JP4130736B2 - 熱アクチュエータを備えたマイクロデバイス - Google Patents

熱アクチュエータを備えたマイクロデバイス Download PDF

Info

Publication number
JP4130736B2
JP4130736B2 JP2001380702A JP2001380702A JP4130736B2 JP 4130736 B2 JP4130736 B2 JP 4130736B2 JP 2001380702 A JP2001380702 A JP 2001380702A JP 2001380702 A JP2001380702 A JP 2001380702A JP 4130736 B2 JP4130736 B2 JP 4130736B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
microdevice
deformable member
conductor
height level
electrodes
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2001380702A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2002264090A (ja
Inventor
ピエール−ルイ・シャルヴェ
ミシェル・デュフール
Original Assignee
コミツサリア タ レネルジー アトミーク
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by コミツサリア タ レネルジー アトミーク filed Critical コミツサリア タ レネルジー アトミーク
Publication of JP2002264090A publication Critical patent/JP2002264090A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4130736B2 publication Critical patent/JP4130736B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01HELECTRIC SWITCHES; RELAYS; SELECTORS; EMERGENCY PROTECTIVE DEVICES
    • H01H61/00Electrothermal relays
    • H01H61/02Electrothermal relays wherein the thermally-sensitive member is heated indirectly, e.g. resistively, inductively
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01GCAPACITORS; CAPACITORS, RECTIFIERS, DETECTORS, SWITCHING DEVICES, LIGHT-SENSITIVE OR TEMPERATURE-SENSITIVE DEVICES OF THE ELECTROLYTIC TYPE
    • H01G5/00Capacitors in which the capacitance is varied by mechanical means, e.g. by turning a shaft; Processes of their manufacture
    • H01G5/16Capacitors in which the capacitance is varied by mechanical means, e.g. by turning a shaft; Processes of their manufacture using variation of distance between electrodes
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01HELECTRIC SWITCHES; RELAYS; SELECTORS; EMERGENCY PROTECTIVE DEVICES
    • H01H1/00Contacts
    • H01H1/0036Switches making use of microelectromechanical systems [MEMS]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01HELECTRIC SWITCHES; RELAYS; SELECTORS; EMERGENCY PROTECTIVE DEVICES
    • H01H1/00Contacts
    • H01H1/0036Switches making use of microelectromechanical systems [MEMS]
    • H01H2001/0063Switches making use of microelectromechanical systems [MEMS] having electrostatic latches, i.e. the activated position is kept by electrostatic forces other than the activation force
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01HELECTRIC SWITCHES; RELAYS; SELECTORS; EMERGENCY PROTECTIVE DEVICES
    • H01H37/00Thermally-actuated switches
    • H01H2037/008Micromechanical switches operated thermally
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01HELECTRIC SWITCHES; RELAYS; SELECTORS; EMERGENCY PROTECTIVE DEVICES
    • H01H61/00Electrothermal relays
    • H01H2061/006Micromechanical thermal relay

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Micromachines (AREA)
  • Thermally Actuated Switches (AREA)
  • Contacts (AREA)

