JP4140867B2 - チップ型半導体のパッケージ構造および製造方法 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
この発明は、例えば、発光ダイオード(以下、LEDという)等のチップ型半導体を回路基板上の配線と電気的に接続するのに適した、チップ型半導体のパッケージ構造に係るものであり、特にプリント回路基板への実装に好適なチップ型半導体に係る表面実装型のパッケージ構造に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
従来、チップ型半導体に係る表面実装型のパッケージ構造の例としては、例えば特開平9ー45964号公報に記載されているものがある。図18はその製造方法を示す斜視図であり、図18(a)に示すように、一方の電極板111の一方の面には例えばペースト状とした導電性接合材113が間隔を所定のピッチPとする縦横列にドット状に印刷手段などにより塗布されていて、複数のLEDチップ114の各々が一方の極、例えばN層側で接するように前記各接合材113上に載置される。また、他方の電極板112の一方の面にも同一のピッチpにより縦横列に塗布されていて、一方の電極板111の接合材113上へのLEDチップ102の載置が終了した時点で、他方の電極板112が接合材113の位置をLEDチップ102の他方の極、例えばP層側に重ねるように載置され、これによりLEDチップ114は電極板111と電極板112とで挟持される。
【0003】
上記の状態を保ち、リフロー炉と称されている加熱炉を通過させ、前記接合材113を溶融させ、LEDチップ102のそれぞれの極側に接合し、図18(b)に示すように、電極板111と電極板112とLEDチップ102とを一体化する。
【0004】
次に、図18(c)に示すように前記の電極板111と電極板112との間にエポキシ樹脂などの透明樹脂115を注入し、硬化させる。このとき前記LEDチップ114の露出している4面のすべては前記透明樹脂115により覆われる。続いて、薄刃のダイヤモンドホイールカッターなどで前記LEDチップ102間の間隔である所定のピッチPを二等分するように切断することによりLEDチップのパッケージ110が得られる。図19はパッケージ110をプリント回路基板120に取り付けた状態を示す断面図であり、このプリント回路基板120上に所定間隔で一対のパット121を設け、ペースト状の半田よりなる接合材123を塗布しておき、該パット121上に前記電極板111、112が位置するように前記パッケージ117を載置し、リフロー炉で加熱して半田123を溶融し、前記一対のパット121と電極板111、112をそれぞれ溶着し、パッケージ110のプリント回路基板120への表面実装がなされる。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
このようなパッケージ構造のものによれば、金ワイヤーを用いない構造となるため、ワイヤーの引き回しのスペースが省け、パッケージの小型化ができる。又製造工程において多数個取りができるので、製造コスト全体としてコストの低減ができる。しかし、かかる改良されたパッケージ構造のものは以下に述べる欠点を有する。
【0006】
すなわち、図18(b)に示すように、電極板111と電極板112とLEDチップ102とを一体化する際に使用する導電性の接合材113としては、従来は、200℃以下でキュアーできるAgペーストまたはACF(異方導電フィルム)を用いることが取扱いの点で便利であるため、用いられることがあった。しかしながら、図19に示すように、パッケージ110のプリント回路基板120への表面実装おいては前記半田よりなる接合材123を溶融させるためにはリフロー炉などで220℃〜240℃に加熱される場合が多い。このような場合に加熱の熱によるAgペーストまたはACFよりなる前記接合材113の接着力の低下及び線膨張係数の差による応力によって、電極板111または電極板112がLEDチップ102から剥離し、断線によりLEDチップ102は点灯不能となる場合が少なくない。
【0007】
