JP4115889B2 - ビルトイン対応型加熱調理器 - Google Patents

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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、規定の収納空間にビルトイン可能に構成されるビルトイン対応型加熱調理器に関する。
【0002】
【従来の技術】
近年、例えば家庭用の厨房には、作業性や、各種調理機器の組み込み・配置効率を高めるために所謂システムキッチン採用されることが多い。システムキッチンは、一体的に構成されるキャビネットに、シンク、湯水混合水栓、収納箱等の他、ガスコンロ、加熱調理器、食器洗い乾燥機等の所謂ビルトイン対応型の機器が組み込まれる。ここで、加熱調理器である電子レンジは、従来、高周波加熱のみによる調理が主流であったのに対し、近年では電熱による加熱も可能にし、より多彩な調理が行えるようになってきている。これはビルトイン対応型加熱調理器についても例外ではない。
【0003】
この種のビルトイン対応型加熱調理器1は、図12に示すように、ビルトイン型ガスコンロ3が上部に設けられたキャビネット5の下部格納空間に組み込まれることが多い。キャビネット5の格納空間は閉鎖空間であるため、加熱調理によって発生する熱気は加熱調理器1の前面側に設けた排気口7から排気しなければならない。この熱気が使用者に直接伝達されると、使用者は高温状態の排気空気により不快感を感じるようになる。そこで、この種のビルトイン対応型加熱調理器では、排気空気温度を低くするなどの工夫がなされている。
【0004】
【特許文献1】
特表2003−517564号公報
【0005】
例えば上記特許文献1に開示される加熱調理器では、前面側に吸気口と排気口が設けられ、前面側で冷却用空気と排気空気が出入りすることになる。また、加熱調理器の内部には、上下部ヒータが設けられており、この上部ヒータが設けられている部分には、上部ヒータ冷却ファンによるエアフローが通過する上側内部通路が形成されている。また、下部ヒータが設けられる部分には、下部ヒータ冷却ファンによるエアフローが通過する冷却通路が形成されている。吸気口から吸い込まれる空気の一部は、直接排気口の前方に供給され、ヒータを通過することにより高温化された空気と合流した後、排気口から排気される。従って、排気口から出る空気の温度を低く設定することができた。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、ビルトイン対応型加熱調理器において、調理品を出し入れする作業性から、できるだけ加熱室を上方に配置したい要望がある。また、加熱条件等を設定する加熱加熱操作部もその操作性からできるだけ上方に配置したい要望がある。
しかしながら、従来のビルトイン対応型加熱調理器は、高温空気と冷却用空気との混合効率が低く、混合部の容積を大きく確保して攪拌しなければならなかったため、排気口を調理器の幅方向全体に亘って確保する必要があった。このため、排気口の占有面積が増え、加熱室及び加熱加熱操作部を共に上方配置することが困難となっていた(即ち、加熱加熱操作部が加熱室側方で縦長に配置されていた)。また、排気口が調理器の幅方向全体に延在すれば、熱風の注意領域が広くなり、商品の付加価値を向上させる上での障害となった。また、上記特許文献1に開示される加熱調理器は、排気モータに加え、上部ヒータ冷却ファン、下部ヒータ冷却ファンの送風手段を必要とするため、部品コスト、消費電力、運転騒音の点でも不利となった。
本発明は上記状況に鑑みてなされたもので、少ない送風手段で高温空気と冷却用空気とが高効率に混合可能となり、混合部容積が小さくできることから、加熱室及び加熱加熱操作部の上方配置が可能となるビルトイン対応型加熱調理器を提供し、作業性及び操作性の向上を図ることを目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するための本発明に係る請求項1記載のビルトイン対応型加熱調理器は、前面側のみ表出して所定の格納空間内に収容され、熱源により加熱された加熱室内からの主熱流及び該熱源により加熱室周囲で発生した加熱室周囲熱流を、冷却風と混合させた後、排気口から前記格納空間外に排気するビルトイン対応型加熱調理器であって、外気を吸引して冷却風を生成する送風手段と、前記加熱室の上方で前記各熱流を集合させる上部熱溜室と、前記排気口の上流側に配設され前記上部熱溜室内の熱流と前記冷却風とを混合する混合手段とを備えたことを特徴とする。
【0008】