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、熱アクチュエータの影響を受けて変形する部材を備えたマイクロデバイスに関するものである。このマイクロデバイスは、ラジオ波周波数信号のスイッチングに特に好適なマイクロスイッチを形成することができる。
【0002】
【従来の技術および発明が解決しようとする課題】
マイクロスイッチは、最近のエレクトロニクスデバイスにおいて次第に使用されるようになってきたマイクロデバイスである。マイクロスイッチの主要な特徴の1つは、次第に小型化されているその小さなサイズである。これは、特に、携帯電話に好適である。この種の装置に対してのマイクロスイッチの構成は、マイクロスイッチを駆動するための、基板上で利用可能な電力という深刻な問題に直面する。現在のマイクロスイッチは、低電圧(例えば3V)でもって制御できるものでなければならず、また、非常に短時間で制御できるものでなければならない。
【0003】
M.A.GRETILLAT 氏他による Transducers '99, June 7-10, 1999, Sendai,Japan における“Micromechanical relay with electrostatic actuation andmetallic contacts” と題する文献は、約20Vという制御電圧を必要として静電的に制御されるマイクロスイッチを開示している。
【0004】
Zhihong LI氏他による J. Micromech. Microeng. 10 (2000), pages 329-333 における“Bulk micromachined relay with lateral contact” と題する文献は、広い対向面積を使用した静電制御型リレーを開示している。これは、気圧の減少を引き起こす。このシステムは、減衰していき、スイッチング時間が長くなってしまう。さらに、活性ラインのコンタクトの技術的製造が、非常に困難であって、使用している多数の電極が、活性ラインによって搬送されるラジオ波周波数信号の制御を妨害してしまう傾向がある。
【0005】
仏国特許出願公開明細書第2 772 512号には、基板上に構成されるとともに、バイメタル効果を有した熱アクチュエータによって第1動作状態と第2動作状態との間のトリガーを得るために使用される、マイクロスイッチまたはマイクロバルブの製造に特に使用可能なマイクロシステムが開示されている。熱アクチュエータは、基板の両端に対して取り付けられた変形可能部材を備えている。これにより、対向基板の表面に対しての拘束を必要とすることなく、自然的な撓みをもたらすことができる。この自然的な撓みは、第1動作状態を決定する。第2動作状態は、熱アクチュエータによって引き起こされる。この場合、熱アクチュエータは、温度変化の影響を受けて、変形可能部材の変形を引き起こす。これにより、撓みを減少させ、圧縮応力を与え、自然的な撓みとは反対向きのバックリング効果によってトリガーを引き起こす。このデバイスは、制御のために比較的大きな熱交換を必要とする。制御用電気抵抗が加熱されたときには、変形可能部材が、(放射および伝導によって)生成される熱の大部分を消費する。このエネルギー損失を、バイメタル部材の制御のために印加すべきエネルギーの計算に際して、考慮しておかなければならない。さらに、構造のトリガー時間は、熱伝導のために必要な時間の結果として、また、環境に対しての放射損失を加熱時に補償しなければならないことの結果として、比較的長いものとなってしまう。
【0006】
【課題を解決するための手段】
上記欠点を克服するために、マイクロデバイスであって、第1高さレベルに配置されるとともに、バイメタル効果型アクチュエータによってトリガーされる変形可能部材によって支持された、導体と;第2高さレベルに配置された導体と;を具備し、トリガーによって、第1高さレベルの導体と第2高さレベルの導体との間のギャップが変更されるようになっており、この場合において、バイメタル効果型アクチュエータが、変形可能部材に対して局所位置において当接する電気抵抗からなり、電気抵抗は、これら電気抵抗に制御電流が流されたときには、この制御電流の流通によって生成される熱の効果によって十分に膨張することができ、これにより、バイメタル効果によって、電気抵抗内に生成された熱が変形可能部材の中を伝搬し終わるよりも前に、変形可能部材をトリガーすることができるようになっていることを特徴とするマイクロデバイスが提供される。
【0007】
変形可能部材は、好ましくは、部材または膜とされる。
【0008】
制御電流が解除されたときに変形可能部材をスイッチング後の状態に保持するための静電保持手段を設けることができる。この静電保持手段は、互いに対向配置された少なくとも1対の電極を備えることができ、対をなす電極の一方は、変形可能部材と一体化されており、対をなす電極の他方は、変形可能部材がトリガーされたときに対向電極間のギャップが最小となるようにして配置される。