また、すでに図18(a)、(b)を用いて説明した接合工程において、LEDチップ102に対し電極板111と電極板112とを接合する際に、接合材113として用いるAgペーストのはみ出しにより、一方の電極板111と他方の電極板がLEDチップ102の近傍においてショートする場合またはLEDチップ102のジャンクシヨン部分で、はみ出したAgペーストにより、P層とN層とがショートする場合が少なくない。これらにより、パッケージ110において電極板111と112とがショートするためパッケージ110内のLEDチップ114は点灯不能または点灯不良となる。なお、Agペースト等のはみ出しにより、LEDチップ114の近傍において前記のショートには至らないまでも、LEDチップ114の側面の一部または大部分に接合材113が、付着又は近接した状態となることが少なくない。この場合、パッケージ110をプリント基板等に実装してLEDチップ114を発光させた際、前記のはみだした接合材113により、その発光が遮られ、パッケージ117の発光強度が低下してしまう。
【0008】
このような欠点を改善するため、図18(a)、(b)に示すように、LEDチップ102に対し電極板111と電極板112とを接合する際に、接合材113として融点が例えば280℃程度の高温半田を使用することも従来行われてきた。この方法によれば、前記の断線等の問題は解決できるものの、高温半田自体のコストが高く、また、半田用にLEDチップ102等半導体素子の電極を改善する必要があり、更にコストの上昇を招く。更には、LEDチップ102等半導体素子と電極板11、12を接合する際に280℃程度の熱がかかるため、電極板11、12の反りが発生し、パケージ110の品質および信頼性を低下させることもある。
【0009】
本発明は、従来のチップ型半導体のパッケージ構造における上記の欠点を除去、改善することを解決すべき課題とするものである。そして本発明はかかる課題を解決し、小型で、表面実装に適し、表面実装の際の剥離、断線がなく、発光性能および信頼性に優れ、コストを上昇させず、且つ製造時の歩溜まりも高いチップ型半導体のパッケージ構造を提供すること、およびかかる構造のパッケージを生産性よく製造する方法を提供することを目的とする。
【0010】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するためにその第1の手段として本発明は、半導体チップのP層側とN層側の両端面にそれぞれ別個の電極が接合され、前記半導体チップの露出面が樹脂で覆われて構成されるチップ型半導体のパッケージ構造において、該パッケージは前記半導体チップのP層側とN層側の両端面にそれぞれ対向するパッケージ端面を有し、前記電極は前記半導体チップの両端面及び面一の樹脂層上に接合材を用いることなくメッキにより形成され、前記パッケージ端面に前記電極の外面が露出していることを特徴とする。
【0011】
上記課題を解決するためにその第2の手段として本発明は、前記第1の手段において、前記半導体チップはLEDチップであり、且つ前記パッケージ端面は、前記半導体チップの端面の一部と面一の樹脂層上をメッキで覆われていると共に、前記半導体チップの端面の他部は樹脂にて覆われており、前記樹脂は透光樹脂であることを特徴とする。
【0012】
上記課題を解決するためにその第3の手段として本発明は、半導体チップのP層側とN層側の両端面にそれぞれ別個の電極が接合され、前記半導体チップの露出面が樹脂で覆われるチップ型半導体のパッケージの製造方法において、少なくとも一部に切り欠き部を有する枠部材の下の端面に上面に接着剤の付いた耐熱シートを貼り付ける工程、前記耐熱シートの上面に複数の半導体チップを配列し前記P層側又はN層側の端面のいずれか一方を接合する工程、前記接合された半導体チップの上端面および前記枠部材の上端面に下面に接着剤の付いた耐熱シートを貼り付け充填空間を形成する工程、前記枠部材の切り欠き部を注入口として前記充填空間に樹脂を注入した後キュアーし前記半導体チップの側面を封止して封止の集合体を形成する工程、前記上下の端面に貼り付けた耐熱シートを剥離する工程、前記耐熱シートを剥離した後前記封止の集合体の上面および下面に導電材よりなる電極膜を接合材を用いることなくメッキにより形成する電極膜導通工程、前記封止の集合体を切断し個々のチップ型半導体のパッケージを形成する工程とよりなることを特徴とする。
