JP4125700B2 - 液晶表示装置 - Google Patents

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Description

本発明は液晶表示装置に関し、特に、カラーフィルターを薄膜トランジスタ上に設けた構成(COA:Color Filter Array)の液晶表示装置に関する。
従来は、通常、薄膜トランジスタ液晶表示装置(TFT−LCD:Thin Film Transistor Liquid Crystal Display)の表示パネルは、一枚のTFTパネルのガラス基板と一枚のカラーフィルターのガラス基板とを貼り合わせ、その間に液晶を注入して形成される。より新しい液晶表示装置製造技術として、COA技術が採用されている。即ち、TFTパネルのガラス基板上にTFT・アレイを形成した後に、カラーフィルターをTFT・アレイ上に形成する。COA技術により、TFTの開口率が増大し、TFTパネルの輝度が有効に向上される。TFTパネルガラス基板とカラーフィルターガラス基板とを貼り合わせる従来の技術の場合は、液晶を注入する時に、二枚のガラス基板を精確に位置合わせする必要がある。また、液晶を注入するために、二枚のガラス基板の間に3−4μmの均一な間隔を残しておく必要がある。これらの中間工程は、TFTパネルの製造工程において最も歩留まりの低い工程である。これらの工程で生じる損失を回避できれば、TFTパネル製造工程の全体的な歩留まりを向上し、コストを削減することができる。
図1は、従来通常の技術により製造したTFT液晶表示装置(TFT−LCD)の断面図を示す。
図1において、TFTパネルガラス基板11とカラーフィルターガラス基板12とは貼り合わせられている。TFTパネルガラス基板11上に複数のTFT111が設けられ、各TFT111は、その上の一つの画素電極112に対応し、TFT111と画素電極112の間に、透明な保護絶縁層113が配置されている。
カラーフィルターガラス基板12上に、複数の赤色(R)、緑色(G)、青色(B)のカラーフィルター121が配置され、隣接するカラーフィルター121は遮光層122(BM)により隔離され、光線の漏れを防ぐ。カラーフィルター121上に、透明な共同電極123が設けられている。液晶層13がTFTパネルガラス基板11とカラーフィルターガラス基板12との間に注入される。
図2は、従来、COA技術を用いて製造したTFT液晶表示装置(TFT−LCD)の断面図を示す。
図2において、下層パネルガラス基板21と上層パネルガラス基板22とを貼り合わせられている。下層パネルガラス基板21上に複数のTFT211が設けられ、各TFT211は、その上の一つの画素電極212と対応し、TFT211と画素電極212の間に、複数の赤色(R)、緑色(G)、青色(B)のカラーフィルター213が配置され、隣接するカラーフィルター213は遮光層214(BM)により隔離され、光線の漏れを防ぐ。
上層パネルガラス基板22上に、透明な共同電極221が設けられている。液晶層23が下層パネルガラス基板21と上層パネルガラス基板22との間に注入される。
図3は、従来、COA技術を用いて製造したTFT液晶表示装置の構造を示す図である。
図3において、有効表示領域31の外側に遮光層32を有し、遮光層32は、配線領域33に隣接し、配線領域33は、リード線結合(Outer Lead Bonding)領域34に隣接する。有効表示領域31、配線領域33、及びリード線結合領域34は、電気的に接続されている。
以上の構成において、金属配線は、有効表示領域31において保護層により保護されているが、配線領域33とリード線結合領域34において、なんら保護を受けておらず、水分が付着しやすく、製品の信頼性に問題がある。
本発明は、上記の問題に鑑みてなされ、その第1の目的は、金属配線が被覆され露出しない構成により、製品の信頼性が向上された液晶表示装置を提供することにある。
本発明の第2の目的は、リード線同士の絶縁性を改善することにより、製品の信頼性が向上された液晶表示装置を提供することにある。
本発明の第3の目的は、金属配線が被覆され露出しない構成ことにより、かつ、リード線同士の絶縁性を改善することにより、製品の信頼性が向上された液晶表示装置を提供することにある。