【0009】
変形例においては、静電保持手段は、少なくとも1対の対向電極を備え、対をなす電極の一方が、変形可能部材と一体化されており、対をなす電極の他方が、変形可能部材がトリガーされたときに互いに接触はするものの電気絶縁体を介することによって短絡はしないようにして配置される。
【0010】
電気抵抗は、波形の形態で成膜された少なくとも1つの層を有することができる。これにより、熱アクチュエータの効率が改良される。
【0011】
電気抵抗は、好ましくは、アルミニウム、マンガン、鉛、金、白金、ニッケル、および、インコネル600(登録商標)からなるグループの中から選択された材料から形成される。
【0012】
マイクロデバイスがマイクロテクノロジーにおける手法を使用してマイクロ成膜体として製造される場合には、変形可能部材は、基板上に成膜された層に基づいて形成することができる。
【0013】
第1実施形態においては、第2高さレベル上に配置された導体は、第1ラインのコンタクトと、第2ラインのコンタクトと、を備え、変形可能部材のトリガーによって、第1高さレベルの導体と第2高さレベルの導体との間の距離が、ゼロにまで縮められ、これにより、第1高さレベルの導体が、コンタクトとコンタクトとの間の電気的接続を形成するものとされ、よって、マイクロデバイスがマイクロスイッチとして機能する。変形可能部材によって支持された導体は、理想的には、導電性ブロックによって構成される。
【0014】
第2実施形態においては、第1高さレベル上の導体と第2高さレベル上の導体とが、それぞれ、コンデンサの第1電極および第2電極を形成し、このコンデンサが、変形可能部材のスイッチング前においては第1電気容量値を有し、変形可能部材のスイッチング後においては第2電気容量値を有している。
【0015】
変形例においては、大きな誘電定数を有した絶縁層が、コンデンサの第1電極および第2電極を隔離する。この絶縁層は、厚さが例えば0.1mよりも小さいものとされるものであって、2つの電極のうちの一方の電極上にまたは双方の電極上に配置することができる。
【0016】
【発明の実施の形態】
添付図面を参照しつつ、本発明を限定するものではない例示としての以下の説明を読むことにより、本発明がより明瞭に理解され、他の特徴点や利点も明瞭となるであろう。
【0017】
図1(斜視図)および図2,3(断面図)は、本発明によるマイクロスイッチを示している。
【0018】
このマイクロスイッチは、例えばシリコンやシリカやガラスや石英といったようなものから形成された基板(1)上に、製造されている。基板(1)は、コンタクト(4)によって終端する第1ライン(2)と、コンタクト(5)によって終端する第2ライン(3)と、を支持している。両コンタクト(4,5)は、小さな間隔を介して単に離間されている。
【0019】
基板(1)は、電気絶縁材料から形成され単一の符号(10)によって示された1つまたは複数の層を支持している。この層(10)から、部材(11)の形態とされた変形可能部材(例えば窒化シリコンや酸化シリコンから形成されている)が形成されている。部材(11)は、層(10)のうちの、基板(1)およびコンタクト(4,5)が露出されているキャビティ(12)内において変形することができる。部材(11)は、キャビティ(12)側において、部材(11)がキャビティ(12)内において撓まされたときにコンタクト(4,5)間を電気的に接続し得る導電性ブロック(13)を備えている。このマイクロスイッチは、上述した仏国特許出願公開明細書第2 772 512号に開示されたプロセスによって得ることができる。
【0020】
部材(11)(場合によっては、膜)は、互いに異なる熱膨張係数を有した複数の層を積層することによって、形成することができる。
【0021】
部材(11)は、この部材(11)の両端部に配置された2つの電気抵抗(14,15)を支持している。これら電気抵抗は、例えばアルミニウムやマンガンや鉛や金や白金やニッケルやインコネル600(登録商標)といったような導電材料から成膜することができる。これら電気抵抗は、図示しない接続ラインを介して、電流源に対して接続されている。
【0022】
図2は、互いに対向した状態で対をなして設けられ、静電的に保持された電極を示している。つまり、第1対をなす電極(16,17)と、第2対をなす電極(18,19)と、を示している。電極(16,18)は、部材(11)によって支持されている。これら電極(16,18)は、また、部材(11)内に含まれている。電極(17,19)は、基板(1)上において、キャビティ(12)の底部に配置されている。図示しない接続ラインを介することにより、これら4つの電極を適切な電圧源に接続することができる。
【0023】
図2および図3は、休止状態におけるすなわち熱アクチュエータが駆動されていない状態における、マイクロスイッチを示している。この状態では、導電性ブロック(13)は、コンタクト(4,5)間の電気的接続を形成していない。
【0024】