このビルトイン対応型加熱調理器では、外気が送風手段によって吸引されて冷却風が生成され、加熱室上方の上部熱溜室で先ず各熱流が集合された後、排気口の上流側に配設された混合手段によって、予め集合された上部熱溜室内の熱流に冷却風が混合され、少ない送風手段で高温空気と冷却用空気とが高効率に混合可能となり、混合部容積の縮小が可能になる。従って、排気口を調理器の幅方向全体に亘って確保する必要がなくなり、これにより新たに確保される上部スペースに加熱加熱操作部が配置され、その結果、加熱室及び加熱加熱操作部が共に上方に配置可能となる。また、排気口が調理器の幅方向全体に延在しないので、熱風の注意領域が少なくなり、商品の付加価値が高まる。さらに、送風手段が一つであるので、複数の送風手段を必要とする従来のビルトイン対応型加熱調理器に比べ、部品コスト、消費電力、運転騒音が低減される。
【0009】
請求項2記載のビルトイン対応型加熱調理器は、前記上部熱溜室が、前記加熱室からの主熱流を前記混合手段側に導く第1熱流通路と、前記加熱室周囲熱流を前記混合手段側に導く第2熱流通路と、前記第1熱流通路と前記第2熱流通路とを合流させて前記混合手段へ導く第3熱流通路とを有することを特徴とする。
【0010】
このビルトイン対応型加熱調理器では、主熱流と、これより低い温度の加熱室周囲熱流とが第3熱流通路で合流され、混合手段へ流入する前の主熱流が降温される。
【0011】
請求項3記載のビルトイン対応型加熱調理器は、前記熱源が前記加熱室の上面側で加熱する上部加熱ヒータを有し、前記第2熱流通路が前記上部加熱ヒータの配置面領域の上方空間を含んで形成されることを特徴とする。
【0012】
このビルトイン対応型加熱調理器では、上部加熱ヒータの発熱によって、加熱室内の被加熱物が輻射熱によって加熱処理可能となる。この際、上部加熱ヒータの配置面領域から伝わる熱が第2熱流通路を移動する加熱室周囲熱流によって第3熱流通路へと搬送され、配置面領域の昇温が抑えられる。
【0013】
請求項4記載のビルトイン対応型加熱調理器は、前記熱源が前記加熱室の奥面側で加熱する奥部加熱ヒータを有し、該奥部加熱ヒータが加熱室奥面と裏板との間で囲まれ、該裏板を挟んで前記加熱室奥面に仕切板が配向配置され、前記裏板と該仕切板との間に生じた熱流を前記上部熱溜室に導く開口孔を、前記第2熱流路の一部に形成したことを特徴とする。
【0014】
このビルトイン対応型加熱調理器では、奥部加熱ヒータの発熱によって、加熱室内の被加熱物が均一に高温加熱可能となる。この際、裏板から伝わる熱が、裏板と仕切板との間の上昇熱流によって上方へ搬送され、開口孔を通じて第2熱流通路へ排出されることで、裏板の昇温が抑えられる。
【0015】
請求項5記載のビルトイン対応型加熱調理器は、前記第3熱流通路の熱流流れ方向に対して直交方向に、前記送風手段からの冷却風を吹き当てる第1冷却風通路を備えたことを特徴とする。
【0016】
このビルトイン対応型加熱調理器では、主熱流が第3熱流通路にて加熱室周囲熱流と合流して降温されるが、その合流流体が更に第3熱流通路の外側から冷却風によって冷却され降温される。
【0017】
請求項6記載のビルトイン対応型加熱調理器は、前記混合手段が、前記上部熱溜室からの熱流の流れを滞らせる邪魔板を備えたことを特徴とする。
【0018】
このビルトイン対応型加熱調理器では、上部熱溜室から混合手段に流入した熱流が邪魔板に当たって一時的に滞留し、その間に、第1熱流通路からの主熱流が混合手段との熱伝導や、混合冷気との熱伝達によって降温される。
【0019】
請求項7記載のビルトイン対応型加熱調理器は、前記混合手段が、所定間隔を隔てて略平行に対面配置され、それぞれ通気孔が形成された上流側拡散板と下流側拡散板とを有し、前記上流側拡散板は、前記上部熱溜室からの熱流を前記下流側拡散板との間の空間内に導入するための抜け孔が形成され、前記下流側拡散板は、前記邪魔板を前記抜け穴の対面位置に形成して前記上流側拡散板との間の空間で前記熱流と冷却風とを混合して排出することを特徴とする。
【0020】
このビルトイン対応型加熱調理器では、第1熱流通路からの主熱流と、上部熱溜室からの加熱室周囲熱流とが抜け孔を通過して、上流側拡散板と下流側拡散板との間隙に流入して邪魔板に当たり攪拌流となる。また、この間隙には上流側拡散板の通気孔を通過した第1冷却風通路からの冷却風が流入する。流入した冷却風は攪拌流と混合されて熱伝達が促進され、主熱流、加熱室周囲熱流、冷却風が十分に熱交換されて降温される。降温された混合流体は下流側拡散板の通気孔を通過して排気口から排出される。
【0021】
請求項8記載のビルトイン対応型加熱調理器は、前記混合手段が、前記邪魔板の下流側に風向を規制するルーバーを備えたことを特徴とする。
【0022】
このビルトイン対応型加熱調理器では、邪魔板の下流側にルーバーが設けられることで、高温となる邪魔板への手指等による接触が防止される。また、ルーバーが邪魔板から所定距離で下流側に配置されるので、排気熱流が降温される。さらに、ルーバーによって風向が規制され、熱風の注意領域が狭くなる。
【0023】