以上の目的を達成するために、本発明の液晶表示装置は、カラーフィルターが薄膜トランジスタ・アレイ基板に形成される液晶表示装置であって、当該液晶表示装置全体として表示に寄与する領域からなる有効表示領域と、前記有効表示領域の周囲に配置される遮光領域と、前記遮光領域の一辺と隣接し、複数の金属配線を含み、前記有効表示領域における複数の配線と電気的に接続する配線領域と、前記配線領域と隣接し、複数のリード線を含み、前記配線領域における複数の金属配線と電気的に接続するリード線結合領域と、 前記遮光領域と前記配線領域に形成され、前記遮光領域において光線の漏れを防止し、前記配線領域において前記金属配線の露出を防止する保護層とを有する。
好適に、前記保護層は、防水性を有する非導電性の樹脂層からなる。前記保護層は、前記リード線結合領域にも形成され、前記リード線同士を絶縁する。前記樹脂層の厚さは、0.5μm〜3μmの範囲にあり、かつ、前記リード線の高さより小さい。
好ましくは、前記金属配線に、モリブデン(Mo)、アルミニウム(Al)、又は、両者を重ねたものを用いる。また、金属配線の外面に、スパッタリングにより、インジウムスズ酸化物(ITO:Indium Tin Oxide)、又は、インジウムジンク酸化物(IZO:Indium Zinc Oxide)を塗布し、金属の酸化を防ぐ。
以上の目的を達成するために、本発明の液晶表示装置は、カラーフィルターが薄膜トランジスタ・アレイ基板に形成される液晶表示装置であって、当該液晶表示装置全体として表示に寄与する領域からなる有効表示領域と、前記有効表示領域の周囲に配置される遮光領域と、前記遮光領域の一辺と隣接し、複数の金属配線を含み、前記有効表示領域における複数の配線と電気的に接続する配線領域と、前記配線領域と隣接し、複数のリード線を含み、前記配線領域における複数の金属配線と電気的に接続するリード線結合領域と、前記有効表示領域と前記配線領域に形成され、前記配線領域において前記金属配線の露出を防止するカラーフィルター層とを有する。
好適に、前記カラーフィルター層は、前記リード線結合領域にも形成され、前記リード線同士を絶縁する。
好適に、前記有効表示領域或いは前記リード線結合領域に形成された前記カラーフィルター層は、赤色フィルター層、緑色フィルター層、及び青色フィルター層のいずれか、又は、これらの組み合わせからなり、前記カラーフィルター層の厚さは、0.5μm〜3μmの範囲にあり、かつ、前記リード線の高さより小さい。
好ましくは、前記金属配線に、モリブデン(Mo)、アルミニウム(Al)、又は、両者を重ねたものを用いる。また、金属配線の外面に、スパッタリングにより、インジウムスズ酸化物(ITO)、又は、インジウムジンク酸化物(IZO)を塗布し、金属の酸化を防ぐ。
以上の目的を達成するために、本発明の液晶表示装置は、カラーフィルターが薄膜トランジスタ・アレイ基板に形成される液晶表示装置であって、当該液晶表示装置全体として表示に寄与する領域からなる有効表示領域と、前記有効表示領域の周囲に配置される遮光領域と、前記遮光領域の一辺と隣接し、複数の金属配線を含み、前記有効表示領域における複数の配線と電気的に接続する配線領域と、前記配線領域と隣接し、複数のリード線を含み、前記配線領域における複数の金属配線と電気的に接続するリード線結合領域と、前記遮光領域と前記リード線結合領域に形成され、前記遮光領域において光線の漏れを防止し、前記リード線結合領域において前記リード配線同士を絶縁する保護層とを有する。
好適に、前記保護層は、防水性を有する非導電性の樹脂層からなり、前記樹脂層の厚さは、0.5μm〜3μmの範囲にあり、かつ、前記リード線の高さより小さい。
以上の目的を達成するために、本発明の液晶表示装置は、カラーフィルターが薄膜トランジスタ・アレイ基板に形成される液晶表示装置であって、有効表示領域と、前記有効表示領域と隣接する遮光領域と、前記遮光領域と隣接し、複数の金属配線を含み、前記有効表示領域と電気的に接続する配線領域と、前記配線領域と隣接し、複数のリード線を含み、前記有効表示領域と電気的に接続するリード線結合領域と、前記有効表示領域と前記リード線結合領域に形成され、前記リード線結合領域において前記リード配線同士を絶縁するカラーフィルター層とを有する。
好適に、前記リード線結合領域に形成された前記カラーフィルター層は、赤色フィルター層、緑色フィルター層、及び青色フィルター層のいずれか、又は、これらの組み合わせからなり、前記カラーフィルター層の厚さは、0.5μm〜3μmの範囲にあり、かつ、前記リード線の高さより小さい。
次に、添付した図面を参照しながら、本発明の実施形態を説明する。なお、本発明は以下の実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を離脱しない限り、本発明に対するあらゆる変更は本発明の範囲に属する。
