JP4187703B2 - ブロックマスクを利用した荷電粒子ビーム露光データの生成方法及び荷電粒子ビーム露光方法 - Google Patents
ブロックマスクを利用した荷電粒子ビーム露光データの生成方法及び荷電粒子ビーム露光方法 Download PDFInfo
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Description
次に、部分照射ブロックマスク露光データに必要な、偏向量d1,d2を求める具体的な方法について説明する。
前記ブロックマスクの複数の離散パターンのX方向またはY方向の共通離間領域に前記第1の透過ビームのY方向またはX方向のエッジが位置するように、前記第1の透過ビームの前記ブロックマスク上での照射位置データを生成する工程を有することを特徴とする荷電粒子ビーム露光における露光データの生成方法。
前記共通離間領域は、前記複数の離散パターン間の離間領域であって、X方向またはY方向に重なる共通の離間領域であることを特徴とする荷電粒子ビーム露光における露光データの生成方法。
前記照射位置データの生成工程は、ブロックマスクの複数の離散パターンについて、X軸またはY軸上における前記複数の離散パターンのY方向またはX方向の投影領域を求める工程と、当該投影領域間の領域に前記第1の透過ビームのエッジが位置するような前記照射位置データを生成する工程とを有することを特徴とする荷電粒子ビーム露光における露光データの生成方法。
前記照射位置データの生成工程は、ブロックマスクの複数の離散パターン上に前記第1の透過ビームを走査しながら、それぞれの走査位置での前記離散パターンと第1の透過ビームとの重複面積を求める工程と、当該重複面積の前記走査位置の変化に対する面積増加率がゼロになる走査位置を前記照射位置データとして生成する工程とを有することを特徴とする荷電粒子ビーム露光における露光データの生成方法。
前記照射位置データの生成工程は、ブロックマスクの複数の離散パターンのサイズとピッチとに基づいて、前記共通離間領域を求める工程と、前記共通離間領域に前記第1の透過ビームのエッジが位置するように、前記照射位置データを生成する工程とを有することを特徴とする荷電粒子ビーム露光における露光データの生成方法。
前記ブロックマスクの複数の離散パターンは、互いに、X軸方向またはY軸方向にその位置がずれていることを特徴とする荷電粒子ビーム露光における露光データの生成方法。
前記ブロックマスクの複数の離散パターンのX方向またはY方向の共通離間領域に前記第1の透過ビームのY方向またはX方向のエッジが位置するような、前記第1の透過ビームの前記ブロックマスク上での照射位置データにしたがって、前記第1の透過ビームを前記ブロックマスク上に照射して露光を行う工程と、
前記第2の透過ビームをビーム強度を測定するビーム強度センサに照射しながら、ブロックマスクの複数の離散パターン上で前記第1の透過ビームを走査し、前記ビーム強度センサの検出強度の変化が実質的にゼロになる時の走査位置を、前記照射位置データとして校正する工程とを有することを特徴とする荷電粒子ビーム露光方法。
前記校正工程において、前記ビーム強度センサの検出強度の変化が実質的にゼロになる領域の中央位置に対応する操作位置を、前記照射位置データとして校正することを特徴とする荷電粒子ビーム露光方法。
前記荷電粒子ビームが電子ビームであり、前記ビーム強度センサは、電子ビームの電流計であることを特徴とする荷電粒子ビーム露光方法。
前記ブロックマスクの複数の離散パターンは、互いに、X軸方向またはY軸方向にその位置がずれていることを特徴とする荷電粒子ビーム露光方法。
SL1:第1のスリット、BM:ブロックマスク、SX1,SX2:共通離間領域
YE:エッジ
Claims (2)
- 荷電粒子ビームを矩形の第1の透過孔を透過させて第1の透過ビームを形成し、当該第1の透過ビームを複数の離散パターンを有するブロックマスクを透過させて第2の透過ビームを形成し、当該第2の透過ビームを被露光物に照射する荷電粒子ビーム露光における露光データの生成方法であって、
前記ブロックマスクの複数の離散パターンのX方向またはY方向の共通離間領域に前記第1の透過ビームのY方向またはX方向のエッジが位置するように、前記第1の透過ビームの前記ブロックマスク上での照射位置データを生成する工程を有し、
前記照射位置データの生成工程は、ブロックマスクの複数の離散パターン上に前記第1の透過ビームを走査しながら、それぞれの走査位置での前記離散パターンと第1の透過ビームとの重複面積を求める工程と、当該重複面積の前記走査位置の変化に対する面積増加率がゼロになる走査位置を前記照射位置データとして生成する工程とを有することを特徴とする荷電粒子ビーム露光における露光データの生成方法。 - 荷電粒子ビームを矩形の第1の透過孔を透過させて第1の透過ビームを形成し、当該第1の透過ビームを複数の離散パターンを有するブロックマスクを透過させて第2の透過ビームを形成し、当該第2の透過ビームを被露光物に照射する荷電粒子ビーム露光方法において、
前記ブロックマスクの複数の離散パターンのX方向またはY方向の共通離間領域に前記第1の透過ビームのY方向またはX方向のエッジが位置するような、前記第1の透過ビームの前記ブロックマスク上での照射位置データにしたがって、前記第1の透過ビームを前記ブロックマスク上に照射して露光を行う工程と、
前記第2の透過ビームをビーム強度を測定するビーム強度センサに照射しながら、ブロックマスクの複数の離散パターン上で前記第1の透過ビームを走査し、前記ビーム強度センサの検出強度の変化が実質的にゼロになる時の走査位置を、前記照射位置データとして校正する工程とを有することを特徴とする荷電粒子ビーム露光方法。
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