｏｌ）とテトラヒドロフラン（３ｍｌ）の混合物に−７８℃（外温）でｎ−ブチルリチウム(１．５Ｍ ｎ−ヘキサン溶液、０．７７ｍｌ、 １．２ｍｍｏｌ)を滴下し、反応混合物を同温で３０分間攪拌した。当該混合物を−７８℃（外温）でトリイソプロピルボレート(０．３０ｍｌ、 １．３ｍｍｏｌ)とテトラヒドロフラン（５ｍｌ）の混合物にカニューラを用いて滴下し、次いで、反応混合物を室温（外温）で２０分間攪拌した。当該混合物に０℃（外温）でポタシウム ハイドロゲンフルオリド（０．５１ｇ、６．５ｍｍｏｌ）を加え、次いで、反応混合物に水（６ｍｌ）を滴下した。反応混合物を室温に昇温後、減圧下溶媒溜去した。得られた残渣をジエチルエーテルで洗浄した。この残渣にアセトンを加えろ過した。ろ液を減圧下溶媒溜去後、得られた残渣をアセトニトリルを用いて再結晶し、標記化合物(３０ｍｇ、 ０．２０ｍｍｏｌ、１８％)を得た。
1H−NMR Spectrum (DMSO-d6)δ(ppm): 2.39-2.43(2H,
m),3.05(3H, s).
（実施例３Ａ）ポタシウム エトキシメチル トリフルオロボレートの合成
Figure 0004198742
（３Ａ−１）トリブチル−エトキシメチル−スズ
Figure 0004198742
ジイソプロピルアミン（２．１ｍｌ、１５ｍｍｏｌ）とテトラヒドロフラン（３０ｍｌ）の混合物に−７８℃（外温）でｎ−ブチルリチウム（２．４Ｍ ｎ−ヘキサン溶液、５．０ｍｌ、１２ｍｍｏｌ）を滴下し、次いで、反応混合物を３０分間攪拌した。当該混合物に−７８℃（外温）で水素化トリブチルスズ（３．３ｍｌ、１２ｍｍｏｌ）を滴下し、次いで、反応混合物を０℃（外温）で４０分間攪拌した。反応混合物を−７８℃（外温）に冷却後、反応混合物にエトキシメチル クロリド（１．１ｍｌ、１２ｍｍｏｌ）を滴下した。反応混合物を室温まで昇温後、反応混合物にジエチルエーテルと塩化アンモニウム水溶液を加え、有機層を分離した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、減圧下溶媒溜去した。残渣を中性シリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘプタン：ジエチルエーテル＝３０：１）にて精製し、標記化合物（２．８ｇ、７．９ｍｍｏｌ、６６％）を得た。
1H−NMR Spectrum (CDCl3)δ(ppm): 0.87-0.92(15H,
m), 1.16(3H, t, J=7.0Hz), 1.26-1.35(6H, m), 1.43-1.55(6H, m), 3.36(2H, q, J=7.0Hz),
3.74(2H, t, J=6.5Hz).
（３Ａ−２）ポタシウム エトキシメチル トリフルオロボレート
Figure 0004198742
トリブチル−エトキシメチル−スズ（１．０ｇ、２．９ｍｍｏｌ）とテトラヒドロフラン（１０ｍｌ）の混合物に−７８℃（外温）でｎ−ブチルリチウム(１．５Ｍ ｎ−ヘキサン溶液、２．０ｍｌ、 ３．２ｍｍｏｌ)を滴下し、次いで、反応混合物を同温で３０分間攪拌した。反応混合物を−７８℃（外温）で、トリイソプロピルボレート(０．７３ｍｌ、 ３．２ｍｍｏｌ)とテトラヒドロフラン（１０ｍｌ）の混合物にカニュレーションにより滴下した。反応混合物を室温で３０分間攪拌した。当該混合物に０℃（外温）でポタシウム ハイドロゲンフルオリド（１．３ｇ、１７ｍｍｏｌ）を加え、次いで反応混合物に水（１０ｍｌ）を滴下した。反応混合物を室温に昇温後、減圧下溶媒溜去した。得られた残渣をジエチルエーテル（５０ｍｌ）で洗浄した。この残渣にアセトン（１００ｍｌ）を加え、ろ過した。ろ液を減圧下溶媒溜去し、残渣をアセトニトリルを用いて再結晶し、標記化合物(１５０ｍｇ、 ０．９０ｍｍｏｌ、３２％)を得た。
1H−NMR Spectrum (DMSO-d6)δ(ppm): 0.99(3H,
t, J=7.0Hz), 2.42(2H, q, J=5.6Hz), 3.18(2H, q, J=7.0Hz).
（実施例４Ａ） ポタシウム（２−メトキシエトキシメチル）トリフルオロボレートの合成
Figure 0004198742
（４Ａ−１）トリブチル−（２−メトキシエトキシメチル）−スズ
Figure 0004198742
ジイソプロピルアミン（２．１ｍｌ、１５ｍｍｏｌ）とテトラヒドロフラン（３０ｍｌ）の混合物に−７８℃（外温）でｎ−ブチルリチウム（２．４Ｍ ｎ−ヘキサン溶液、５．０ｍｌ、１２ｍｍｏｌ）を滴下し、次いで、反応混合物を３０分間攪拌した。当該混合物に−７８℃（外温）で水素化トリブチルスズ（３．３ｍｌ、１２ｍｍｏｌ）を滴下し、次いで、反応混合物を０℃（外温）で４０分間攪拌した。反応混合物を−７８℃（外温）に冷却後、反応混合物に２−メトキシエトキシメチル クロリド（１．４ｍｌ、１２ｍｍｏｌ）を滴下した。室温まで昇温後、反応混合物にジエチルエーテルと塩化アンモニウム水溶液を加え、有機層を分離した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、減圧下溶媒溜去した。残渣を中性シリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘプタン：酢酸エチル＝２０：１）にて精製し、標記化合物（２．６ｇ、６．９ｍｍｏｌ、５７％）を得た。
1H−NMR Spectrum (CDCl3)δ(ppm): 0.82-0.99(15H,
m), 1.25-1.35(6H, m), 1.43-1.57(6H, m), 3.38(3H, s), 3.46-3.49(2H, m), 3.51-3.53(2H,
m), 3.79(2H, t, J=6.4Hz).
（４Ａ−２）ポタシウム （２−メトキシエトキシメチル）トリフルオロボレート
Figure 0004198742
トリブチル−（２−メトキシエトキシメチル）−スズ（１．０ｇ、２．６ｍｍｏｌ）とテトラヒドロフラン（１０ｍｌ）の混合物に−７８℃（外温）でｎ−ブチルリチウム(１．５Ｍ ｎ−ヘキサン溶液、１．９ｍｌ、 ２．９ｍｍｏｌ)を滴下し、次いで、反応混合物を同温で４５分間攪拌した。当該混合物に−７８℃（外温）でトリイソプロピルボレート(０．６７ｍｌ、 ２．９ｍｍｏｌ)のテトラヒドロフラン溶液（１０ｍｌ）を滴下し、次いで、反応混合物を室温で１５分間攪拌した。当該混合物に０℃（外温）でポタシウム ハイドロゲンフルオリド（１．２ｇ、１６ｍｍｏｌ）を加え、次いで、反応混合物に水（１０ｍｌ）を滴下した。反応混合物を室温に昇温後、減圧下溶媒溜去した。得られた残渣をジエチルエーテルで洗浄した。この残渣にアセトンを加え、ろ過した。ろ液を減圧下溶媒溜去し、標記化合物(２７６ｍｇ、 １．４ｍｍｏｌ、５３％)を得た。
1H−NMR Spectrum (DMSO-d6)δ(ppm): 3.37-3.27(4H,
m), 3.21(3H, s), 2.50-2.44(2H, m).
（実施例５Ａ） ポタシウム シクロプロピルメトキシメチル トリフルオロボレートの合成
Figure 0004198742
（５Ａ−１）トリブチルスタニル−メタノール
Figure 0004198742
ジイソプロピルアミン（６２ｍｌ、０．４４ｍｏｌ）とテトラヒドロフラン（１０００ｍｌ）の混合物に−７８℃（外温）でｎ−ブチルリチウム（２．６Ｍ ｎ−ヘキサン溶液、１００ｍｌ、０．２６ｍｏｌ）とｎ−ブチルリチウム（１．６Ｍ ｎ−ヘキサン溶液、９５ｍｌ、０．１５ｍｏｌ）を滴下し、次いで、反応混合物を３０分間攪拌した。当該混合物へ−７８℃（外温）で水素化トリブチルスズ（１００ｍｌ、０．３７ｍｏｌ）を滴下し、次いで、反応混合物を０℃（外温）で６０分間攪拌した。反応混合物を−７８℃（外温）に冷却後、反応混合物にパラホルムアルデヒド（１３ｇ、０．１５ｍｏｌ）を加えた。反応混合物を徐々に室温まで昇温し、次いで、反応混合物を室温で終夜攪拌した。反応混合物に水、塩化アンモニウム水溶液、ジエチルエーテルを加え、有機層を分離した。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液と飽和食塩水で順次洗浄した。有機層を分離し、減圧下溶媒溜去した。残渣を中性シリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘプタン：ジエチルエーテル＝４：１）にて精製し、標記化合物（９５ｇ、０．３０ｍｏｌ、８０％）を得た。
1H−NMR Spectrum (CDCl3)δ(ppm): 0.88-0.94(15H,
m), 1.27-1.36(6H, m), 1.49-1.55(6H, m), 4.02(2H, dd, J=1.8, 6.6Hz).
（５Ａ−２）トリブチル−ヨードメチル−スズ
Figure 0004198742
トリフェニルホスフィン（７０ｇ、０．２７ｍｏｌ）とテトラヒドロフラン（５００ｍｌ）の混合物に０℃（外温）でＮ−ヨードスクシンイミド（６０ｇ、０．２７ｍｍｏｌ）とテトラヒドロフラン（５００ｍｌ）の混合物を滴下し、次いで、反応混合物を０℃（外温）で３０分間攪拌した。当該混合物へ０℃（外温）でトリブチルスタニル−メタノール（７１ｇ、０．２２ｍｏｌ）を滴下し、次いで反応混合物を０℃（外温）で２０分間攪拌した。反応混合物を室温で終夜攪拌した。反応混合物にジエチルエーテルと水を加え、有機層を分離した。有機層を飽和チオ硫酸ナトリウム水溶液と飽和食塩水で順次洗浄した。有機層を分離し、減圧下溶媒溜去した。残渣にヘプタン（４００ｍｌ）を加えろ過した。ろ液を減圧下溶媒溜去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘプタン）にて精製し、標記化合物（９０ｇ、０．２１ｍｏｌ、９４％）を得た。
1H−NMR Spectrum (CDCl3)δ(ppm): 0.91(9H,
t, J=7.2Hz), 0.96-1.00(6H, m), 1.28-1.37(6H, m), 1.49-1.56(6H, m), 1.94(2H, t,
J=8.9Hz).
（５Ａ−３）トリブチル−シクロプロピルメトキシメチル−スズ
Figure 0004198742
水素化ナトリウム（６６％、２５０ｍｇ、 ７．０ｍｍｏｌ）とテトラヒドロフラン（２０ｍｌ）の混合物に、０℃（外温）でシクロプロピルメタノール（０．５６ｍｌ、７．０ｍｍｏｌ）とＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（２０ｍｌ）を加え、次いで、反応混合物を室温で４０分間攪拌した。反応混合物に０℃（外温）で、トリブチル−ヨードメチル−スズ（２．０ｇ、
４．６ｍｍｏｌ）を滴下し、次いで、反応混合物を室温で終夜攪拌した。反応混合物にヘプタンと水を加え、有機層を分離した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、減圧下溶媒溜去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘプタン：酢酸エチル＝２０：１）にて精製し、標記化合物（１．６ｇ、４．３ｍｍｏｌ、９３％）を得た。
1H−NMR Spectrum (CDCl3)δ(ppm): 0.17-0.21(2H,
m), 0.47-0.51(2H, m), 0.84-0.98(15H, m), 1.02-1.05(1H, m), 1.26-1.35(6H, m), 1.47-1.53(6H,
m), 3.16(2H, d, J=6.8Hz), 3.77(2H, t, J=6.2Hz).