請求項9記載のビルトイン対応型加熱調理器は、前記加熱室上方の前記上部熱溜室と略同じ高さに、加熱操作を行う加熱加熱操作部を加熱調理器の前面側に沿って配設し、前記第1冷却風通路を該加熱加熱操作部に沿って配設したことを特徴とする。
【0024】
このビルトイン対応型加熱調理器では、上部熱溜室と加熱操作部とが略同一平面上に配置され、且つ上部熱溜室と加熱操作部との間に、第1冷却風通路が配設される。従って、加熱操作部は、上部熱溜室からの熱影響を受けることなく、第1冷却風通路の冷却風によって常に冷却される。これにより、上部熱溜室と加熱操作部とが略同一平面上に配置可能となり、上部熱溜室と加熱操作部とを上下配置しなければならない場合の調理器上下方向の高さ増大が抑えられる。
【0025】
請求項10記載のビルトイン対応型加熱調理器は、前記加熱室の前面側上方に、加熱操作を行う加熱操作部と前記排気口とを横並びに配置したことを特徴とする。
【0026】
このビルトイン対応型加熱調理器では、加熱操作部が排気口と並んで最上位置に配置され、加熱操作部の操作性が向上する。
【0027】
請求項11記載のビルトイン対応型加熱調理器は、前記送風手段が、加熱調理器の背面側に設けられ、該加熱調理器の背面側の空気を吸引することを特徴とする。
【0028】
このビルトイン対応型加熱調理器では、送風手段が加熱調理器の背面側の空気を吸引することになる。加熱調理器は、システムキッチンのキャビネットに設けられた格納空間に組み込まれ、その背面で空気を吸引することで、キャビネットの間隙等から空気が流入して吸引が可能となる。これにより、前面に吸気口を設ける必要がなくなり、加熱室の上方への配置や、加熱調理器の上下高さの抑止が可能となる。
【0029】
請求項12記載のビルトイン対応型加熱調理器は、前記送風手段からの冷却風を、加熱調理器に取り付けた電子部品に向けて送風するように導く第2冷却風通路を備えたことを特徴とする。
【0030】
このビルトイン対応型加熱調理器では、送風手段からの冷却風が、第2冷却風通路を通り、電子部品に積極的に供給されることで、電子部品の加熱室周囲熱流からの熱影響が回避される。
【0031】
請求項13記載のビルトイン対応型加熱調理器は、前記電子部品が、赤外線センサを含むことを特徴とする。
【0032】
このビルトイン対応型加熱調理器では、加熱室の温度や、被加熱物の温度を測定するために、加熱室奥面に設けられる赤外線センサが第2冷却風通路からの冷却風によって冷却され、赤外線センサの熱源(奥部加熱ヒータ)からの熱影響が回避される。
【0033】
請求項14記載のビルトイン対応型加熱調理器は、前記電子部品が、前記加熱室の下方に配置された加熱駆動用の部品を含むことを特徴とする。
【0034】
このビルトイン対応型加熱調理器では、第2冷却風通路からの冷却風が加熱室の下方へ供給され、加熱室の下方に配置された加熱駆動用の部品(マグネトロン)や制御回路基板等の電子部品が冷却風によって冷却され、熱源やマグネトロン自身の発熱からの熱影響が回避される。
【0035】
【発明の実施の形態】
以下、本発明に係るビルトイン対応型加熱調理器の好適な実施の形態について、図面を参照して詳細に説明する。
図1は本発明に係るビルトイン対応型加熱調理器の開閉扉を開いた状態の外観斜視図、図2は外装パネルを外した本体ケースを斜め後方より見た斜視図、図3は図2に示した本体ケース上面の平面図、図4は第2冷却風通路の斜視図、図5は本体ケースを斜め前方より見た斜視図、図6は混合手段近傍の拡大斜視図、図7は図5のA−A断面図、図8は熱の流れを表す説明図、図9は混合手段を斜め後方から見た斜視図、図10は混合手段を斜め前方から見た分解斜視図、図11は混合手段の作用説明図である。以降、図1〜図11を適宜参照しつつ説明する。
【0036】
図1に示すように、本実施の形態によるビルトイン対応型加熱調理器(以下、「加熱調理器」とも称す。)100は、前面開放の箱形の本体ケース21内部に加熱室23が形成され、本体ケース21の前面には加熱室23の被加熱物取出口を開閉する透光窓25a付きの開閉扉25が開閉自在に取り付けられている。
【0037】
加熱室23の前面側上方には、加熱操作を行う加熱操作部27と、排気口29とが横並びに配置されている。加熱操作部27には、スタートスイッチ、加熱モードスイッチ、自動調理スイッチの他、表示部が設けられている。加熱調理器100では、加熱操作部27が排気口29と並んで最上位置に配置されることで、加熱操作部27の操作性が高められている。
【0038】
加熱室23の下側の空間には、高周波発生部31が配置されている。高周波発生部31には図2に示すマグネトロン33と、スタラー羽根34等が設けられている。高周波発生部31は、マグネトロン33より発生した高周波を、回転駆動される電波撹拌用のスタラー羽根34によって加熱室23の全体に分散させる。これら高周波発生部31やスタラー羽根34は、加熱室23の底部に限らず、加熱室23の他の面側に設けることもできる。
【0039】
