CN103472641B - 一种阵列基板、其制备方法、液晶显示面板及显示装置 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种阵列基板、其制备方法、液晶显示面板及显示装置，该阵列基板分为显示区域和非显示区域，其中，在显示区域内设置有数据信号线，在非显示区域内设置有接线端子衬垫以及连接接线端子衬垫与数据信号线的金属走线；在金属走线的上方设置有覆盖金属走线的遮挡部。本发明实施例提供的上述阵列基板，由于在金属走线的上方设置有覆盖金属走线的遮挡部，该遮挡部可以阻挡外物与金属走线接触，与现有的阵列基板相比，可以防止在切割工艺中切割碎屑刮伤金属走线，还可以阻挡粉尘等外物与金属走线接触、防止金属走线被腐蚀，从而可以避免由于金属走线被损坏而造成的产品报废，降低了制作成本。

Description

一种阵列基板、其制备方法、液晶显示面板及显示装置
技术领域
本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种阵列基板、其制备方法、液晶显示面板及显示装置。
背景技术
液晶显示面板主要由阵列基板、对向基板以及位于阵列基板和对向基板之间的液晶分子组成。其中，如图1a所示，在阵列基板1的显示区域A内设置有数据信号线2和栅极信号线（图1a中未示出），在阵列基板1的非显示区域B内设置有接线端子衬垫3以及连接接线端子衬垫3与数据信号线2的金属走线4。
在液晶显示面板的制作过程中，需要将阵列基板和对向基板对盒后进行切割。在切割时，如图1b所示，由于金属走线4具有一定的厚度而在阵列基板1上是呈突起态，因此在切割刀头5切割时，切割碎屑6不可避免的会掉在阵列基板1的金属走线4上，从而很容易对金属走线4造成刮伤而使金属走线4断裂，从而使金属走线4将不能传输电信号。而该切割工艺一般是在液晶显示面板制造的末期进行的，一旦金属走线4被割断，整个液晶显示面板都将报废，极大的增加了液晶显示面板的制作成本。并且，尽管在现有技术中，金属走线4上一般还会覆盖有绝缘材料，但是由于绝缘材料的硬度比较低，切割碎屑对金属走线造成刮伤的几率还是很大。
发明内容
本发明实施例提供了一种阵列基板、其制备方法、液晶显示面板及显示装置，用以解决在切割工艺过程中，切割碎屑刮伤阵列基板上的金属走线的问题。
基于此，本发明实施例提供了一种阵列基板，分为显示区域和非显示区域，其中，在所述显示区域内设置有数据信号线，在所述非显示区域内设置有接线端子衬垫以及连接所述接线端子衬垫与所述数据信号线的金属走线；
在所述金属走线的上方设置有覆盖所述金属走线的遮挡部。
本发明实施例提供的上述阵列基板，由于在金属走线的上方设置有覆盖金属走线的遮挡部，该遮挡部可以阻挡外物与金属走线接触，与现有的阵列基板相比，可以防止在切割工艺中切割碎屑刮伤金属走线，还可以阻挡粉尘等外物与金属走线接触、防止金属走线被腐蚀，从而可以避免由于金属走线被损坏而造成的产品报废，降低了制作成本。
较佳地，为了便于实施，在本发明实施例提供的上述阵列基板中，所述遮挡部为多个，所述遮挡部与所述金属走线一一对应，且各所述遮挡部之间相互绝缘。
或者，较佳地，为了便于实施，在本发明实施例提供的上述阵列基板中，所述遮挡部为一个，且所述遮挡部与各所述金属走线之间相互绝缘。
较佳地，为了节省生产成本，提高生产效率，在本发明实施例提供的上述阵列基板中，还包括：位于所述数据信号线上方的像素电极，所述遮挡部设置为与所述像素电极同层同材质。
