JP4197323B2 - 半導体装置 - Google Patents
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Description
本発明はこのような問題点に鑑みてなされたもので、結晶成長の制御をおこなうことを目的とする。
特に、本発明はソース、ドレインの結晶化を活性層(チャネル形成領域)の結晶化と同時に進行させることによって、ソース、ドレインと活性層の間の粒界を実質的に喪失せしめ、良好な特性を得る。
あるいは図2(C)の様に、島状半導体領域の中央部に珪化ニッケル膜27Cを設けてもよい。この場合には結晶化は中央から進行する。(図2(C))
以上の工程によってCMOS型のTFTが作製された。このようにして作製したCMOS回路を用いてシフトレジスタを作製し、その動作特性を調べた。ドレイン電圧15Vで、最高動作周波数は11MHz、ドレイン電圧17Vで、最高動作周波数は18MHzであった。
11・・・下地酸化膜(酸化珪素)
12・・・島状シリコン領域
13・・・ゲイト絶縁膜(酸化珪素)
14・・・ゲイト電極(タンタル)
15・・・陽極酸化物(酸化タンタル)
16・・・不純物領域(N型)
17・・・珪化ニッケル膜
18・・・層間絶縁物(酸化珪素)
19・・・金属電極(窒化チタン/アルミニウム多層膜)
Claims (5)
- チャネル形成領域と2つの不純物領域とを有する島状結晶シリコン領域と、ゲイト絶縁膜と、ゲイト電極と、を有し、
前記ゲイト絶縁膜は、前記チャネル形成領域と前記ゲイト電極との間に挟まれて配置されており、
前記2つの不純物領域には、N型不純物又はP型不純物のいずれか一方が添加されており、
前記島状の結晶シリコン領域は、前記2つの不純物領域にニッケル、コバルト、鉄または白金のいずれかを密着させた状態で、アモルファスシリコン領域を結晶化して形成されたものであることを特徴とする半導体装置。 - Nチャネル型TFTとPチャネル型TFTとを有するCMOS回路を有する半導体装置であって、
基板上に形成された1つの島状の結晶シリコン領域に、前記Nチャネル型TFTのチャネル形成領域及び2つのN型不純物領域、並びに前記Pチャネル型TFTのチャネル形成領域及び2つのP型不純物領域が形成され、
前記2つのN型不純物領域の一方と前記2つのP型不純物領域の一方とは接しており、
前記島状の結晶シリコン領域は、前記2つのN型不純物領域の他方と前記2つのP型不純物領域の他方とにニッケル、コバルト、鉄または白金のいずれかを密着させた状態で、アモルファスシリコン領域を結晶化して形成されたものであることを特徴とする半導体装置。 - 基板上に形成された1つの島状の結晶シリコン領域に、Nチャネル型TFTのチャネル形成領域及び2つのN型不純物領域、並びにPチャネル型TFTのチャネル形成領域及び2つのP型不純物領域が形成され、
前記2つのN型不純物領域の一方と前記2つのP型不純物領域の一方とは接しており、
互いに接している前記2つのN型不純物領域の一方と前記2つのP型不純物領域の一方とは、共通の電極または配線により電気的に接続されており、
前記島状の結晶シリコン領域は、前記2つのN型不純物領域の他方と前記2つのP型不純物領域の他方とに、ニッケル、コバルト、鉄または白金のいずれかを密着させた状態で、アモルファスシリコン領域を結晶化して形成されたものであることを特徴とする半導体装置。 - Nチャネル型TFTとPチャネル型TFTとを有するCMOS回路を有する半導体装置であって、
基板上に形成された1つの島状の結晶シリコン領域に、前記Nチャネル型TFTのチャネル形成領域及び2つのN型不純物領域、並びに前記Pチャネル型TFTのチャネル形成領域及び2つのP型不純物領域が形成され、
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