（５Ａ−４）ポタシウム シクロプロピルメトキシメチル トリフルオロボレート
Figure 0004198742
トリブチル−シクロプロピルメトキシメチル−スズ（１．４５ｇ、３．８６ｍｍｏｌ）とテトラヒドロフラン（２８ｍｌ）の混合物に−７８℃（外温）でｎ−ブチルリチウム(１．５４Ｍ ｎ−ヘキサン溶液、２．５１ｍｌ、 ３．８７ｍｍｏｌ)を滴下し、次いで、反応混合物を同温で３０分間攪拌した。当該混合物に−７８℃（外温）でトリイソプロピルボレート(９８０μｌ、 ４．２５ｍｍｏｌ)を滴下し、次いで、反応混合物を０℃（外温）で２０分間攪拌した。当該混合物に０℃（外温）でポタシウム ハイドロゲンフルオリド（１．８１ｇ、２３．２ｍｍｏｌ）を加え、次いで、反応混合物に水（１０ｍｌ）を滴下した。反応混合物を室温に昇温後、減圧下溶媒溜去した。得られた残渣をジエチルエーテル（５０ｍｌ）で洗浄した。この残渣にアセトン（７０ｍｌ）を加え、ろ過した。ろ液を減圧下溶媒溜去し、標記化合物(３２７ｍｇ、 １．７０ｍｍｏｌ、４４％)を白色固体として得た。
1H−NMR Spectrum (DMSO-d6)δ(ppm)：0.02(2H, dd, J=4.4 Hz, 9.2 Hz), 0.31-0.35(2H, m), 0.80-0.85(1H, m),
2.40(2H, q, J=5.2 Hz), 2.95(2H, d, J=6.8 Hz).
（実施例６Ａ） ポタシウム ｛［2-（ジメチルアミノ）エトキシ］メチル｝ トリフルオロボレートの合成
Figure 0004198742
（６Ａ−１）N,N-ジメチル-2-［（トリ-n-ブチルスタニル）メトキシ］エタンアミン
Figure 0004198742
水素化ナトリウム（６０％、２７８ｍｇ、 ７．０ｍｍｏｌ）とテトラヒドロフラン（２０ｍｌ）の混合物に、０℃（外温）で２−ジメチルアミノエタノール（０．７０ｍｌ、７．０ｍｍｏｌ）を加え、次いで、反応混合物を室温で３０分間攪拌した。反応混合物に０℃（外温）で、トリブチルヨードメチルスズ（２．０ｇ、
４．６ｍｍｏｌ）とテトラヒドロフラン（５ｍｌ）−Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（２０ｍｌ）の混合物を滴下し、次いで、反応混合物を室温で１時間攪拌した。反応混合物を水にあけた後、酢酸エチルを加え、有機層を分離した。有機層を水と飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下溶媒溜去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘプタン：酢酸エチル＝１９：１、ＮＨシリカゲル）にて精製し、標記化合物（１．７ｇ、４．３ｍｍｏｌ、９３％）を得た。
1H−NMR Spectrum (CDCl3)δ(ppm): 0.81-0.98(15H,
m), 1.25-1.34(6H, m), 1.40-1.60(6H, m), 2.26(6H, s), 2.47(2H, t, J=6.0Hz),
3.41(2H, t, J=6.0Hz), 3.75(2H, t, J=6.4Hz).
（６Ａ−２）ポタシウム ｛［2-（ジメチルアミノ）エトキシ］メチル｝ トリフルオロボレート
Figure 0004198742
Ｎ,Ｎ−ジメチル−２−［（トリ−ｎ−ブチルスタニル）メトキシ]エタンアミン（１．７ｇ、４．２ｍｍｏｌ）とテトラヒドロフラン（３６ｍｌ）の混合物に−７８℃（外温）でｎ−ブチルリチウム(２．５９Ｍ ｎ−ヘキサン溶液、１．８ｍｌ、 ４．７ｍｍｏｌ)を滴下し、次いで、反応混合物を同温で３０分間攪拌した。当該混合物を、−７８℃（外温）に冷却したトリイソプロピルボレート(１．１ｍｌ、 ４．７ｍｍｏｌ)とテトラヒドロフラン（１０ｍｌ）の混合物にカニュレーションにより２０分間かけて滴下した。次いで、反応混合物を室温に昇温して１時間攪拌した。当該混合物に０℃（外温）でポタシウム ハイドロゲンフルオリド（２．０ｇ、２５ｍｍｏｌ）を加え、次いで、反応混合物に水（１０ｍｌ）を滴下した。当該混合物を０℃（外温）で３０分間攪拌した後、反応混合物を室温に昇温し、減圧下溶媒溜去した。得られた残渣をジエチルエーテル（１００ｍｌ）で洗浄した。この残渣にアセトン（５０ｍｌ）を加え、ろ過した。ろ液を減圧下溶媒溜去後、残渣にヘキサンを加えて結晶化および洗浄し、標記化合物(２８５ｍｇ、 １．２ｍｍｏｌ、２９％)を得た。
1H−NMR Spectrum (DMSO-d6)δ(ppm): 2.13(6H,
s), 2.33(2H, t, J=6.0Hz), 2.49-2.53(2H, m), 3.27(2H, t, J=6.0Hz).
（実施例７Ａ）ポタシウム シクロブトキシメチル トリフルオロボレートの合成
Figure 0004198742
（７Ａ−１）トリブチル−シクロブトキシメチル−スズ
Figure 0004198742
水素化ナトリウム（６６％、２５０ｍｇ、 ７．０ｍｍｏｌ）とテトラヒドロフラン（２０ｍｌ）の混合物に０℃（外温）でシクロブタノール（０．５５ｍｌ、７．０ｍｍｏｌ）とＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（２０ｍｌ）を加え、次いで、反応混合物を室温で４０分間攪拌した。反応混合物に０℃（外温）で、トリブチル−ヨードメチル−スズ（２．０ｇ、
４．６ｍｍｏｌ）を滴下し、次いで、反応混合物を室温で終夜攪拌した。反応混合物にヘプタンと水を加え、有機層を分離した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、減圧下溶媒溜去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘプタン：酢酸エチル＝２０：１）にて精製し、標記化合物（１．６ｇ、４．３ｍｍｏｌ、９２％）を得た。
1H−NMR Spectrum (CDCl3)δ(ppm): 0.81-0.98(15H,
m), 1.26-1.35(6H, m), 1.43-1.57(7H, m), 1.65-1.70(1H, m), 1.80-1.87(2H, m), 2.14-2.21(2H,
m), 3.57(2H, dd, J=7.3, 7.0Hz), 3.68-3.76(1H, m).
（７Ａ−２）ポタシウム シクロブトキシメチル トリフルオロボレート
Figure 0004198742
トリブチル−シクロブトキシメチル−スズ（１．０ｇ、２．７ｍｍｏｌ）とテトラヒドロフラン（１０ｍｌ）の混合物に−７８℃（外温）でｎ−ブチルリチウム(１．５Ｍ ｎ−ヘキサン溶液、１．７ｍｌ、 ２．７ｍｍｏｌ)を滴下し、次いで、反応混合物を同温で６０分間攪拌した。当該混合物に−７８℃（外温）でトリイソプロピルボレート(０．８０ｍｌ、 ３．５ｍｍｏｌ)のテトラヒドロフラン溶液（１０ｍｌ）を滴下し、次いで、反応混合物を室温で５分間攪拌した。反応混合物に０℃（外温）でポタシウム ハイドロゲンフルオリド（１．２５ｇ、１６ｍｍｏｌ）を加え、次いで反応混合物を室温で５０分間攪拌した。当該化合物に、室温で水（１０ｍｌ）を滴下し、次いで、反応混合物を同温でさらに５０分間攪拌した。反応混合物を減圧下溶媒溜去した。得られた残渣をジエチルエーテルで洗浄した。この残渣にアセトンを加え、ろ過した。ろ液を減圧下溶媒溜去し、標記化合物(２１４ｍｇ、 １．１ｍｍｏｌ、４２％)を得た。
1H−NMR Spectrum (DMSO-d6)δ(ppm): 3.60(1H,
quin, J=6.8Hz), 2.31(2H, q, J=5.6Hz), 2.08-1.99(2H, m), 1.73-1.61(2H, m),
1.58-1.48(1H, m), 1.42-1.30(1H, m).
（実施例８Ａ） ポタシウム ２−ピペリジン−１−イルエトキシメチル トリフルオロボレートの合成
Figure 0004198742
（８Ａ−１）1−(２−トリブチルスタニルメトキシエチル)ピペリジン
Figure 0004198742
１−ピペリジンエタノール(１．３ｇ、１０ｍｍｏｌ)とテトラヒドロフラン（３０ｍｌ）の混合物に、０℃（外温）で水素化ナトリウム（６０％、４１８ｍｇ、
１０ｍｍｏｌ）を加え、室温で３０分間攪拌した。次いで、反応混合物に０℃（外温）でトリブチルヨードメチルスズ（３．０ｇ、 ７．０ｍｍｏｌ）、テトラヒドロフラン（５ｍｌ）、およびＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（３０ｍｌ）の混合物を滴下し、次いで、反応混合物を室温で１時間攪拌した。反応混合物に水と酢酸エチルを加え、有機層を分離した。有機層を水と飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下溶媒留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘプタン：酢酸エチル＝２０：１、ＮＨシリカゲル）にて精製し、標記化合物(２．１ｇ、 ４．９ｍｍｏｌ、７０％)を得た。
1H−NMR Spectrum (CD3OD)δ(ppm): 0.87-0.91(15H,
m), 1.25-1.34(6H, m), 1.39-1.44(2H, m), 1.46-1.1.52(6H, m), 1.54-1.60(4H, m), 2.42(4H, brs), 2.52(2H, t, J=6.0Hz), 3.46(2H, t,
J=6.0Hz), 3.73(2H, s).
（８Ａ−２）ポタシウム ２−ピペリジン−１−イルエトキシメチル トリフルオロボレート
Figure 0004198742
1−(２−トリブチルスタニルメトキシエチル)ピペリジン(２．１ｇ、４．９ｍｍｏｌ)とテトラヒドロフラン（３０ｍｌ）の混合物に−７８℃（外温）でn−ブチルリチウム（１．５７M n−へキサン溶液、３．１ｍｌ、４．９ｍｍｏｌ）を滴下し、次いで、反応混合物を同温で３０分間攪拌した。当該混合物に−７８℃（外温）でトリイソプロピルボレート（１．２ｍｌ、５．４ｍｍｏｌ）を滴下し、次いで、反応混合物を０℃（外温）で２０分間攪拌した。当該混合物に０℃（外温）でポタシウム ハイドロゲンフルオリド（２．３ｇ、
２９ｍｍｏｌ）を加え、次いで、同温で反応混合物に水（８ｍｌ）を滴下した。反応混合物を室温に昇温後、減圧下溶媒溜去した。得られた残渣にアセトン（１００ｍｌ）とメタノール（５ｍｌ）を加え加熱し、次いで、４０℃程度（内温）まで放冷後、ろ過した。ろ液を減圧下溶媒溜去し、残渣をジエチルエーテル：ヘプタン＝１：５で洗い、デカンテーションした後、減圧下で乾燥させ、標記化合物(１４０ｍｇ、 ０．５６ｍｍｏｌ、１２％)を得た。
1H−NMR
Spectrum (CD3OD )δ(ppm)：1.50-1.52(2H, m), 1.62-1.68(4H, m), 2.64(4H, brs), 2.69(2H, t,
J=6.0Hz), 2.80(2H, q, J=5.6Hz), 3.55(2H, t, J=6.0Hz).
（実施例９Ａ） ポタシウム [（２−モルホリン−４−イルエトキシ）メチル] トリフルオロボレートの合成
Figure 0004198742
（９Ａ−１）４−(２−トリブチルスタニルメトキシエチル)モルホリン
Figure 0004198742
水素化ナトリウム（７２％、２３０ｍｇ、 ７．０ｍｍｏｌ）とテトラヒドロフラン（２０ｍｌ）の混合物に、室温でＮ−（２−ヒドロキシエチル）モルホリン（８４３μｌ、６．９６ｍｍｏｌ）を加え、次いで、反応混合物を４５℃（外温）で２０分間攪拌した。反応混合物に０℃（外温）で、トリブチル（ヨードメチル）スタナン（２．０ｇ、
４．６４ｍｍｏｌ）を加え、次いで、当該混合物を４５℃で３０分間攪拌した。反応混合物を室温に冷却したのち、酢酸エチルと水を加え、有機層を分離した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下溶媒溜去後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ＮＨシリカゲル、ヘプタン：酢酸エチル＝９：１）で精製し、標記化合物(１．７ｇ、 ４．０ｍｍｏｌ、８５％)を得た。
1H−NMR Spectrum (CDCl3)δ(ppm)：0.81-0.97(15H, m), 1.25-1.34(6H, m), 1.46-1.54(6H, m) , 2.49-2.51(4H, m), 2.55(2H, t, J=5.6Hz), 3.47(2H, t, J=5.6Hz),
3.70-3.74(6H, m).