较佳地，为了便于实施，本发明实施例提供的上述阵列基板，遮挡部的材料为铟锡氧化物材料。铟锡氧化物材料不仅具有一定的硬度，可以实现阻挡外物与金属走线接触，且为制备阵列基板所需的常用材料。
较佳地，本发明实施例提供的上述阵列基板，还包括：位于所述金属走线下方，与所述金属走线电性相连的备用线。设置备用线可以起到预联通的作用，即当金属走线由于断裂而不能起到传输电信号的作用时，备用线可以代替金属走线起传输电信号的作用。
较佳地，为了便于实施，在本发明实施例提供的上述阵列基板中，还包括：位于所述显示区域的栅极信号线，所述金属走线设置为与所述栅极信号线同层同材质。
较佳地，为了节省生产成本，提高生产效率，本发明实施例提供的上述阵列基板，还包括：位于所述栅极信号线下方的公共电极，所述备用线设置为与所述公共电极同层同材质。
较佳地，为了便于实施，在本发明实施例提供的上述阵列基板中，所述备用线的材料为铟锡氧化物材料。铟锡氧化物材料不仅可以传输电信号，且为制备阵列基板所需的常用材料。
本发明实施例还提供了一种液晶显示面板，包括本发明实施例提供的阵列基板。
本发明实施例还提供了一种显示装置，包括本发明实施例提供的液晶显示面板。
本发明实施例还提供了一种阵列基板的制备方法，包括：
在衬底基板上形成位于阵列基板的显示区域内的数据信号线的图形、位于阵列基板的非显示区域内的接线端子衬垫以及金属走线的图形；所述金属走线连接所述接线端子衬垫和所述数据信号线；
在所述金属走线的上方形成覆盖所述金属走线的遮挡部的图形。
本发明实施例提供的上述阵列基板的制备方法，由于在金属走线的上方设置有覆盖金属走线的遮挡部，该遮挡部可以阻挡外物与金属走线接触，可以防止在切割工艺中切割碎屑刮伤金属走线，还可以阻挡粉尘等外物与金属走线接触、防止金属走线被腐蚀，从而可以避免由于金属走线被损坏而造成的产品报废，降低了制作成本。
较佳地，为了便于实施，在本发明实施例提供的上述阵列基板的制备方法中，所述遮挡部为多个，所述遮挡部与所述金属走线一一对应，且各所述遮挡部之间相互绝缘。
或者，较佳地，为了便于实施，在本发明实施例提供的上述阵列基板的制备方法中，所述遮挡部为一个；
所述在所述金属走线的上方形成覆盖所述金属走线的遮挡部的图形之前，还包括：
在所述金属走线上形成绝缘层，所述遮挡部通过所述绝缘层与各所述金属走线绝缘。
较佳地，为了节省生产成本，提高生产效率，在本发明实施例提供的上述阵列基板的制备方法中，所述在所述金属走线的上方形成覆盖所述金属走线的遮挡部的图形，具体包括：
在所述金属走线的上方形成像素电极的薄膜；
通过一次构图工艺在所述像素电极的薄膜中形成包含像素电极和遮挡部的图形。
较佳地，为了预防金属走线断裂后不能传输电信号，在本发明实施例提供的上述阵列基板的制备方法中，在形成金属走线的图形之前，还包括：
形成备用线的图形，所述备用线与将要形成的金属走线电性相连。
较佳地，为了便于实施，在本发明实施例提供的上述阵列基板的制备方法中，所述形成金属走线的图形，具体包括：
在衬底基板上形成栅极信号线的薄膜；
通过一次构图工艺在所述栅极信号线的薄膜中形成包含栅极信号线和金属走线的图形。
较佳地，为了节省生产成本，提高生产效率，在本发明实施例提供的上述阵列基板的制备方法中，形成备用线的图形，具体包括：
在衬底基板上形成公共电极的薄膜；
通过一次构图工艺在所述公共电极的薄膜中形成包含公共电极和备用线的图形。
附图说明
图1a为现有技术中阵列基板中数据信号线以及金属走线的布线示意图；
图1b为现有技术中液晶显示面板的切割示意图；
图2a为本发明实施例提供的阵列基板中数据信号线以及金属走线的布线示意图之一；
图2b为本发明实施例提供的阵列基板中数据信号线以及金属走线的布线示意图之二；