図4Aは、本発明の第1と第2の実施形態に係るTFT液晶表示装置の構造を示す図である。
図4Bは、本発明の第1の実施形態に係る配線領域の図4Aにおける直線XX’に沿った断面図である。
まず、透明なガラス基板42上に複数の薄膜トランジスタ(TFT)からなるTFT・アレイ、金属配線、及びリード線を形成し、これにより、図4Bに示す複数の金属配線となる凸部43が形成される。このとき、有効表示領域41、配線領域411、及びリード線結合領域412は電気的に接続されている。
金属配線には、例えば、モリブデン(Mo)、アルミニウム(Al)、又は、両者を重ねたものを用いることができる。金属配線の外面に、例えば、スパッタリングにより、インジウムスズ酸化物(ITO:Indium Tin Oxide)、又は、インジウムジンク酸化物(IZO:Indium Zinc Oxide)44を塗布し、金属の酸化を防ぐ。
以上の工程を完了した後に、カラーフィルターを形成する。
まず、有効表示領域41及び配線領域411に遮光層を形成する。具体的に、スピン・コーティングにより、炭素を含む樹脂類材料を基板上に塗布し、露光、現像、及び乾燥の工程を経て、有効表示領域41内に遮光層以外の領域、及びリード線結合領域412上の遮光層を除去し、図4Bに示す遮光層45を形成する。遮光層45は、金属配線43を被覆し、金属配線43が露出しないので、製品の信頼性が向上する。
図4Cは、本発明の第2の実施形態に係る配線領域の図4Aにおける直線XX’に沿った断面図である。
まず、透明なガラス基板42上に複数の薄膜トランジスタ(TFT)からなるTFT・アレイ、金属配線、及びリード線を形成し、これにより、図4Cに示す複数の金属配線となる凸部43が形成される。このとき、有効表示領域41、配線領域411、及びリード線結合領域412は電気的に接続されている。
金属配線には、例えば、モリブデン(Mo)、アルミニウム(Al)、又は、両者を重ねたものを用いることができる。金属配線の外面に、例えば、スパッタリングにより、インジウムスズ酸化物(ITO)、又は、インジウムジンク酸化物(IZO)44を塗布し、金属の酸化を防ぐ。
以上の工程を完了した後に、カラーフィルターを形成する。
まず、有効表示領域41に遮光層を形成する。具体的に、スピン・コーティングにより、炭素を含む樹脂類材料を基板上に塗布し、露光、現像、及び乾燥の工程を経て、有効表示領域41内に遮光層以外の領域、及び配線領域411とリード線結合領域412上の遮光層を除去する。遮光層を形成した後に、カラーフィルターを形成する。
現在一般的に使われているカラーフィルターの形成方法は、顔料分散法(Pigment Dispersion)である。具体的に、有機顔料を分散させるラジカル重合型(Radical Polymerization)のレジストを基板上に塗布し、露光、現像、及び乾燥の工程を三回繰り返して、順次赤色(R)、緑色(G)、青色(B)のカラーフィルター・パターンを形成する。例えば、赤色フィルターについて、アントラキノン系(Anthraquinone)の有機顔料を、緑色、青色フィルターについて、フタロシアニン系(Phthalocyanine)の有機顔料を用いることができる。
有効表示領域41と配線領域411上のカラーフィルターが残され、そのうち、配線領域411上のカラーフィルターは、図4Cに示すカラーフィルター層46となる。例えば、赤、緑、青色のうち、一色のカラーフィルター、或いは、赤、緑、青色のうち、2つ若しくは3つが重畳されたカラーフィルターはカラーフィルター層46となる。いずれのカラーフィルターを選択するかは、そのカラーフィルターの防水効果及び電気特性による。また、リード線結合領域412上のカラーフィルターは製造工程において除去される。
図5Aは、本発明の第3と第4の実施形態に係るTFT液晶表示装置の構造を示す図である。
図5Bは、本発明の第3の実施形態に係るリード線結合領域の図5Aにおける直線YY’に沿った断面図である。
まず、透明なガラス基板52上に複数の薄膜トランジスタ(TFT)からなるTFT・アレイ、金属配線、及びリード線を形成し、これにより、図5Bに示す複数のリード線の凸部58が形成される。このとき、有効表示領域51、配線領域511、及びリード線結合領域512は電気的に接続されている。
以上の工程を完了した後に、カラーフィルターを形成する。