電気抵抗(14,15)に電流を流すことによって熱アクチュエータが駆動されたときには、生成された熱が、バイメタル効果によって、部材(11)をキャビティ(12)の底面側に向けて撓ませる。これにより、導電性ブロック(13)が、コンタクト(4,5)上に当接することとなり、ライン(2,3)間の電気的接続を形成する。この様子は、図4に示されている。
【0025】
その場合に互いに最小間隔とされる、あるいは、その場合に互いに接触するものの薄い絶縁層によって短絡することは防止されている、第1対をなす電極(16,17)と第2対をなす電極(18,19)とは、電気抵抗(14,15)を流れる電流が停止されたときには、適切な電圧が印加されることによって、撓んだ部材(11)を静電的に保持する。静電的保持電圧は、熱アクチュエータが部材(11)を撓ませた後に、電極(16,17,18,19)に対して印加することができる。静電的保持電圧は、撓みを加速させ得るよう、部材(11)が撓む前に印加することもできる。
【0026】
マイクロスイッチを開放するためには、単に、静電保持電圧を解除するだけで良い。それにより、部材(11)は、休止位置に復帰する。この復帰は、電気抵抗によって加熱された部材が冷却されるまで待っている時間と比較すれば、かなり短時間で起こる。
【0027】
部材の撓みをできる限り迅速に発生させるために、また、できる限り迅速に部材を休止状態に復帰させるために、熱アクチュエータは、準断熱的な特性を有していなければならない。この目的のため、部材(11)および電気抵抗に関するバイメタル効果は、部材(11)の一部に印加されるだけである。部材(11)をトリガーするには、これで十分である。
【0028】
電気抵抗(14,15)の温度上昇に要する時間は、ラジオ波周波数信号のスイッチングという応用に対しては、十分に短いものでなければならない。一般的には、10秒よりも短いものでなければならない。よって、電気抵抗は、非常に迅速に加熱される材質から形成されなければならない。よって、ヤング率と熱膨張係数とが考慮されなければならない。同時に、形状特性が決定されなければならない。
【0029】
実用的には、材質は、適切であるように選択される。印加された温度による部材の撓み形状が試験される。この形状は、実質的に正弦波形状を有している。スイッチの場合には接触が可能とされる温度(あるいは、可変コンデンサの場合には必要な容量が得られる温度)が決定される。この後に、正弦波の2つの撓み点が決定される。電気抵抗にとっての特に有利な長さは、部材の支持点と撓み点との間の距離に基づいて決定される。
【0030】
部材(11)の機械的性質は、部材(11)の最も適切な厚さと部材(11)の最も好ましい形状とを決定するために研究される。その後、トリガー温度が決定される。
【0031】
撓み制御は、電気抵抗の隣接部材や周囲環境を加熱することなく電気抵抗だけを加熱することによって行う。非撓み位置への復帰に際しては、電気抵抗は、原理的に、静電保持が解除される前に、周囲温度へと復帰していなければならない。
【0032】
図5は、熱アクチュエータの実施形態を示している。図5は、部材(11)の一端部の拡大図である。熱アクチュエータを駆動するための電流が電気抵抗(15)を通って流れたときには、それによる熱が、電気抵抗を膨張させ、これにより、部材(11)を撓ませることができる。
【0033】
図6は、本発明において使用可能な電気抵抗(25)を斜め上方から見た図である。図6は、電気抵抗(25)が、波形形状であることを示している(図示においてはU字形状)。この形状は、熱アクチュエータの効率を改良するという利点を有している。
【0034】
本発明によるマイクロスイッチは、3Vという利用可能な電圧で動作する。この電圧値を最適に使用するために、2つの電気抵抗が、互いに直列接続されていることが好ましい。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明によるマイクロスイッチを示す斜視図である。
【図2】 図1において斜視図によって示すマイクロスイッチの長さ方向断面図である。
【図3】 図1において斜視図によって示すマイクロスイッチの横方向断面図である。
【図4】 図2に対応した図であるものの、この場合には、熱アクチュエータが駆動されている。
【図5】 図1〜図4に示すマイクロスイッチを拡大して示す図であって、熱アクチュエータの実施形態が図示されている。
【図6】 本発明によるマイクロスイッチにおいて使用可能な好ましい電気抵抗を斜め上方から示す図である。
【符号の説明】
1 基板
2 第1ライン
3 第2ライン
4 コンタクト(導体)
5 コンタクト(導体)
10 層
11 部材(変形可能部材)
13 導電性ブロック(導体)
14 電気抵抗(熱アクチュエータ、バイメタル効果型アクチュエータ)
15 電気抵抗(熱アクチュエータ、バイメタル効果型アクチュエータ)
16 電極(静電保持手段)
17 電極(静電保持手段)
18 電極(静電保持手段)
19 電極(静電保持手段)
25 電気抵抗