（９Ａ−２）ポタシウム [（２−モルホリン−４−イルエトキシ）メチル] トリフルオロボレート
Figure 0004198742
４−(２−トリブチルスタニルメトキシエチル)モルホリン(１．７ｇ、４．０ｍｍｏｌ)とテトラヒドロフラン（２０ｍｌ）の混合物に−７８℃（外温）でｎ−ブチルリチウム（１．５２Ｍ ｎ−へキサン溶液、２．６ｍｌ、４．０ｍｍｏｌ）を滴下し、反応混合物を同温で３０分間攪拌した。当該混合物に−７８℃（外温）でトリイソプロピルボレート（１．１ｍｌ、４．８ｍｍｏｌ）を滴下し、反応混合物を０℃（外温）で２０分間攪拌した。当該混合物に０℃（外温）でポタシウム ハイドロゲンフルオリド（１．３ｇ、
１６ｍｍｏｌ）を加え、次いで、同温で反応混合物に水（２０ｍｌ）を滴下した。反応混合物を室温に昇温後、減圧下溶媒溜去した。残渣にアセトン（１００ｍｌ）とメタノール（５ｍｌ）を加え、ろ過した。ろ液を減圧下溶媒溜去し、残渣をジエチルエーテルで洗い、標記化合物(１５０ｍｇ、 ０．６０ｍｍｏｌ、１５％)を得た。
1H−NMR
Spectrum (DMSO-d6)δ(ppm)：2.35-2.39(6H, m), 2.47(2H, q, J=5.6Hz), 3.26-3.31(2H, m),
3.53-3.57(4H, m).
（実施例１０Ａ） ポタシウム トリフルオロ［（３−モルホリン−4−イルプロポキシ）メチル］ボレートの合成
Figure 0004198742
（１０Ａ−１）４−｛３−［（トルブチルスタニル）メトキシ］プロピル｝モルホリン
Figure 0004198742
水素化ナトリウム（６０％、２７８ｍｇ、 ６．９６ｍｍｏｌ）とテトラヒドロフラン（２０ｍｌ）の混合物に、室温でＮ−（３−ヒドロキシプロピル）モルホリン（９６３μｌ、６．９６ｍｍｏｌ）を加え、次いで、反応混合物を４５℃（外温）で１０分間攪拌した。反応混合物に０℃（外温）で、トリブチル（ヨードメチル）スタナン（２．０ｇ、
４．６４ｍｍｏｌ）を加え、次いで、当該混合物を４５℃で１時間攪拌した。反応混合物を室温に冷却したのち、酢酸エチルで希釈し、水と飽和食塩水洗で順に洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下溶媒溜去後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ＮＨシリカゲル、ヘプタン：酢酸エチル＝９：１）で精製し、標記化合物(２．０８ｇ、 ６．９６ｍｍｏｌ、１００％)を得た。
1H−NMR Spectrum (CDCl3)δ(ppm)：0.81-0.97(15H, m), 1.26-1.35(6H, m), 1.42-1.54(6H, m) , 1.75(2H, br s), 2.46(6H, br s), 3.36(2H, t, J=6.2Hz), 3.70(2H, t,
J=7.0Hz), 3.64(4H, br s).
（１０Ａ−２）ポタシウム トリフルオロ［（３−モルホリン−4−イルプロポキシ）メチル］ボレート
Figure 0004198742
４−｛３−［（トルブチルスタニル）メトキシ］プロピル｝モルホリン（２．０８ｇ、６．９６ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（１００ｍｌ）溶液に−７８℃（外温）でｎ−ブチルリチウム（２．６７Ｍ、１．７４ｍｌ、４．６４ｍｍｏｌ）を加え、同温で1時間攪拌した。次いで、同温で反応混合物にトリイソプロピルボレート（１．２９ｍｌ、５．５６ｍｍｏｌ）を加えた。反応混合物を０℃で８０分間攪拌した後、同温で反応混合物にポタシウム ハイドロゲンフルオリド（１．４５ｇ、１８．５ｍｍｏｌ）と水（５０ｍｌ）を加え、ついで当該反応混合物を室温で攪拌した。減圧下溶媒溜去し、残渣をエーテルで洗浄した。得られた残渣にアセトン（１００ｍｌ）とメタノール（５ｍｌ）を加えてろ過し、ろ液を減圧下溶媒溜去した。残渣をエーテルで洗い、標記化合物(７２０ｍｇ、 ２．７１ｍｍｏｌ、５９％)を得た。
1H−NMR
Spectrum (DMSO-d6)δ(ppm)：1.53-1.60(2H, m), 2.23-2.27(2H, m), 2.31(4H, m), 2.43(2H, q,
J=5.6Hz), 3.18(2H, t, J=6.4Hz), 3.55(4H, t, J=4.8Hz).
（実施例１１Ａ） ポタシウム （１−メチル−ピペリジン−４−イルオキシ）メチル トリフルオロボレートの合成
Figure 0004198742
（１１Ａ−１）１−メチル−４−トリブチルスタニルメトキシピペリジン
Figure 0004198742
４−ヒドロキシ−１−メチルピペリジン（８０２ｍｇ、６．９６ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（２０ｍｌ）溶液に、室温で水素化ナトリウム（５０％、３３４ｍｇ、６．９６ｍｍｏｌ）を加え、室温で３５分間攪拌した。反応混合物に室温でトリブチル−ヨードメチル−スタナン（２．００ｇ、４．６４ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（５ｍｌ）溶液及びＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（１０ｍｌ）を加え、室温で７時間５０分攪拌した。反応混合物に氷冷にて水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水および飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムを用いて乾燥した。減圧下溶媒留去後、残渣をＮＨシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘプタン：酢酸エチル＝１００：１〜２０：１）にて精製し、標記化合物（１．４２ｇ、３．３９ｍｍｏｌ、７３％）を得た。
1H−NMR
Spectrum (CDCl3)δ(ppm)：0.87-0.91(15H, m), 1.26-1.35(6H, m), 1.47-1.55(6H, m), 1.62(2H, brs),
1.83(2H, brs), 2.14(2H, brs), 2.25(3H, s), 2.60(2H, brs), 3.07(1H, brs),
3.69(2H, t, J=7.9 Hz).
（１１Ａ−２）ポタシウム （１−メチル−ピペリジン−４−イルオキシ）メチル トリフルオロボレート
Figure 0004198742
１−メチル−４−トリブチルスタニルメトキシピペリジン（１．４２ｇ、３．３９ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン(６０ｍｌ)溶液に、窒素雰囲気下、−７８℃でｎ−ブチルリチウム（１．５９Ｍ、２．１４ｍｌ、３．３９ｍｍｏｌ）を加え、−７８℃で３０分間攪拌した。反応混合物に窒素雰囲気下、−７８℃でトリイソプロピル ボレート（８６３μｌ、３．７４ｍｍｏｌ）を加え、０℃で２０分間攪拌した。続いて、反応混合物に０℃でポタシウム ハイドロゲンフルオリド（１．０６ｇ、１３．６ｍｍｏｌ）及び水（１０ｍｌ）を加え、室温で１０分間攪拌した。反応混合物を減圧下溶媒溜去後、残渣にアセトン（３０ｍｌ）を加え加熱した。４０℃程度（内温）まで放冷後、セライトを用いてろ過した。ろ液を減圧下溶媒溜去後、残渣をヘプタンで洗い、標記化合物(９５ｍｇ、０．４０ｍｍｏｌ、１２％)を得た。
1H−NMR Spectrum (DMSO-d6)δ(ppm)：1.25-1.34(2H, m), 1.74-1.78(2H, m), 1.90-1.95(2H, m), 2.13(3H, s),
2.45(2H, q, J=5.5 Hz), 2.60-2.64(2H, m), 2.88-2.93(1H, m).
（実施例１２Ａ） テトラブチルアンモニウム メトキシメチル トリフルオロボレートの合成
Figure 0004198742
実施例２Ａに記載のポタシウム メトキシメチル トリフルオロボレート（５００ｍｇ、３．２９ｍｍｏｌ）の塩化メチレン（１０ｍｌ）、水（１０ｍｌ）混合溶液に、室温でテトラブチルアンモニウム ヒドロキシド（２．３７ｍｌ、４０％水溶液、３．６２ｍｍｏｌ）を加え、室温で数分間攪拌した。混合溶液を塩化メチレンで抽出し、得られた有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下溶液留去し、標記化合物（９３３ｍｇ、２．６１ｍｍｏｌ、８０％）を得た。
1H−NMR Spectrum (DMSO-d6)δ(ppm)：0.918(12H, t, J=7.5 Hz), 1.24-1.34(8H, m), 1.51-1.59(8H, m),
2.39(2H, q, J=5.2 Hz), 3.04(3H, s), 3.12-3.16(8H, m).
（実施例１３Ａ） ポタシウム ｛［２−（１−メチルピペラジン−4−イル）エトキシ］メチル｝ トリフルオロボレートの合成
Figure 0004198742
（１３Ａ−１）1−メチル−４−(２−トリブチルスタニルメトキシエチル)ピペラジン
Figure 0004198742
1−（２−ヒドロキシエチル）−４−メチルピペラジン(１.０ｇ、６．９ｍｍｏｌ)とテトラヒドロフラン（１５ｍｌ）の混合物に、０℃（外温）で水素化ナトリウム（６０％、２７７ｍｇ、
６．９ｍｍｏｌ）を加え、室温で反応混合物を３０分間攪拌した。次いで、反応混合物に０℃（外温）で、トリブチルヨードメチルスズ（２．０ｇ、 ４．６ｍｍｏｌ）とＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（１５ｍｌ）の混合物を滴下し、次いで、反応混合物を室温で１．５時間攪拌した。反応混合物に水と酢酸エチルを加え、有機層を分離した。有機層を水と飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下溶媒留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘプタン：酢酸エチル＝１０：１、ＮＨシリカゲル）にて精製し、標記化合物(１．９ｇ、 ４．２ｍｍｏｌ、９２％)を得た。
1H−NMR Spectrum (CDCl3)δ(ppm): 0.89(15H,
t, J=7.6Hz), 1.25-1.34(6H, m), 1.46-1.1.54(6H, m), 2.28(3H,
s), 2.46(8H, brs), 2.56(2H, t, J=5.6Hz), 3.47(2H, t, J=5.6Hz), 3.73(2H, s).
（１３Ａ−２）ポタシウム ｛［２−（１−メチルピペラジン−4−イル）エトキシ］メチル｝ トリフルオロボレート
Figure 0004198742
1−メチル−４−(２−トリブチルスタニルメトキシエチル)ピペラジン(４００ｍｇ、０．９０ｍｍｏｌ)とトリイソプロピルボレート（０．３２ｍｌ、１．４ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（５０ｍｌ）溶液に−７８℃（外温）でｎ−ブチルリチウム（１．６Ｍ ｎ−へキサン溶液、０．５７ｍｌ、０．９０ｍｍｏｌ）を滴下し、次いで、反応混合物を同温で３０分間攪拌した。当該混合物に−７８℃（外温）でポタシウム ハイドロゲンフルオリド（５３０ｍｇ、
６．７ｍｍｏｌ）を加え、次いで、反応混合物を室温に昇温した。同温で反応混合物に水（２５ｍｌ）を滴下し、同温で反応混合物を１０分間攪拌した後、減圧下溶媒溜去した。得られた残渣にアセトン（１００ｍｌ）とメタノール（５ｍｌ）を加え加熱し、次いで、４０℃程度（内温）まで放冷後、ろ過した。ろ液を減圧下溶媒溜去し、残渣をジエチルエーテル−ヘプタン（１：５）で洗い、標記化合物(４ｍｇ、 ０．０１５ｍｍｏｌ、１．４％)を得た。
1H−NMR
Spectrum (CD3OD)δ(ppm)：2.49(3H, s), 2.80-2.84(4H, m), 2.83(2H, q, J=5.6), 3.10(2H, t,
J=5.2Hz), 3.09-3.20(4H, m), 3.62(2H, t, J=5.2Hz).
（実施例１４Ａ） ポタシウム ４−（ジメチルアミノ）ブトキシメチル トリフルオロボレートの合成
Figure 0004198742
（１４Ａ−１）ジメチル−（４−トリブチルスタニルメトキシブチル)アミン
Figure 0004198742
水素化ナトリウム（７２％、２３２ｍｇ、 ７．０ｍｍｏｌ）とテトラヒドロフラン（２０ｍｌ）の混合物に、０℃（外温）で４−（ジメチルアミノ）−１−ブタノール (０．８２ｇ、７．０ｍｍｏｌ)を加え、４５℃で反応混合物を２０分間攪拌した。次いで、反応混合物を０℃（外温）に冷却し、反応混合物に同温でトリブチルヨードメチルスズ（２．０ｇ、
４．６ｍｍｏｌ）とＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（２０ｍｌ）の混合物を滴下し、次いで、反応混合物を４５℃で３０分間攪拌した。反応混合物を室温とし、反応混合物に水と酢酸エチルを加え、有機層を分離した。有機層を水と飽和食塩水で洗浄し、減圧下溶媒留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘプタン：酢酸エチル＝２０：１、ＮＨシリカゲル）にて精製し、標記化合物(１．４ｇ、 ３．３ｍｍｏｌ、７０％)を得た。
1H−NMR Spectrum (CDCl3)δ(ppm): 0.81-0.97(15H,
m), 1.26-1.1.35(6H, m), 1.47-1.55(10H, m), 2.21(6H, s), 2.24-2.28(2H, m), 3.30-3.33(2H, m), 3.71(2H, t, J=6.8Hz).