加熱室23の上面側には、熱源の一つである上部加熱ヒータ35(図1,図7参照)が設けられている。上部加熱ヒータ35は、発熱することによって加熱室23内の被加熱物を輻射熱によって加熱処理する。
【0040】
加熱室奥面37の裏側(加熱室奥面37と、図7に示す裏板39との間)には熱源である奥部加熱ヒータ(コンベクションヒータ)41が配設されている。コンベクションヒータ41は枠状に形成され、加熱室奥面37と裏板39とに挟まれた密閉空間に配置されている。コンベクションヒータ41の中央側には循環ファン43が設けられる。そして、加熱室奥面37には吸気孔45と排気孔47とが穿設され、循環ファン43が回転駆動されることで、加熱室23の空気は吸気孔45から吸引され、コンベクションヒータ41によって加熱されて排気孔47から再び加熱室23へ戻される熱風循環が形成されるようになっている。これにより、加熱室23内を均一に高温加熱できるようになっている。
【0041】
コンベクションヒータ41、循環ファン43の動作は、図示しないマイクロプロセッサを備えてなる制御部からの制御指令により行われる。また、この制御部は、商用電源に接続される電源部から電力供給され、各熱源への給電を制御している。
【0042】
加熱室奥面37の裏側には、図7に示すように、電子部品である赤外線センサ49が設けられている。赤外線センサ49は、加熱室23の温度や被加熱物の温度を検出する。赤外線センサ49による検出温度値は、上記の制御部へ送られる。制御部は、この検出温度値に合わせて、また、タイマにより加熱時間等の経過時間を計測して、各熱源等の制御タイミング等を設定する。
【0043】
上記構成の加熱調理器100は、前面側のみ表出させて、図示しないシステムキッチン等におけるキャビネットの所定の格納空間内に収容される。従って、高周波発生部31、上部加熱ヒータ35、コンベクションヒータ41等の熱源により加熱された加熱室23からの主熱流、及びこれら熱源により発生した加熱室周囲熱流を、冷却風と混合させた後、排気孔47から格納空間外に排気するようにしている。
【0044】
そのための基本構成として、外気を吸引して冷却風Cを生成する図2に示す送風手段(例えばシロッコファン等)51と、加熱室23の上方で各熱流を集合させる上部熱溜室53と、排気口29の上流側に配設されて上部熱溜室内53の熱流と冷却風とを混合する混合手段55とを備えている。
【0045】
上部熱溜室53は、図2、図3、図5に示すように、加熱室23から換気孔24及び換気用通路26(図5参照)を通じて導入される主熱流Qを混合手段55側に導く第1熱流通路57と、加熱室周囲熱流qを混合手段55側に導く第2熱流通路59と、第1熱流通路57と第2熱流通路59とを導入口61aによって合流させて、混合手段55へ導く第3熱流通路61とを備えている。このように、主熱流Qと、これより低い温度の加熱室周囲熱流qとが第3熱流通路61で合流され、混合手段55へ流入する前の主熱流Qが降温されるようになっている。
【0046】
ここで、加熱室23の上面側には前述の上部加熱ヒータ35が設けられている。第2熱流通路59は、この上部加熱ヒータ35の配置面領域Sの上方空間を含んで形成されている。従って、上部加熱ヒータ35の配置面領域Sから伝わる熱は、第2熱流通路59を移動する加熱室周囲熱流qによって、第3熱流通路61へと搬送され、配置面領域Sの過昇温が防止されるようになっている。
【0047】
加熱調理器100の背面には、前述の送風手段51が設けられる。送風手段51は、例えば後面或いは下面に吸い込み開口を有するチャンバー63によって覆われている(図2参照)。そして、図4に示すように、チャンバー63にはダクト65が接続され、ダクト65は二方向に分岐され、一方が後述の第1冷却風通路に接続され、他方が第2冷却風通路67となっている。送風手段51は、回転駆動されることによって、吸い込み開口から吸引した外部の空気を第1冷却風通路と第2冷却風通路67とに送風する。
【0048】
ここで、送風手段51は、加熱調理器100の背面側の空気を吸引することになる。加熱調理器100は、上記したようにシステムキッチンのキャビネットに設けられた格納空間に組み込まれ、その背面で空気を吸引することで、キャビネットの隙間等から空気が流入して吸引が可能となる。これにより、前面に吸気口を設ける必要がなくなり、加熱室23の上方への配置や、加熱調理器100の上下高さの増大抑止が可能となる。
【0049】
コンベクションヒータ41は、加熱室奥面37と裏板39との間で囲まれている(図7参照)。裏板39を挟んで加熱室奥面37の反対側には仕切板69が対面配置されている。この裏板39及び加熱室奥面37と、仕切板69との間は背面空間40となっている。第2熱流通路59を形成する上面71には開口孔73が穿設され、開口孔73は裏板39と仕切板69との間(背面空間40)に生じた熱流を上部熱溜室53に導くようになっている(図3参照)。これにより、裏板39から伝わるコンベクションヒータ41の熱が背面空間40の上昇熱流によって上方へ搬送され、開口孔73を通じて第2熱流通路59へ排出されることで、裏板39等の過昇温が防止できるようになっている。