Claims (11)

  1. マイクロデバイスであって、
    第1高さレベルに配置されるとともに、バイメタル効果型アクチュエータによってトリガーされる変形可能部材(11)によって支持された、導体(13)と;第2高さレベルに配置された導体(4,5)と;を具備し、
    前記トリガーによって、前記第1高さレベルの前記導体(13)と前記第2高さレベルの前記導体(4,5)との間の距離が変更されるようになっており、
    この場合において、
    前記バイメタル効果型アクチュエータが、前記変形可能部材(11)に対して局所位置において当接する電気抵抗(14,15)からなり、
    前記電気抵抗(14,15)は、これら電気抵抗(14,15)に制御電流が流されたときには、この制御電流の流通によって生成される熱の効果に基づくバイメタル効果によって膨張することができ、これにより、前記変形可能部材(11)をトリガーすることができるようになっており、
    前記制御電流が解除されたときに前記変形可能部材(11)をスイッチング後の状態に保持するための静電保持手段が設けられていることを特徴とするマイクロデバイス。
  2. 請求項1記載のマイクロデバイスにおいて、
    前記変形可能部材が、部材(11)または膜であることを特徴とするマイクロデバイス。
  3. 請求項記載のマイクロデバイスにおいて、
    前記静電保持手段が、互いに対向配置された少なくとも1対の電極(16,17;18,19)を備え、
    対をなす電極の一方が、前記変形可能部材(11)と一体化されており、
    対をなす電極の他方が、前記変形可能部材(11)がトリガーされたときに対向電極間の距離が最小となるようにして配置されていることを特徴とするマイクロデバイス。
  4. 請求項記載のマイクロデバイスにおいて、
    前記静電保持手段が、少なくとも1対の対向電極を備え、
    対をなす電極の一方が、前記変形可能部材(11)と一体化されており、
    対をなす電極の他方が、前記変形可能部材(11)がトリガーされたときに互いに接触はするものの電気絶縁体を介することによって短絡はしないようにして配置されていることを特徴とするマイクロデバイス。
  5. 請求項1〜のいずれかに記載のマイクロデバイスにおいて、
    前記電気抵抗が、波形形状で成膜された少なくとも1つの層(25)を有していることを特徴とするマイクロデバイス。
  6. 請求項1〜のいずれかに記載のマイクロデバイスにおいて、
    前記電気抵抗(14,15)が、アルミニウム、マンガン、鉛、金、白金、ニッケル、および、インコネル600からなるグループの中から選択された材料から形成されていることを特徴とするマイクロデバイス。
  7. 請求項1〜のいずれかに記載のマイクロデバイスにおいて、
    マイクロテクノロジーにおける手法を使用して製造されており、
    前記変形可能部材(11)は、基板(1)上に成膜された層(10)から形成されていることを特徴とするマイクロデバイス。
  8. 請求項1〜のいずれかに記載のマイクロデバイスにおいて、
    前記第2高さレベルに配置された前記導体は、第1ラインのコンタクト(4)と、第2ラインのコンタクト(5)と、を備え、
    前記変形可能部材のトリガーによって、前記第1高さレベルの前記導体(13)と前記第2高さレベルの前記導体との間の距離が、ゼロにまで縮められ、これにより、前記第1高さレベルの前記導体が、前記コンタクト(4)と前記コンタクト(5)との間の電気的接続を形成するものとされ、
    よって、前記マイクロデバイスがマイクロスイッチとして機能することを特徴とするマイクロデバイス。
  9. 請求項記載のマイクロデバイスにおいて、
    前記変形可能部材によって支持された前記導体が、導電性ブロック(13)によって構成されていることを特徴とするマイクロデバイス。
  10. 請求項1〜のいずれかに記載のマイクロデバイスにおいて、
    前記第1高さレベル上の前記導体と前記第2高さレベル上の前記導体とが、それぞれ、コンデンサの第1電極および第2電極を形成し、
    このコンデンサが、前記変形可能部材のスイッチング前においては第1電気容量値を有し、前記変形可能部材のスイッチング後においては第2電気容量値を有していることを特徴とするマイクロデバイス。
  11. 請求項10記載のマイクロデバイスにおいて、
    縁層が、前記コンデンサの前記第1電極および前記第2電極を隔離していることを特徴とするマイクロデバイス。
JP2001380702A 2000-12-27 2001-12-13 熱アクチュエータを備えたマイクロデバイス Expired - Fee Related JP4130736B2 (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
FR0017113 2000-12-27
FR0017113A FR2818795B1 (fr) 2000-12-27 2000-12-27 Micro-dispositif a actionneur thermique