（１４Ａ−２）ポタシウム ４−（ジメチルアミノ）ブトキシメチル トリフルオロボレート
Figure 0004198742
ジメチル−（４−トリブチルスタニルメトキシブチル)アミン(５００ｍｇ、１．２ｍｍｏｌ)とテトラヒドロフラン（１２ｍｌ）の混合物に−７８℃（外温）でトリイソプロピルボレート（０．４１ｍｌ、１．８ｍｍｏｌ）を加え、次いで同温で反応混合物にｎ−ブチルリチウム（１．５Ｍ ｎ−へキサン溶液、０．７６ｍｌ、１．２ｍｍｏｌ）を滴下した。反応混合物を０℃（外温）で２０分間攪拌した後、同温でポタシウム ハイドロゲンフルオリド（６５０ｍｇ、
８．３ｍｍｏｌ）を加えた。同温で水（１０ｍｌ）を滴下し、次いで反応混合物を室温で１０分間攪拌した。減圧下溶媒溜去後、得られた残渣にアセトン（１００ｍｌ）とメタノール（５ｍｌ）を加え、ろ過した。ろ液を減圧下溶媒溜去し、残渣をジエチルエーテルで洗い、標記化合物(５５ｍｇ、 ０．２３ｍｍｏｌ、２０％)を得た。
1H−NMR
Spectrum (CD3OD)δ(ppm)：1.75-1.81(2H, m), 1.85-1.91(2H, m) , 2.83(6H, s), 2.87(2H, q,
J=5.6), 3.07(2H, t, J=5.9Hz), 3.44(2H, t, J=5.4Hz).
（実施例１５Ａ） ポタシウム {２−[シクロヘキシル（メチル）アミノ]エトキシ}メチル トリフルオロボレートの合成
Figure 0004198742
（１５Ａ−１）２−[シクロへキシル（メチル）アミノ]エタノール
Figure 0004198742
Ｎ−シクロヘキシルエタノールアミン（２．１ｇ、１４．７ｍｍｏｌ）とテトラヒドロフラン（７０ｍｌ）の混合物に、室温にて、ヨードメタン（１．１ｍｌ、１７．６ｍｍｏｌ）およびトリエチルアミン（２．２６ｍｌ、１６．２ｍｍｏｌ）を加え、反応混合物を加熱還流下１時間攪拌した。反応混合物を室温（外温）に冷却し、これに水を加え反応を停止した後、反応混合物に酢酸エチルを加え、有機層を分離した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄後、減圧下溶媒溜去した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル、ＮＨシリカゲル）にて精製し、標的化合物（７９０．７ｍｇ、５．０ｍｍｏｌ、３４％）を得た。
1H−NMR Spectrum (CDCl3)δ(ppm)：1.03-1.12(1H,m), 1.17-1.28(4H, m), 1.61-1.65(1H, m), 1.72-1.84(4H,
m), 2.24(s, 3H), 2.32-2.43(1H, m), 2.59(2H, t, J=5.6 Hz), 3.50(2H, t, J=5.5
Hz).
（１５Ａ−２）Ｎ−メチル−Ｎ−{２−[（トリブチルスタニル）メトキシ]エチル}シクロヘキサンアミン
Figure 0004198742
水素化ナトリウム（５０％、２４１ｍｇ、 ５．０ｍｍｏｌ）とテトラヒドロフラン（２０ｍｌ）の混合物に、０℃（外温）で２−[シクロへキシル（メチル）アミノ]エタノール（７９１ｍｇ、５．０ｍｍｏｌ）を加え、次いで、反応混合物を６０℃で３０分間攪拌した。反応混合物を０℃（外温）に冷却した後、反応混合物にトリブチルヨードメチルスズ（２．２ｇ、５．０ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（５ｍｌ）溶液を滴下し、６０℃にて反応混合物を１時間攪拌した。反応混合物を室温（外温）に冷却し、水を加え反応を停止した後、反応混合物に酢酸エチルを加え、有機層を分離した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄後、減圧下溶媒溜去した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ヘプタン：酢酸エチル＝２０：１、ＮＨシリカゲル）にて精製し、標的化合物（７９０．７ｍｇ、４．３ｍｍｏｌ、８５％）を得た。
1H−NMR Spectrum (CDCl3)δ(ppm)：0.87-0.91(15H, m), 1.01-1.12(1H, m), 1.16-1.24(4H, m), 1.25-1.34(6H,
m), 1.46-1.54(6H, m), 1.56-1.66(1H, m), 1.76-1.82(4H, m), 2.29(3H, s),
2.32-2.40(1H. m), 2.61(2H, t, J=6.4 Hz), 3.40(2H, t, J=6.4), 3.74(2H, t, J=6.4
Hz).
（１５Ａ−３）ポタシウム {２−[シクロヘキシル（メチル）アミノ]エトキシ}メチル トリフルオロボレート
Figure 0004198742
Ｎ−メチル−Ｎ−{２−[（トリブチルスタニル）メトキシ]エチル}シクロヘキサンアミン（５００ｍｇ、１．１ｍｍｏｌ）、トリイソプロピルボレート（２８１μｌ、
１．１ｍｍｏｌ）とテトラヒドロフラン（４０ｍｌ）の混合物に、−７８℃（外温）でｎ−ブチルリチウム（７５４μｌ、１．２ｍｍｏｌ）を加え、反応混合物を０℃（外温）に昇温後３０分攪拌した。次いで、反応混合物にポタシウム ハイドロゲンフルオリド（５１１ｍｇ、６．５４ｍｍｏｌ）を加え、同温で反応混合物に水（２０ｍｌ）を滴下した。反応混合物を室温に昇温後１時間攪拌した後、減圧下溶媒溜去した。得られた残渣にアセトン−メタノール（１０：１）（１００ｍｌ）を加え加熱し、４０℃程度（内温）まで放冷後、ろ過した。ろ液を減圧下溶媒溜去し、残渣をヘキサンを用いて洗い、標記化合物（２２．２ｍｇ、０．０８ｍｍｏｌ、７％）を得た。
1H−NMR
Spectrum (CD3OD)δ(ppm)：1.20-1.40(5H,m), 1.66-1.70(1H, m), 1.86-1.94(4H, m), 2.82(2H, q,
J=5.6 Hz), 2.90(1H, br s), 2.95-3.07(2H, m),3.34(3H, s), 3.58(2H, t, J=5.6 Hz).
（参考例１６Ａ）（２−メチルプロポキシ）メチル ボロニック アシッドの合成
Figure 0004198742
（１６Ａ−１）トリブチル−（２−メチルプロポキシ）メチル−スズ
Figure 0004198742
水素化ナトリウム（６６％、２５０ｍｇ、 ７．０ｍｍｏｌ）とテトラヒドロフラン（２０ｍｌ）の混合物に、０℃（外温）で２−メチルプロパノール（０．６９ｍｌ、７．４ｍｍｏｌ）とＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（２０ｍｌ）を加え、次いで、反応混合物を室温で１時間攪拌した。反応混合物に０℃（外温）で、トリブチル−ヨードメチル−スズ（２．０ｇ、
４．６ｍｍｏｌ）を滴下し、次いで、反応混合物を室温で５時間半攪拌した。反応混合物にヘプタンと水を加え、有機層を分離した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、減圧下溶媒溜去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘプタン：酢酸エチル＝２０：１）にて精製し、標記化合物（１．７ｇ、４．４ｍｍｏｌ、９５％）を得た。
1H−NMR Spectrum (CDCl3)δ(ppm): 0.86-0.91(21H,
m), 1.26-1.35(6H, m), 1.47-1.54(6H, m), 1.78-1.88(1H, m), 3.07(2H, d, J=6.6Hz),
3.71(2H, t, J=6.6Hz).
（１６Ａ−２）（２−メチルプロポキシ）メチル ボロニック アシッド
Figure 0004198742
トリブチル−（２−メチルプロポキシ）メチル−スズ（１．００ｇ、２．６５ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（２０ｍｌ）溶液に、窒素雰囲気下、−７８℃でｎ−ブチルリチウム（１．５４Ｍ ｎ−ヘキサン溶液、１．７２ｍｌ、２．６５ｍｍｏｌ）を滴下し、同温で反応混合物を３５分間攪拌した。続いて、反応混合物に窒素雰囲気下、−７８℃でトリイソプロピル ボレート（１．１０ｍｌ、４．７７ｍｍｏｌ）を加え、室温で反応混合物を５０分間攪拌した。反応混合物に室温で１Ｎ水酸化ナトリウム水溶液を加えて３回抽出し、得られた水層をジエチルエーテルで洗浄した。続いて、得られた水層に５Ｎ塩酸水溶液を加え酸性にし、ジエチルエーテルで３回抽出した。得られた有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、ろ過した。ろ液を減圧下溶媒留去し、標記化合物（１０１ｍｇ、０．７６５ｍｍｏｌ、２９％)を得た。
1H−NMR Spectrum (CDCl3)δ(ppm)：0.892(6H, d, J=6.4 Hz), 1.80-1.90(1H, m), 3.19(2H, d, J=6.4 Hz),
3.21(2H, s), 4.80(2H, s).
（実施例Ｂ−１） １−メトキシメチル−４−ニトロ−ベンゼン
Figure 0004198742
４−ニトロフェニル トリフルオロメタンスルホネート(３０ｍｇ、 ０．１１ｍｍｏｌ)と１，４−ジオキサン（３ｍｌ）の混合物に、水（０．３ｍｌ）、炭酸セシウム(０．１１ｇ、
０．３４ｍｍｏｌ)、ポタシウム メトキシメチル トリフルオロボレート(１７ｍｇ、
０．１１ｍｍｏｌ)、酢酸パラジウム（ＩＩ）(１．３ｍｇ、 ０．００５６ｍｍｏｌ)およびトリ−ｏ−トリルホスフィン(８．５ｍｇ、 ０．０２８ｍｍｏｌ)を加え、次いで、反応混合物を９５℃（外温）で４時間攪拌した。反応混合物を室温に冷却後、水とヘプタンを加え、有機層を分離した。有機層をろ過し、減圧下溶媒溜去した。残渣をＮＨ−シリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘプタン：酢酸エチル＝１０：１）にて精製し、標記化合物（１３ｍｇ、０．０７８ｍｍｏｌ、６８％）を得た。
1H−NMR Spectrum (CDCl3)δ(ppm): 3.45(3H,
s) , 4.56(2H, s) , 7.50(2H, d, J=9.0Hz) , 8.21(2H, d, J=8.8Hz).
（実施例Ｂ−２） １−メトキシ−２−メトキシメチル−ベンゼン
Figure 0004198742
２−ブロモアニソール(５０ｍｇ、 ０．２７ｍｍｏｌ)と１，４−ジオキサン（２ｍｌ）の混合物に、水（０．２ｍｌ）、炭酸セシウム(０．２６ｇ、
０．８０ｍｍｏｌ)、ポタシウム メトキシメチル トリフルオロボレート(８１ｍｇ、
０．５３ｍｍｏｌ)、酢酸パラジウム（ＩＩ）(３．０ｍｇ、 ０．０１３ｍｍｏｌ)および２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，６’−ジメトキシビフェニル(１１ｍｇ、
０．０２７ｍｍｏｌ)を加え、次いで、反応混合物を１００℃（外温）で終夜攪拌した。反応混合物を室温に冷却後、水とヘプタンを加えセライトを用いてろ過した。有機層を分離し、有機層を飽和食塩水で洗浄した。有機層を分離し、減圧下溶媒溜去した。残渣をＮＨ−シリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘプタン）にて精製し、標記化合物（２７ｍｇ、０．１８ｍｍｏｌ、６６％）を得た。
1H−NMR Spectrum (CDCl3)δ(ppm): 3.42(3H,
s) , 3.84(3H, s) , 4.51(2H, s) , 6.87-6.89(1H, m) , 6.96(1H, td, J=7.4, 1.1Hz)
, 7.25-7.29(1H, m) , 7.34-7.36(1H, m).