まず、有効表示領域51及びリード線結合領域512に遮光層を形成する。具体的に、スピン・コーティングにより、炭素を含む樹脂類材料を基板上に塗布し、露光、現像、及び乾燥の工程を経て、有効表示領域51内に遮光層以外の領域、及び配線領域511上の遮光層を除去し、図5Bに示す遮光層55を形成する。好ましくは、遮光層55はリード線58より低い。これにより、リード線58がフレキシブル回路基板(FPC:Flexible Printed Circuit Board)と接続するときに、接続不良の問題が生じない。好ましくは、遮光層55の高さは0.5μm〜3μmの範囲にある。
図5Cは、本発明の第4の実施形態に係るリード線結合領域の図5Aにおける直線YY’に沿った断面図である。
まず、透明なガラス基板52上に複数の薄膜トランジスタ(TFT)からなるTFT・アレイ、金属配線、及びリード線を形成し、これにより、図5Cに示す複数のリード線の凸部58が形成される。このとき、有効表示領域51、配線領域511、及びリード線結合領域512は電気的に接続されている。
以上の工程を完了した後に、カラーフィルターを形成する。
まず、有効表示領域51に遮光層を形成する。具体的に、スピン・コーティングにより、炭素を含む樹脂類材料を基板上に塗布し、露光、現像、及び乾燥の工程を経て、有効表示領域51内に遮光層以外の領域、及び配線領域511とリード線結合領域512上の遮光層を除去する。遮光層を形成した後に、カラーフィルターを形成する。
現在一般的に使われているカラーフィルターの形成方法は、顔料分散法(Pigment Dispersion)である。具体的に、有機顔料を分散させるラジカル重合型(Radical Polymerization)のレジストを基板上に塗布し、露光、現像、及び乾燥の工程を三回繰り返して、順次赤色(R)、緑色(G)、青色(B)のカラーフィルター・パターンを形成する。例えば、赤色フィルターについて、アントラキノン系(Anthraquinone)の有機顔料を、緑色、青色フィルターについて、フタロシアニン系(Phthalocyanine)の有機顔料を用いることができる。
有効表示領域51とリード線結合領域512上のカラーフィルターが残され、そのうち、リード線結合領域512上のカラーフィルターは、図5Cに示すカラーフィルター層56となる。例えば、赤、緑、青色のうち、一色のカラーフィルター、或いは、赤、緑、青色のうち、2つ若しくは3つが重畳されたカラーフィルターはカラーフィルター層56となる。いずれのカラーフィルターを選択するかは、そのカラーフィルターの防水効果及び電気特性による。また、配線領域511上のカラーフィルターは製造工程において除去される。
好ましくは、カラーフィルター層56はリード線58より低い。これにより、リード線58がフレキシブル回路基板と接続するときに、接続不良の問題が生じない。好ましくは、カラーフィルター層56の高さは0.5μm〜3μmの範囲にある。
図6Aは、本発明の第5と第6の実施形態に係るTFT液晶表示装置の構造を示す図である。
図6Bは、本発明の第5の実施形態に係る配線領域とリード線結合領域の図6Aにおける直線XX’と直線YY’に沿った断面図である。
まず、透明なガラス基板62上に複数の薄膜トランジスタ(TFT)からなるTFT・アレイ、金属配線、及びリード線を形成し、これにより、図6Bに示す複数の金属配線となる凸部63及びリード線となる凸部68が形成される。このとき、有効表示領域61、配線領域611、及びリード線結合領域612は電気的に接続されている。
金属配線には、例えば、モリブデン(Mo)、アルミニウム(Al)、又は、両者を重ねたものを用いることができる。金属配線の外面に、例えば、スパッタリングにより、インジウムスズ酸化物(ITO)、又は、インジウムジンク酸化物(IZO)64を塗布し、金属の酸化を防ぐ。
以上の工程を完了した後に、カラーフィルターを形成する。
まず、有効表示領域61、配線領域611、及びリード線結合領域612に遮光層を形成する。具体的に、スピン・コーティングにより、炭素を含む樹脂類材料を基板上に塗布し、露光、現像、及び乾燥の工程を経て、有効表示領域61内に遮光層以外の領域の遮光層を除去し、図6Bに示す遮光層65を形成する。
好ましくは、遮光層65の高さは、金属配線63にITO又はIZO64が塗布された後の高さより大きい、リード線68の高さより小さい。これにより、リード線68がフレキシブル回路基板と接続するときに、接続不良の問題が生じず、さらに、金属配線63は遮光層65に被覆され、露出しないので、製品の信頼性が向上する。
図6Cは、本発明の第6の実施形態に係る配線領域とリード線結合領域の図6Aにおける直線XX’と直線YY’に沿った断面図である。