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2002264090A JP2002264090A (ja) 2002-09-18
JP4130736B2 true JP4130736B2 (ja) 2008-08-06

Family

ID=8858265

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2001380702A Expired - Fee Related JP4130736B2 (ja) 2000-12-27 2001-12-13 熱アクチュエータを備えたマイクロデバイス

Country Status (5)

Country Link
US (1) US6703916B2 (ja)
EP (1) EP1220256B1 (ja)
JP (1) JP4130736B2 (ja)
DE (1) DE60126731T2 (ja)
FR (1) FR2818795B1 (ja)

Families Citing this family (53)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8928967B2 (en) 1998-04-08 2015-01-06 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Method and device for modulating light
WO1999052006A2 (en) 1998-04-08 1999-10-14 Etalon, Inc. Interferometric modulation of radiation
US6911891B2 (en) * 2001-01-19 2005-06-28 Massachusetts Institute Of Technology Bistable actuation techniques, mechanisms, and applications
JP2003062798A (ja) * 2001-08-21 2003-03-05 Advantest Corp アクチュエータ及びスイッチ
FR2845157B1 (fr) * 2002-10-01 2004-11-05 Commissariat Energie Atomique Detecteur bolometrique a antenne comportant un interrupteur et dispositif d'imagerie le comportant.
FR2854726B1 (fr) 2003-05-09 2005-08-26 St Microelectronics Sa Microcommutateur a plusieurs positions fermees a deplacement lateral
FR2857153B1 (fr) * 2003-07-01 2005-08-26 Commissariat Energie Atomique Micro-commutateur bistable a faible consommation.
US7142346B2 (en) * 2003-12-09 2006-11-28 Idc, Llc System and method for addressing a MEMS display
US7161728B2 (en) * 2003-12-09 2007-01-09 Idc, Llc Area array modulation and lead reduction in interferometric modulators
FR2865724A1 (fr) * 2004-02-04 2005-08-05 St Microelectronics Sa Microsysteme electromecanique pouvant basculer entre deux positions stables
FR2868591B1 (fr) * 2004-04-06 2006-06-09 Commissariat Energie Atomique Microcommutateur a faible tension d'actionnement et faible consommation
US7889163B2 (en) 2004-08-27 2011-02-15 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Drive method for MEMS devices
US7499208B2 (en) * 2004-08-27 2009-03-03 Udc, Llc Current mode display driver circuit realization feature
US7551159B2 (en) * 2004-08-27 2009-06-23 Idc, Llc System and method of sensing actuation and release voltages of an interferometric modulator
US7446927B2 (en) 2004-09-27 2008-11-04 Idc, Llc MEMS switch with set and latch electrodes
US7675669B2 (en) 2004-09-27 2010-03-09 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Method and system for driving interferometric modulators
US7679627B2 (en) * 2004-09-27 2010-03-16 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Controller and driver features for bi-stable display
US8878825B2 (en) 2004-09-27 2014-11-04 Qualcomm Mems Technologies, Inc. System and method for providing a variable refresh rate of an interferometric modulator display
US8310441B2 (en) * 2004-09-27 2012-11-13 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Method and system for writing data to MEMS display elements
US7532195B2 (en) 2004-09-27 2009-05-12 Idc, Llc Method and system for reducing power consumption in a display
US7724993B2 (en) 2004-09-27 2010-05-25 Qualcomm Mems Technologies, Inc. MEMS switches with deforming membranes
US7136213B2 (en) 2004-09-27 2006-11-14 Idc, Llc Interferometric modulators having charge persistence
US7843410B2 (en) 2004-09-27 2010-11-30 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Method and device for electrically programmable display
US7310179B2 (en) * 2004-09-27 2007-12-18 Idc, Llc Method and device for selective adjustment of hysteresis window
US7283030B2 (en) * 2004-11-22 2007-10-16 Eastman Kodak Company Doubly-anchored thermal actuator having varying flexural rigidity
US7339454B1 (en) * 2005-04-11 2008-03-04 Sandia Corporation Tensile-stressed microelectromechanical apparatus and microelectromechanical relay formed therefrom
US7920136B2 (en) 2005-05-05 2011-04-05 Qualcomm Mems Technologies, Inc. System and method of driving a MEMS display device
CA2607807A1 (en) 2005-05-05 2006-11-16 Qualcomm Incorporated Dynamic driver ic and display panel configuration
US7948457B2 (en) 2005-05-05 2011-05-24 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Systems and methods of actuating MEMS display elements
JP4586642B2 (ja) * 2005-06-14 2010-11-24 ソニー株式会社 可動素子、ならびにその可動素子を内蔵する半導体デバイス、モジュールおよび電子機器
JP2006346787A (ja) * 2005-06-14 2006-12-28 Sony Corp 可動素子、ならびにその可動素子を内蔵する半導体デバイス、モジュールおよび電子機器
JP4552768B2 (ja) * 2005-06-14 2010-09-29 ソニー株式会社 可動素子、ならびにその可動素子を内蔵する半導体デバイス、モジュールおよび電子機器
US20070126673A1 (en) * 2005-12-07 2007-06-07 Kostadin Djordjev Method and system for writing data to MEMS display elements
US8391630B2 (en) 2005-12-22 2013-03-05 Qualcomm Mems Technologies, Inc. System and method for power reduction when decompressing video streams for interferometric modulator displays
US7916980B2 (en) 2006-01-13 2011-03-29 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Interconnect structure for MEMS device
TW200728605A (en) * 2006-01-20 2007-08-01 Univ Tamkang Thermo-buckled micro-actuator unit made of polymer with high thermal expansion coefficient
US8194056B2 (en) 2006-02-09 2012-06-05 Qualcomm Mems Technologies Inc. Method and system for writing data to MEMS display elements
US8049713B2 (en) 2006-04-24 2011-11-01 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Power consumption optimized display update
US7702192B2 (en) 2006-06-21 2010-04-20 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Systems and methods for driving MEMS display
US7777715B2 (en) 2006-06-29 2010-08-17 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Passive circuits for de-multiplexing display inputs
US7724121B2 (en) * 2006-09-07 2010-05-25 Innovative Micro Technology Singly attached MEMS thermal device and method of manufacture
US7724417B2 (en) * 2006-12-19 2010-05-25 Qualcomm Mems Technologies, Inc. MEMS switches with deforming membranes
JP5103951B2 (ja) * 2007-03-08 2012-12-19 ブラザー工業株式会社 駆動装置及び液滴吐出ヘッド
US8022896B2 (en) * 2007-08-08 2011-09-20 Qualcomm Mems Technologies, Inc. ESD protection for MEMS display panels
US8232858B1 (en) * 2008-02-20 2012-07-31 Sandia Corporation Microelectromechanical (MEM) thermal actuator
FR2940503B1 (fr) * 2008-12-23 2011-03-04 Thales Sa Condensateur commute compact mems
US8736590B2 (en) 2009-03-27 2014-05-27 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Low voltage driver scheme for interferometric modulators
JP2010243695A (ja) * 2009-04-03 2010-10-28 Konica Minolta Opto Inc アクチュエータ、駆動装置、および撮像装置
US8779886B2 (en) * 2009-11-30 2014-07-15 General Electric Company Switch structures
US8570705B2 (en) 2010-01-15 2013-10-29 Wispry, Inc. MEMS sprung cantilever tunable capacitors and methods
FR2981507B1 (fr) * 2011-10-12 2013-12-06 Commissariat Energie Atomique Dispositif thermoelectrique securise
EP2780925B1 (en) * 2011-12-21 2018-09-05 Siemens Aktiengesellschaft Contactor
CN113213218A (zh) * 2021-05-31 2021-08-06 段中容 一种节能型可降解塑料包装薄膜除尘收卷装置