（実施例Ｂ−３） 1-ｔ−ブトキシメチル-3-メトキシベンゼン
Figure 0004198742
３−ブロモアニソール(３０ｍｇ、 ０．１６ｍｍｏｌ)と１，４−ジオキサン（２ｍｌ）の混合物に、水（０．２ｍｌ）、炭酸セシウム(０．２６ｇ、
０．８０ｍｍｏｌ)、ポタシウム ｔ−ブトキシメチル トリフルオロボレート(６２ｍｇ、
０．３２ｍｍｏｌ)、酢酸パラジウム（ＩＩ）(３．６ｍｇ、 ０．０１６ｍｍｏｌ)および２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，６’−ジメトキシビフェニル(１３ｍｇ、
０．０３２ｍｍｏｌ)を加え、次いで、反応混合物を１００℃（外温）で終夜攪拌した。反応混合物を室温に冷却後、水とヘプタンを加えセライトを用いてろ過した。分離した有機層を飽和食塩水で洗浄した。有機層を分離し、減圧下溶媒溜去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘプタン：酢酸エチル＝４０：１）にて精製し、標記化合物（２６ｍｇ、０．１３ｍｍｏｌ、８３％）を得た。
1H−NMR Spectrum (CDCl3)δ(ppm): 1.29(9H,
s) , 3.81(3H, s) , 4.43(2H, s) , 6.79(1H, dd, J=2.5, 8.2Hz) , 6.92-6.93(2H, m) ,
7.24(1H, t, J=8.2Hz).
（実施例Ｂ−４） 2-（2,4-ジメチルベンジルオキシ）エチル メチル エーテル
Figure 0004198742
４−ブロモ−ｍ−キシレン(３０ｍｇ、 ０．１６ｍｍｏｌ、２−ブロモ−ｍ−キシレン含有)と１，４−ジオキサン（２ｍｌ）の混合物に、水（０．２ｍｌ）、炭酸セシウム(０．１６ｇ、
０．４９ｍｍｏｌ)、ポタシウム （２−メトキシエトキシメチル） トリフルオロボレート(６４ｍｇ、 ０．３２ｍｍｏｌ)、酢酸パラジウム（ＩＩ）(３．６ｍｇ、 ０．０１６ｍｍｏｌ)および２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，６’−ジメトキシビフェニル(１３ｍｇ、 ０．０３２ｍｍｏｌ)を加え、次いで、反応混合物を１００℃（外温）で１２時間撹拌した。反応混合物を室温に冷却後、反応混合物に水とヘキサンを加えた。有機層を飽和食塩水で洗浄し、有機層を分離した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下溶媒溜去した。残渣を薄層クロマトグラフィー（ヘキサン１００％）にて精製し、標記化合物（３２ｍｇ、０．１６ｍｍｏｌ、７１％）を原料に含まれる２−ブロモ−ｍ−キシレン由来の２−（２，６−ジメチルベンジルオキシ）エチル メチル エーテルとの混合物として得た。
1H−NMR Spectrum (CDCl3)δ(ppm):7.19(1H,
d, J=7.2Hz), 7.00-6.95(2H, m), 4.53(2H, s), 3.61-3.53(4H, m), 3.39(3H, s),
2.31(3H, s), 2.30(3H, s).
（実施例Ｂ−５） 4-シクロプロピルメトキシメチル−ビフェニル
Figure 0004198742
４−クロロビフェニル(５０ｍｇ、 ２６５μｍｏｌ)と１，４−ジオキサン（２ｍｌ）の混合物に、水（０．２ｍｌ）、炭酸セシウム(２５９ｍｇ、
７９５μｍｏｌ)、ポタシウム シクロプロピルメトキシメチル トリフルオロボレート (１０２ｍｇ、 ５３０μｍｏｌ)、酢酸パラジウム（ＩＩ）(５．９５ｍｇ、 ２７μｍｏｌ)および２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，６’−ジメトキシビフェニル(２１．８ｍｇ、 ５３．１μｍｏｌ)を加え、次いで、反応混合物を１００℃（外温）で７時間３０分間攪拌した。反応混合物を室温に冷却後、水とヘプタンを加えセライトを用いてろ過した。分離した有機層を飽和食塩水で洗浄した。有機層を分離し、減圧下溶媒溜去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘプタン：酢酸エチル＝３０：１）にて精製し、標記化合物（５７ｍｇ、２３９μｍｏｌ、９０％）を得た。
1H−NMR Spectrum (CDCl3)δ(ppm)：0.23(2H, ddd, J=4.4 Hz, 6.0 Hz, 9.2 Hz), 0.53-0.58(2H, m),
1.09-1.16(1H, m), 3.35(2H, d, J=6.8 Hz), 4.58(2H, s), 7.32-7.36(1H, m),
7.40-7.46(4H, m), 7.56-7.60(4H, m).
（実施例Ｂ−６）
2-[(4-ブチルベンジル) オキシ]-N,N-ジメチルエタンアミン
Figure 0004198742
１−ブロモ−４−ブチルベンゼン(５０ｍｇ、 ０．２４ｍｍｏｌ)と１，４−ジオキサン（１．５ｍｌ）の混合物に、水（０．１５ｍｌ）、炭酸セシウム(０．２３ｇ、
０．７１ｍｍｏｌ)、ポタシウム｛［２−（ジメチルアミノ）エトキシ］メトキシ｝トリフルオロボレート(１０８ｍｇ、 ０．４７ｍｍｏｌ)、酢酸パラジウム（ＩＩ）(５．３ｍｇ、 ０．０２４ｍｍｏｌ)および２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，６’−ジメトキシビフェニル(１９ｍｇ、 ０．０４７ｍｍｏｌ)を加え、次いで反応混合物を１００℃（外温）で１０時間攪拌した。反応混合物を室温に冷却後、酢酸エチルと水を加えた。分離した有機層を飽和食塩水で洗浄後、有機層を分離した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧下溶媒溜去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘプタン：酢酸エチル＝６：１、ＮＨシリカゲル）にて精製し、標記化合物（１４ｍｇ、０．０５８ｍｍｏｌ、２５％）を得た。
1H−NMR Spectrum (CDCl3)δ(ppm): 0.92(3H,
t, J=7.2Hz), 1.30-1.39(2H, m), 1.55-1.62(2H, m), 2.27(6H, s), 2.53(2H, t,
J=5.8Hz), 2.60(2H, t, J=7.8Hz), 3.54(2H, t, J=5.8Hz), 4.50(2H, s), 7.15(2H, d,
J=8.0Hz), 7.25(2H, d, J=8.0Hz).
（実施例Ｂ−７）
２−（ビフェニル−４−イルメトキシ）エタノール
Figure 0004198742
４−クロロビフェニル（１５ｍｇ、 ７９．５μｍｏｌ)と１，４−ジオキサン（１．５ｍｌ）の混合物に、水（０．１５ｍｌ）、炭酸セシウム(１１７ｍｇ、 ３５８μｍｏｌ)、ソジウム （２−ヒドロキシエトキシ）メチル トリフルオロボレート (１９．７ｍｇ、 １１９μｍｏｌ)、酢酸パラジウム（ＩＩ）(５．３７ｍｇ、 ２３．９μｍｏｌ)および２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，６’−ジメトキシビフェニル(１９．６ｍｇ、
４７．７μｍｏｌ)を加え、次いで、反応混合物を１００℃（外温）で１３時間攪拌した。反応混合物を室温に冷却後、水とジクロロメタンを加えセライトを用いてろ過した。分離した有機層を飽和食塩水で洗浄した。有機層を分離し、減圧下溶媒溜去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘプタン：酢酸エチル＝１：１ ＮＨシリカゲル）にて精製し、標記化合物（６．８ｍｇ、３０μｍｏｌ、３８％）を得た。
1H−NMR Spectrum (DMSO-d6)δ(ppm)：3.48-3.50(2H, m), 3.54-3.58(2H, m), 4.54(2H, s), 4.66(1H, t, J=5.6
Hz), 7.34-7.39(1H, m), 7.42-7.49(4H, m), 7.64-7.68(4H, m).
（実施例Ｂ−８）
３−（２−モルホリン−４−イル−エトキシメチル）−キノリン
Figure 0004198742
３−ブロモキノリン(８０ｍｇ、
０．３９ｍｍｏｌ)と１，４−ジオキサン（４ｍｌ）の混合物に、水（０．４ｍｌ）、炭酸セシウム(５６４ｍｇ、 １．７ｍｍｏｌ)、[（２−モルホリン−４−イルエトキシ）−メチル] トリフルオロボレート(１４５ｍｇ、 ０．５８ｍｍｏｌ)、酢酸パラジウム（ＩＩ）(８．６ｍｇ、 ０．０４ｍｍｏｌ)および２，２’−ビス（ジフェニルホスフィノ）１，１’−ビナフチル(４８ｍｇ、
０．０８ｍｍｏｌ)を加え、次いで、反応混合物を１００℃（外温）で１５時間攪拌した。反応混合物を室温に冷却後、水と酢酸エチルを加えセライトを用いてろ過した。分離した有機層を飽和食塩水で洗浄した。有機層を分離し、減圧下溶媒溜去した。残渣をNHシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘプタン：酢酸エチル＝１：２）にて精製し、標記化合物（３．２ｍｇ、０．０１ｍｍｏｌ、３．１％）を得た。
1H−NMR Spectrum (CDCl3)δ(ppm)：2.51(4H, t, J=4.4 Hz), 2.65(2H, t, J=5.6 Hz), 3.67(2H, t, J=5.6 Hz),
3.73(4H, t, J=4.4 Hz), 4.75(2H, s), 7.54-7.58(1H, m), 7.70-7.74(1H, m),
7.81-7.83(1H, m), 8.10-8.12(2H, m), 8.90-8.91(1H, m).
（実施例Ｂ−９）
1-（４−メトキシメチル-フェニル）エタノン
Figure 0004198742
４’−ブロモアセトフェノン(３００ｍｇ、 １．５１ｍｍｏｌ)と１，４−ジオキサン（４ｍｌ）の混合物に、水（０．４ｍｌ）、炭酸セシウム(１．４８ｇ、
４．５４ｍｍｏｌ)、ポタシウム メトキシメチル トリフルオロボレート(４５９ｍｇ、
３．０２ｍｍｏｌ)および１’，１’−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセンジクロロパラジウム（ＩＩ）(１１０ｍｇ、 ０．１５１ｍｍｏｌ)を加え、次いで、反応混合物を１００℃（外温）で７時間攪拌した。反応混合物を室温に冷却後、水と塩化メチレンを加えセライトを用いてろ過した。分離した有機層を飽和食塩水で洗浄した。有機層を分離し、減圧下溶媒溜去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘプタン/酢酸エチル）にて精製し、標記化合物（７６ｍｇ、３１％）を得た。
1H−NMR Spectrum (CDCl3)δ(ppm): 2.61(3H,
s) , 3.42(3H, s) , 4.52(2H, s) , 7.41-7.45(2H, m) , 7.93-7.97(2H, m).
（実施例Ｂ−１０）
メチル ４−メトキシメチル−ベンゾエート
Figure 0004198742
メチル ４−ブロモベンゾエート(５０ｍｇ、 ０．２３３ｍｍｏｌ)と１，４−ジオキサン（１ｍｌ）の混合物に、水（０．１ｍｌ）、炭酸セシウム(２２８ｍｇ、
０．７ｍｍｏｌ)、ポタシウム メトキシメチル トリフルオロボレート(７１ｍｇ、
０．４６７ｍｍｏｌ)および１’，１’−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセンジクロロパラジウム（ＩＩ）(１７ｍｇ、 ０．０２３ｍｍｏｌ)を加え、次いで、反応混合物を１００℃（外温）で４．５時間攪拌した。反応混合物を室温に冷却後、水と塩化メチレンを加えセライトを用いてろ過した。分離した有機層を飽和食塩水で洗浄した。有機層を分離し、減圧下溶媒溜去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘプタン：酢酸エチル＝１０：１）にて精製し、標記化合物（１３．９ｍｇ、３３％）を得た。
1H−NMR Spectrum (CDCl3)δ(ppm): 3.41(3H,
s) , 3.91(3H, s) , 4.51(2H, s) , 7.39(2H, d,
J=8.4 Hz) , 7.99-8.03(2H, m).
（実施例Ｂ−１１）
４−イソブトキシメチル−ビフェニル
Figure 0004198742
４−クロロビフェニル（２５ｍｇ、０．１３ｍｍｏｌ）の１，４−ジオキサン（１ｍｌ）と水（１００μｌ）溶液に、室温で（２−メチルプロポキシ）メチル ボロニック アシッド（３５ｍｇ、０．２７ｍｍｏｌ）、酢酸パラジウム（ＩＩ）（３．０ｍｇ、０．０１３ｍｍｏｌ）、２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，６’−ジメトキシビフェニル（１１ｍｇ、０．０２７ｍｍｏｌ）、炭酸セシウム（１３０ｍｇ、０．４０ｍｍｏｌ）を加え、窒素雰囲気下、１００℃で反応混合物を７時間５０分攪拌した。反応混合物を室温まで冷却した後、水を加え、Ｃｅｌｉｔｅを用いてろ過を行った。ろ液を酢酸エチルで抽出した後、有機層を水及び飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、ろ過後、ろ液を減圧下溶媒留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘプタン：酢酸エチル＝３０：１）にて精製し、標記化合物（９．０ｍｇ、０．０３７ｍｍｏｌ、２８％）を無色油状物として得た。
1H−NMR Spectrum (CDCl3)δ(ppm)：0.948(6H, d, J=6.8 Hz), 1.90-1.97(1H, m), 3.27(2H, d, J=6.6 Hz),
4.55(2H, s), 7.32-7.36(1H, m), 7.41-7.46(4H, m), 7.56-7.61(4H, m).
