JP2005070775A - 液晶表示装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】金属配線が露出せず、製品の信頼性が向上された液晶表示装置を提供する
【解決手段】
Ｒ，Ｇ，Ｂのカラーフィルター又は遮光層樹脂をガラス基板に形成するときは、配線領域及びリード線結合領域におけるリード線以外の領域を被覆し、金属配線の露出を防止し、リード線同士の絶縁性を改善することにより、製品の信頼性を向上する。
【選択図】 図４Ｂ
【解決手段】
Ｒ，Ｇ，Ｂのカラーフィルター又は遮光層樹脂をガラス基板に形成するときは、配線領域及びリード線結合領域におけるリード線以外の領域を被覆し、金属配線の露出を防止し、リード線同士の絶縁性を改善することにより、製品の信頼性を向上する。
【選択図】 図４Ｂ
Description
本発明は液晶表示装置に関し、特に、カラーフィルターを薄膜トランジスタ上に設けた構成（ＣＯＡ：Ｃｏｌｏｒ Ｆｉｌｔｅｒ Ａｒｒａｙ）の液晶表示装置に関する。
従来は、通常、薄膜トランジスタ液晶表示装置（ＴＦＴ−ＬＣＤ：Ｔｈｉｎ Ｆｉｌｍ Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ Ｌｉｑｕｉｄ Ｃｒｙｓｔａｌ Ｄｉｓｐｌａｙ）の表示パネルは、一枚のＴＦＴパネルのガラス基板と一枚のカラーフィルターのガラス基板とを貼り合わせ、その間に液晶を注入して形成される。より新しい液晶表示装置製造技術として、ＣＯＡ技術が採用されている。即ち、ＴＦＴパネルのガラス基板上にＴＦＴ・アレイを形成した後に、カラーフィルターをＴＦＴ・アレイ上に形成する。ＣＯＡ技術により、ＴＦＴの開口率が増大し、ＴＦＴパネルの輝度が有効に向上される。ＴＦＴパネルガラス基板とカラーフィルターガラス基板とを貼り合わせる従来の技術の場合は、液晶を注入する時に、二枚のガラス基板を精確に位置合わせする必要がある。また、液晶を注入するために、二枚のガラス基板の間に３−４μｍの均一な間隔を残しておく必要がある。これらの中間工程は、ＴＦＴパネルの製造工程において最も歩留まりの低い工程である。これらの工程で生じる損失を回避できれば、ＴＦＴパネル製造工程の全体的な歩留まりを向上し、コストを削減することができる。
図１は、従来通常の技術により製造したＴＦＴ液晶表示装置（ＴＦＴ−ＬＣＤ）の断面図を示す。
図１において、ＴＦＴパネルガラス基板１１とカラーフィルターガラス基板１２とは貼り合わせられている。ＴＦＴパネルガラス基板１１上に複数のＴＦＴ１１１が設けられ、各ＴＦＴ１１１は、その上の一つの画素電極１１２に対応し、ＴＦＴ１１１と画素電極１１２の間に、透明な保護絶縁層１１３が配置されている。
カラーフィルターガラス基板１２上に、複数の赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）のカラーフィルター１２１が配置され、隣接するカラーフィルター１２１は遮光層１２２（ＢＭ）により隔離され、光線の漏れを防ぐ。カラーフィルター１２１上に、透明な共同電極１２３が設けられている。液晶層１３がＴＦＴパネルガラス基板１１とカラーフィルターガラス基板１２との間に注入される。
図２は、従来、ＣＯＡ技術を用いて製造したＴＦＴ液晶表示装置（ＴＦＴ−ＬＣＤ）の断面図を示す。
図２において、下層パネルガラス基板２１と上層パネルガラス基板２２とを貼り合わせられている。下層パネルガラス基板２１上に複数のＴＦＴ２１１が設けられ、各ＴＦＴ２１１は、その上の一つの画素電極２１２と対応し、ＴＦＴ２１１と画素電極２１２の間に、複数の赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）のカラーフィルター２１３が配置され、隣接するカラーフィルター２１３は遮光層２１４（ＢＭ）により隔離され、光線の漏れを防ぐ。
上層パネルガラス基板２２上に、透明な共同電極２２１が設けられている。液晶層２３が下層パネルガラス基板２１と上層パネルガラス基板２２との間に注入される。
図３は、従来、ＣＯＡ技術を用いて製造したＴＦＴ液晶表示装置の構造を示す図である。
図３において、有効表示領域３１の外側に遮光層３２を有し、遮光層３２は、配線領域３３に隣接し、配線領域３３は、リード線結合（Ｏｕｔｅｒ Ｌｅａｄ Ｂｏｎｄｉｎｇ）領域３４に隣接する。有効表示領域３１、配線領域３３、及びリード線結合領域３４は、電気的に接続されている。
以上の構成において、金属配線は、有効表示領域３１において保護層により保護されているが、配線領域３３とリード線結合領域３４において、なんら保護を受けておらず、水分が付着しやすく、製品の信頼性に問題がある。
本発明は、上記の問題に鑑みてなされ、その第１の目的は、金属配線が被覆され露出しない構成により、製品の信頼性が向上された液晶表示装置を提供することにある。
本発明の第２の目的は、リード線同士の絶縁性を改善することにより、製品の信頼性が向上された液晶表示装置を提供することにある。
本発明の第３の目的は、金属配線が被覆され露出しない構成ことにより、かつ、リード線同士の絶縁性を改善することにより、製品の信頼性が向上された液晶表示装置を提供することにある。
以上の目的を達成するために、本発明の液晶表示装置は、カラーフィルターが薄膜トランジスタ・アレイ基板に形成される液晶表示装置であって、有効表示領域と、前記有効表示領域と隣接する遮光領域と、前記遮光領域と隣接し、複数の金属配線を含み、前記有効表示領域と電気的に接続する配線領域と、前記配線領域と隣接し、複数のリード線を含み、前記有効表示領域と電気的に接続するリード線結合領域と、前記遮光領域と前記配線領域に形成され、前記遮光領域において光線の漏れを防止し、前記配線領域において前記金属配線の露出を防止する保護層とを有する。
好適に、前記保護層は、防水性を有する非導電性の樹脂層からなる。前記保護層は、前記リード線結合領域にも形成され、前記リード線同士を絶縁する。前記樹脂層の厚さは、０．５μｍ〜３μｍの範囲にあり、かつ、前記リード線の高さより小さい。
好ましくは、前記金属配線に、モリブデン（Ｍｏ）、アルミニウム（Ａｌ）、又は、両者を重ねたものを用いる。また、金属配線の外面に、スパッタリングにより、インジウムスズ酸化物（ＩＴＯ：Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ）、又は、インジウムジンク酸化物（ＩＺＯ：Ｉｎｄｉｕｍ Ｚｉｎｃ Ｏｘｉｄｅ）を塗布し、金属の酸化を防ぐ。
以上の目的を達成するために、本発明の液晶表示装置は、カラーフィルターが薄膜トランジスタ・アレイ基板に形成される液晶表示装置であって、有効表示領域と、前記有効表示領域と隣接する遮光領域と、前記遮光領域と隣接し、複数の金属配線を含み、前記有効表示領域と電気的に接続する配線領域と、前記配線領域と隣接し、複数のリード線を含み、前記有効表示領域と電気的に接続するリード線結合領域と、前記有効表示領域と前記配線領域に形成され、前記配線領域において前記金属配線の露出を防止するカラーフィルター層とを有する。
好適に、前記カラーフィルター層は、前記リード線結合領域にも形成され、前記リード線同士を絶縁する。
好適に、前記有効表示領域或いは前記リード線結合領域に形成された前記カラーフィルター層は、赤色フィルター層、緑色フィルター層、及び青色フィルター層のいずれか、又は、これらの組み合わせからなり、前記カラーフィルター層の厚さは、０．５μｍ〜３μｍの範囲にあり、かつ、前記リード線の高さより小さい。
好ましくは、前記金属配線に、モリブデン（Ｍｏ）、アルミニウム（Ａｌ）、又は、両者を重ねたものを用いる。また、金属配線の外面に、スパッタリングにより、インジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）、又は、インジウムジンク酸化物（ＩＺＯ）を塗布し、金属の酸化を防ぐ。
以上の目的を達成するために、本発明の液晶表示装置は、カラーフィルターが薄膜トランジスタ・アレイ基板に形成される液晶表示装置であって、有効表示領域と、前記有効表示領域と隣接する遮光領域と、前記遮光領域と隣接し、複数の金属配線を含み、前記有効表示領域と電気的に接続する配線領域と、前記配線領域と隣接し、複数のリード線を含み、前記有効表示領域と電気的に接続するリード線結合領域と、前記遮光領域と前記リード線結合領域に形成され、前記遮光領域において光線の漏れを防止し、前記リード線結合領域において前記リード配線同士を絶縁する保護層とを有する。
好適に、前記保護層は、防水性を有する非導電性の樹脂層からなり、前記樹脂層の厚さは、０．５μｍ〜３μｍの範囲にあり、かつ、前記リード線の高さより小さい。
以上の目的を達成するために、本発明の液晶表示装置は、カラーフィルターが薄膜トランジスタ・アレイ基板に形成される液晶表示装置であって、有効表示領域と、前記有効表示領域と隣接する遮光領域と、前記遮光領域と隣接し、複数の金属配線を含み、前記有効表示領域と電気的に接続する配線領域と、前記配線領域と隣接し、複数のリード線を含み、前記有効表示領域と電気的に接続するリード線結合領域と、前記有効表示領域と前記リード線結合領域に形成され、前記リード線結合領域において前記リード配線同士を絶縁するカラーフィルター層とを有する。
好適に、前記リード線結合領域に形成された前記カラーフィルター層は、赤色フィルター層、緑色フィルター層、及び青色フィルター層のいずれか、又は、これらの組み合わせからなり、前記カラーフィルター層の厚さは、０．５μｍ〜３μｍの範囲にあり、かつ、前記リード線の高さより小さい。
次に、添付した図面を参照しながら、本発明の実施形態を説明する。なお、本発明は以下の実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を離脱しない限り、本発明に対するあらゆる変更は本発明の範囲に属する。
図４Ａは、本発明の第１と第２の実施形態に係るＴＦＴ液晶表示装置の構造を示す図である。
図４Ｂは、本発明の第１の実施形態に係る配線領域の図４Ａにおける直線ＸＸ’に沿った断面図である。
まず、透明なガラス基板４２上に複数の薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）からなるＴＦＴ・アレイ、金属配線、及びリード線を形成し、これにより、図４Ｂに示す複数の金属配線となる凸部４３が形成される。このとき、有効表示領域４１、配線領域４１１、及びリード線結合領域４１２は電気的に接続されている。
金属配線には、例えば、モリブデン（Ｍｏ）、アルミニウム（Ａｌ）、又は、両者を重ねたものを用いることができる。金属配線の外面に、例えば、スパッタリングにより、インジウムスズ酸化物（ＩＴＯ：Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ）、又は、インジウムジンク酸化物（ＩＺＯ：Ｉｎｄｉｕｍ Ｚｉｎｃ Ｏｘｉｄｅ）４４を塗布し、金属の酸化を防ぐ。
以上の工程を完了した後に、カラーフィルターを形成する。
まず、有効表示領域４１及び配線領域４１１に遮光層を形成する。具体的に、スピン・コーティングにより、炭素を含む樹脂類材料を基板上に塗布し、露光、現像、及び乾燥の工程を経て、有効表示領域４１内に遮光層以外の領域、及びリード線結合領域４１２上の遮光層を除去し、図４Ｂに示す遮光層４５を形成する。遮光層４５は、金属配線４３を被覆し、金属配線４３が露出しないので、製品の信頼性が向上する。
図４Ｃは、本発明の第２の実施形態に係る配線領域の図４Ａにおける直線ＸＸ’に沿った断面図である。
まず、透明なガラス基板４２上に複数の薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）からなるＴＦＴ・アレイ、金属配線、及びリード線を形成し、これにより、図４Ｃに示す複数の金属配線となる凸部４３が形成される。このとき、有効表示領域４１、配線領域４１１、及びリード線結合領域４１２は電気的に接続されている。
金属配線には、例えば、モリブデン（Ｍｏ）、アルミニウム（Ａｌ）、又は、両者を重ねたものを用いることができる。金属配線の外面に、例えば、スパッタリングにより、インジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）、又は、インジウムジンク酸化物（ＩＺＯ）４４を塗布し、金属の酸化を防ぐ。
以上の工程を完了した後に、カラーフィルターを形成する。
まず、有効表示領域４１に遮光層を形成する。具体的に、スピン・コーティングにより、炭素を含む樹脂類材料を基板上に塗布し、露光、現像、及び乾燥の工程を経て、有効表示領域４１内に遮光層以外の領域、及び配線領域４１１とリード線結合領域４１２上の遮光層を除去する。遮光層を形成した後に、カラーフィルターを形成する。
現在一般的に使われているカラーフィルターの形成方法は、顔料分散法（Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｄｉｓｐｅｒｓｉｏｎ）である。具体的に、有機顔料を分散させるラジカル重合型（Ｒａｄｉｃａｌ Ｐｏｌｙｍｅｒｉｚａｔｉｏｎ）のレジストを基板上に塗布し、露光、現像、及び乾燥の工程を三回繰り返して、順次赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）のカラーフィルター・パターンを形成する。例えば、赤色フィルターについて、アントラキノン系（Ａｎｔｈｒａｑｕｉｎｏｎｅ）の有機顔料を、緑色、青色フィルターについて、フタロシアニン系（Ｐｈｔｈａｌｏｃｙａｎｉｎｅ）の有機顔料を用いることができる。
有効表示領域４１と配線領域４１１上のカラーフィルターが残され、そのうち、配線領域４１１上のカラーフィルターは、図４Ｃに示すカラーフィルター層４６となる。例えば、赤、緑、青色のうち、一色のカラーフィルター、或いは、赤、緑、青色のうち、２つ若しくは３つが重畳されたカラーフィルターはカラーフィルター層４６となる。いずれのカラーフィルターを選択するかは、そのカラーフィルターの防水効果及び電気特性による。また、リード線結合領域４１２上のカラーフィルターは製造工程において除去される。
図５Ａは、本発明の第３と第４の実施形態に係るＴＦＴ液晶表示装置の構造を示す図である。
図５Ｂは、本発明の第３の実施形態に係るリード線結合領域の図５Ａにおける直線ＹＹ’に沿った断面図である。
まず、透明なガラス基板５２上に複数の薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）からなるＴＦＴ・アレイ、金属配線、及びリード線を形成し、これにより、図５Ｂに示す複数のリード線の凸部５８が形成される。このとき、有効表示領域５１、配線領域５１１、及びリード線結合領域５１２は電気的に接続されている。
以上の工程を完了した後に、カラーフィルターを形成する。
まず、有効表示領域５１及びリード線結合領域５１２に遮光層を形成する。具体的に、スピン・コーティングにより、炭素を含む樹脂類材料を基板上に塗布し、露光、現像、及び乾燥の工程を経て、有効表示領域５１内に遮光層以外の領域、及び配線領域５１１上の遮光層を除去し、図５Ｂに示す遮光層５５を形成する。好ましくは、遮光層５５はリード線５８より低い。これにより、リード線５８がフレキシブル回路基板（ＦＰＣ：Ｆｌｅｘｉｂｌｅ Ｐｒｉｎｔｅｄ Ｃｉｒｃｕｉｔ Ｂｏａｒｄ）と接続するときに、接続不良の問題が生じない。好ましくは、遮光層５５の高さは０．５μｍ〜３μｍの範囲にある。
図５Ｃは、本発明の第４の実施形態に係るリード線結合領域の図５Ａにおける直線ＹＹ’に沿った断面図である。
まず、透明なガラス基板５２上に複数の薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）からなるＴＦＴ・アレイ、金属配線、及びリード線を形成し、これにより、図５Ｃに示す複数のリード線の凸部５８が形成される。このとき、有効表示領域５１、配線領域５１１、及びリード線結合領域５１２は電気的に接続されている。
以上の工程を完了した後に、カラーフィルターを形成する。
まず、有効表示領域５１に遮光層を形成する。具体的に、スピン・コーティングにより、炭素を含む樹脂類材料を基板上に塗布し、露光、現像、及び乾燥の工程を経て、有効表示領域５１内に遮光層以外の領域、及び配線領域５１１とリード線結合領域５１２上の遮光層を除去する。遮光層を形成した後に、カラーフィルターを形成する。
現在一般的に使われているカラーフィルターの形成方法は、顔料分散法（Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｄｉｓｐｅｒｓｉｏｎ）である。具体的に、有機顔料を分散させるラジカル重合型（Ｒａｄｉｃａｌ Ｐｏｌｙｍｅｒｉｚａｔｉｏｎ）のレジストを基板上に塗布し、露光、現像、及び乾燥の工程を三回繰り返して、順次赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）のカラーフィルター・パターンを形成する。例えば、赤色フィルターについて、アントラキノン系（Ａｎｔｈｒａｑｕｉｎｏｎｅ）の有機顔料を、緑色、青色フィルターについて、フタロシアニン系（Ｐｈｔｈａｌｏｃｙａｎｉｎｅ）の有機顔料を用いることができる。
有効表示領域５１とリード線結合領域５１２上のカラーフィルターが残され、そのうち、リード線結合領域５１２上のカラーフィルターは、図５Ｃに示すカラーフィルター層５６となる。例えば、赤、緑、青色のうち、一色のカラーフィルター、或いは、赤、緑、青色のうち、２つ若しくは３つが重畳されたカラーフィルターはカラーフィルター層５６となる。いずれのカラーフィルターを選択するかは、そのカラーフィルターの防水効果及び電気特性による。また、配線領域５１１上のカラーフィルターは製造工程において除去される。
好ましくは、カラーフィルター層５６はリード線５８より低い。これにより、リード線５８がフレキシブル回路基板と接続するときに、接続不良の問題が生じない。好ましくは、カラーフィルター層５６の高さは０．５μｍ〜３μｍの範囲にある。
図６Ａは、本発明の第５と第６の実施形態に係るＴＦＴ液晶表示装置の構造を示す図である。
図６Ｂは、本発明の第５の実施形態に係る配線領域とリード線結合領域の図６Ａにおける直線ＸＸ’と直線ＹＹ’に沿った断面図である。
まず、透明なガラス基板６２上に複数の薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）からなるＴＦＴ・アレイ、金属配線、及びリード線を形成し、これにより、図６Ｂに示す複数の金属配線となる凸部６３及びリード線となる凸部６８が形成される。このとき、有効表示領域６１、配線領域６１１、及びリード線結合領域６１２は電気的に接続されている。
金属配線には、例えば、モリブデン（Ｍｏ）、アルミニウム（Ａｌ）、又は、両者を重ねたものを用いることができる。金属配線の外面に、例えば、スパッタリングにより、インジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）、又は、インジウムジンク酸化物（ＩＺＯ）６４を塗布し、金属の酸化を防ぐ。
以上の工程を完了した後に、カラーフィルターを形成する。
まず、有効表示領域６１、配線領域６１１、及びリード線結合領域６１２に遮光層を形成する。具体的に、スピン・コーティングにより、炭素を含む樹脂類材料を基板上に塗布し、露光、現像、及び乾燥の工程を経て、有効表示領域６１内に遮光層以外の領域の遮光層を除去し、図６Ｂに示す遮光層６５を形成する。
好ましくは、遮光層６５の高さは、金属配線６３にＩＴＯ又はＩＺＯ６４が塗布された後の高さより大きい、リード線６８の高さより小さい。これにより、リード線６８がフレキシブル回路基板と接続するときに、接続不良の問題が生じず、さらに、金属配線６３は遮光層６５に被覆され、露出しないので、製品の信頼性が向上する。
図６Ｃは、本発明の第６の実施形態に係る配線領域とリード線結合領域の図６Ａにおける直線ＸＸ’と直線ＹＹ’に沿った断面図である。
まず、透明なガラス基板６２上に複数の薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）からなるＴＦＴ・アレイ、金属配線、及びリード線を形成し、これにより、図６Ｂに示す複数の金属配線となる凸部６３及びリード線となる凸部６８が形成される。このとき、有効表示領域６１、配線領域６１１、及びリード線結合領域６１２は電気的に接続されている。
金属配線６３には、例えば、モリブデン（Ｍｏ）、アルミニウム（Ａｌ）、又は、両者を重ねたものを用いることができる。金属配線６３の外面に、例えば、スパッタリングにより、インジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）、又は、インジウムジンク酸化物（ＩＺＯ）６４を塗布し、金属の酸化を防ぐ。
以上の工程を完了した後に、カラーフィルターを形成する。
まず、有効表示領域６１に遮光層を形成する。具体的に、スピン・コーティングにより、炭素を含む樹脂類材料を基板上に塗布し、露光、現像、及び乾燥の工程を経て、有効表示領域６１内に遮光層以外の領域の遮光層、及び配線領域６１１とリード線結合領域６１２上の遮光層を除去する。遮光層を形成した後に、カラーフィルターを形成する。
現在一般的に使われているカラーフィルターの形成方法は、顔料分散法（Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｄｉｓｐｅｒｓｉｏｎ）である。具体的に、有機顔料を分散させるラジカル重合型（Ｒａｄｉｃａｌ Ｐｏｌｙｍｅｒｉｚａｔｉｏｎ）のレジストを基板上に塗布し、露光、現像、及び乾燥の工程を三回繰り返して、順次赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）のカラーフィルター・パターンを形成する。例えば、赤色フィルターについて、アントラキノン系（Ａｎｔｈｒａｑｕｉｎｏｎｅ）の有機顔料を、緑色、青色フィルターについて、フタロシアニン系（Ｐｈｔｈａｌｏｃｙａｎｉｎｅ）の有機顔料を用いることができる。
配線領域６１１及びリード線結合領域６１２上のカラーフィルターが残され、図６Ｃに示すカラーフィルター層６６となる。例えば、赤、緑、青色のうち、一色のカラーフィルター、或いは、赤、緑、青色のうち、２つ若しくは３つが重畳されたカラーフィルターはカラーフィルター層６６となる。いずれのカラーフィルターを選択するかは、そのカラーフィルターの防水効果及び電気特性による。また、リード線結合領域４１２上のカラーフィルターは製造工程において除去される。
好ましくは、カラーフィルター層６６の高さは、金属配線６３にＩＴＯ又はＩＺＯ６４が塗布された後の高さより大きい、リード線６８の高さより小さい。これにより、リード線６８がフレキシブル回路基板と接続するときに、接続不良の問題が生じず、さらに、金属配線６３が遮光層６５に被覆され露出しないので、製品の信頼性が向上する。
以上、本発明の好ましい実施形態を説明したが、本発明はこの実施形態に限定されず、本発明の趣旨を離脱しない限り、本発明に対するあらゆる変更は本発明の範囲に属する。
１１ ＴＦＴパネルガラス基板
１２ カラーフィルターガラス基板
１３、２３ 液晶
１１１、２１１ ＴＦＴ
１１２、２１２ 画素電極
１１３ 保護絶縁層
１２１、２１３ カラーフィルター
１２２、２１４ 遮光層
１２３、２２１ 共同電極
２１ 下層パネルガラス基板
２２ 上層パネルガラス基板
３１、４１、５１、６１ 有効表示領域
３２ 遮光層
３３、４１１、５１１、６１１ 配線領域
３４、４１２、５１２、６１２ リード線結合領域
４２、５２、６２ ガラス基板
４４，５４、６４ ＩＴＯ又はＩＺＯ
４５、５５、６５ 遮光層
４６、５６、６６ カラーフィルター
５８、６８ リード線
１２ カラーフィルターガラス基板
１３、２３ 液晶
１１１、２１１ ＴＦＴ
１１２、２１２ 画素電極
１１３ 保護絶縁層
１２１、２１３ カラーフィルター
１２２、２１４ 遮光層
１２３、２２１ 共同電極
２１ 下層パネルガラス基板
２２ 上層パネルガラス基板
３１、４１、５１、６１ 有効表示領域
３２ 遮光層
３３、４１１、５１１、６１１ 配線領域
３４、４１２、５１２、６１２ リード線結合領域
４２、５２、６２ ガラス基板
４４，５４、６４ ＩＴＯ又はＩＺＯ
４５、５５、６５ 遮光層
４６、５６、６６ カラーフィルター
５８、６８ リード線
Claims (10)
- カラーフィルターが薄膜トランジスタ・アレイ基板に形成される液晶表示装置であって、
有効表示領域と、
前記有効表示領域と隣接する遮光領域と、
前記遮光領域と隣接し、複数の金属配線を含み、前記有効表示領域と電気的に接続する配線領域と、
前記配線領域と隣接し、複数のリード線を含み、前記有効表示領域と電気的に接続するリード線結合領域と、
前記遮光領域と前記配線領域に形成され、前記遮光領域において光線の漏れを防止し、前記配線領域において前記金属配線の露出を防止する保護層と
を有する
液晶表示装置。 - 前記保護層は、防水性を有する非導電性の樹脂層からなる
請求項１に記載の液晶表示装置。 - 前記保護層は、前記リード線結合領域にも形成され、前記リード線同士を絶縁し、
前記樹脂層の厚さは、０．５μｍ〜３μｍの範囲にあり、かつ、前記リード線の高さより小さい
請求項２に記載の液晶表示装置。 - カラーフィルターが薄膜トランジスタ・アレイ基板に形成される液晶表示装置であって、
有効表示領域と、
前記有効表示領域と隣接する遮光領域と、
前記遮光領域と隣接し、複数の金属配線を含み、前記有効表示領域と電気的に接続する配線領域と、
前記配線領域と隣接し、複数のリード線を含み、前記有効表示領域と電気的に接続するリード線結合領域と、
前記有効表示領域と前記配線領域に形成され、前記配線領域において前記金属配線の露出を防止するカラーフィルター層と
を有する
液晶表示装置。 - 前記カラーフィルター層は、前記リード線結合領域にも形成され、前記リード線同士を絶縁する
請求項４に記載の液晶表示装置。 - 前記有効表示領域或いは前記リード線結合領域に形成された前記カラーフィルター層は、赤色フィルター層、緑色フィルター層、及び青色フィルター層のいずれか、又は、これらの組み合わせからなり、
前記カラーフィルター層の厚さは、０．５μｍ〜３μｍの範囲にあり、かつ、前記リード線の高さより小さい
請求項５に記載の液晶表示装置。 - カラーフィルターが薄膜トランジスタ・アレイ基板に形成される液晶表示装置であって、
有効表示領域と、
前記有効表示領域と隣接する遮光領域と、
前記遮光領域と隣接し、複数の金属配線を含み、前記有効表示領域と電気的に接続する配線領域と、
前記配線領域と隣接し、複数のリード線を含み、前記有効表示領域と電気的に接続するリード線結合領域と、
前記遮光領域と前記リード線結合領域に形成され、前記遮光領域において光線の漏れを防止し、前記リード線結合領域において前記リード配線同士を絶縁する保護層と
を有する
液晶表示装置。 - 前記保護層は、防水性を有する非導電性の樹脂層からなり、
前記樹脂層の厚さは、０．５μｍ〜３μｍの範囲にあり、かつ、前記リード線の高さより小さい
請求項７に記載の液晶表示装置。 - カラーフィルターが薄膜トランジスタ・アレイ基板に形成される液晶表示装置であって、
有効表示領域と、
前記有効表示領域と隣接する遮光領域と、
前記遮光領域と隣接し、複数の金属配線を含み、前記有効表示領域と電気的に接続する配線領域と、
前記配線領域と隣接し、複数のリード線を含み、前記有効表示領域と電気的に接続するリード線結合領域と、
前記有効表示領域と前記リード線結合領域に形成され、前記リード線結合領域において前記リード配線同士を絶縁するカラーフィルター層と
を有する
液晶表示装置。 - 前記リード線結合領域に形成された前記カラーフィルター層は、赤色フィルター層、緑色フィルター層、及び青色フィルター層のいずれか、又は、これらの組み合わせからなり、
前記カラーフィルター層の厚さは、０．５μｍ〜３μｍの範囲にあり、かつ、前記リード線の高さより小さい
請求項９に記載の液晶表示装置。
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2007
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