Family Cites Families (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4423401A (en) * 1982-07-21 1983-12-27 Tektronix, Inc. Thin-film electrothermal device
DE3809597A1 (de) * 1988-03-22 1989-10-05 Fraunhofer Ges Forschung Mikromechanisches stellelement
DE3814150A1 (de) * 1988-04-27 1989-11-09 Draegerwerk Ag Ventilanordnung aus mikrostrukturierten komponenten
US5058856A (en) * 1991-05-08 1991-10-22 Hewlett-Packard Company Thermally-actuated microminiature valve
US5619061A (en) * 1993-07-27 1997-04-08 Texas Instruments Incorporated Micromechanical microwave switching
US5467068A (en) * 1994-07-07 1995-11-14 Hewlett-Packard Company Micromachined bi-material signal switch
US5619177A (en) * 1995-01-27 1997-04-08 Mjb Company Shape memory alloy microactuator having an electrostatic force and heating means
US5796152A (en) * 1997-01-24 1998-08-18 Roxburgh Ltd. Cantilevered microstructure
FR2766962B1 (fr) * 1997-07-29 1999-10-15 Sgs Thomson Microelectronics Microinterrupteur thermique compatible avec un circuit integre
SE9703969L (sv) * 1997-10-29 1999-04-30 Gert Andersson Anordning för mekanisk omkoppling av signaler
FR2772512B1 (fr) * 1997-12-16 2004-04-16 Commissariat Energie Atomique Microsysteme a element deformable sous l'effet d'un actionneur thermique
US6239685B1 (en) * 1999-10-14 2001-05-29 International Business Machines Corporation Bistable micromechanical switches
US6504447B1 (en) * 1999-10-30 2003-01-07 Hrl Laboratories, Llc Microelectromechanical RF and microwave frequency power limiter and electrostatic device protection
US6262512B1 (en) * 1999-11-08 2001-07-17 Jds Uniphase Inc. Thermally actuated microelectromechanical systems including thermal isolation structures
US6355534B1 (en) * 2000-01-26 2002-03-12 Intel Corporation Variable tunable range MEMS capacitor
US6437965B1 (en) * 2000-11-28 2002-08-20 Harris Corporation Electronic device including multiple capacitance value MEMS capacitor and associated methods
US6418006B1 (en) * 2000-12-20 2002-07-09 The Board Of Trustees Of The University Of Illinois Wide tuning range variable MEMs capacitor