（実施例Ｂ−１２）
ビフェニル−４−イル−メタノール
Figure 0004198742
４−クロロビフェニル（２３ｍｇ、０．１２ｍｍｏｌ）、１，４−ジオキサン（２ｍｌ）、および水（２００μｌ）の混合物に、室温でポタシウム アセトキシメチル トリフルオロボレート（４４ｍｇ、０．２４ｍｍｏｌ）、酢酸パラジウム（ＩＩ）（１４ｍｇ、０．０６１ｍｍｏｌ）、２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，６’−ジメトキシビフェニル（５０ｍｇ、０．１２ｍｍｏｌ）、およびリン酸カリウム（１７０ｍｇ、０．７３ｍｍｏｌ）を加え、窒素雰囲気下、終夜反応混合物を加熱還流した。反応混合物を室温まで冷却した後、水と酢酸エチルを加えた。有機層を飽和食塩水で洗浄後、減圧下溶媒留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘプタン：酢酸エチル＝２：１）にて精製し、標記化合物（１８ｍｇ、０．０９８ｍｍｏｌ、８０％）を得た。
1H−NMR Spectrum (CDCl3)δ(ppm)：4.75(2H, s), 7.33-7.37(1H, m), 7.43-7.46(4H, m), 7.59-7.61(4H, m).
（実施例Ｂ−１３）
２，２−ジメチル−プロピオニック アシッド ピリジン−３−イルメチル エステル
Figure 0004198742
３−クロロピリジン（５０ｍｇ、０．４４ｍｍｏｌ）の１，４−ジオキサン（２ｍｌ）と水（２００μｌ）溶液に、室温でソジウム [（２，２−ジメチル）プロピオニルオキシ]メチル トリフルオロボレート（１８１ｍｇ、０．８８ｍｍｏｌ）、酢酸パラジウム（ＩＩ）（９．９ｍｇ、０．０４４ｍｍｏｌ）、２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，６’−ジメトキシビフェニル（３６ｍｇ、０．０８８ｍｍｏｌ）、リン酸カリウム（４０５ｍｇ、１．７６ｍｍｏｌ）を加え、窒素雰囲気下、１００℃で反応混合物を１４時間１５分攪拌した。反応混合物を室温まで冷却した後、水を加え、Ｃｅｌｉｔｅを用いてろ過を行った。ろ液を酢酸エチルで抽出した後、有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、ろ過後、ろ液を減圧下溶媒留去した。残渣をＮＨシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘプタン：酢酸エチル＝２：１）にて精製し、標記化合物（１０ｍｇ、０．０５２ｍｍｏｌ、１２％）を得た。
1H−NMR Spectrum (CDCl3)δ(ppm)：1.23(9H, s), 5.13(2H, s), 7.28-7.32(1H, m), 7.66-7.69(1H, m),
8.58(1H, dd, J=1.7 Hz, 4.8 Hz), 8.62(1H, d, J=1.7 Hz).
（実施例Ｂ−１４）
ピリジン−３−イル−メタノール
Figure 0004198742
（実施例Ｂ−１３）の副生成物として、標記化合物（６．８ｍｇ、０．０６２ｍｍｏｌ、１４％）を得た。
1H−NMR Spectrum (CDCl3)δ(ppm)：4.73(2H, s), 7.28-7.31(1H, m), 7.72-7.75(1H, m), 8.49(1H, dd, J=1.7
Hz, 4.9 Hz), 8.55(1H, d, J=2.0 Hz).
（実施例Ｂ−１５）
（Ｒ）−３−（ビフェニル−４−イルメトキシ）−ピロリジン−１−カルボキシリック アシッド ｔ−ブチル エステル
Figure 0004198742
４−ブロモビフェニル（１５ｍｇ、 ６４．３μｍｏｌ)と１，４−ジオキサン（１．５ｍｌ）の混合物に、水（０．１５ｍｌ）、炭酸セシウム(９４．３ｍｇ、 ２８９μｍｏｌ)、ソジウム [[[[３Ｒ]−１−ｔ−ブトキシカルボニル]ピロリジン−３−イル]オキシ]メチル（トリフルオロ）ボレート
(２８．１ｍｇ、 ９６．５μｍｏｌ)、酢酸パラジウム（ＩＩ）(４．３３ｍｇ、 １９．３μｍｏｌ)および１，４−ビス（ジフェニルホスフィノ）ブタン(８．２３ｍｇ、
１９．３μｍｏｌ)を加え、次いで、反応混合物を１００℃（外温）で７時間攪拌した。反応混合物を室温に冷却後、水とジクロロメタンを加えセライトを用いてろ過した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、減圧下溶媒溜去した。残渣をＮＨシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘプタン：酢酸エチル＝６：１）にて精製した後、さらにプレパラティブ薄層クロマトグラフィー（ヘプタン：酢酸エチル＝４：１ ＮＨシリカゲル）にて精製し、標記化合物（４．１ｍｇ、１１．６μｍｏｌ、１８％）を得た。
1H−NMR Spectrum (CD3OD)δ(ppm)：1.46(9H, s), 1.90-2.05(1H, m), 2.05-2.15(1H,
m), 3.37-3.55(4H, m), 4.21(1H, br s), 4.55-4.61(2H, m), 7.32-7.34(1H, m),
7.40-7.44(4H, m), 7.59-7.62(4H, m).
（実施例Ｂ−１６）
２−メトキシメチル−５−ニトロ−チオフェン
Figure 0004198742
ポタシウム メトキシメチル トリフルオロボレート(３３ｍｇ、 ０．２２ｍｍｏｌ)、２−ブロモ−５−ニトロチオフェン(３０ｍｇ、 ０．１４ｍｍｏｌ)、１，４−ジオキサン（１．５ｍｌ）、水（０．１５ｍｌ）、炭酸セシウム(２３５ｍｇ、 ０．７２ｍｍｏｌ)、酢酸パラジウム（ＩＩ）(３．２ｍｇ、 ０．０１４ｍｍｏｌ)、および２，２’−ビス（ジフェニルホスフィノ）−１，１’−ビナフチル(９．０ｍｇ、 ０．０１４ｍｍｏｌ)の混合物を１００℃（外温）で６時間攪拌した。反応混合物を室温に冷却後、水と酢酸エチルを加えセライトを用いてろ過した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、減圧下溶媒溜去した。残渣をＮＨシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘプタン：酢酸エチル＝３：１）にて精製し、標記化合物（２．７ｍｇ、０．０１６ｍｍｏｌ、１１％）を得た。
1H−NMR Spectrum (CD3OD)δ(ppm)：3.43(3H, s), 4.65(2H, d, J=0.9 Hz), 7.04(1H, dt, J=4.2, 0.9 Hz),
7.89(1H, d, J=4.2 Hz).
（参考例Ｃ１） ２−（クロロメチル）−４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロランの合成
Figure 0004198742
トリイソプロピルボレート（１５ｍｌ、６５ｍｍｏｌ）、クロロヨードメタン（１３ｇ、７２ｍｍｏｌ）およびテトラヒドロフラン（７８ｍｌ）の混合物に−７８℃（外温）でｎ−ブチルリチウム(１．６Ｍ ｎ−ヘキサン溶液、４１ｍｌ、 ６５ｍｍｏｌ)を２０分間かけて滴下し、次いで当該混合物を、室温で２．５時間攪拌した。反応混合物を０℃（外温）に冷却して、同温で４Ｎ 塩酸−酢酸エチル溶液を中性になるまで滴下した。同温で反応混合物にピナコール（７．７ｇ、６５ｍｍｏｌ）を加え、次いで、反応混合物を室温で４０分間攪拌した。減圧下溶媒溜去後、得られた残渣を減圧蒸留（６３−７０℃、１１ｍｍＨｇ）することにより標記化合物(９．２ｇ、 ５２ｍｍｏｌ、８１％)を得た。
1H−NMR Spectrum (CDCl3)δ(ppm): 1.30(12H,
s), 2.97(2H, s).
（参考例Ｃ２） ２−（ブロモメチル）−４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロランの合成
Figure 0004198742
トリイソプロピルボレート（２０ｇ、１１０ｍｍｏｌ）、ジブロモメタン（８．６ｍｌ、１２０ｍｍｏｌ）およびテトラヒドロフラン（１５０ｍｌ）の混合物に、−７８℃（外温）でｎ−ブチルリチウム(２．６Ｍ ｎ−ヘキサン溶液、３９ｍｌ、 １００ｍｍｏｌ)を１．５時間かけて滴下し、次いで、反応混合物を同温で１．５時間攪拌した。次いで当該混合物を、室温で２時間攪拌したのち、０℃（外温）に冷却して反応混合物にメタンスルホン酸（６．５ｍｌ、１００ｍｍｏｌ）を加え、次いで反応混合物を室温で1時間攪拌した。当該混合物を０℃（外温）に冷却し、反応混合物にピナコール（１２ｇ、１００ｍｍｏｌ）を加え、次いで、反応混合物を室温で１時間攪拌した。減圧下溶媒溜去後、得られた残渣を減圧蒸留（７４−７６℃、８ｍｍＨｇ）することにより標記化合物(１６ｇ、 ７２ｍｍｏｌ、６８％)を得た。
1H−NMR Spectrum (CDCl3)δ(ppm): 1.29(12H,
s), 2.59(2H, s).
（実施例Ｃ３） ソジウム シクロプロピルメトキシメチル トリフルオロボレートの合成
Figure 0004198742
水素化ナトリウム（６６％、４３０ｍｇ、
１２ｍｍｏｌ）とテトラヒドロフラン（２０ｍｌ）の混合物に、０℃（外温）でシクロプロピルメタノール（１．２ｍｌ、１５ｍｍｏｌ）を加え、次いで、反応混合物を室温で３０分間攪拌した。反応混合物に０℃（外温）で、２−（ブロモメチル）−４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン（２．０ｇ、
９．１ｍｍｏｌ）を加え、次いで、当該混合物を室温で１時間攪拌し、４５℃（外温）で４時間攪拌した。反応混合物を０℃（外温）に冷却し、ソジウム ハイドロゲンフルオリド（２．２ｇ、３６ｍｍｏｌ）を加え、次いで、同温で反応混合物に水（１５ｍｌ）を滴下した。反応混合物を室温に昇温後、減圧下溶媒溜去した。得られた残渣にアセトン（１００ｍｌ）とメタノール（１ｍｌ）を加え加熱し、次いで、４０℃程度（内温）まで放冷後、ろ過した。ろ液を減圧下溶媒溜去し、残渣を酢酸エチルで洗い、標記化合物(１．２ｇ、 ６．８ｍｍｏｌ、７５％)を得た。
1H−NMR Spectrum (DMSO-d6)δ(ppm)：0.05-0.09(2H,m), 0.35-0.40(2H, m), 0.86-0.96(1H, m), 2.46(2H, q,
J=5.6 Hz), 3.00(2H, d, J=6.8 Hz).
（実施例Ｃ４） ポタシウム ブトキシメチル トリフルオロボレートの合成
Figure 0004198742
１−ブタノール（１．６ｍｌ、１７ｍｍｏｌ）とテトラヒドロフラン（４０ｍｌ）の混合物に、０℃（外温）でポタシウム ビス（トリメチルシリル）アミド(０．５Ｍ トルエン溶液、３６ｍｌ、 １８ｍｍｏｌ)を加え、次いで、反応混合物を室温で３０分間攪拌した。反応混合物に室温で、２−（クロロメチル）−４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン（１．０ｇ、
５．７ｍｍｏｌ）とヨウ化カリウム（９４ｍｇ、０．５７ｍｍｏｌ）を加え、次いで、当該混合物を６０℃（外温）で４時間攪拌した。反応混合物を０℃（外温）に冷却し、ポタシウム ハイドロゲンフルオリド（２．７ｇ、３４ｍｍｏｌ）を加え、次いで、同温で反応混合物に水（２０ｍｌ）を滴下した。反応混合物を室温に昇温後、減圧下溶媒溜去した。得られた残渣にアセトン（１００ｍｌ）を加え加熱し、次いで、室温まで冷却した。この混合物をろ過し、ろ液と固体を得た。
得られたろ液は、減圧下溶媒溜去し、残渣を酢酸エチルで洗い、標記化合物(２２０ｍｇ、
１．１ｍｍｏｌ、２０％)を得た。
また、得られた固体は、アセトン（９５ｍｌ）とメタノール（５ｍｌ）を加え、攪拌した後ろ過した。次いでろ液を減圧下溶媒溜去し、標記化合物(２６０ｍｇ、 １．３ｍｍｏｌ、２４％)を得た。
1H−NMR Spectrum (DMSO-d6)δ(ppm)：0.86(3H, t, J=7.4 Hz), 1.24-1.30(2H, m), 1.38-1.43(2H, m),
2.42-2.48(2H, m), 3.17(2H, t, J=6.8 Hz).