图3为本发明实施例提供的阵列基板的结构示意图之一；
图4为本发明实施例提供的阵列基板中数据信号线以及金属走线的布线示意图之三；
图5为本发明实施例提供的阵列基板的结构示意图之二。
具体实施方式
下面结合附图，对本发明实施例提供的阵列基板、其制备方法、液晶显示面板及显示装置的具体实施方式进行详细地说明。
附图中各部件的大小和形状不反映阵列基板的真实比例，目的只是示意说明本发明内容。
本发明实施例提供的一种阵列基板，如图2a和图2b所示，阵列基板分为显示区域A和非显示区域B，其中，在显示区域A内设置有数据信号线01，在非显示区域B内设置有接线端子衬垫02以及连接接线端子衬垫02与数据信号线01的金属走线03；
在金属走线03的上方设置有覆盖金属走线的遮挡部04，如图3和图4所示，遮挡部可以阻挡外物与金属走线接触。
本发明实施例提供的上述阵列基板，由于在金属走线的上方设置有覆盖金属走线的遮挡部，该遮挡部可以阻挡外物与金属走线接触，与现有的阵列基板相比，可以防止在切割工艺中切割碎屑刮伤金属走线，还可以阻挡粉尘等外物与金属走线接触、防止金属走线被腐蚀，从而可以避免由于金属走线被损坏而造成的产品报废，降低了制作成本。
较佳地，在本发明实施例提供的上述阵列基板中，如图2a所示，该遮挡部04可以为多个，遮挡部04与金属走线03一一对应，且各遮挡部04之间相互绝缘。在具体实施时，各遮挡部可以同层设置。
进一步地，在具体实施时，在本发明实施例提供的上述阵列基板中，为了保证遮挡部能够起到较好的遮挡作用，各遮挡部的宽度应该略大于金属走线的宽度，当然，各遮挡部的宽度也可以为与金属走线同宽，在此不做限定。
或者，较佳地，在本发明实施例提供的上述阵列基板中，如图2b所示，遮挡部04也可以为一个，且遮挡部04与各金属走线03之间相互绝缘。
较佳地，本发明实施例提供的上述阵列基板，遮挡部的材料可以为铟锡氧化物（ITO）材料。ITO材料不仅具有一定的硬度，可以实现阻挡外物与金属走线接触，且为制备阵列基板所需的常用材料。当然，遮挡部的材料也可以为实现本发明方案的其他材料，在此不做限定。
较佳地，本发明实施例提供的上述阵列基板，还包括：位于数据信号线上方的像素电极，该遮挡部可以设置为与像素电极同层同材质。具体地，在具体实施时，将遮挡部设置为与像素电极同层同材质，在制备时，可以将遮挡部与像素电极同层制备，这样不用增加新的制备工艺，仅需变更对应的膜层的构图即可实现，简化了工艺步骤，节省了生产成本，提高了生产效率。
较佳地，在本发明实施例提供的上述阵列基板中，如图3所示，还包括：位于金属走线03下方，与金属走线03电性相连的备用线05。设置备用线可以起到预联通的作用，即当金属走线由于断裂而不能起到传输电信号的作用时，备用线可以代替金属走线起传输电信号的作用。
具体地，本发明实施例提供的上述阵列基板中，金属走线可以采用和数据信号线同层设置，即金属走线直接与数据信号线相连的方式，这样，在以ADS模式的显示装置的阵列基板的工艺流程为例，为了简化阵列基板制备的工艺流程，降低阵列基板的制备成本，其制备工艺流程一般为：①制备公共电极，②形成栅极信号线，③在栅极信号线上形成第一绝缘层、半导体层、数据金属层，然后通过构图工艺形成数据信号线以及与数据信号线连接金属走线，④在数据信号线以及金属走线上制备第二绝缘层，⑤在第二绝缘层上形成像素电极。
上述工艺流程中，半导体层和数据金属层通过一次光刻工序形成显示区域内的数据信号线、以及与数据信号线相连的金属走线；但是，制备第一绝缘层、半导体层以及数据金属层的光刻工序中采用干法刻蚀工艺进行刻蚀，由于干法刻蚀工艺的刻蚀方向的问题，位于数据金属层下方的半导体层干法刻蚀之后会有部分的残留，得到的金属走线宽度较大，进而导致金属走线布线时占用的空间较大，不利于实现显示装置的窄边框设计。
而本发明实施例提供的上述阵列基板中，可以采用将金属走线设置成与位于显示区域的栅极信号线同层同材质的方式，即采用湿法刻蚀工艺在栅极金属层同时制备出金属走线和栅极信号线的方式，避免了干法刻蚀工艺的刻蚀方向的问题，有利于减小各金属走线的宽度以及相邻金属走线之间的间隙，便于显示面板的窄边框设计。
进一步地，在本发明提供的上述阵列基板中，在将栅极信号线设置为与金属走线同层同材质时，金属走线与数据信号线之间的连接可以通过多种方式实现，可以直接通过过孔连接。当然，如图4所示，金属走线03与数据信号线01之间还可以通过一条连接线06电性连接；其中，如图5所示，金属走线03与数据信号线01之间具有第一绝缘层07，数据信号线01与连接线06之间具有第二绝缘层08，第一绝缘层07和第二绝缘层08上具有与金属走线03一一对应的第一过孔031，第二绝缘层08上具有与数据信号线01一一对应的第二过孔011；每一条连接线06通过第一过孔031与金属走线03电性连接，通过第二过孔011与数据信号线01电性连接。最终实现金属走线03与数据信号线01之间的连接。较佳地，在具体实施时，连接线的材料可以为ITO材料。
较佳地，为了减小阵列基板的厚度，并简化制作工艺，在本发明实施例提供的上述阵列基板中，连接线和遮挡部以及像素电极三者可以设置为同层同材料。
较佳地，在本发明实施例提供的上述阵列基板中，备用线的材料可以为铟锡氧化物（ITO）材料。由于ITO材料的不仅可以传输电信号，且为制备阵列基板所需的常用材料。当然，备用线的材料也可以为实现本发明方案的其他材料，在此不做限定。
进一步地，在本发明实施例提供的上述阵列基板中，备用线的宽度可以与金属走线同宽，也可以比金属走线宽，当然还可以比金属走线窄，在此不做限定，较佳地，备用线的宽度与金属走线同宽。
较佳地，本发明实施例提供的上述阵列基板为应用于ADS模式的显示装置的阵列基板时，该阵列基板中，还包括：位于栅极信号线下方的公共电极，备用线可以设置为与公共电极同层同材质。具体地，在具体实施时，将备用线设置为与公共电极同层同材质，在制备时，可以将备用线与公共电极同层制备，这样不用增加新的制备工艺，仅需变更对应的膜层的构图即可实现，简化了工艺步骤，节省了生产成本，提高了生产效率。
具体地，本发明实施提供的上述阵列基板可以应用于液晶显示（LiquidCrystalDisplay，LCD）面板，当然也可以应用于有机发光二极管（OrganicLightEmittingDiode，OLED）显示面板，在此不做限定。
基于同一发明构思，本发明实施例还提供了一种液晶显示面板，包括本发明实施例提供的上述阵列基板。对于液晶显示面板的其它必不可少的组成部分均为本领域的普通技术人员应该理解具有的，在此不做赘述，也不应作为对本发明的限制。该液晶显示面板的实施可以参见上述阵列基板的实施例，重复之处不再赘述。
基于同一发明构思，本发明实施例还提供了一种显示装置，包括本发明实施例提供的上述液晶显示面板，该显示装置可以为：手机、平板电脑、电视机、显示器、笔记本电脑、数码相框、导航仪等任何具有显示功能的产品或部件。该显示装置的实施可以参见上述液晶显示面板的实施例，重复之处不再赘述。
基于同一发明构思，本发明实施例还提供了一种阵列基板的制备方法，包括：
在衬底基板上形成位于阵列基板的显示区域内的数据信号线的图形、位于阵列基板的非显示区域内的接线端子衬垫以及金属走线的图形；金属走线连接接线端子衬垫和数据信号线；
在金属走线的上方形成覆盖金属走线的遮挡部的图形，该遮挡部可以阻挡外物与金属走线接触。
本发明实施例提供的上述阵列基板的制备方法，由于在金属走线的上方设置有覆盖金属走线的遮挡部，该遮挡部可以阻挡外物与金属走线接触，与现有的阵列基板的制备方法所制备的阵列基板相比，可以防止在切割工艺中切割碎屑刮伤金属走线，还可以阻挡粉尘等外物与金属走线接触、防止金属走线被腐蚀，从而可以避免由于金属走线被损坏而造成的产品报废，降低了制作成本。
较佳地，为了便于实施，在本发明实施例提供的上述阵列基板的制备方法中，遮挡部为多个，遮挡部与金属走线一一对应，且遮挡部之间相互绝缘。
进一步地，在具体实施时，在本发明提供的上述阵列基板中，为了保证遮挡部能够起到较好的遮挡作用，各遮挡部的宽度应该略大于金属走线的宽度，当然，各遮挡部的宽度也可以为与金属走线同宽，在此不做限定。
或者，较佳地，为了便于实施，在本发明实施例提供的上述阵列基板的制备方法中，遮挡部为一个；
在金属走线的上方形成覆盖金属走线的遮挡部的图形之前，还可以包括：
在金属走线上形成绝缘层，遮挡部通过绝缘层与各金属走线绝缘。
较佳地，为了节省生产成本，提高生产效率，在本发明实施例提供的上述阵列基板的制备方法中，在金属走线的上方形成覆盖金属走线的遮挡部的图形，具体可以包括：
在金属走线的上方形成像素电极的薄膜；
通过一次构图工艺在像素电极的薄膜中形成包含像素电极和遮挡部的图形。当然，在具体实施时，可以开分制备像素电极和遮挡部的图形，在此不做限定。
较佳地，为了预防金属走线断裂后不能传输电信号，在本发明实施例提供的上述阵列基板的制备方法中，在形成金属走线的图形之前，还可以包括：
形成备用线的图形，备用线与将要形成的金属走线电性相连。由于该备用线与金属走线电性相连，所以备用线可以起到预联通的作用，即当金属走线由于断裂而不能起到传输电信号的作用时，备用线可以代替金属走线起传输电信号的作用。
较佳地，为了便于实施，在本发明实施例提供的上述阵列基板的制备方法中，形成金属走线的图形，具体包括：
在衬底基板上形成栅极信号线的薄膜；
通过一次构图工艺在栅极信号线的薄膜中形成包含栅极信号线和金属走线的图形。当然，在具体实施时，可以分开制备栅极信号线和金属走线的图形，在此不做限定。
较佳地，为了节省生产成本，提高生产效率，在本发明实施例提供的上述阵列基板的制备方法中，形成备用线的图形，具体包括：
在衬底基板上形成公共电极的薄膜；
通过一次构图工艺在公共电极的薄膜中形成包含公共电极和备用线的图形。当然，在具体实施时，可以分开制备公共电极和备用线的图形，在此不做限定。
本发明实施例提供的一种阵列基板、其制备方法、液晶显示面板及显示装置。该阵列基板分为显示区域和非显示区域，其中，在显示区域内设置有数据信号线，在非显示区域内设置有接线端子衬垫以及连接接线端子衬垫与数据信号线的金属走线；在金属走线的上方设置有覆盖金属走线的遮挡部。本发明实施例提供的上述阵列基板，由于在金属走线的上方设置有覆盖金属走线的遮挡部，该遮挡部可以阻挡外物与金属走线接触，与现有的阵列基板相比，可以防止在切割工艺中切割碎屑刮伤金属走线，还可以阻挡粉尘等外物与金属走线接触、防止金属走线被腐蚀，从而可以避免由于金属走线被损坏而造成的产品报废，降低了制作成本。
显然，本领域的技术人员可以对本发明进行各种改动和变型而不脱离本发明的精神和范围。这样，倘若本发明的这些修改和变型属于本发明权利要求及其等同技术的范围之内，则本发明也意图包含这些改动和变型在内。

Claims (16)

1.一种阵列基板，分为显示区域和非显示区域，其中，在所述显示区域内设置有数据信号线，在所述非显示区域内设置有接线端子衬垫以及连接所述接线端子衬垫与所述数据信号线的金属走线，其特征在于：
在所述金属走线的上方设置有覆盖所述金属走线的遮挡部；
还包括：位于所述显示区域的栅极信号线，所述金属走线设置为与所述栅极信号线同层同材质。
2.如权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述遮挡部为多个，所述遮挡部与所述金属走线一一对应，且各所述遮挡部之间相互绝缘。
3.如权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述遮挡部为一个，且所述遮挡部与各所述金属走线之间相互绝缘。
4.如权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，还包括：位于所述数据信号线上方的像素电极，所述遮挡部设置为与所述像素电极同层同材质。
5.如权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述遮挡部的材料为铟锡氧化物材料。
6.如权利要求1-5任一项所述的阵列基板，其特征在于，还包括：位于所述金属走线下方，与所述金属走线电性相连的备用线。
7.如权利要求6所述的阵列基板，其特征在于，还包括：位于所述栅极信号线下方的公共电极，所述备用线设置为与所述公共电极同层同材质。
8.如权利要求6所述的阵列基板，其特征在于，所述备用线的材料为铟锡氧化物材料。
9.一种液晶显示面板，其特征在于，包括如权利要求1-8任一项所述的阵列基板。
10.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求9所述的液晶显示面板。
11.一种阵列基板的制备方法，其特征在于，包括：
在衬底基板上形成位于阵列基板的显示区域内的数据信号线的图形、位于阵列基板的非显示区域内的接线端子衬垫以及金属走线的图形；所述金属走线连接所述接线端子衬垫和所述数据信号线；
在所述金属走线的上方形成覆盖所述金属走线的遮挡部的图形；
所述形成金属走线的图形，具体包括：
在衬底基板上形成栅极信号线的薄膜；
通过一次构图工艺在所述栅极信号线的薄膜中形成包含栅极信号线和金属走线的图形。
12.如权利要求11所述的制备方法，其特征在于，
所述遮挡部为多个，所述遮挡部与所述金属走线一一对应，且各所述遮挡部之间相互绝缘。
13.如权利要求11所述的制备方法，其特征在于，所述遮挡部为一个；
所述在所述金属走线的上方形成覆盖所述金属走线的遮挡部的图形之前，还包括：
在所述金属走线上形成绝缘层，所述遮挡部通过所述绝缘层与各所述金属走线绝缘。
14.如权利要求11所述的制备方法，其特征在于，所述在所述金属走线的上方形成覆盖所述金属走线的遮挡部的图形，具体包括：
在所述金属走线的上方形成像素电极的薄膜；
通过一次构图工艺在所述像素电极的薄膜中形成包含像素电极和遮挡部的图形。
15.如权利要求11-14任一项所述的制备方法，在其特征在于，在形成金属走线的图形之前，还包括：
形成备用线的图形，所述备用线与将要形成的金属走线电性相连。
16.如权利要求11所述的制备方法，其特征在于，形成备用线的图形，具体包括：
在衬底基板上形成公共电极的薄膜；
通过一次构图工艺在所述公共电极的薄膜中形成包含公共电极和备用线的图形。
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