【0013】
上記課題を解決するためにその第4の手段として本発明は、半導体チップのP層側とN層側の両端面にそれぞれ別個の電極が接合され、前記半導体チップの露出面が樹脂で覆われるチップ型半導体のパッケージの製造方法において、上面に接着剤の付いた耐熱シートに複数の半導体チップを配列し前記P層側又はN層側の端面のいずれか一方を接合する工程、前記接合された半導体チップの上端面に下面に接着剤の付いた耐熱シートを貼り付ける工程、前記上下の耐熱シートの外側面部分に耐熱テープを貼着することにより樹脂注入口となる一部をのこして塞ぎ充填空間を形成する工程、前記樹脂注入口より前記充填空間に樹脂を注入した後キュアーし前記半導体チップの側面を封止して封止の集合体を形成する工程、少なくとも前記耐熱シートを剥離する工程、前記耐熱シートを剥離した後前記封止の集合体の上面および下面に導電材よりなる電極膜を接合材を用いることなくメッキにより形成する電極膜導通工程、前記封止の集合体を切断し個々のチップ型半導体のパッケージを形成する工程とよりなることを特徴とする。
【0014】
【発明の実施の形態】
以下に、図面に基づいて本発明の実施の形態を一実施例について説明する。図1は本実施例に係るチップ型半導体のパッケージ1の構造を示す図であり(a)は斜視図、(b)は断面図である。図1において10はP層とN層が接合してなる半導体チップであり、例えばLEDチップである。15は前記前記半導体チップ10を封止するための樹脂であり、例えば透光性樹脂である。11、12は銅、金等の金属膜よりなる電極膜であり、それぞれ前記半導体チップ10のP層側およびN層側の端面のいずれか一方である端面10a、10bおよび、これら端面と同一面にある前記の封止の樹脂15の端面にメッキにより固着されている。ここで、用途或いは必要に応じてメッキは一層又は多層のメッキを選択する。これにより、前記半導体チップ10は前記端面10a、10bにおいてそれぞれ前記電極膜11、12にそれぞれ導通している。そして、前記電極膜11、12の外面は、半導体10の前記端面10a、10bにそれぞれ対向するパッケージ1の端面1a、1bとなっている。
【0015】
図2は図1に示したチップ型半導体のパッケージ1の変形例の構造を示す図であり、(a)は斜視図、(b)は断面図である。図2に示すように、本例のパッケージにおいては、半導体チップ10の前記の端面10aおよび10bの1部にメッキによりは銅、金等の金属膜よりなる電極膜11、12が固着され、前記の端面10aおよび10bの残りの露出部分は封止の樹脂15により覆われている。ここで、用途或いは必要に応じてメッキは一層又は多層のメッキを選択する。本例においては、半導体10の前記端面10a、10bにそれぞれ対向するパッケージ1の端面1a、1bについては、端面1aは電極膜11の外面および樹脂15の外面により、端面1bは電極膜12の外面および樹脂15の外面により
構成されている。
【0016】
図1または図2に示したチップ型半導体のパッケージ1の構造によれば、電極端子となる電極膜11、12と半導体チップ10との結合が後に詳述するようにメッキにより、接合材を用いることなく行われるので、図18に示したような従来例において、高温半田を用いて電極を接合する場合のように高温加熱による反りは発生しない。更には高温半田使用に伴うコストアップを避けることができる。又、従来例において、Agペーストを用いて電極を接合する場合のように、半導体チップの上下の端面からはみだした前記Agペーストよりなる導電性の接合材が互いに接続したり、ジャンクション部分に付着したりすることによりショートするという現象は生じない。
【0017】
更に、各半導体チップ10としてLEDチップを用いた場合、従来のように上下の端面からはみだした前記Agペースト又はACFよりなる導電性の接合材がショートには至らないまでもLEDチップの側面からの発光を遮り、パッケージ1の発光強度が低下するような現象も生じない。
【0018】
図3は図1に示したチップ型半導体のパッケージ1がプリント回路基板に表面実装された状態を示す断面図である。20はプリント回路基板であり、回路基板21とこの回路基板21上に所定間隔で設けられた銅、金等よりなる一対のパット22を有している。ぺースト状の半田よりなる接合材23を塗布しておき、該パット22上に前記電極膜11、12が位置するように前記パッケージ1を載置し、リフロー炉で例えば220゜C〜240゜Cに加熱して前記半田よりなる接合材23を溶融し、前記一対のパット22と電極膜11、12をそれぞれ溶着し、パッケージ1のプリント回路基板20への表面実装がなされる。このとき、電極膜11、12の熱膨張係数(電極膜が銅の場合1.62×10ー5/k)と封止の樹脂15の熱膨張係数(透明エポキシ樹脂の場合4〜6×10ー5/゜C)の差により、また、電極膜11、12と半導体チップ10との熱膨張係数の差により、電極膜11、12と樹脂15、半導体チップ10の界面には互いに引き離そうとするせん断の熱応力が発生する。
【0019】
本例の電極膜11、12は接合材を介することなくメッキによって半導体チップ10等に強固に固着している。従って、図3に示すような表面実装において、半田23を溶融するための前記加熱を行っても銅、金等よりなる電極膜11、12は表面が若干溶けて、十分な強度をもって固着している。従って、前記せん断に対しては従来よりもかなり強くなっている。更には、この熱応力は電極膜11、12の厚さに比例する、本例の電極端子11、12はメッキによって形成された金属膜であり、図18および図19に示した従来のパッケージ構造における電極基板から切りだした電極端子に比しその厚さは格段に小さく形成することができる。よって、かかるせん断の熱応力は従来よりもかなり低下する。これらの効果によって、従来のような剥離による電極端子と半導体チップとの断線は効果的に阻止され、チップ型半導体のパッケージ1が点灯不能となることが防止される。かくして、表面実装における耐性、信頼性の高いチップ型半導体のパッケージ構造を実現することができる。
【0020】
以下に、図1に示した本実施例に係るチップ型半導体のパッケージ1の一つの製造方法につき図面を用いて説明する。図4に示すように、樹脂、ラバー等の成型等により形成され、樹脂注入口18としての切り欠け部を有する枠部材37の下方の端面に、すくなくとも一方の面に粘着剤の付いたジートまたはフィルムよりなり、耐熱性を有する耐熱シート26を前記粘着剤の付いた粘着面を上にして貼り付ける。
【0021】
次に、図5に示すように枠部材37の下方の端面に貼り付けられ耐熱シート26の前記粘着面上に半導体チップ10のP層側及びN層側のいずれか一方の端面を下にして、マトリクス状に配列、載置し、前記粘着面に貼着、固定する。
【0022】
次に、図6に示すように前記と同様の耐熱シート26の粘着面を下にして、前記の配列した半導体チップ10の上面および枠部材37の上端面に貼り付ける。これにより、枠部材37および上下の耐熱シート26に囲まれた充填空間が形成される。
【0023】
次に、図7(a)に示すように枠部材37に設けられた前記樹脂注入口18より、樹脂15を注入し前記充填空間を充填した後、キュアーする。ここで樹脂注入口18は図7(b)に示すように枠部材37の2箇所に設けられている場合、図7(c)に示すように枠部材37の一辺がすべて樹脂注入口18となっている場合もある。枠部材37には必要に応じて、図示しない充填の際の空気抜き用の孔を設けることもできる。
【0024】
次に、図8に示すように上下の面の耐熱シート26を剥がし、半導体チップ10および充填した樹脂15の上下の端面を露出させる。
【0025】
次に、図9に示すように半導体チップ10および樹脂15の前記の上下の端面に(枠部材37の上下の端面も含め)銅、金等のメッキによりそれぞれ電極膜11、12を固着して形成する。
【0026】
次に、図10に示すようにダイヤモンドホイイール、マルチワイヤーソー等を用いて、前記の上下の端面にそれぞれ電極膜11、12が形成された封止の集合体30を各半導体チップ10を囲む、縦横の所定の位置のダイシングラインLに沿って切断する。これにより、図1に示したパケージ1が個々に分離されて切り出され、本実施例に係るチップ型半導体のパッケージ1の構造が完成する。
【0027】
以下に、図1に示した本実施例に係るチップ型半導体のパッケージ1の他の一つの製造方法につき図面を用いて説明する。図11に示すように、すでに図4に示し説明したのと同様の耐熱シート26を前記粘着剤剤の付いた粘着面を上にして前記粘着面上に半導体チップ10のP層側及びN層側のいずれか一方の端面を下にして、マトリクス状に配列、載置し、貼着、固定する。
【0028】
次に、図12に示すように前記と同様の耐熱シート26の粘着面を下にして、前記の配列した半導体チップ10の上面に貼り付ける。
【0029】
次に、図13に示すように前記上下の耐熱シート26の外端に耐熱テープ17を貼着し、樹脂封入口18を残してその間を塞ぎ、充填空間を形成する。この際、複数の樹脂封入口18または必要に応じて、図示はしないが、樹脂封入の際の空気抜き孔を残すようにして、耐熱テープ17を貼着することもできる。
【0030】
次に、図14に示すように前記樹脂注入口18より、樹脂15を注入し前記充填空間を充填した後、キュアーする。
【0031】
次に、図15に示すように、充填した樹脂15をキュアーした後、貼着されている上下の耐熱シート26とこれらの外側面に貼着されている耐熱テープ17を剥離する。これにより封止の集合体30が得られる。ここで封止の集合体の30の上下の面には、樹脂15および半導体チップ10の上下の端面が露出している。
【0032】
次に、図16に示すように封止の集合体30の上下の面(封止の集合体の側面を含めても良い。)に銅、金等のメッキによりそれぞれ電極膜11、12を固着して形成する。
【0033】
次に、図17に示すように上下の面に電極膜11、12が固着された封止の集合体30を図10に示して説明したのと同様の方法により、縦横の所定の位置のダイシングラインLに沿って切断する。これにより、図1に示したパケージ1が個々に分離されて切り出され、本実施例に係るチップ型半導体のパッケージ1の構造が完成する。
【0034】
このようにして、上記の製造方法によれば、多数個取りにより生産能率をあげつつ、すでに説明したような優れたチップ型半導体のパッケージを製造することができる。
【0035】
【発明の効果】
以上に述べたように本発明によれば、小型で、表面実装に適し、表面実装の際の剥離、断線がなく、発光性能および信頼性に優れ、且つ製造時の歩溜まりも高い構造のチップ型半導体のパッケージを提供すること、および、かかる構造のパッケージを生産性よく製造する方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施の形態の一つであるチップ型半導体のパッケージの構造を示す図であり、(a)は斜視図、(b)は断面図である。
【図2】図1に示すチップ型半導体のパッケージの構造の変形例を示す断面図である。
【図3】図1に示すチップ型半導体のパッケージの表面実装の方法を示す断面図である。
【図4】図1に示すチップ型半導体のパッケージの製造方法において、成型治具部材の組付けの工程を示す斜視図である。
【図5】図1に示すチップ型半導体のパッケージの製造方法において、半導体チップの成型治具部材への、配列、固定の工程を示す斜視図である。
【図6】図1に示すチップ型半導体のパッケージの製造方法おいて、半導体チップおよび成型治具部材より充填空間を形成をする工程を示す斜視図である。
【図7】図1に示すチップ型半導体のパッケージの製造方法において、充填空間に樹脂を充填する工程を示す斜視図である。
【図8】図1に示すチップ型半導体のパッケージの製造方法において、成型治具部材を剥離して、充填樹脂等の上下面を露出する工程を示す斜視図である。
【図9】図1に示すチップ型半導体のパッケージの製造方法において、露出した充填樹脂等の上下面に電極膜をメッキにより固着する工程を示す斜視図である。
【図10】図1に示すチップ型半導体のパッケージの製造方法において、上下面に電極膜を固着された前記充填樹脂等を所定の縦横のダイシングラインで切断し、個々のパッケージの完成品を切り出す工程を示す斜視図である。
【図11】図1に示すチップ型半導体のパッケージの他の製造方法において、半導体チップの成型治具部材への、配列、固定の工程を示す斜視図である。
【図12】図1に示すチップ型半導体のパッケージの他の製造方法において、前記配列された半導体チップに対し成型治具部材を貼着する工程を示す斜視図である。
【図13】図1に示すチップ型半導体のパッケージの他の製造方法において、半導体チップおよび耐熱テープ等を含む成型治具部材より充填空間を形成をする工程を示す斜視図である。