まず、透明なガラス基板62上に複数の薄膜トランジスタ(TFT)からなるTFT・アレイ、金属配線、及びリード線を形成し、これにより、図6Bに示す複数の金属配線となる凸部63及びリード線となる凸部68が形成される。このとき、有効表示領域61、配線領域611、及びリード線結合領域612は電気的に接続されている。
金属配線63には、例えば、モリブデン(Mo)、アルミニウム(Al)、又は、両者を重ねたものを用いることができる。金属配線63の外面に、例えば、スパッタリングにより、インジウムスズ酸化物(ITO)、又は、インジウムジンク酸化物(IZO)64を塗布し、金属の酸化を防ぐ。
以上の工程を完了した後に、カラーフィルターを形成する。
まず、有効表示領域61に遮光層を形成する。具体的に、スピン・コーティングにより、炭素を含む樹脂類材料を基板上に塗布し、露光、現像、及び乾燥の工程を経て、有効表示領域61内に遮光層以外の領域の遮光層、及び配線領域611とリード線結合領域612上の遮光層を除去する。遮光層を形成した後に、カラーフィルターを形成する。
現在一般的に使われているカラーフィルターの形成方法は、顔料分散法(Pigment Dispersion)である。具体的に、有機顔料を分散させるラジカル重合型(Radical Polymerization)のレジストを基板上に塗布し、露光、現像、及び乾燥の工程を三回繰り返して、順次赤色(R)、緑色(G)、青色(B)のカラーフィルター・パターンを形成する。例えば、赤色フィルターについて、アントラキノン系(Anthraquinone)の有機顔料を、緑色、青色フィルターについて、フタロシアニン系(Phthalocyanine)の有機顔料を用いることができる。
配線領域611及びリード線結合領域612上のカラーフィルターが残され、図6Cに示すカラーフィルター層66となる。例えば、赤、緑、青色のうち、一色のカラーフィルター、或いは、赤、緑、青色のうち、2つ若しくは3つが重畳されたカラーフィルターはカラーフィルター層66となる。いずれのカラーフィルターを選択するかは、そのカラーフィルターの防水効果及び電気特性による。また、リード線結合領域412上のカラーフィルターは製造工程において除去される。
好ましくは、カラーフィルター層66の高さは、金属配線63にITO又はIZO64が塗布された後の高さより大きい、リード線68の高さより小さい。これにより、リード線68がフレキシブル回路基板と接続するときに、接続不良の問題が生じず、さらに、金属配線63が遮光層65に被覆され露出しないので、製品の信頼性が向上する。
以上、本発明の好ましい実施形態を説明したが、本発明はこの実施形態に限定されず、本発明の趣旨を離脱しない限り、本発明に対するあらゆる変更は本発明の範囲に属する。
従来通常の技術により製造したTFT液晶表示装置の断面図を示す。 従来、COA技術を用いて製造したTFT液晶表示装置の断面図を示す。 従来、COA技術を用いて製造したTFT液晶表示装置の構造を示す図である。 本発明の第1と第2の実施形態に係るTFT液晶表示装置の構造を示す図である。 本発明の第1の実施形態に係る配線領域の断面図である。 本発明の第2の実施形態に係る配線領域の断面図である。 本発明の第3と第4の実施形態に係るTFT液晶表示装置の構造を示す図である。 本発明の第3の実施形態に係るリード線結合領域の断面図である。 本発明の第4の実施形態に係るリード線結合領域の断面図である。 本発明の第5と第6の実施形態に係るTFT液晶表示装置の構造を示す図である。 本発明の第5の実施形態に係る配線領域とリード線結合領域の断面図である。 本発明の第6の実施形態に係る配線領域とリード線結合領域の断面図である。
符号の説明
11 TFTパネルガラス基板
12 カラーフィルターガラス基板
13、23 液晶
111、211 TFT
112、212 画素電極
113 保護絶縁層
121、213 カラーフィルター
122、214 遮光層
123、221 共同電極
21 下層パネルガラス基板
22 上層パネルガラス基板
31、41、,51,61 有効表示領域
32 遮光層
33、411、511、611 配線領域
34、412、512、612 リード線結合領域
42、52、62 ガラス基板
44,54、64 ITO又はIZO
45、55、65 遮光層
46、56、66 カラーフィルター
58、68 リード線

Claims (10)

  1. カラーフィルターが薄膜トランジスタ・アレイ基板に形成される液晶表示装置であって、
    当該液晶表示装置全体として表示に寄与する領域からなる有効表示領域と、
    前記有効表示領域の周囲に配置される遮光領域と、
    前記遮光領域の一辺と隣接し、複数の金属配線を含み、前記有効表示領域における複数の配線と電気的に接続する配線領域と、
    前記配線領域と隣接し、複数のリード線を含み、前記配線領域における複数の金属配線と電気的に接続するリード線結合領域と、
    前記遮光領域と前記配線領域に形成され、前記遮光領域において光線の漏れを防止し、前記配線領域において前記金属配線の露出を防止する保護層と
    を有する
    液晶表示装置。
  2. 前記保護層は、防水性を有する非導電性の樹脂層からなる
    請求項1に記載の液晶表示装置。
  3. 前記保護層は、前記リード線結合領域にも形成され、前記リード線同士を絶縁し、
    前記樹脂層の厚さは、0.5μm〜3μmの範囲にあり、かつ、前記リード線の高さより小さい
    請求項2に記載の液晶表示装置。
  4. カラーフィルターが薄膜トランジスタ・アレイ基板に形成される液晶表示装置であって、
    当該液晶表示装置全体として表示に寄与する領域からなる有効表示領域と、
    前記有効表示領域の周囲に配置される遮光領域と、
    前記遮光領域の一辺と隣接し、複数の金属配線を含み、前記有効表示領域における複数の配線と電気的に接続する配線領域と、
    前記配線領域と隣接し、複数のリード線を含み、前記配線領域における複数の金属配線と電気的に接続するリード線結合領域と、
    前記有効表示領域と前記配線領域に形成され、前記配線領域において前記金属配線の露出を防止するカラーフィルター層と
    を有する
    液晶表示装置。
  5. 前記カラーフィルター層は、前記リード線結合領域にも形成され、前記リード線同士を絶縁する
    請求項4に記載の液晶表示装置。
  6. 前記有効表示領域或いは前記リード線結合領域に形成された前記カラーフィルター層は、赤色フィルター層、緑色フィルター層、及び青色フィルター層のいずれか、又は、これらの組み合わせからなり、
    前記カラーフィルター層の厚さは、0.5μm〜3μmの範囲にあり、かつ、前記リード線の高さより小さい
    請求項5に記載の液晶表示装置。
  7. カラーフィルターが薄膜トランジスタ・アレイ基板に形成される液晶表示装置であって、
    当該液晶表示装置全体として表示に寄与する領域からなる有効表示領域と、
    前記有効表示領域の周囲に配置される遮光領域と、
    前記遮光領域の一辺と隣接し、複数の金属配線を含み、前記有効表示領域における複数の配線と電気的に接続する配線領域と、
    前記配線領域と隣接し、複数のリード線を含み、前記配線領域における複数の金属配線と電気的に接続するリード線結合領域と、
    前記遮光領域と前記リード線結合領域に形成され、前記遮光領域において光線の漏れを防止し、前記リード線結合領域において前記リード配線同士を絶縁する保護層と
    を有する
    液晶表示装置。
  8. 前記保護層は、防水性を有する非導電性の樹脂層からなり、
    前記樹脂層の厚さは、0.5μm〜3μmの範囲にあり、かつ、前記リード線の高さより小さい
    請求項7に記載の液晶表示装置。
  9. カラーフィルターが薄膜トランジスタ・アレイ基板に形成される液晶表示装置であって、
    当該液晶表示装置全体として表示に寄与する領域からなる有効表示領域と、
    前記有効表示領域の周囲に配置される遮光領域と、
    前記遮光領域の一辺と隣接し、複数の金属配線を含み、前記有効表示領域における複数の配線と電気的に接続する配線領域と、
    前記配線領域と隣接し、複数のリード線を含み、前記配線領域における複数の金属配線と電気的に接続するリード線結合領域と、
    前記有効表示領域と前記リード線結合領域に形成され、前記リード線結合領域において前記リード配線同士を絶縁するカラーフィルター層と
    を有する
    液晶表示装置。
  10. 前記リード線結合領域に形成された前記カラーフィルター層は、赤色フィルター層、緑色フィルター層、及び青色フィルター層のいずれか、又は、これらの組み合わせからなり、
    前記カラーフィルター層の厚さは、0.5μm〜3μmの範囲にあり、かつ、前記リード線の高さより小さい
    請求項9に記載の液晶表示装置。
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