【0050】
本体ケース21は、上面71、両側面が外装パネル75によって覆われる(図2参照)。上面71には、平面視コ字状の仕切壁77が設けられる。この仕切壁77の内側は上部熱溜室53となり、外側は仕切壁77、加熱操作部27及び外装パネル75によって覆われる第1冷却風通路79となる(図3参照)。この第1冷却風通路79は、下流端において、送風手段51からの冷却風CA1を、図6に示すように第3熱流通路61の熱流流れ方向に対して直交方向で、第3熱流通路61に吹き当てる。主熱流Qは、第3熱流通路61にて加熱室周囲熱流qと合流して降温されるが、その合流した熱流が、さらに第3熱流通路61を外側から冷却風CA1によって冷却することで降温されるようになっている。この冷却風CA1の一部は第3熱流通路61に当たって混合手段55に向けて流れ、その他は第1冷却通路79に沿って流れ、開口孔64,66(図3,図5参照)を通して加熱室23下方の電装室60へと流れる。
【0051】
また、上記のように加熱室23の上方には、上部熱溜室53と略同じ高さで加熱操作部27が加熱調理器100の前面側に沿って配設されている。そして、第1冷却風通路79は、加熱操作部27に向かって形成され、加熱操作部27に至った先は直角に折れ曲がり、加熱操作部27の長手方向となる背面に沿って形成される。従って、加熱操作部27は、第1冷却風通路79の冷却風によって常に冷却されて上部熱溜室53からの熱影響を受けることがない。これにより、上部熱溜室53と加熱操作部27とが略同一平面上に配置可能となり、上部熱溜室53と加熱操作部27とを上下配置しなければならない場合の調理器上下方向の高さ増大が抑えられている。また、第1冷却風通路79は、加熱室温度を低下させないように、加熱操作部27に向かうまでの通路は加熱室側面より外側に配置され、加熱操作部27に沿った通路は加熱室上面の上部加熱ヒータ35の配置面領域Sを外した位置に配置されている。
【0052】
一方、ダクト65から分岐された第2冷却風通路67は、送風手段51からの冷却風CA2を、加熱調理器100に取り付けた電子部品に向けて送風するように働く。即ち、送風手段51からの冷却風CA2が、第2冷却風通路67を通り、電子部品に積極的に供給されることで、電子部品の加熱室周囲熱流qからの熱影響が回避されるようになっている。
【0053】
ここで、冷却対象とされる電子部品としては、上記の赤外線センサ49が挙げられる。赤外線センサ49は、図7に示すように加熱室奥面37と仕切板69との間に設けられる。赤外線センサ49の後方の仕切板69には、冷却風の通路として開口81が形成されている。この開口81は、仕切板69の外側に被せられる第2冷却風通路67によって覆われている。さらに第2冷却風通路67の内部には、図4に示すコ字状に折り曲げた板金部材からなるデイバイダー83が設けられ、デイバイダー83は冷却風CA3をこの開口81から導入して赤外線センサ49に吹き付けるようになっている。
【0054】
これにより、加熱室奥面37に設けられる赤外線センサ49が第2冷却風通路67からの冷却風CA3によって冷却され、赤外線センサ49のコンベクションヒータ41からの熱影響が回避される。なお、赤外線センサ49を冷却した後の冷却風CA3は、上方の開口孔73から上部熱溜室53へと排出される。
【0055】
また、冷却対象とされる他の電子部品としては、加熱室23の下方に配置された加熱駆動用の各種部品が挙げられる。加熱駆動用の部品には、上記した高周波発生部31のマグネトロン33や制御回路基板85等が含まれている。第2冷却風通路67の下流端67aは、図5に示すように、加熱室23の側面と外装パネル75(図2参照)との間隙50に接続される。この間隙50は、背面空間40と、加熱室23の下方空間60と連通している。従って、第2冷却風通路67からの冷却風CA4は、加熱室23の下方へ供給され、加熱室23の下方に配置された加熱駆動用の部品(マグネトロン33)や制御回路基板85等の電子部品を冷却するようになっている。また、マグネトロン33には専用の冷却ファンが取り付けられているが、冷却風CA4によって一層の冷却効果が得られることになる。この構成により、電子部品は、熱源やマグネトロン自身の発熱からの熱影響が確実に回避されるようになる。そして、加熱室23の下方へ供給された冷却風CA4は、図2に示す排気口86から外部へと排出される。また、間隙50に送風された冷却風CA4の一部は、背面空間40に流入し、開口孔73から上部熱溜室53へ排出される。
【0056】
ここで、加熱調理器100の使用例について簡単に説明する。
この加熱調理器100では、加熱室23内に被加熱物を載置して、開閉扉25を閉じ、加熱操作部27に備わる各種のスイッチを操作して、所望の加熱モードを設定した後、スタートスイッチを押下する。また、自動調理モードで加熱する場合には、予め記憶されている調理プログラムを自動調理スイッチの押下等により選択した後、スタートスイッチを押下する。
【0057】
この際、上部加熱ヒータ35が発熱されると、受け皿上の被加熱物が輻射熱によって加熱処理される。また、加熱室奥面37のコンベクションヒータ41が発熱されることにより、さらに被加熱物が均一に高温加熱される。各加熱パターンは、予め調理プログラムとして記憶されて、加熱操作部の自動調理スイッチ等の操作により任意に選定実行される。その場合、加熱室23内の被加熱物の温度が赤外線センサ49により検出され、被加熱物の温度に合わせて又はタイマにより加熱時間等の経過時間が計測され、各部の制御タイミングが設定される。
【0058】
上記調理時の熱の流れは図8に示すようになる。即ち、上部加熱ヒータ35からの加熱室周囲熱流qは、上面71を介して上部熱溜室53へ流入する。コンベクションヒータ41からの加熱室周囲熱流qは、開口孔73を通過して上部熱溜室53に流入する。また、送風手段51によって送風され、赤外線センサ49を冷却した冷却風CA3は、開口孔73を介して上部熱溜室53へ流入する。同じく送風手段51によって送風され、第2冷却風通路67を介して送風された冷却風CA4は、加熱室23の下側へ流入して高周波発生部31、マグネトロン33、制御回路基板85を冷却し、排気口86から外部へと排出される。また、冷却風CA4の一部は、仕切板69と裏板39との間隙に流入し、開口孔73から上部熱溜室53へ排出される。
【0059】
加熱室23からの主熱流Qは、第1熱流通路57によって上部熱溜室53を通過して混合手段55へと流入する。また、送風手段51によって送風された冷却風CA1は、第1冷却風通路79を通過しながら加熱操作部27を冷却した後、混合手段55へと流入する。
【0060】
混合手段55は、図9に示すように、第3熱流通路61の下流端に接続されている。図10に示すように、混合手段55は、所定間隔を隔てて略平行に対面配置され、それぞれに通気孔91が形成された上流側拡散板93と、下流側拡散板95とを少なくとも有する。上流側拡散板93と下流側拡散板95は、図9に示すカバー96によって覆われることで、双方の間に間隙(空間)97を形成している。上流側拡散板93には、上部熱溜室53からの熱流(Q+q)を空間97内に導入するための抜け孔99が形成されている。
【0061】
混合手段55には、上部熱溜室53からの熱流(Q+q)の流れを滞らせる邪魔板101が設けられている。この邪魔板101は、上流側拡散板93の抜け孔99が下流側拡散板65に対面する位置で形成される。上部熱溜室53から混合手段55に流入した熱流は、下流側拡散板65の邪魔板101に当たって一時的に滞留して拡散し、その間に、熱流Qやqが混合手段55との熱伝導や、混合冷気との熱伝達によって降温されるようになっている。
【0062】
即ち、図11に示すように、第1熱流通路57からの主熱流Qと、上部熱溜室53の加熱室周囲熱流qとは、抜け孔99を通過し、上流側拡散板93と下流側拡散板と95との空間97に流入して邪魔板101に当たり攪拌流となる。また、この空間97には上流側拡散板93の通気孔91を通過した第1冷却風通路79からの冷却風CA1が流入する。流入した冷却風CA1は攪拌流と混合されて熱伝達が促進される。これにより、主熱流Q、加熱室周囲熱流q、冷却風CA1が限られた空間97内で十分に熱交換されて降温される。降温された混合流体は下流側拡散板95の通気孔91を通過して排気口29から排出される。
【0063】
なお、混合手段55には、邪魔板101の下流側に風向を規制するルーバー103が設けられている。このように、邪魔板101の下流側にルーバー103が設けられることで、高温となる邪魔板101への手指等による接触が防止される。また、ルーバー103が邪魔板101から所定距離で下流側に配置されるので、排気熱流が降温される。さらに、ルーバー103によって風向が規制され、熱風の注意領域が狭くなっている。
【0064】
従って、この加熱調理器100によれば、外気が送風手段51によって吸引されて冷却風Cが生成され、加熱室23上方の上部熱溜室53で先ず各熱流(主熱流Q、加熱室周囲熱流q)がそれぞれ集合された後、主熱流Qの流れる第1熱流通路57が、主熱流Qより温度の低い加熱室周囲熱流qにより冷却され、各熱流が混合されることで主熱流Qが降温される。さらに排気口29の上流側に配設された混合手段55によって、混合された上部熱溜室53の熱流(Q+q)に冷却風CA1が混合され、少ない送風手段51で高温空気と冷却用空気とが高効率に混合可能となり、混合部容積の縮小が可能になる。例えば、加熱室が300℃に加熱された場合には、第3熱流通路61内は100℃を超える熱気となるが、第1冷却風通路79からの冷却風CA1により、排気口29からは60℃程度の温風となって排出される。
【0065】
これにより、排気口29を加熱調理器100の幅方向全体に亘って確保する必要がなくなり、新たに確保される上部スペースに加熱操作部27が配置され、その結果、加熱室23及び加熱操作部27が共に上方に配置可能となる。また、排気口29が加熱調理器100の幅方向全体に延在しないので、熱風の注意領域が少なくなり、商品の付加価値が高まる。さらに、送風手段51が一つであるので、複数の送風手段を必要とする従来のビルトイン対応型加熱調理器に比べ、部品コスト、消費電力、運転騒音が低減される。
【0066】
【発明の効果】
以上詳細に説明したように、本発明に係るビルトイン対応型加熱調理器によれば、外気を吸引して冷却風を生成する送風手段と、加熱室の上方で各熱流を集合させる上部熱溜室と、排気口の上流側に配設され上部熱溜室内の熱流と冷却風とを混合する混合手段とを備えたので、少ない送風手段で高温空気と冷却用空気とが高効率に混合可能となり、混合部容積を小さくすることができる。従って、排気口を調理器の幅方向全体に亘って確保する必要がなくなり、加熱室及び加熱操作部を共に上方配置することができる。この結果、作業性及び操作性に優れたビルトイン対応型加熱調理器を得ることができる。また、排気口が調理器の幅方向全体に延在しないので、熱風の注意領域が狭くなり、商品の付加価値を向上させることができる。さらに、送風手段が一つであるので、複数の送風手段を必要とするものに比べ、部品コスト、消費電力、運転騒音を低減することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係るビルトイン対応型加熱調理器の開閉扉を開いた状態の外観斜視図である。
【図2】外装パネルを外した本体ケースを斜め後方より見た斜視図である。
【図3】図2に示した本体ケース上面の平面図である。
【図4】第2冷却風通路の斜視図である。
【図5】本体ケースを斜め前方より見た斜視図である。
【図6】混合手段近傍の拡大斜視図である。
【図7】図5のA−A断面図である。
【図8】熱の流れを表す説明図である。
【図9】混合手段を斜め後方から見た斜視図である。
【図10】混合手段を斜め前方から見た分解斜視図である。
【図11】混合手段の作用説明図である。
【図12】システムキッチンに格納された従来のビルトイン対応型加熱調理器の外観図である。
【符号の説明】
23 加熱室
27 加熱操作部
29 排気口
33 マグネトロン(加熱駆動用の部品)
35 上部加熱ヒータ
37 加熱室奥面
39 裏板
41 コンベクションヒータ(奥部加熱ヒータ)
49 赤外線センサ(電子部品)
51 送風手段
53 上部熱溜室
55 混合手段
57 第1熱流通路
59 第2熱流通路
61 第3熱流通路
67 第2冷却風通路
69 仕切板
73 開口孔
79 第1冷却風通路
85 制御回路基板(電子部品)
91 通気孔
93 上流側拡散板
95 下流側拡散板
99 抜け孔
100 加熱調理器(ビルトイン対応型加熱調理器)
101 邪魔板
103 ルーバー
CA1 冷却風
S 配置面領域
Q 主熱流
q 加熱室周囲熱流

Claims (9)

  1. 前面側のみ表出して所定の格納空間内に収容され、熱源により加熱された加熱室内からの主熱流及び該熱源により加熱室周囲で発生した加熱室周囲熱流を、冷却風と混合させた後、排気口から前記格納空間外に排気するビルトイン対応型加熱調理器であって、
    外気を吸引して冷却風を生成する送風手段と、
    前記加熱室の上方で前記各熱流を集合させる上部熱溜室と、
    前記排気口の上流側に配設され前記上部熱溜室内の熱流と前記冷却風とを混合する混合手段とを備え、
    前記上部熱溜室が、前記加熱室からの主熱流を前記混合手段側に導く第1熱流通路と、前記加熱室周囲熱流を前記混合手段側に導く第2熱流通路と、前記第1熱流通路と前記第2熱流通路とを合流させて前記混合手段へ導く第3熱流通路とを有し、
    前記熱源が前記加熱室の奥面側で加熱する奥部加熱ヒータを有し、該奥部加熱ヒータが加熱室奥面と裏板との間で囲まれ、該裏板を挟んで前記加熱室奥面に仕切板が配向配置され、前記裏板と該仕切板との間に生じた熱流を前記上部熱溜室に導く開口孔を、前記第2熱流通路の一部に形成したことを特徴とするビルトイン対応型加熱調理器。
  2. 前面側のみ表出して所定の格納空間内に収容され、熱源により加熱された加熱室内からの主熱流及び該熱源により加熱室周囲で発生した加熱室周囲熱流を、冷却風と混合させた後、排気口から前記格納空間外に排気するビルトイン対応型加熱調理器であって、
    外気を吸引して冷却風を生成する送風手段と、
    前記加熱室の上方で前記各熱流を集合させる上部熱溜室と、
    前記排気口の上流側に配設され前記上部熱溜室内の熱流と前記冷却風とを混合する混合手段とを備え、
    前記上部熱溜室が、前記加熱室からの主熱流を前記混合手段側に導く第1熱流通路と、前記加熱室周囲熱流を前記混合手段側に導く第2熱流通路と、前記第1熱流通路と前記第2熱流通路とを合流させて前記混合手段へ導く第3熱流通路とを有し、
    前記熱源が前記加熱室の上面側で加熱する上部加熱ヒータを有し、前記第2熱流通路が前記上部加熱ヒータの配置面領域の上方空間を含んで形成され、
    さらに前記熱源が前記加熱室の奥面側で加熱する奥部加熱ヒータを有し、該奥部加熱ヒータが加熱室奥面と裏板との間で囲まれ、該裏板を挟んで前記加熱室奥面に仕切板が配向配置され、前記裏板と該仕切板との間に生じた熱流を前記上部熱溜室に導く開口孔を、前記第2熱流通路の一部に形成したことを特徴とするビルトイン対応型加熱調理器。
  3. 前記第3熱流通路の熱流流れ方向に対して直交方向に、前記送風手段からの冷却風を吹き当てる第1冷却風通路を備えたことを特徴とする請求項1又は請求項2記載のビルトイン対応型加熱調理器。
  4. 前記混合手段が、前記上部熱溜室からの熱流の流れを滞らせる邪魔板を備えたことを特徴とする請求項1〜請求項3のいずれか1項記載のビルトイン対応型加熱調理器。
  5. 前記混合手段が、所定間隔を隔てて略平行に対面配置され、それぞれ通気孔が形成された上流側拡散板と下流側拡散板とを有し、
    前記上流側拡散板は、前記上部熱溜室からの熱流を前記下流側拡散板との間の空間内に導入するための抜け孔が形成され、
    前記下流側拡散板は、前記邪魔板を前記抜け穴の対面位置に形成して前記上流側拡散板との間の空間で前記熱流と冷却風とを混合して排出することを特徴とする請求項4記載のビルトイン対応型加熱調理器。
  6. 前記第3熱流通路の熱流流れ方向に対して直交方向に、前記送風手段からの冷却風を吹 き当てる第1冷却風通路と、前記加熱室上方の前記上部熱溜室と略同じ高さに、加熱操作を行う加熱操作部を加熱調理器の前面側に沿って配設し、前記第1冷却風通路を該加熱操作部に沿って配設したことを特徴とする請求項1又は請求項2記載のビルトイン対応型加熱調理器。
  7. 前記送風手段が、加熱調理器の背面側に設けられ、該加熱調理器の背面側の空気を吸引することを特徴とする請求項1又は請求項2記載のビルトイン対応型加熱調理器。
  8. 前面側のみ表出して所定の格納空間内に収容され、熱源により加熱された加熱室内からの主熱流及び該熱源により加熱室周囲で発生した加熱室周囲熱流を、冷却風と混合させた後、排気口から前記格納空間外に排気するビルトイン対応型加熱調理器であって、
    外気を吸引して冷却風を生成する送風手段と、
    前記加熱室の上方で前記各熱流を集合させる上部熱溜室と、
    前記排気口の上流側に配設され前記上部熱溜室内の熱流と前記冷却風とを混合する混合手段とを備え、
    前記混合手段が、前記上部熱溜室からの熱流の流れを滞らせる邪魔板と、前記混合手段が、所定間隔を隔てて略平行に対面配置され、それぞれ通気孔が形成された上流側拡散板と下流側拡散板とを有し、
    前記上流側拡散板は、前記上部熱溜室からの熱流を前記下流側拡散板との間の空間内に導入するための抜け孔が形成され、
    前記下流側拡散板は、前記邪魔板を前記抜け穴の対面位置に形成して前記上流側拡散板との間の空間で前記熱流と冷却風とを混合して排出することを特徴とするビルトイン対応型加熱調理器。
  9. 前面側のみ表出して所定の格納空間内に収容され、熱源により加熱された加熱室内からの主熱流及び該熱源により加熱室周囲で発生した加熱室周囲熱流を、冷却風と混合させた後、排気口から前記格納空間外に排気するビルトイン対応型加熱調理器であって、
    外気を吸引して冷却風を生成する送風手段と、
    前記加熱室の上方で前記各熱流を集合させる上部熱溜室と、
    前記排気口の上流側に配設され前記上部熱溜室内の熱流と前記冷却風とを混合する混合手段とを備え、
    前記上部熱溜室が、前記加熱室からの主熱流を前記混合手段側に導く第1熱流通路と、前記加熱室周囲熱流を前記混合手段側に導く第2熱流通路と、前記第1熱流通路と前記第2熱流通路とを合流させて前記混合手段へ導く第3熱流通路とを有し、
    前記混合手段が、前記上部熱溜室からの熱流の流れを滞らせる邪魔板と、前記混合手段が、所定間隔を隔てて略平行に対面配置され、それぞれ通気孔が形成された上流側拡散板と下流側拡散板とを有し、
    前記上流側拡散板は、前記上部熱溜室からの熱流を前記下流側拡散板との間の空間内に導入するための抜け孔が形成され、
    前記下流側拡散板は、前記邪魔板を前記抜け穴の対面位置に形成して前記上流側拡散板との間の空間で前記熱流と冷却風とを混合して排出することを特徴とするビルトイン対応型加熱調理器。
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