Also Published As

Publication number Publication date
EP1220256B1 (fr) 2007-02-21
JP2002264090A (ja) 2002-09-18
US20020097133A1 (en) 2002-07-25
FR2818795B1 (fr) 2003-12-05
FR2818795A1 (fr) 2002-06-28
EP1220256A1 (fr) 2002-07-03
DE60126731T2 (de) 2007-11-15
US6703916B2 (en) 2004-03-09
DE60126731D1 (de) 2007-04-05

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4130736B2 (ja) 熱アクチュエータを備えたマイクロデバイス
US7268653B2 (en) Microelectromechanical system able to switch between two stable positions
JP4704398B2 (ja) マイクロ電気機械システムバルブ及びその製造方法
US4543457A (en) Microminiature force-sensitive switch
US6812820B1 (en) Microsystem with element deformable by the action of heat-actuated device
US6373682B1 (en) Electrostatically controlled variable capacitor
US6646364B1 (en) MEMS actuator with lower power consumption and lower cost simplified fabrication
US5666258A (en) Micromechanical relay having a hybrid drive
US6333583B1 (en) Microelectromechanical systems including thermally actuated beams on heaters that move with the thermally actuated beams
US20010010488A1 (en) Bistable micro-switch and method of manufacturing the same
JP2001518677A (ja) 熱アーチ状ビームマイクロ電子機械装置および関連の製造方法
US7312678B2 (en) Micro-electromechanical relay
KR20060123070A (ko) 마이크로 전자기계적 시스템 스위치
JP2001125014A (ja) 光減衰を行う、mems装置、可変光減衰システム、光減衰方法およびmems可変光減衰器の製造方法
US7346981B2 (en) Method for fabricating microelectromechanical system (MEMS) devices
Seki et al. Thermal buckling actuator for micro relays
EP0716293A1 (en) Radiation-sensitive detector
WO2003093165A2 (en) Thermal micro-actuator based on selective electrical excitation
US20070247018A1 (en) Electrostatic actuation method and electrostatic actuator with integral electrodes for microelectromechanical systems
JP2003062798A (ja) アクチュエータ及びスイッチ
US10439591B2 (en) MEMS device with large out-of-plane actuation and low-resistance interconnect and methods of use
JP2001291463A (ja) スイッチ
Aharon et al. Hybrid RF-MEMS switches realized in SOI wafers by bulk micromachining
JP2002200597A (ja) 半導体マイクロアクチュエータ及びこれを用いた半導体マイクロバルブ
JP2008517777A (ja) 変形可能なブリッジを含むマイクロシステム

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20041026

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20070717

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20071017

A602 Written permission of extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602

Effective date: 20071022

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20080110

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20080425

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20080523

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110530

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110530

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120530

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130530

Year of fee payment: 5

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees