JP4138060B2 - アリールアミンの調製プロセス - Google Patents
アリールアミンの調製プロセス Download PDFInfo
- Publication number
- JP4138060B2 JP4138060B2 JP01030798A JP1030798A JP4138060B2 JP 4138060 B2 JP4138060 B2 JP 4138060B2 JP 01030798 A JP01030798 A JP 01030798A JP 1030798 A JP1030798 A JP 1030798A JP 4138060 B2 JP4138060 B2 JP 4138060B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- copper
- dimethylphenyl
- biphenylamine
- reaction
- layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 title claims description 17
- 150000004982 aromatic amines Chemical class 0.000 title description 17
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 32
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 30
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 claims description 17
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims description 16
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 15
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 14
- 239000003446 ligand Substances 0.000 claims description 14
- -1 1,10-phenanthrolate copper (I) Chemical group 0.000 claims description 12
- BXUAFUUORXLPGS-UHFFFAOYSA-N 3,4-dimethyl-n-(4-phenylphenyl)aniline Chemical compound C1=C(C)C(C)=CC=C1NC1=CC=C(C=2C=CC=CC=2)C=C1 BXUAFUUORXLPGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- JTRJSILZEHNTDV-UHFFFAOYSA-N n-(3,4-dimethylphenyl)-3,4-dimethyl-n-(4-phenylphenyl)aniline Chemical compound C1=C(C)C(C)=CC=C1N(C=1C=C(C)C(C)=CC=1)C1=CC=C(C=2C=CC=CC=2)C=C1 JTRJSILZEHNTDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- DANMWBNOPFBJSZ-UHFFFAOYSA-N 1-iodo-2,3-dimethylbenzene Chemical group CC1=CC=CC(I)=C1C DANMWBNOPFBJSZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 229910021591 Copper(I) chloride Inorganic materials 0.000 claims description 8
- OXBLHERUFWYNTN-UHFFFAOYSA-M copper(I) chloride Chemical compound [Cu]Cl OXBLHERUFWYNTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 8
- CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M Bromide Chemical compound [Br-] CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 5
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 4
- 229910021589 Copper(I) bromide Inorganic materials 0.000 claims description 4
- NKNDPYCGAZPOFS-UHFFFAOYSA-M copper(i) bromide Chemical compound Br[Cu] NKNDPYCGAZPOFS-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 4
- DFNSSYADCJFXCG-UHFFFAOYSA-M [Cu]Cl.N1=C(C=CC2=CC=C3C=CC=NC3=C12)C(=O)O Chemical compound [Cu]Cl.N1=C(C=CC2=CC=C3C=CC=NC3=C12)C(=O)O DFNSSYADCJFXCG-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 46
- 238000000034 method Methods 0.000 description 44
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 18
- 239000000047 product Substances 0.000 description 15
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 12
- 239000000463 material Substances 0.000 description 12
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 11
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 10
- 230000005525 hole transport Effects 0.000 description 10
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 10
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 8
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 8
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 8
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 7
- DGEZNRSVGBDHLK-UHFFFAOYSA-N [1,10]phenanthroline Chemical compound C1=CN=C2C3=NC=CC=C3C=CC2=C1 DGEZNRSVGBDHLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 6
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 description 6
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 description 6
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 6
- IIYFAKIEWZDVMP-UHFFFAOYSA-N tridecane Chemical compound CCCCCCCCCCCCC IIYFAKIEWZDVMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000010533 azeotropic distillation Methods 0.000 description 5
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 5
- 239000000543 intermediate Substances 0.000 description 5
- 239000013067 intermediate product Substances 0.000 description 5
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 5
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 5
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 5
- CSFRCLYFVINMBZ-UHFFFAOYSA-N 4-iodo-1,2-dimethylbenzene Chemical group CC1=CC=C(I)C=C1C CSFRCLYFVINMBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000004587 chromatography analysis Methods 0.000 description 4
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 4
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 4
- 238000004128 high performance liquid chromatography Methods 0.000 description 4
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 4
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 4
- BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L potassium carbonate Chemical compound [K+].[K+].[O-]C([O-])=O BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- PKJBWOWQJHHAHG-UHFFFAOYSA-N 1-bromo-4-phenylbenzene Chemical group C1=CC(Br)=CC=C1C1=CC=CC=C1 PKJBWOWQJHHAHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 3
- 150000001879 copper Chemical class 0.000 description 3
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 3
- 239000013110 organic ligand Substances 0.000 description 3
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 3
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 3
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 3
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 3
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 3
- UHBNXAASCCUHOD-UHFFFAOYSA-N 2,3-bis(3,4-dimethylphenyl)-4-phenylaniline Chemical compound C1=C(C)C(C)=CC=C1C1=C(N)C=CC(C=2C=CC=CC=2)=C1C1=CC=C(C)C(C)=C1 UHBNXAASCCUHOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DOLQYFPDPKPQSS-UHFFFAOYSA-N 3,4-dimethylaniline Chemical compound CC1=CC=C(N)C=C1C DOLQYFPDPKPQSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DLFVBJFMPXGRIB-UHFFFAOYSA-N Acetamide Chemical compound CC(N)=O DLFVBJFMPXGRIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920002799 BoPET Polymers 0.000 description 2
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 2
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VMQMZMRVKUZKQL-UHFFFAOYSA-N Cu+ Chemical compound [Cu+] VMQMZMRVKUZKQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M Fluoride anion Chemical compound [F-] KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- NHTMVDHEPJAVLT-UHFFFAOYSA-N Isooctane Chemical compound CC(C)CC(C)(C)C NHTMVDHEPJAVLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005041 Mylar™ Substances 0.000 description 2
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 2
- BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N Selenium Chemical compound [Se] BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010751 Ullmann type reaction Methods 0.000 description 2
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BRFLWJLUCZCWOA-UHFFFAOYSA-M [Cu]Br.N1=C(C=CC2=CC=C3C=CC=NC3=C12)C(=O)O Chemical compound [Cu]Br.N1=C(C=CC2=CC=C3C=CC=NC3=C12)C(=O)O BRFLWJLUCZCWOA-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 2
- 238000006254 arylation reaction Methods 0.000 description 2
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 2
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004927 clay Substances 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 2
- JZCCFEFSEZPSOG-UHFFFAOYSA-L copper(II) sulfate pentahydrate Chemical compound O.O.O.O.O.[Cu+2].[O-]S([O-])(=O)=O JZCCFEFSEZPSOG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- BERDEBHAJNAUOM-UHFFFAOYSA-N copper(i) oxide Chemical compound [Cu]O[Cu] BERDEBHAJNAUOM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JVSWJIKNEAIKJW-UHFFFAOYSA-N dimethyl-hexane Natural products CCCCCC(C)C JVSWJIKNEAIKJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N diphenyl Chemical compound C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 2
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 2
- XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N hydrogen iodide Chemical compound I XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 2
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 2
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 2
- UAOIEEWQVAXCFY-UHFFFAOYSA-N n-(3,4-dimethylphenyl)acetamide Chemical compound CC(=O)NC1=CC=C(C)C(C)=C1 UAOIEEWQVAXCFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000620 organic polymer Polymers 0.000 description 2
- SJHHDDDGXWOYOE-UHFFFAOYSA-N oxytitamium phthalocyanine Chemical compound [Ti+2]=O.C12=CC=CC=C2C(N=C2[N-]C(C3=CC=CC=C32)=N2)=NC1=NC([C]1C=CC=CC1=1)=NC=1N=C1[C]3C=CC=CC3=C2[N-]1 SJHHDDDGXWOYOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N phthalocyanine Chemical compound N1C(N=C2C3=CC=CC=C3C(N=C3C4=CC=CC=C4C(=N4)N3)=N2)=C(C=CC=C2)C2=C1N=C1C2=CC=CC=C2C4=N1 IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920002037 poly(vinyl butyral) polymer Polymers 0.000 description 2
- 229920002239 polyacrylonitrile Polymers 0.000 description 2
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 2
- 239000002861 polymer material Substances 0.000 description 2
- 239000002952 polymeric resin Substances 0.000 description 2
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 2
- 229910000027 potassium carbonate Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000010926 purge Methods 0.000 description 2
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 2
- 238000001953 recrystallisation Methods 0.000 description 2
- 239000011669 selenium Substances 0.000 description 2
- 229910052711 selenium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 2
- VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N tetrachloromethane Chemical compound ClC(Cl)(Cl)Cl VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 2
- MTAHTDBOMUECCQ-UHFFFAOYSA-N 1,10-phenanthroline-2-carboxylic acid Chemical compound C1=CN=C2C3=NC(C(=O)O)=CC=C3C=CC2=C1 MTAHTDBOMUECCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GPYDMVZCPRONLW-UHFFFAOYSA-N 1-iodo-4-(4-iodophenyl)benzene Chemical group C1=CC(I)=CC=C1C1=CC=C(I)C=C1 GPYDMVZCPRONLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IQHSSYROJYPFDV-UHFFFAOYSA-N 2-bromo-1,3-dichloro-5-(trifluoromethyl)benzene Chemical group FC(F)(F)C1=CC(Cl)=C(Br)C(Cl)=C1 IQHSSYROJYPFDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N 2-methoxyethyl acetate Chemical compound COCCOC(C)=O XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MRVRWOCUNTYWHG-UHFFFAOYSA-N 3-(3,4-dimethylphenyl)-4-phenylaniline Chemical compound C1=C(C)C(C)=CC=C1C1=CC(N)=CC=C1C1=CC=CC=C1 MRVRWOCUNTYWHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TWPMMLHBHPYSMT-UHFFFAOYSA-N 3-methyl-n-phenylaniline Chemical compound CC1=CC=CC(NC=2C=CC=CC=2)=C1 TWPMMLHBHPYSMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JBRZTFJDHDCESZ-UHFFFAOYSA-N AsGa Chemical compound [As]#[Ga] JBRZTFJDHDCESZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001369 Brass Inorganic materials 0.000 description 1
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N Copper oxide Chemical compound [Cu]=O QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005751 Copper oxide Substances 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- 229910001218 Gallium arsenide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004425 Makrolon Substances 0.000 description 1
- AMQJEAYHLZJPGS-UHFFFAOYSA-N N-Pentanol Chemical compound CCCCCO AMQJEAYHLZJPGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 206010034972 Photosensitivity reaction Diseases 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 1
- 229910001370 Se alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920002125 Sokalan® Polymers 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N Trichloroethylene Chemical group ClC=C(Cl)Cl XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002671 adjuvant Substances 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 229920005603 alternating copolymer Polymers 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 238000003491 array Methods 0.000 description 1
- 235000010290 biphenyl Nutrition 0.000 description 1
- 239000004305 biphenyl Substances 0.000 description 1
- 229920001400 block copolymer Polymers 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 239000010951 brass Substances 0.000 description 1
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 description 1
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 1
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 239000002738 chelating agent Substances 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 150000001805 chlorine compounds Chemical group 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 238000004440 column chromatography Methods 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 229910000431 copper oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000365 copper sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L copper(II) chloride Chemical compound Cl[Cu]Cl ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- XTVVROIMIGLXTD-UHFFFAOYSA-N copper(II) nitrate Chemical compound [Cu+2].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O XTVVROIMIGLXTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ARUVKPQLZAKDPS-UHFFFAOYSA-L copper(II) sulfate Chemical compound [Cu+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] ARUVKPQLZAKDPS-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- GBRBMTNGQBKBQE-UHFFFAOYSA-L copper;diiodide Chemical compound I[Cu]I GBRBMTNGQBKBQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000012043 crude product Substances 0.000 description 1
- 239000011928 denatured alcohol Substances 0.000 description 1
- 229940075894 denatured ethanol Drugs 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 125000000118 dimethyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 1
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- ANFZRGMDGDYNGA-UHFFFAOYSA-N ethyl acetate;propan-2-ol Chemical compound CC(C)O.CCOC(C)=O ANFZRGMDGDYNGA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 238000011065 in-situ storage Methods 0.000 description 1
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 1
- 229920000592 inorganic polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 239000012035 limiting reagent Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 125000005395 methacrylic acid group Chemical group 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 1
- 239000012074 organic phase Substances 0.000 description 1
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 125000002080 perylenyl group Chemical group C1(=CC=C2C=CC=C3C4=CC=CC5=CC=CC(C1=C23)=C45)* 0.000 description 1
- CSHWQDPOILHKBI-UHFFFAOYSA-N peryrene Natural products C1=CC(C2=CC=CC=3C2=C2C=CC=3)=C3C2=CC=CC3=C1 CSHWQDPOILHKBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920006287 phenoxy resin Polymers 0.000 description 1
- 239000013034 phenoxy resin Substances 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 230000036211 photosensitivity Effects 0.000 description 1
- SIOXPEMLGUPBBT-UHFFFAOYSA-N picolinic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=N1 SIOXPEMLGUPBBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920003227 poly(N-vinyl carbazole) Polymers 0.000 description 1
- 229920005668 polycarbonate resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004431 polycarbonate resin Substances 0.000 description 1
- 229920005596 polymer binder Polymers 0.000 description 1
- 239000002491 polymer binding agent Substances 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 1
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 229920005604 random copolymer Polymers 0.000 description 1
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 1
- 238000002390 rotary evaporation Methods 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000004576 sand Substances 0.000 description 1
- 150000003335 secondary amines Chemical class 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012265 solid product Substances 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004408 titanium dioxide Substances 0.000 description 1
- 125000005259 triarylamine group Chemical group 0.000 description 1
- UBOXGVDOUJQMTN-UHFFFAOYSA-N trichloroethylene Natural products ClCC(Cl)Cl UBOXGVDOUJQMTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005292 vacuum distillation Methods 0.000 description 1
- 238000003828 vacuum filtration Methods 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000005303 weighing Methods 0.000 description 1
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C209/00—Preparation of compounds containing amino groups bound to a carbon skeleton
- C07C209/04—Preparation of compounds containing amino groups bound to a carbon skeleton by substitution of functional groups by amino groups
- C07C209/06—Preparation of compounds containing amino groups bound to a carbon skeleton by substitution of functional groups by amino groups by substitution of halogen atoms
- C07C209/10—Preparation of compounds containing amino groups bound to a carbon skeleton by substitution of functional groups by amino groups by substitution of halogen atoms with formation of amino groups bound to carbon atoms of six-membered aromatic rings or from amines having nitrogen atoms bound to carbon atoms of six-membered aromatic rings
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Description
【発明の属する技術分野】
本発明は一般に光導電性作像体のために選択することができるアリールアミンの調製プロセスに関し、より特定的には、本発明は、アリールアミンN,N−ビス(3,4−ジメチルフェニル)−4−ビフェニルアミンの調製に関する。実施の形態において、本発明は、アリールアミン等の正孔輸送分子の調製のための改良されたプロセスであって、銅配位子触媒が選択され、実施の形態においては低温で行われるプロセスに関する。本発明のプロセスのために選択される触媒は、配位結合された銅塩、より特定的には第一銅塩を含み、配位子は、1,10−フェナントロリン、ピリジン等の単座第三級アミンおよび二座第三級アミンであることを特徴とする。本発明のプロセスで得られる、N,N−ビス(3,4−ジメチルフェニル)−4−ビフェニルアミン等の生成物は、光発生層、電荷輸送層、および支持基板を備えた層状の光導電性作像体に組み込むことができ、例えば米国特許第4,265,990号を参照されたい。上記特許の開示はここにその全体が引用により援用される。上述の層状の光導電性作像体は、光発生層が電荷輸送層と基板との間に配置されるときには負に帯電でき、電荷輸送層が光発生層と支持基板との間に配置されるときには正に帯電できる。層状の光導電性作像体は、特に、負または正に帯電された画像が適切な電荷のトナー組成物で可視像にされるゼログラフィ作像およびプリントプロセスなどの電子写真作像プロセス等を含む既知の作像およびプリントプロセスならびにデジタル処理に用いることができる。一般に、作像体は約500ないし約850ナノメートルの波長帯において敏感であるため、光源としてダイオードレーザーを選択することができる。
【0002】
【従来の技術】
電荷輸送分子の調製プロセスは、いくつか知られており、例えば、米国特許第4,299,983号、第4,485,260号、第4,240,987号、第4,764,625号、第4,299,983号を参照されたい。上記各特許の開示はここにその全体を引用により援用する。上記のおよび他の同様の従来技術は、例えば、160℃等の高温でのN−(3−メチルフェニル)アニリンおよび4,4’−ジヨードビフェニルのウルマン縮合を例示しており(第4,764,625号特許を参照されたい)、配位結合されていない酸化銅(I)触媒が選択される。これらのプロセスでは、通常、発生される粗製の電荷輸送分子が、本発明のプロセスの実施形態で得られる電荷輸送分子よりも、品質が劣り、純度も低い。粗製の状態での純度が高くなると精製プロトコルの選択の幅もかなり広がる。さらに、高温での反応はやっかいな不純物を生みやすく、大がかりな精製を必要とする。このことは、層状の光導電性ゼログラフィ作像体における電荷輸送分子として用いる場合などの電子グレード純度の高い生成物が必要とされるまたは要求される場合には特に重要となる。米国特許第4,265,990号を参照されたい。この特許の開示はここにその全体を引用により援用する。さらに、より低温で行うことによって、エネルギの要求が小さくなることなどから、これらのプロセスのコスト面によい影響を与える。
【0003】
欧州特許公報EP0 617 005 A2は、アリールアミン、特に式(I)のトリアクリルアミンを開示している。このアリールアミンは、3,4−キシリデンをアセチル化し、その後アセチル化された生成物をハロゲン化されたアリール化合物と縮合させて、N−(3,4−ジメチルフェニル)−N−アリールアミンを形成し、次に式Ar2Xのハロゲン化されたアリール化合物とジアリールアミン化合物を縮合させることによって調製することができ(例えば、上記特許公報の4ページを参照されたい)、金属銅粉末、硫酸銅、酸化銅(I)、ヨウ化銅、硝酸銅の銅触媒が選択される(4ページ46行目以降を参照されたい)。この公報ではまた、縮合温度は例えば約200℃と高く、反応にはたとえば約30時間というかなりの時間がかかり得ることが示唆されている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
上記特許公報に示されているプロセスでは、所望の生成物を得るために、明らかに、高温で長時間にわたる反応が必要とされている。対照的に、本発明ではその実施の形態において、ビス(3,4−ジメチルフェニル)−4−ビフェニルアミンをかなり緩やかな条件のもとで調製するプロセスが提供され、このプロセスにおいては配位子触媒が選択されるが、この触媒は上記EPO特許公報では例示されていないと思われる。さらに、本発明においては、その実施の形態において、選択された銅配位子触媒によってアミン生成物の合成の反応時間が短縮され、所望の生成物の純度が、たとえば純度95%と高く、この生成物を電子グレード約99.7%以上にさらに精製することが容易に可能である。
【0005】
本願と関連がある可能性のある他の従来技術には、特開平5−85153号公報、特開平5−136927号公報、特開平5−191821号公報などがある。
【0006】
【課題を解決するための手段】
本発明の目的の例は、実施の形態において、以下のものを含む。
【0007】
本発明の一目的は、電荷輸送アリールアミンの調製プロセスであって、ここで例示する多くの利点を有し、かつ結果として得られる電荷輸送、特に正孔輸送成分が層状の光導電性作像体に用いるために選択できるプロセスを提供することである。
【0008】
本発明の別の目的は、電荷輸送成分、特に、N,N−ビス(3,4−ジメチルフェニル)−4−ビフェニルアミンの調製のための低温のプロセスを提供することである。
【0009】
本発明のさらに別の目的は、ウルマン縮合反応によって電荷輸送成分を調製し、銅の有機配位子が触媒アジュバントまたは触媒促進剤として選択されるプロセスにある。
【0010】
本発明のさらに別の目的は、アリールアミン、特に、N,N−ビス(3,4−ジメチルフェニル)−4−ビフェニルアミンを高い純度で、かつ優れた収率をもたらすように調製するための経済的にコストを削減できるプロセスを提供することである。
【0011】
本発明のさらに別の目的は、約100℃ないし約150℃、好ましくは約120℃ないし約130℃の低温を選択することができ、銅の有機配位子が触媒促進剤として選択され、得られる粗製の生成物が優れた純度を示し、この生成物を、濾過、蒸留、カラムクロマトグラフィ、真空蒸留等の既知の方法でさらに精製できるプロセスに関する。
【0012】
本発明のさらに別の具体的な目的は、アリールアミン正孔輸送層、特に、ここで例示されるプロセスによって得られるN,N−ビス(3,4−ジメチルフェニル)−4−ビフェニルアミンを含む正孔輸送層と光発生層とを備えた光応答性作像体を提供することにある。
【0013】
さらに、本発明のさらに別の目的は、以下のような正孔輸送分子の調製プロセスを提供することであって、すなわち、反応温度が、市販の正孔輸送アリールアミンの調製で現在用いられている約160ないし220℃を下回る温度であり、より特定的には、本発明の反応は実施の形態においては、たとえば160℃よりも40℃低い温度で、さらに特定的には125℃で達成でき、1,10−フェナントロリンキレート化剤や、塩化銅(I)等の生成物などの触媒が選択されるプロセスを提供することである。上述のように、温度がより低く、反応条件がより緩やかになることによって、プロセスがより簡単なものとなり、純粋な、すなわち、例えば電子グレードの高い、N,N−ビス(3,4−ジメチルフェニル)−4−ビフェニルアミンのアリールアミンの調製プロトコルがより効率の良いものとなると考えられる。
【0014】
本発明は、その実施の形態において、アリールアミンの調製プロセスに関し、より具体的には、ビス(3,4−ジメチルフェニル)−4−ビフェニルアミンの調製プロセスに関し、上記アミンを層状の光導電性作像体における電荷輸送分子として選択することができる。米国特許第4,764,625号を参照されたい。この特許の開示はその全体をここに引用により援用する。本発明の実施の形態におけるプロセスは、N−(3,4−ジメチルフェニル)−4−ビフェニルアミン等の適切なアミンとヨードキシレン、特に4−ヨード−o−キシレンとを配位結合された銅触媒の存在下で反応させることを含み、配位子は、単座第三級アミンと二座第三級アミンとからなる群から選択される。N−(3,4−ジメチルフェニル)−4−ビフェニルアミンであるアミンは、これまで化学文献には記載されていないと思われるが、3,4−ジメチルアニリンを出発物とし、かつ4−ブロモビフェニルをアリール化剤として用いることで、典型的なゴールドバーグアリール化法によって容易に調製することができる。
【0015】
本発明の実施の形態は、例えば、アリールアミンの調製プロセスを含み、より特定的には、N,N−ビス(3,4−ジメチルフェニル)−4−ビフェニルアミンの調製プロセスを含み、このプロセスは、N−(3,4−ジメチルフェニル)−4−ビフェニルアミンとヨードキシレンとの反応を含み、この反応は配位結合された銅触媒の存在下で行われ、配位子は、単座第三級アミンと二座第三級アミンとからなる群から選択される。好ましくは、このN−(3,4−ジメチルフェニル)−4−ビフェニルアミン反応物は、4−ブロモビフェニルとN−(3,4−ジメチルフェニル)アセトアミドとの典型的なゴールドバーグアリール化法によって調製される。所望のトリアリールアミン生成物を得ることを可能にする反応は、例えば摂氏約120℃ないし約150℃、好ましくは約120℃ないし約140℃、より好ましくは約125℃の低温で行うことができ、触媒は、1,10−フェナントロレート(phenanthrolato)銅(I)(一価)クロライド、ジピリジノ銅(I)クロライド、1,10−フェナントロレート銅(I)ブロマイド、ジピリジノ銅(I)ブロマイド、1,10−フェナントロレート銅(I)クロライド、1,10−フェナントロレート銅(I)ブロマイド、またはジピリジノ銅(I)ブロマイドである。選択される触媒は重要であり、実施の形態においては、有機配位子を含む銅を含み、配位子は、ここで示されるような単座第三級アミンと二座第三級アミンからなる群から選択され、より具体的には、式(1,10−フェナントロレート)Cu(X)およびビス(ピリジナート)Cu(X)等の銅触媒または化合物であって、ここでXはクロライド等のハロゲン化物である。
【0016】
実施の形態において、本発明は、N,N−ビス(3,4−ジメチルフェニル)−4−ビフェニルアミンの調製プロセスに関し、このプロセスは、配位結合された銅触媒の存在下でのN−(3,4−ジメチルフェニル)−4−ビフェニルアミンとヨードキシレンとの反応を含み、配位子は、単座第三級アミンと二座第三級アミンとからなる群から選択され、この反応は約120℃ないし約150℃の温度で行われる。ここで、ヨードキシレンは、4−ヨード−オルト−キシレンであり、加熱後冷却を行って、N,N−ビス(3,4−ジメチルフェニル)−4−ビフェニルアミン生成物が単離される。反応温度は好ましくは約120℃ないし約140℃であり、至適には温度は約125℃である。約0.01ないし約0.1モル当量の配位結合された銅触媒が選択され、選択されるN−(3,4−ジメチルフェニル)−4−ビフェニルアミンは、約0.95ないし約1.20モル当量であり、選択されるヨードキシレンの量は約1モルである。ここで、反応は、300ないし400ミリリットルのトリデカン、トルエン、キシレン等の不活性炭化水素溶媒の存在下で行われる。このように、本発明は、配位結合された銅触媒の存在下でのN−(3,4−ジメチルフェニル)−4−ビフェニルアミンとヨードキシレンとの反応を含むN,N−ビス(3,4−ジメチルフェニル)−4−ビフェニルアミンの調製プロセスであって、配位子が、単座第三級アミンと二座第三級アミンとからなる群から選択されるプロセスを提供する。
【0017】
本発明のプロセスのために選択される触媒はここで例示されるようなものであり、実施の形態においては、クロライド(塩化物)、ブロマイド(臭化物)、ヨウ化物、およびフッ化物等のハロゲン化物の塩を含む配位結合された銅塩、特に銅(I)を含み、配位子は、1,10−フェナントロリンまたはピリジン等の単座第三級アミン、または二座第三級アミンである。選択される触媒の量は様々であってもよく、一般的には、触媒はその有効量が用いられ、たとえば、反応物の約1ないし約20モルパーセント、好ましくは制限反応物の約5ないし約12モルパーセントが用いられる。銅触媒に求められる構造式の例は同時係属中の出願に例示されるようなものであり、以下を含む。
【0018】
【化1】
実施の形態においては、触媒は1,10−フェナントロレート銅(I)クロライド、ジピリジノ銅(I)クロライド、1,10−フェナントロレート銅(I)ブロマイド、ジピリジノ銅(I)ブロマイド等を含む。
【0019】
触媒はここで例示し、かつここで言及した同時係属中の出願に例示されるように調製することができ、より具体的には、1,10−フェナントロリン等の適切な配位子と塩化銅(I)等の銅塩の反応によって調製することができ、この反応は、たとえば約70℃から約125℃への加熱で達成される。反応混合物は冷却され、生成された触媒は、濾過などによって単離されてもよいと考えられる。好ましくは、触媒は、ここで例示されるようにインシトゥ(in situ)で調製される。上記の式において、ClはXであってもよく、ここで、Xは、クロライド、ブロマイド、ヨウ化物、またはフッ化物等のハロゲン化物である。
【0020】
本発明の具体的な実施の形態は、N−(3,4−ジメチルフェニル)−4−ビフェニルアミン中間体の以下のような合成を含む。機械攪拌子、不活性ガスパージング装置、ディーン・スターク(Dean-Stark) トラップ、および還流冷却器を取り付けた適切な反応フラスコに、以下の順で物質を入れた。すなわち、約1モルの4−ブロモビフェニルと、約1ないし2モル、好ましくは約1ないし1.2モルのN−3,4−ジメチルフェニルアセトアミドと、約1ないし2モル、好ましくは約1.2ないし1.4モルの炭酸カリウムと、約0.01ないし約0.2モル、好ましくは約0.03ないし0.1モルの硫酸銅(II)五水和物と、約20ミリリットルの高沸点不活性炭化水素溶媒、好ましくはトリデカンとを入れた。反応混合物を急速に約30分にわたって約200ないし約250℃、好ましくは約230℃の温度まで加熱し、クロマトグラフィ分析によって反応が完了したことを確認するまでこの温度でプロセスを進めた。反応中に、共沸蒸留によって水を反応容器から除去した。約10ないし20時間後、典型的には14時間後、反応物を摂氏80℃を下回る温度、より特定的には約75℃まで冷却させ、約2.5ないし3.5モル、好ましくは約3モルの水酸化カリウム、800ミリリットルの変性エタノール、および100ミリリットルの脱イオン水を容器に入れた。次に、反応混合物を再加熱して還流させ、クロマトグラフィ分析によって中間体の加水分解が完了したことが明らかになるまで約85℃でプロセスを進めた。通常、これには3時間を要した。次に、反応物を室温、約25℃まで冷却し、攪拌しながら、2リットルの脱イオン水に注ぎ入れた。中間生成物は濾過等のいくつかの方法で単離することができ、水で洗浄した。その後、イソオクタンからの再結晶化によって乾燥アミンをさらに精製し、最終反応で用いるのに十分純度の高い、109ないし110℃で融解するオフホワイトの固体を得た。高性能液体クロマトグラフィで確認した純度は98ないし99.5パーセントであり、かつ全体の中間生成物の収率は約76パーセントであった。
【0021】
次に、N,N−ビス(3,4−ジメチルフェニル)−4−ビフェニルアミンは以下のように調製することができる。機械攪拌子、不活性ガスパージング装置、ディーン・スタークトラップ、および還流冷却器を取り付けた適切な反応フラスコに、以下の順で物質を入れる。すなわち、約0.1モルの4−ヨード−o−キシレンと、約0.1ないし0.2モル、好ましくは0.11モルのN−(3,4−ジメチルフェニル)−4−ビフェニルアミンと、約0.01ないし0.1モル、好ましくは0.04モルの塩化銅(I)と、塩化銅(I)と等モル量(0.04)の配位子1,10−フェナントロリンと、約0.6ないし1.0モル、好ましくは約0.8モルの薄片(フレーク)状の水酸化カリウムと、約35ミリリットルのトルエンとを入れる。反応混合物を急速に加熱して還流させ、クロマトグラフィ分析によって反応が完了したことが明らかになるまで130℃で保持する。反応水は共沸蒸留によって回収することができる。典型的には、反応を完了するのに3ないし4時間を要する。室温まで冷却した後、反応混合物を200ミリリットルのトルエンと150ミリリットルの脱イオン水とに分配させる。結果として得られる層が分離され、有機相を水の共沸蒸留によって乾燥させる。次にトルエン溶液を、約24グラムの「Alcoa CG-20」アルミナおよび酸洗浄クレー「Filtrol-24」(登録商標)で処理して、おおむね脱色する。溶媒の濾過および蒸発によって約80パーセントの収率で所望の生成物を得た。
【0022】
本発明のプロセスで生成される電荷輸送アミンを含有した層状の光応答性作像体は、様々な形態で提供することが可能である。実施の形態において、層状の光応答性すなわち光導電性作像体は、支持基板と、本発明のプロセスで得られるアリールアミン正孔輸送成分を含む電荷輸送層と、その間に配置される光発生層とを含み、光発生層の例としては、フタロシアニン、ヒドロキシガリウムフタロシアニン(特にタイプV)、チタニルフタロシアニン、ペリレン(特にBZP)、セレン(特に三方晶系セレン)、セレン合金や、他の有効な既知の光発生顔料を含むものなどが挙げられる。さらに、支持基板と、電荷輸送層、特にアリールアミン正孔輸送層と、上層のオーバーコート層としての光発生層とを含む、正に帯電される層状の光応答性作像体が開示される。さらに、支持基板と、薄い接着層と、ポリマー樹脂結合剤に分散される光発生層と、ポリマー樹脂結合剤に分散される上層のアリールアミン正孔輸送分子とを含む、負に帯電される光応答性作像体が開示され、上記アリールアミン分子は本発明のプロセスで得ることができる。
【0023】
光応答性作像体は、様々な既知の方法およびプロセスパラメータを用いて調製でき、層を塗布する順序は所望される部材に依存する。正帯電に適した作像体は、光発生層と正孔輸送層の堆積順を逆にすることによって調製できる。作像体の光発生層および電荷輸送層は、スプレーコータ、ディップコータ、押出しコーター、ローラーコーター、ワイヤーバーコーター、スロットコーター、ドクターブレードコーター、グラビアコーター等を用いて選択的な基板の上に溶液または分散体として塗布することができ、約40℃ないし約200℃で約10分から数時間、より特定的には約5時間にわたって定常状態で、または空気流中で乾燥させる。塗布は、乾燥後の塗布した最終の厚さが0.01ないし約30ミクロンになるように行われる。任意の層の製造条件は、最終装置において最適な性能およびコストを得るように調整してもよい。作像体は、たとえば、光発生顔料がチタニルフタロシアニン顔料の場合、約600ナノメートルないし約900ナノメートルの波長の光を吸収するため、このようなゼログラフィ作像プロセスにおいて有用である。これらの既知のプロセスにおいては、まず静電潜像が作像体上に形成され、その後現像して、像を適切な基板、例えば紙に転写し、定着させる。さらに、作像体は、典型的には660ないし約830ナノメートルの波長で機能するヒ化ガリウム発光ダイオード(LED)アレイを用いた電子プリントプロセスに使用するためにも選択することができる。
【0024】
作像体のために選択される基板層は、不透明であっても良いし、または実質的に透明であっても良く、必要とされる機械的特性を有していればいかなる適切な材料を含んでも良い。従って、基板は、市販のポリマーである「MYLAR」(登録商標)、チタン含有「MYLAR」等の無機または有機ポリマー材料を含む絶縁材料層、酸化インジウムスズ(ITO)等の半導体表面層またはその上に塗布されたアルミニウムを有する有機または無機材料層、または、アルミニウム、クロム、ニッケル、真鍮等の導電材料層を含んでも良い。基板は、可撓性のあるものであっても、シームレス(継ぎ目のないもの)であっても、また剛性のものであっても良く、その形状は、例えば、板状、円筒状のドラム、スクロール(巻物状)、可撓性エンドレスベルト等、様々であってよい。一実施形態においては、基板はシームレスの可撓性ベルトの形態である。基板が可撓性の有機ポリマー材料、市販の「MAKROLON」(登録商標)等のポリカーボネート材料等のカーリング防止層などである場合には特に、基板の裏面をコーティングすることが望ましい場合もあるであろう。
【0025】
基板層の厚さは、経済面での問題などの多くの要因に依存し、そのため、この層は、例えば3000ミクロン以上とかなりの厚さであってもよいし、または、システムに悪影響を与えることのない最小の厚さであってもよい。一実施形態においては、この層の厚さは約75ミクロンないし約300ミクロンである。
【0026】
一般に、光発生層の厚さは、他の層の厚さや、この層に含まれる光発生材料の量等のいくつかの要因に依存する。従って、この層は、光発生組成層が約5体積パーセントないし約100体積パーセントの量で存在する場合には、約0.05ミクロンないし約10ミクロンの厚さであろう。一実施形態において、この層の厚さは光発生組成物がこの層において30ないし75体積パーセントの量で存在する場合には約0.25ミクロンないし約1ミクロンである。一実施形態においてこの層の最大の厚さは、主に、感光度、電気的特性、機械的な考慮点などの要因に依存する。電荷発生層は、適切な溶媒と光発生顔料および結合剤樹脂の分散コーティングによって得ることができるが、結合剤は含まれなくてもよい。分散体は、ペイントシェーカー、ボールミル、サンドミル、アトライター等の装置内で光発生顔料を混合および/または粉砕することによって調製できる。この装置において、ガラスビーズ、スチールボール、またはセラミックビーズ等の一般的な研削媒体を用いてもよい。有効量、例えば約1ないし約20重量パーセント、または約5ないし約10重量パーセントで選択され得る結合剤樹脂は、ポリ(ビニルブチラール)、ポリ(ビニルカルバゾール)、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリ塩化ビニル、ポリアクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、塩化ビニルと酢酸ビニルのコポリマー、フェノキシ樹脂、ポリウレタン、ポリビニルアルコール、ポリアクリロニトリル、ポリスチレン等のいくつかの既知のポリマーを含む。これらの結合剤または樹脂を溶解する溶媒はその特定の樹脂に依存する。実施の形態においては、装置の他のコート層に影響を及ぼさない溶媒を選択することが望ましい。有用な溶媒の例としては、ケトン、アルコール、芳香族炭化水素、ハロゲン化脂肪族炭化水素、エーテル、アミン、アミド、エステル等が挙げられる。溶媒の具体例としては、シクロヘキサノン、アセトン、メチルエチルケトン、メタノール、エタノール、ブタノール、アミルアルコール、トルエン、キシレン、クロロベンゼン、四塩化炭素、クロロホルム、塩化メチレン、トリクロロエチレン、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチルエーテル、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、酢酸ブチル、酢酸エチル、メトキシエチルアセタート等が挙げられる。
【0027】
光発生顔料分散体のコーティングは、約40℃ないし約150℃で約5分ないし約90分乾燥させた後で電荷発生層の最終の乾燥した厚さが約0.01ないし約30ミクロン、好ましくは約0.1ないし約15ミクロンとなるように、スプレーコーティング、ディップコーティング、ワイヤーバーコーティング法で行うことができる。
【0028】
光発生顔料に使用するために選択できるポリマー結合剤樹脂材料の例はここで例示されるようなものであるとともに、米国特許第3,121,006号に開示されるようなポリマーを含み、この特許の開示の全体をここに引用により援用する。
【0029】
通常、接着層は支持基板と接するため、ポリエステル、ポリアミド、ポリ(ビニルブチラール)、ポリ(ビニルアルコール)、ポリウレタン、およびポリアクリロニトリルを含む様々な既知の物質を選択することができる。この層は、約0.05ミクロンないし約1ミクロンの厚さである。必要に応じて、この層は、酸化亜鉛、二酸化チタン、窒化シリコン、カーボンブラック等の導電性および非導電性粒子を含んでもよく、それによって、例えば、望ましい電気的および光学的特性を与えるようにしてもよい。
【0030】
電荷輸送層のために選択される絶縁性が高く、かつ透明の樹脂材料または非活性の結合剤は、米国特許第3,121,006号に記載されるような結合剤を含み、その開示全体をここに引用により援用する。有機樹脂材料の具体例としては、ポリカーボネート、アクリル酸ポリマー、ビニルポリマー、セルロースポリマー、ポリエステル、ポリシロキサン、ポリアミド、ポリウレタン、およびエポキシや、そのブロック、ランダム、または交互共重合体(コポリマー)等を含む。電気的に非活性の結合剤で好ましいのは、約20,000ないし約100,000の分子量を有するポリカーボネート樹脂を含み、約50,000ないし約100,000の分子量を有するものが特に好ましい。一般に、樹脂結合剤は、活性の電荷輸送材料を約10ないし約75重量パーセント含み、好ましくは、この材料を約35パーセントないし約50パーセント含む。
【0031】
さらに、ここで例示される光応答性装置を用いた作像およびプリント方法が開示される。これらの方法は、一般に、作像体上に静電潜像を形成し、その後、その像をトナー組成物で現像することを含む。米国特許第4,560,635号、第4,298,697号、および第4,338,390号を参照されたい。なお、この開示はその全体がここに引用によって援用される。次に、その像を適切な基板に転写し、永久的に定着させる。装置がプリントモードで使用されるような環境においては、作像方法は、露光ステップがレーザー装置またはイメージバー(image bar)で行うことができることを除いては、同じステップを含む。
【0032】
【発明の実施の形態】
実施の形態1.
N−(3,4−ジメチルフェニル)−4−ビフェニルアミン中間体の合成
機械攪拌子、ディーン・スタークトラップ、および還流冷却器を取り付けた1リットルの丸底フラスコに、166.48グラム(1.02モル)のN−(3,4−ジメチルフェニル)アセトアミドと、233.1グラム(1.02モル)の4−ブロモビフェニルと、7.5グラム(0.03モル)の硫酸銅(II)五水和物と、165.86グラム(1.2モル)の炭酸カリウムと、20ミリリットルのトリデカン溶媒とを入れた。結果として得られる反応混合物を急速に約30分にわたって摂氏230℃まで加熱し、この温度で14時間にわたって合成を進めた。反応物を約80℃まで冷却させ、800ミリリットルの変性アルコールと165.5グラム(2.95モル)の薄片状の水酸化カリウムを添加した。反応混合物を再加熱して3時間還流させ、アミド加水分解を完了させた。次に、反応混合物を室温、約25℃まで冷却し、急速に2リットルの脱イオン水に加えて、沈殿を生成させた。中間生成物を濾過し、脱イオン水でざっと洗浄した。結果として得られる湿ったケークを1リットルの高温のイソオクタンに入れ、共沸蒸留によって水を除去した。45グラムの「Alcoa CG-20」アルミナを添加して還流で3時間攪拌することによって中間生成物を脱色した。次に、中間生成物を室温まで冷却させて再結晶化させ、真空濾過によって分離した。この結果、以下の実施の形態2の反応に用いるのに適した重量202.2グラム(74パーセント)のオフホワイトの粉末を得た。高性能液体クロマトグラフィによって確認したこの中間生成物の純度は約97ないし約99.5パーセントであった。
【0033】
実施の形態2.
N,N−ビス(3,4ジメチルフェニル)−4−ビフェニルアミンの合成
機械攪拌子、ディーン・スタークトラップ、および還流冷却器を取り付けた500ミリリットルの丸底フラスコに、30グラム(0.11モル)の上述のように調製された中間体であるN−ビス(3,4−ジメチルフェニル)−4−ビフェニルアミンと、25.1グラム(0.11モル)の4−ヨード−o−キシレンと、0.43グラム(0.004モル)の塩化銅(I)と、0.78グラム(0.004モル)の1,10−フェナントロリンと、48.48グラム(0.86モル)の薄片状の水酸化カリウムと、35ミリリットルのトルエンとを入れた。反応物を急速に30分にわたって還流温度120℃まで加熱し、この温度に4時間保った後、クロマトグラフィ分析で反応が完了したことを確認した。反応物を室温まで冷却し、200ミリリットルのトルエンと150ミリリットルの脱イオン水に分配させた。結果として得られる有機層を分離し、ディーン・スタークトラップをつけた状態で溶媒の共沸蒸留によって水を除去した。生成物をスラリーによって脱色し、トルエン溶液を36グラムの酸洗浄クレー「Filtrol-24」(登録商標)、および24グラムの「Alcoa CG-20」アルミナで処理した。還流で3時間攪拌した後、スラリーを保温漏斗にかけ、溶媒を回転蒸発によって除去し、固体を得た。75ミリリットルのイソプロパノール−酢酸エチル1:1混合物からの再結晶化によって、収率30.8グラム(75.5パーセント)で白色固体生成物であるN,N−ビス(3,4−ジメチルフェニル)−4−ビフェニルアミンを得た。この生成物は113.8℃で融解し、そのHPLC純度は97.5パーセントであった。この生成物は、従来の手段によりさらに精製するのに適しており、約99.5パーセントのHPLC純度を示す電子グレード純度の高い生成物となった。
【0034】
上述の反応は、何度繰り返しても、実質的に同じまたは類似した結果を示した。
Claims (3)
- N,N−ビス(3,4−ジメチルフェニル)−4−ビフェニルアミンの調製プロセスであって、N−(3,4−ジメチルフェニル)−4−ビフェニルアミンとヨードキシレンとを配位結合された銅触媒の存在下で反応させるステップを含み、配位子が、単座第三級アミンと二座第三級アミンとからなる群から選択され、反応が、約120℃ないし約150℃の温度で行われることを特徴とする調製プロセス。
- 請求項1に記載の調製プロセスであって、触媒が、1,10−フェナントロレート銅(I)(一価)クロライドと、ジピリジノ銅(I)クロライドと、1,10−フェナントロレート銅(I)ブロマイドと、ジピリジノ銅(I)ブロマイドと、1,10−フェナントロレート銅(I)クロライドとからなる群から選択されることを特徴とする調製プロセス。
- N,N−ビス(3,4−ジメチルフェニル)−4−ビフェニルアミンの調製プロセスであって、N−(3,4−ジメチルフェニル)−4−ビフェニルアミンとヨードキシレンを配位結合された銅触媒の存在下で反応させるステップを含み、配位子が単座第三級アミンと二座第三級アミンとからなる群から選択されることを特徴とする調製プロセス。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US08/791,696 | 1997-01-30 | ||
US08/791,696 US5705697A (en) | 1997-01-30 | 1997-01-30 | Arylamine processes |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH10212268A JPH10212268A (ja) | 1998-08-11 |
JP4138060B2 true JP4138060B2 (ja) | 2008-08-20 |
Family
ID=25154518
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP01030798A Expired - Fee Related JP4138060B2 (ja) | 1997-01-30 | 1998-01-22 | アリールアミンの調製プロセス |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5705697A (ja) |
JP (1) | JP4138060B2 (ja) |
Families Citing this family (29)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB2328686B (en) * | 1997-08-25 | 2001-09-26 | Sankio Chemical Co Ltd | Method for producing arylamine |
US5902901A (en) * | 1998-05-07 | 1999-05-11 | Xerox Corporation | Arylamine processes |
US6114583A (en) * | 1999-12-10 | 2000-09-05 | Lexmark International, Inc. | Preparation of triarylamines |
US6541639B2 (en) | 2000-07-26 | 2003-04-01 | Bristol-Myers Squibb Pharma Company | Efficient ligand-mediated Ullmann coupling of anilines and azoles |
EP1390340B1 (en) * | 2001-04-24 | 2017-03-01 | Massachusetts Institute Of Technology | Copper-catalyzed formation of carbon-heteroatom and carbon-carbon bonds |
KR20050032107A (ko) | 2002-08-02 | 2005-04-06 | 메사추세츠 인스티튜트 오브 테크놀로지 | 구리를 촉매로 한 탄소-헤테로원자 결합 및 탄소-탄소결합 형성방법 |
US7345203B1 (en) | 2006-11-28 | 2008-03-18 | Xerox Corporation | Cost effective method for synthesis of triarylamine compounds from an aniline and an arylchloride |
CN103626766B (zh) | 2007-03-12 | 2017-06-09 | 细胞内治疗公司 | 与取代的杂环稠合的γ‑咔啉的合成 |
US7482492B2 (en) | 2007-04-12 | 2009-01-27 | Xerox Corporation | Cost effective method for synthesis of triarylamine compounds |
US20090131720A1 (en) * | 2007-11-15 | 2009-05-21 | Xerox Corporation | Process for the synthesis of hydroxyl arylamines |
CA2870303A1 (en) | 2012-04-14 | 2013-10-17 | Intra-Cellular Therapies, Inc. | Organic compounds |
EP2968320B1 (en) | 2013-03-15 | 2020-11-11 | Intra-Cellular Therapies, Inc. | Organic compounds |
KR20230058736A (ko) | 2013-12-03 | 2023-05-03 | 인트라-셀룰라 써래피스, 인코퍼레이티드. | 신규한 방법 |
EP3125893B1 (en) | 2014-04-04 | 2023-09-20 | Intra-Cellular Therapies, Inc. | Deuterated heterocycle fused gamma-carbolines as antagonists of 5-ht2a receptors |
JP2017509677A (ja) | 2014-04-04 | 2017-04-06 | イントラ−セルラー・セラピーズ・インコーポレイテッドIntra−Cellular Therapies, Inc. | 有機化合物 |
PT3407888T (pt) | 2016-01-26 | 2021-03-19 | Intra Cellular Therapies Inc | Compostos de piridopirroloquinoxalina, suas composições e utilizações |
IL297676B2 (en) | 2016-03-25 | 2023-12-01 | Intra Cellular Therapies Inc | A controlled or delayed release pharmaceutical preparation containing a deuterated compound |
JP6997718B2 (ja) | 2016-03-28 | 2022-01-18 | イントラ-セルラー・セラピーズ・インコーポレイテッド | 新規共結晶 |
US10654854B2 (en) | 2016-03-28 | 2020-05-19 | Intra-Cellular Therapies, Inc. | Salts and crystals of ITI-007 |
EP3436083A4 (en) | 2016-03-28 | 2019-11-27 | Intra-Cellular Therapies, Inc. | NEW COMPOSITIONS AND METHODS |
WO2018071233A1 (en) | 2016-10-12 | 2018-04-19 | Intra-Cellular Therapies, Inc. | Amorphous solid dispersions |
US10906906B2 (en) | 2016-12-29 | 2021-02-02 | Intra-Cellular Therapies, Inc. | Organic compounds |
US10961245B2 (en) | 2016-12-29 | 2021-03-30 | Intra-Cellular Therapies, Inc. | Substituted heterocycle fused gamma-carbolines for treatment of central nervous system disorders |
IL304026A (en) | 2017-03-24 | 2023-08-01 | Intra Cellular Therapies Inc | New preparations and methods |
CN111093664B (zh) | 2017-07-26 | 2023-06-02 | 细胞内治疗公司 | 有机化合物 |
IL272249B2 (en) | 2017-07-26 | 2023-11-01 | Intra Cellular Therapies Inc | organic compounds |
AU2019287460B2 (en) | 2018-06-11 | 2024-02-15 | Intra-Cellular Therapies, Inc. | Substituted heterocycle fused gamma-carbolines synthesis |
BR112021003838A2 (pt) | 2018-08-31 | 2021-05-18 | Intra-Cellular Therapies, Inc. | métodos novos |
BR112021003655A2 (pt) | 2018-08-31 | 2021-05-18 | Intra-Cellular Therapies, Inc. | métodos novos |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4265990A (en) * | 1977-05-04 | 1981-05-05 | Xerox Corporation | Imaging system with a diamine charge transport material in a polycarbonate resin |
US4485260A (en) * | 1979-10-03 | 1984-11-27 | Xerox Corporation | Preparation of unsymmetrical diphenylamines |
US4299983A (en) * | 1979-10-03 | 1981-11-10 | Xerox Corporation | Chemical process |
US4240987A (en) * | 1979-10-29 | 1980-12-23 | Xerox Corporation | Chemical process |
US4764625A (en) * | 1980-12-12 | 1988-08-16 | Xerox Corporation | Process for preparing arylamines |
US4801517A (en) * | 1987-06-10 | 1989-01-31 | Xerox Corporation | Polyarylamine compounds and systems utilizing polyarylamine compounds |
DE69427419T2 (de) * | 1993-03-22 | 2001-10-18 | Fuji Xerox Co Ltd | Triarylaminverbindungen, Verfahren zu deren Herstellung und elektrophotographische Photorezeptoren die diese Triarylaminverbindungen enthalten |
-
1997
- 1997-01-30 US US08/791,696 patent/US5705697A/en not_active Expired - Lifetime
-
1998
- 1998-01-22 JP JP01030798A patent/JP4138060B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US5705697A (en) | 1998-01-06 |
JPH10212268A (ja) | 1998-08-11 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4138060B2 (ja) | アリールアミンの調製プロセス | |
JP4138061B2 (ja) | アリールアミンの調製プロセス | |
JP4163274B2 (ja) | アリールアミンの調製方法 | |
US5648539A (en) | Low temperature arylamine processes | |
US5648542A (en) | Arylamine processes | |
US5902901A (en) | Arylamine processes | |
US5654482A (en) | Triarylamine processes | |
EP0253169A2 (en) | Pigments, photoconductive elements sensitive to infrared radiation and a method of making | |
KR100739704B1 (ko) | 적어도 1개의1,3,6,8-테트라옥소-1,3,6,8-테트라히드로벤조(1mn)(3,8)페난트롤린-2,7-디일기를 갖는 전하 수송 물질 | |
JP4366032B2 (ja) | トリフェニルアミンダイマー混合体 | |
JPH0342670A (ja) | イオウ化ペリレン光導電性画像形成部材 | |
EP0475676B1 (en) | Electrophotographic member | |
JPH07292268A (ja) | アルコキシ橋かけ金属フタロシアニン二量体 | |
US20070134575A1 (en) | Photoconductive members | |
JP3422140B2 (ja) | ランダム共重合した電荷輸送性ポリエステル樹脂を用いた有機電子デバイス | |
JP5598013B2 (ja) | 画像形成装置用像保持体、プロセスカートリッジ、及び画像形成装置 | |
JP4146245B2 (ja) | 電子写真有機感光体 | |
CN1609719A (zh) | 具有带两个n,n,n-三取代氨基的电荷传输材料的有机光接受器 | |
JP5540962B2 (ja) | 画像形成装置用像保持体、プロセスカートリッジ、及び画像形成装置 | |
JPH07261424A (ja) | 電子写真感光体 | |
JP2000007670A (ja) | 新規ビス(3,4−メチレンジオキシフェニルアミノ)誘導体、及び該誘導体を含有する電子写真感光体 | |
JPH1039527A (ja) | 電子写真感光体 | |
JPH04242260A (ja) | ペリノン光導電性画像形成部材 | |
US20070134572A1 (en) | Photoconductive members | |
JP2013029779A (ja) | 画像形成装置用像保持体、プロセスカートリッジ、及び画像形成装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20040915 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20040915 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20080421 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20080513 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20080605 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110613 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110613 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120613 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130613 Year of fee payment: 5 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |