JP4120239B2 - 9,10−ジブロモアントラセン類の製造方法 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、9,10−ジブロモアントラセン類の製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
9,10−ジブロモアントラセン類は、染料、表示材料などの中間体として有用であり、その製造方法としては、アントラセン類と臭素を反応させる方法が知られており、溶媒として四塩化炭素(Makromol.chem.191,2837,1990)、1,4−ジオキサン(J.Amer.Chem.Soc.,61,3360,1939)、二硫化炭素(Chem.Ber.,1,186,1868)が用いられることが知られている。
しかし、かかる従来の製造方法に使用する溶媒は人体を含めた生態系に対して有害物質であることや、引火点が低いなど安全面に問題があるため工業的に製造するには困難であった。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】
そこで本発明者は、工業的に容易に9,10−ジブロモアントラセン類を製造し得る方法を開発するべく鋭意検討した結果、臭素に対する反応性が置換ベンゼン類よりもアントラセン類が高いことに着目し、通常、臭素を用いた反応では臭素と直接反応するため用いることがなかった置換ベンゼン類を溶媒として検討を行ったところ、選択的にアントラセン類と臭素と反応し9,10−ジブロモアントラセン類が生成することを見出し、本発明に至った。
【0004】
【課題を解決するための手段】
すなわち本発明は、式(I)
〔式中、R1およびR2はそれぞれ独立に炭素数1〜10の炭化水素基、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、アルコキシル基、アリールオキシ基、アラルキルオキシ基、炭化水素基で置換されていてもよいアミノ基、アルコキシカルボニル基またはアリールオキシカルボニル基、アラルキルオキシカルボニル基を示し、nおよびmはそれぞれ独立に0〜4の整数を示す。〕
で示されるアントラセン類を置換ベンゼン類を溶媒として用い臭素と反応させることを特徴とする式(II)
〔式中、R1、R2、nおよびmはそれぞれ前記と同じ意味を示す。〕
で示される9,10−ジブロモアントラセン類の製造方法を提供するものである。
【0005】
【発明の実施の形態】
式(I)で示されるアントラセン類において、R1およびR2における炭素数1〜10の炭化水素基としては、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、n−ブチル基、i−ブチル基、t−ブチル基、sec−ペンチル基などのアルキル基、アリル基などのアルケニル基、フェニル基などのアリール基、ベンジル基などのアラルキル基などが挙げられる。ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。アルコキシル基としては、例えばメトキシ基、エトキシ基などが挙げられる。アリールオキシ基としては、例えばフェノキシ基などがあげられる。アミノ基は、炭化水素基で置換されていてもよく、具体的にはメチルアミノ基、エチルアミノ基、フェニルアミノ基、ジメチルアミノ基などであってもよい。アルコキシカルボニル基としては、例えばメトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基などが挙げられる。アリールオキシカルボニル基としては、例えばフェノキシカルボニル基などが挙げられる。R1および/またはR2がヒドロキシル基またはカルボキシル基である場合、アントラセン類(I)はかかるヒドロキシル基またはカルボキシル基で塩を形成していてもよい。
かかるアントラセン類(I)としては、例えばアントラセン、1−メチルアントラセン、2−t−ブチルアントラセン、2,5−ジメチルアントラセン、2−フェニルアントラセン、1−クロロアントラセン、2−ブロモ−6−クロロアントラセン、1−ヒドロキシアントラセン、2,3−ジメトキシアントラセン、2−メチルアミノアントラセン、2,3−ジカルボキシアントラセン、1,8−ジメトキシカルボニルアントラセン、1,8−ジフェノキシカルボニルアントラセンなどが挙げられる。
【0006】
かかる臭素の使用量は、アントラセン類(I)に対して通常は1.8モル倍、好ましくは2モル倍以上であり、通常3モル倍以下好ましくは2.5モル倍以下である。
本反応は置換ベンゼン類を溶媒として用いる。ベンゼン上の置換基としては水素、アルキル基、アルケニル基、ハロゲン原子、アルコキシル基、アルコキシカルボニル基、ヒドロキシル基、ニトロ基などが挙げられる。メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基などのアルキル基、アリル基などのアルケニル基などが挙げられる。ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。アルコキシル基としては、例えばメトキシ基、エトキシ基などが挙げられる。アルコキシカルボニル基としては、例えばメトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基などが挙げられる。
【0007】
かかる反応に用いられる置換ベンゼン類は例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、クメン、エチルベンゼン、n−ヘキシルベンゼン、モノクロロベンゼン、o−ジクロロベンゼン、安息香酸メチル、フタル酸ジエチル、ニトロベンゼンなどが挙げられる。かかる置換ベンゼン類はそれぞれ単独でまたは2種以上組み合わせて用いられ、その使用量はアントラセン類(I)に対して通常は1質量倍以上200質量倍以下、好ましくは5質量倍以上50質量倍以下程度である。
他の溶媒中では、アントラセン類と臭素の反応においては選択性が著しく低く、式(III)
〔式中、R1、R2、nおよびmはそれぞれ前記と同じ意味を示す。j,k,lはそれぞれ独立に0〜3の整数を表し、j,k,lの総和は1〜3の整数を示す。但し、j=0,k=2,l=0の場合を除く〕
で示される9,10−ジブロモアントラセン類以外の置換ブロモ体(III)が多く副生するため好ましくない。
【0008】
アントラセン類(I)を臭素と反応させるには、例えば窒素ガスなどの不活性ガス雰囲気下、置換ベンゼン類中、アントラセン類(I)を加え、臭素を滴下すればよい。滴下時間は通常0.01時間以上10時間以下である。アントラセン類(I)はその全てが置換ベンゼン類に溶解してもよいし、一部が溶解することなく固形物として置換ベンゼン類中に存在していてもよい。反応温度は通常−40℃以上、好ましくは0℃以上であり、通常は200℃以下、好ましくは反応時間は通常0.1時間以上好ましくは0.5時間以上、24時間以下好ましくは12時間程度である。
【0009】
かくしてアントラセン類(I)が臭素と反応して目的のジブロモアントラセン類(II)が生成するが、本発明の製造方法では、かかる反応後の反応混合物をチオ硫酸ソーダ水溶液などの還元剤と混合する。例えば還元剤は滴下などの方法によって加えることができる。還元剤を加えた後、通常分液処理しさらに水洗分液処理を行う。
還元剤を混合し、水洗した反応混合物から9,10−ジブロモアントラセン類(II)を取り出すには、例えば反応混合物をメタノールなどの貧溶媒と混合して9,10−ジブロモアントラセン類(II)を析出させ、結晶として9,10−ジブロモアントラセン類(II)を取り出せばよい。反応混合物を貧溶媒と混合するには、反応混合物に貧溶媒を加えてもよいし、貧溶媒に反応混合物を加えてもよい。還元剤を混合し、水洗した反応混合物は貧溶媒を加える前に溶媒を留去し濃縮しても良い。また結晶は、例えば濾取などの方法により容易に取り出すことができる。また、反応混合物から溶媒を留去した後、得られた残渣から9,10−ジブロモアントラセン類(II)を溶媒抽出してもよい。抽出後、溶媒留去することで、9,10−ジブロモアントラセン類(II)の結晶を得ることができる。
取り出された9,10−ジブロモアントラセン類(II)は、再結晶などの方法で精製されてもよい。
【0010】
かくして得られる9,10−ジブロモアントラセン類(II)としては、例えば9,10−ジブロモアントラセン、9,10−ジブロモ−1−メチルアントラセン、9,10−ジブロモ−2−t−ブチルアントラセン、9,10−ジブロモ−2,5−ジメチルアントラセン、9,10−ジブロモ−2−フェニルアントラセン、9,10−ジブロモ−1−クロロアントラセン、9,10−ジブロモ−2−ブロモ−6−クロロアントラセン、9,10−ジブロモ−1−ヒドロキシアントラセン、9,10−ジブロモ−2,3−ジメトキシアントラセン、9,10−ジブロモ−2−メチルアミノアントラセン、9,10−ジブロモ−2,3−ジカルボキシアントラセン、9,10−ジブロモ−1,8−ジメトキシカルボニルアントラセン、9,10−ジブロモ−1,8−ジフェノキシカルボニルアントラセンなどが挙げられる。
【0011】
【発明の効果】
本発明の製造方法によれば、収率よく9,10−ジブロモアントラセン類(II)を製造することができる。
【0012】
【実施例】
以下、実施例によって本発明をより詳細に説明するが、本発明はこれら実施例によって限定されるものではない。
実験例1
窒素雰囲気下、反応器にトルエン2.0ml、アントラセン178.1mg(1mmol)を加え、0℃で臭素383.5mg(2.4mmol)を15分かけて滴下した。その後、25℃に昇温し、同温度で2時間撹拌した後、反応混合物中に含まれる9,10−ジブロモ−2−t−ブチルアントラセンをガスクロマトグラフィーにより定量したところ収率98.6%、置換ブロモ体(III)の収率総和0.9%であった。
【0013】
実験例2〜4
溶媒をトルエンの代わりにそれぞれ安息香酸メチル、モノクロロベンゼン、o−ジクロロベンゼン、ニトロベンゼンを用いた以外は実験例1に準拠して実施した。結果を表1に示した。
【0014】
参考例1〜2
溶媒をトルエンの代わりにそれぞれn−ヘプタン、t−ブチルメチルエーテルを用いた以外は実験例1に準拠して実施した。結果を表1に示した。
【表1】
Claims (2)
- 1置換ベンゼン類が、トルエン、モノクロロベンゼン、ニトロベンゼン、または安息香酸メチルである請求項1に記載の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002060259A JP4120239B2 (ja) | 2002-03-06 | 2002-03-06 | 9,10−ジブロモアントラセン類の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002060259A JP4120239B2 (ja) | 2002-03-06 | 2002-03-06 | 9,10−ジブロモアントラセン類の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2003261475A JP2003261475A (ja) | 2003-09-16 |
JP4120239B2 true JP4120239B2 (ja) | 2008-07-16 |
Family
ID=28669682
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP2002060259A Expired - Fee Related JP4120239B2 (ja) | 2002-03-06 | 2002-03-06 | 9,10−ジブロモアントラセン類の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4120239B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7622619B2 (en) * | 2005-07-20 | 2009-11-24 | Lg Display Co., Ltd. | Synthesis process |
JP2009132882A (ja) * | 2007-10-31 | 2009-06-18 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 高分子化合物及びそれを用いた高分子発光素子 |
-
2002
- 2002-03-06 JP JP2002060259A patent/JP4120239B2/ja not_active Expired - Fee Related
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Publication number | Publication date |
---|---|
JP2003261475A (ja) | 2003-09-16 |
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JPH05379B2 (ja) |
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A621 | Written request for application examination |
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A977 | Report on retrieval |
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|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20080110 |
|
RD05 | Notification of revocation of power of attorney |
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|
A521 | Written amendment |
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TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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