【図14】図1に示すチップ型半導体のパッケージの他の製造方法において、充填空間に樹脂を充填する工程を示す斜視図である。
【図15】図1に示すチップ型半導体のパッケージの他の製造方法において、成型治具部材を剥離して、充填樹脂等の上下面等を露出する工程を示す斜視図である。
【図16】図1に示すチップ型半導体のパッケージの他の製造方法において、露出した充填樹脂等の上下面に電極膜をメッキにより固着する工程を示す斜視図である。
【図17】図1に示すチップ型半導体のパッケージの他の製造方法において、上下面に電極膜を固着された前記充填樹脂等を所定の縦横のダイシングラインで切断し、個々のパッケージの完成品を切り出す工程を示す斜視図である。
【図18】従来のチップ型半導体のパッケージの製造方法を示す斜視図である。
【図19】図18に示す製造方法により製造された従来のチップ型半導体のパッケージの表面実装の方法を示す断面図である。
【符号の説明】
1 パッケージ
1a、1b、10a、10b 端面
10 半導体チップ
11、12 電極膜
15 樹脂
17 耐熱テープ
26 耐熱シート
37 枠部材
Claims (4)
- 半導体チップのP層側とN層側の両端面にそれぞれ別個の電極が接合され、前記半導体チップの露出面が樹脂で覆われて構成されるチップ型半導体のパッケージ構造において、該パッケージは前記半導体チップのP層側とN層側の両端面にそれぞれ対向するパッケージ端面を有し、前記電極は前記半導体チップの両端面及び面一の樹脂層上に接合材を用いることなくメッキにより形成され、前記パッケージ端面に前記電極の外面が露出していることを特徴とするチップ型半導体のパッケージ構造。
- 前記半導体チップはLEDチップであり、且つ前記パッケージ端面は、前記半導体チップの端面の一部と面一の樹脂層上をメッキで覆われていると共に、前記半導体チップの端面の他部は樹脂にて覆われており、前記樹脂は透光樹脂であることを特徴とする請求項1に記載のチップ型半導体のパッケージ構造。
- 半導体チップのP層側とN層側の両端面にそれぞれ別個の電極が接合され、前記半導体チップの露出面が樹脂で覆われるチップ型半導体のパッケージの製造方法において、少なくとも一部に切り欠き部を有する枠部材の下の端面に上面に接着剤の付いた耐熱シートを貼り付ける工程、前記耐熱シートの上面に複数の半導体チップを配列し前記P層側又はN層側の端面のいずれか一方を接合する工程、前記接合された半導体チップの上端面および前記枠部材の上端面に下面に接着剤の付いた耐熱シートを貼り付け充填空間を形成する工程、前記枠部材の切り欠き部を注入口として前記充填空間に樹脂を注入した後キュアーし前記半導体チップの側面を封止して封止の集合体を形成する工程、前記上下の端面に貼り付けた耐熱シートを剥離する工程、前記耐熱シートを剥離した後前記封止の集合体の上面および下面に導電材よりなる電極膜を接合材を用いることなくメッキにより形成する電極膜導通工程、前記封止の集合体を切断し個々のチップ型半導体のパッケージを形成する工程とよりなることを特徴とするチップ型半導体のパッケージの製造方法。
- 半導体チップのP層側とN層側の両端面にそれぞれ別個の電極が接合され、前記半導体チップの露出面が樹脂で覆われるチップ型半導体のパッケージの製造方法において、上面に接着剤の付いた耐熱シートに複数の半導体チップを配列し前記P層側又はN層側の端面のいずれか一方を接合する工程、前記接合された半導体チップの上端面に下面に接着剤の付いた耐熱シートを貼り付ける工程、前記上下の耐熱シートの外側面部分に耐熱テープを貼着することにより樹脂注入口となる一部をのこして塞ぎ充填空間を形成する工程、前記樹脂注入口より前記充填空間に樹脂を注入した後キュアーし前記半導体チップの側面を封止して封止の集合体を形成する工程、少なくとも前記耐熱シートを剥離する工程、前記耐熱シートを剥離した後前記封止の集合体の上面および下面に導電材よりなる電極膜を接合材を用いることなくメッキにより形成する電極膜導通工程、前記封止の集合体を切断し個々のチップ型半導体のパッケージを形成する工程とよりなることを特徴とするチップ型半導体のパッケージの製造方法。
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