（実施例Ｃ５） ソジウム [[[[３Ｒ]−１−ｔ−ブトキシカルボニル]ピロリジン−３−イル]オキシ]メチル（トリフルオロ）ボレートの合成
Figure 0004198742
水素化ナトリウム（５０％、４７８ｍｇ、
１０ｍｍｏｌ）とテトラヒドロフラン（２０ｍｌ）の混合物に、０℃（外温）でＮ−ｔ−ブトキシカルボニル−（Ｒ）−３−ヒドロキシピロリジン（１．７ｇ、９．１ｍｍｏｌ）を加え、反応混合物を５０℃で１時間攪拌した。反応混合物に０℃（外温）で、２−（ブロモメチル）−４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン（２．０ｇ、
９．１ｍｍｏｌ）を加え、当該混合物を６０℃で１．５時間攪拌した。反応混合物を室温に冷却後、濾過し、ろ液を減圧下溶媒溜去した。残渣とメタノール（３０ｍＬ）の混合物に０℃（外温）でソジウム ハイドロゲンフルオリド（１．６８ｇ、２７．２ｍｍｏｌ）を加え、次いで、反応混合物に水（２０ｍｌ）を滴下した。反応混合物を室温で１時間攪拌した後、減圧下溶媒溜去した。得られた残渣にアセトン（１００ｍｌ）を加え加熱し、４０℃程度（内温）まで放冷後、ろ過した。ろ液を減圧下溶媒溜去して得られた残渣に、テトラヒドロフランを加え、二層になるまでヘキサンを加え、上澄みを取り除いた。さらに、メタノールとヘキサンを用い同様の操作を４回繰り返し、その残渣を減圧下溶媒溜去し、標記化合物(９１１．４ｍｇ、 ３．１ｍｍｏｌ、３５％)を得た。
1H−NMR Spectrum (DMSO-d6)δ(ppm)：1.40(9H, s), 1.70-1.80(1H,m), 1.80-1.90(1H, m),
2.41-2.48(2H, m), 3.11-3.27(4H, m), 3.74(1H, br s).
（実施例Ｃ６） ソジウム イソプロポキシメチル トリフルオロボレートの合成
Figure 0004198742
水素化ナトリウム（６１％、２３２ｍｇ、
５．８９ｍｍｏｌ）とテトラヒドロフラン（１４ｍｌ）の混合物に、０℃（外温）で２−プロパノール（０．５５ｍｌ、７．２５ｍｍｏｌ）を加え、次いで、反応混合物を室温で３０分間攪拌した。反応混合物に０℃（外温）で、２−（ブロモメチル）−４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン（１．０ｇ、
４．５３ｍｍｏｌ）を加え、当該混合物を室温で１時間攪拌し、次いで、４５℃（外温）で２時間攪拌した。反応混合物を０℃（外温）に冷却し、ソジウム ハイドロゲンフルオリド（１．１２ｇ、１８．１ｍｍｏｌ）を加え、次いで、同温で反応混合物に水（８ｍｌ）を滴下した。反応混合物を室温に昇温後、減圧下溶媒溜去した。得られた残渣にアセトン（５０ｍｌ）とメタノール（０．５ｍｌ）を加えてろ過した。ろ液を減圧下溶媒溜去し、残渣をジエチルエーテルで洗い、標記化合物(５８５ｍｇ、 ３．５６ｍｍｏｌ、７９％)を得た。
1H−NMR Spectrum (DMSO-d6)δ(ppm)：0.97(6H, d, J=6.0 Hz), 2.40(2H, q, J=5.6 Hz), 3.14-3.24(1H,m).
（実施例Ｃ７） ソジウム テトラヒドロフラン−２−イルメトキシメチル トリフルオロボレートの合成
Figure 0004198742
水素化ナトリウム（６１％、２３２ｍｇ、
５．８９ｍｍｏｌ）とテトラヒドロフラン（１４ｍｌ）の混合物に、０℃（外温）でテトラヒドロフルフリルアルコール（０．７０ｍｌ、７．２５ｍｍｏｌ）を加え、反応混合物を室温で２時間攪拌した。反応混合物に０℃（外温）で、２−（ブロモメチル）−４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン（１．０ｇ、
４．５３ｍｍｏｌ）を加え、当該混合物を室温で１時間攪拌し、次いで、４５℃（外温）で２時間攪拌した。反応混合物を０℃（外温）に冷却し、ソジウム ハイドロゲンフルオリド（１．１２ｇ、１８．１ｍｍｏｌ）を加え、同温で反応混合物に水（８ｍｌ）を滴下した。反応混合物を室温に昇温後、減圧下溶媒溜去した。得られた残渣にアセトン（５０ｍｌ）とメタノール（０．５ｍｌ）を加えてろ過した。ろ液を減圧下溶媒溜去し、残渣をジエチルエーテルで洗い、標記化合物(３７９ｍｇ、 １．８４ｍｍｏｌ、４１％)を得た。
1H−NMR Spectrum (DMSO-d6)δ(ppm)：1.4-1.49(1H,m),
1.72-1.86(3H, m), 2.44(2H, q, J=5.6 Hz), 3.11-3.18(2H,m), 3.55(1H, dd, J=7.2,
14.2Hz), 3.67(1H, dd, J=6.4, 14.2Hz) 3.79-3.86(1H,m).
（実施例Ｃ８） ソジウム テトラヒドロピラン−４−イルオキシ−メチル トリフルオロボレートの合成
Figure 0004198742
テトラヒドロ−４Ｈ−ピラン−４−オール(５００ｍｇ、４．９ｍｍｏｌ)とテトラヒドロフラン（７ｍｌ）の混合物に、０℃（外温）で水素化ナトリウム（６６％、１３５ｍｇ、
３．７ｍｍｏｌ）を加え、室温で反応混合物を１５分間攪拌した。次いで、反応混合物に０℃（外温）で、２−（ブロモメチル）−４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン（６３０ｍｇ、
２．９ｍｍｏｌ）を加え、当該混合物を４５℃（外温）で４時間攪拌した。反応混合物を０℃（外温）に冷却し、ソジウム ハイドロゲンフルオリド（７０７ｍｇ、１１ｍｍｏｌ）を加え、次いで、同温で反応混合物に水（３ｍｌ）を滴下した。反応混合物を室温に昇温後、減圧下溶媒溜去した。得られた残渣にアセトン（１００ｍｌ）とメタノール（１ｍｌ）を加え加熱し、４０℃程度（内温）まで放冷後、ろ過した。ろ液を減圧下溶媒溜去後、残渣をジエチルエーテルで洗い、標記化合物(４９８ｍｇ、 ２．４ｍｍｏｌ、８５％)を得た。
1H−NMR Spectrum (CD3OD)δ(ppm)：1.46-1.53(2H, m), 1.93-1.97(2H, m), 2.81(2H, q, J=5.6Hz),
3.33-3.3.51(1H, m), 3.37-3.43(2H, m), 3.89-3.94(2H, m).
（実施例Ｃ９） ソジウム ２−シクロヘキシルオキシ−エトキシメチル トリフルオロボレートの合成
Figure 0004198742
２−（シクロヘキシルオキシ）エタノール(５２１ｍｇ、３．６ｍｍｏｌ)とテトラヒドロフラン（７ｍｌ）の混合物に、０℃（外温）で水素化ナトリウム（６６％、１０７ｍｇ、 ２．９ｍｍｏｌ）を加え、室温で反応混合物を１５分間攪拌した。次いで、反応混合物に０℃（外温）で、２−（ブロモメチル）−４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン（５００ｍｇ、
２．３ｍｍｏｌ）を加え、当該混合物を４５℃（外温）で４時間攪拌した。反応混合物を０℃（外温）に冷却し、ソジウム ハイドロゲンフルオリド（５６０ｍｇ、９．０ｍｍｏｌ）を加え、次いで、同温で反応混合物に水（３ｍｌ）を滴下した。反応混合物を室温に昇温後、減圧下溶媒溜去した。得られた残渣にアセトン（１００ｍｌ）とメタノール（１ｍｌ）を加え加熱し、４０℃程度（内温）まで放冷後、ろ過した。ろ液を減圧下溶媒溜去し、残渣をジエチルエーテル：ヘプタン＝１：３の混合溶液で洗い、標記化合物(１６２ｍｇ、 ０．６５ｍｍｏｌ、２９％)を得た。
1H−NMR Spectrum (CD3OD)δ(ppm): 1.20-1.34(5H,
m), 1.54-1.57(1H, m), 1.73-1.77(2H, m), 1.93-1.96(2H, m), 2.82(2H, q, J=5.6Hz),
3.23-3.33(1H, m), 3.49-3.52(2H, m), 3.59-3.61(2H, m).
（実施例Ｃ１０） ソジウム ３−メトキシ−１−プロポキシメチル トリフルオロボレートの合成
Figure 0004198742
水素化ナトリウム（６０％、２３６ｍｇ、
５．９ｍｍｏｌ）とテトラヒドロフラン（１０ｍｌ）の混合物に、０℃（外温）で３−メトキシ−１−プロパノール（０．７３ｍｌ、７．３ｍｍｏｌ）を加え、反応混合物を室温で１時間攪拌した。反応混合物に０℃（外温）で、２−（ブロモメチル）−４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン（１．０ｇ、
４．５ｍｍｏｌ）を加え、６０℃（外温）で反応混合物を２．５時間攪拌した。室温まで反応混合物を冷却後、反応液中の不溶物をろ過により除去した。有機層を０℃（外温）に冷却し、ソジウム ハイドロゲンフルオリド（１．１２ｇ、１８．１ｍｍｏｌ）を加え、次いで、同温で反応混合物に水（７．５ｍｌ）を滴下した。反応混合物を室温で３０分攪拌後、減圧下溶媒溜去した。得られた残渣にアセトン（４０ｍｌ）とメタノール（２ｍｌ）を加えろ過した。ろ液を減圧下溶媒溜去後、残渣をヘプタンで洗浄し、次いで、ｔ−ブチルメチルエーテルで洗い、標記化合物(０．５２ｇ、 ２．７ｍｍｏｌ、５９％)を得た。
1H−NMR Spectrum (DMSO-d6)δ(ppm)：1.65(2H, tt, J=6.4 and 6.4Hz), 2.45(2H, q, J=5.6 Hz), 3.20(3H, s),
3.18-3.40(4H, m).
（実施例Ｃ１１） ソジウム （２−ヒドロキシエトキシ）メチル トリフルオロボレートの合成
Figure 0004198742
（Ｃ１１−１）ソジウム 2,2,3,3-テトラメチル-1,4,6,9-テトラオキサ-5-ボラスピロ(4,5)デカン-5-ウイド
Figure 0004198742
水素化ナトリウム（５０％、４７８ｍｇ、 １０．０ｍｍｏｌ）とテトラヒドロフラン（２０ｍｌ）の混合物に、０℃（外温）でエチレングリコール（５６２ｍｇ、９．１ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン溶液を加え、次いで、反応混合物を加熱還流下で３０分間攪拌した。反応混合物に０℃（外温）で、２−（ブロモメチル）−４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン（２．０ｇ、
９．１ｍｍｏｌ）を加え、次いで、当該混合物を加熱還流下で２時間攪拌した。反応混合物を0℃（外温）に冷却し、析出した固体をろ取し、標記化合物（１．３ｇ）を無機塩との混合物として得た。
1H−NMR
Spectrum (DMSO-d6)δ(ppm)：0.85(6H, s), 0.96(6H, s), 2.63(2H, br s), 3.17-3.19(2H, m),
3.45-3.46(2H, m).
（Ｃ１１−２）ソジウム （２−ヒドロキシエトキシ）メチル トリフルオロボレート
Figure 0004198742
ソジウム 2,2,3,3-テトラメチル-1,4,6,9-テトラオキサ-5-ボラスピロ(4,5)デカン-5-ウイド（１．３ｇ）とメタノール（３０ｍＬ）の混合物にソジウム ハイドロゲンフルオリド（８００ｍｇ、１２．９ｍｍｏｌ）を０℃（外温）で加え、次いで、同温で反応混合物に水（２０ｍｌ）を滴下した。反応混合物を室温で１．５時間攪拌した後、減圧下溶媒溜去した。得られた残渣にアセトン（１００ｍｌ）とメタノール（１ｍｌ）を加え加熱し、４０℃程度（内温）まで放冷後、ろ過した。ろ液を減圧下溶媒溜去後、残渣をジエチルエーテルで洗い、標記化合物(１８８ｍｇ、 １．２ｍｍｏｌ、１８％)を得た。
1H−NMR Spectrum (CD3OD-d6)δ(ppm)：2.76-2,84(2H,m), 3.44-3.47(2H, m),
3.63-3.65(2H, m).
（実施例Ｃ１２） ポタシウム アセトキシメチル トリフルオロボレートの合成
Figure 0004198742
２−（クロロメチル）−４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン（２．３ｇ、
１３ｍｍｏｌ）とテトラヒドロフラン（４０ｍｌ）の混合物に、室温で酢酸カリウム（２．０ｇ、２０ｍｍｏｌ）とヨウ化カリウム（６６ｍｇ、０．４０ｍｍｏｌ）を加え、４時間２５分間加熱還流した。反応混合物を０℃（外温）に冷却し、ポタシウム ハイドロゲンフルオリド（５．２ｇ、６７ｍｍｏｌ）を加え、次いで、同温で反応混合物に水（２５ｍｌ）を滴下した。反応混合物を室温に昇温し、減圧下溶媒溜去した。残渣を酢酸エチルで洗い、次いで、残渣にアセトン（１００ｍｌ）を加え加熱し、室温に放冷後、ろ過した。ろ液を減圧下溶媒溜去し、標記化合物(１．３ｇ、 ７．２ｍｍｏｌ、５６％)を得た。
1H−NMR Spectrum (DMSO-d6)δ(ppm)：1.88(3H, s), 3.06(2H, d, J=5.2 Hz).
（実施例Ｃ１３） ソジウム ホルミルオキシメチル トリフルオロボレートの合成
Figure 0004198742
２−（ブロモメチル）−４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン（１．０ｇ、
４．５ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン溶液に、室温でソジウム ホルメート（４６２ｍｇ、６．８ｍｍｏｌ）を加え、窒素雰囲気下、反応混合物を１時間４０分間加熱還流した。反応混合物にアセトニトリル（１０ｍｌ）を加え、反応混合物を１９時間加熱還流した。反応混合物を０℃（外温）に冷却し、反応混合物にソジウム ハイドロゲンフルオリド（１．７ｇ、２７ｍｍｏｌ）を加え、次いで、同温で反応混合物に水（１５ｍｌ）を滴下した。反応混合物を室温に昇温し、減圧下溶媒溜去した。得られた残渣にアセトン（２５ｍｌ）を加え加熱し、４０℃程度（内温）まで放冷後、ろ過した。ろ液を減圧下溶媒溜去し、残渣を酢酸エチルで洗い、標記化合物(９０ｍｇ、 ０．６０ｍｍｏｌ、１３％)を得た。
1H−NMR Spectrum (DMSO-d6)δ(ppm)：3.15(2H, d, J=4.8 Hz), 8.07(1H, s).
（実施例Ｃ１４） ソジウム [（シクロペンチルカルボニル）オキシ]メチル トリフルオロボレートの合成
Figure 0004198742
シクロペンタンカルボキシリック アシッド（１．０ｇ、８．８ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（２０ｍｌ）溶液に、室温で５Ｎ−水酸化ナトリウム水溶液（１．７５ｍｌ、８．８ｍｍｏｌ）を加え、反応混合物を数分間攪拌した後、減圧下溶媒留去した。残渣とテトラヒドロフラン（２０ｍｌ）の混合物に、室温で２−（ブロモメチル）−４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン（１．０ｇ、
４．５ｍｍｏｌ）を加え、窒素雰囲気下、反応混合物を４時間４５分間加熱還流した。反応混合物を０℃（外温）に冷却し、ソジウム ハイドロゲンフルオリド（１．４ｇ、２３ｍｍｏｌ）を加え、次いで、同温で反応混合物に水（５ｍｌ）を滴下した。反応混合物を室温に昇温後、減圧下溶媒溜去した。得られた残渣にアセトン（２５ｍｌ）を加え加熱し、反応混合物を４０℃程度（内温）まで放冷後、ろ過した。ろ液を減圧下溶媒溜去後、残渣をジエチルエーテルで洗い、標記化合物(８３７ｍｇ、 ３．８ｍｍｏｌ、８５％)を得た。
1H−NMR Spectrum (DMSO-d6)δ(ppm)：1.45-1.66(6H, m), 1.70-1.76(2H, m), 2.53-2.59(1H, m), 3.04(2H, q,
J=5.6 Hz).
（実施例Ｃ１５） ソジウム [（２，２−ジメチル）プロピオニルオキシ]メチル トリフルオロボレートの合成
Figure 0004198742
ピバリック アシッド（６９４ｍｇ、６．８ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（２０ｍｌ）溶液に、室温で５Ｎ−水酸化ナトリウム水溶液（１．３６ｍｌ、６．８ｍｍｏｌ）を加え、反応混合物を数分間攪拌した後、減圧下溶媒留去した。残渣とテトラヒドロフラン（２０ｍｌ）の混合物に、室温で２−（ブロモメチル）−４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン（１．０ｇ、
４．５ｍｍｏｌ）を加え、窒素雰囲気下、反応混合物を２時間２５分間加熱還流を行った。反応混合物を０℃（外温）に冷却し、ソジウム ハイドロゲンフルオリド（１．４ｇ、２３ｍｍｏｌ）を加え、次いで、同温で反応混合物に水（１０ｍｌ）を滴下した。反応混合物を室温に昇温後、減圧下溶媒溜去した。得られた残渣にアセトン（２５ｍｌ）を加え加熱し、次いで、４０℃程度（内温）まで放冷後、ろ過した。ろ液を減圧下溶媒溜去し、残渣をジエチルエーテルで洗い、標記化合物(８９５ｍｇ、 ４．３ｍｍｏｌ、９６％)を得た。
1H−NMR Spectrum (DMSO-d6)δ(ppm)：1.07(9H, s), 3.07(2H, q, J=5.3 Hz).

Claims (7)

  1. 下記式Ｉ
    （式中、Ｍはアルカリ金属、Ｎ（Ｒ１）（Ｒ２）（Ｒ３）（Ｒ４）またはＰ（Ｒ１）（Ｒ２）（Ｒ３）（Ｒ４）（Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４はそれぞれ独立して、Ｃ１−６アルキル基またはＣ７−１５アラルキル基を意味する。）（但し、Ｍは、分子内の陰イオンとイオン対を形成する。）を意味し;
    Ｘは、下記Ａ群から選ばれる１〜３個の基を有していてもよいＣ１−６アルキル基、下記Ａ群から選ばれる１〜３個の基を有していてもよいＣ３−８シクロアルキル基、下記Ｂ群から選ばれる１〜３個の基を有していてもよい５−６員非芳香族へテロ環式基、またはＲ５Ｃ（＝Ｏ）（Ｒ５は水素原子、Ｃ１−６アルキル基またはＣ３−８シクロアルキル基を意味する）を意味し；
    Ａ群は、Ｃ１−６アルキル基もしくはＣ３−８シクロアルキル基を有していてもよいアミノ基、ヒドロキシ基、Ｃ１−６アルキル基、Ｃ３−８シクロアルキル基、Ｃ１−６アルコキシ基、Ｃ３−８シクロアルコキシ基および下記Ｂ群より選ばれる１〜３個の基を有していてもよい５−６員非芳香族へテロ環式基を示し；
    Ｂ群は、Ｃ１−６アルキル基またはＣ１−６アルコキシカルボニル基を示し；
    ｍは０または１の整数を示し；
    ｋは０または１の整数を示す。）で表される化合物またはその溶媒和物：
    Ｘ−Ｏ−ＣＨ２−ＢＦ２ＦｍＭｋ （式Ｉ）。
  2. 下記式Ｉ−ａ
    （式中、Ｍはアルカリ金属、Ｎ（Ｒ１）（Ｒ２）（Ｒ３）（Ｒ４）またはＰ（Ｒ１）（Ｒ２）（Ｒ３）（Ｒ４）（Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４はそれぞれ独立して、Ｃ１−６アルキル基またはＣ７−１５アラルキル基を意味する。）（但し、Ｍは、分子内の陰イオンとイオン対を形成する。）を意味し；
    Ｘは、下記Ａ群から選ばれる１〜３個の基を有していてもよいＣ１−６アルキル基、下記Ａ群から選ばれる１〜３個の基を有していてもよいＣ３−８シクロアルキル基、下記Ｂ群から選ばれる１〜３個の基を有していてもよい５−６員非芳香族へテロ環式基またはＲ５Ｃ（＝Ｏ）（Ｒ５は水素原子、Ｃ１−６アルキル基またはＣ３−８シクロアルキル基を意味する）を意味し；
    Ａ群は、Ｃ１−６アルキル基もしくはＣ３−８シクロアルキル基を有していてもよいアミノ基、ヒドロキシ基、Ｃ１−６アルキル基、Ｃ３−８シクロアルキル基、Ｃ１−６アルコキシ基、Ｃ３−８シクロアルコキシ基および下記Ｂ群より選ばれる１〜３個の基を有していてもよい５−６員非芳香族へテロ環式基を示し；
    Ｂ群は、Ｃ１−６アルキル基またはＣ１−６アルコキシカルボニル基を示す）で表される化合物：
    Ｘ−Ｏ−ＣＨ２−ＢＦ３Ｍ （式Ｉ−ａ）
    ）で表される化合物またはそれらの溶媒和物。
  3. Ｍがアルカリ金属である請求項１または２記載の化合物またはその溶媒和物。
  4. Ｍがカリウムまたはナトリウムである請求項１または２記載の化合物またはその溶媒和物。
  5. ５−６員非芳香族へテロ環式基がテトラヒドロフラニル基、テトラヒドロピラニル基、ピペリジル基、ピロリジニル基またはモルホリニル基である、請求項１〜４のいずれか１項記載の化合物またはその溶媒和物。
  6. Ｘが下記Ａ１群から選ばれる１〜３個の基を有していてもよいＣ１−６アルキル基であり；
    Ａ１群が、Ｃ１−６アルキル基もしくはＣ３−８シクロアルキル基を有していてもよいアミノ基、ヒドロキシ基、Ｃ１−６アルキル基、Ｃ３−８シクロアルキル基、Ｃ１−６アルコキシ基、Ｃ３−８シクロアルコキシ基および下記Ｂ１群より選ばれる１〜３個の基を有していてもよい５−６員非芳香族へテロ環式基であり；
    Ｂ１群がＣ１−６アルキル基またはＣ１−６アルコキシカルボニル基である請求項１〜５のいずれか１項記載の化合物またはその溶媒和物。
  7. ポタシウム ｔ−ブトキシメチル トリフルオロボレート、ポタシウム メトキシメチル トリフルオロボレート、ポタシウム エトキシメチル トリフルオロボレート、ポタシウム（２−メトキシエトキシメチル）トリフルオロボレート、ポタシウム シクロプロピルメトキシメチル トリフルオロボレート、ポタシウム ｛［2-（ジメチルアミノ）エトキシ］メチル｝ トリフルオロボレート、ポタシウム シクロブトキシメチル トリフルオロボレート、ポタシウム ２−ピペリジン−１−イル−エトキシ−メチル トリフルオロボレート、ポタシウム [（２−モルホリン−４−イルエトキシ）メチル] トリフルオロボレート、ポタシウム トリフルオロ［（３−モルホリン−4−イルプロポキシ）メチル］ボレート、ポタシウム （１−メチル−ピペリジン−４−イルオキシ）−メチル トリフルオロボレート、テトラブチルアンモニウム メトキシメチル トリフルオロボレート、ポタシウム ｛［２−（１−メチルピペラジン−4−イル）エトキシ］メチル｝ トリフルオロボレート、ポタシウム ４−（ジメチルアミノ）ブトキシ−メチル トリフルオロボレート、ポタシウム {２−[シクロヘキシル（メチル）アミノ]エトキシ}メチル トリフルオロボレート、（２−メチルプロポキシ）メチル ボロニック アシッド、ソジウム シクロプロピルメトキシメチル トリフルオロボレート、ポタシウム ブトキシメチル トリフルオロボレート、ソジウム [[[[３Ｒ]−１−ｔ−ブトキシカルボニル]ピロリジン−３−イル]オキシ]メチル（トリフルオロ）ボレート、ソジウム イソプロポキシメチル トリフルオロボレート、ソジウム テトラヒドロ−フラン−２−イルメトキシメチル トリフルオロボレート、ソジウム テトラヒドロピラン−４−イルオキシ−メチル トリフルオロボレート、ソジウム ２−シクロヘキシルオキシ−エトキシメチル トリフルオロボレート、ソジウム ３−メトキシ−１−プロポキシメチル トリフルオロボレート、ソジウム （２−ヒドロキシエトキシ）メチル トリフルオロボレート、ポタシウム アセトキシメチル トリフルオロボレート、ソジウム ホルミルオキシメチル トリフルオロボレート、ソジウム [（シクロペンチルカルボニル）オキシ]メチル トリフルオロボレート及びソジウム [（２，２−ジメチル）プロピオニルオキシ]メチル トリフルオロボレート；からなる群から選ばれる化合物またはその溶媒和物。
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