JP4115074B2 - 光走査装置および画像形成装置 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
カラーレーザプリンタ、デジタル複写機等の画像形成装置に用いられる光走査装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
図8は、従来にかかる光走査装置を示す分解斜視図である。図8に示すように、光走査装置100の光源ユニット101はLDベース103を有しており、LDベース103は、光学ハウジング102に設けられた光源ユニット挿入孔102aに回転可能に保持されている。光源ユニット101は、LDベース103に半導体レーザ104a、104bが圧入されており、半導体レーザ104a、104bからのレーザビーム(レーザ光)をカップリングするカップリングレンズ105a、105bが、LDベース103に固定されている。
【0003】
カップリングレンズ105a、105bによりカップリングされた2本のレーザビームは、シリンドリカルレンズ(透過型光学素子)109により、ポリゴンスキャナ110のポリゴンミラー111に主走査方向に長い線像として結像される。このとき、2本のレーザビームをポリゴンミラー111の偏向面付近にて互いに交差させることで、2本のレーザービームの反射点ずれ(いわゆるザク)の影響を低減し、被走査面における光学特性を維持することができる。
【0004】
このように、複数の半導体レーザ104a、104bが主走査方向に配列している場合には、被走査面にて所望の走査線間のピッチ(ビームピッチ)を得るために、半導体レーザ104a、104bとカップリングレンズ105a、105bとの副走査方向の相対位置をずらしている。半導体レーザ104a、104bとカップリングレンズ105a、105bとの相対位置をずらすことにより、シリンドリカルレンズ109に対する2本のレーザビームの副走査方向の入射角度の偏差を発生させることができ、これによって所望のビームピッチを得ることが可能になる。
【0005】
一般に、光軸調整時に、半導体レーザ104a、104bとカップリングレンズ105a、105bとの相対位置ずれを高精度に設定することが困難なので、このずれを補正するために、光学ハウジング102に設けられた調整ねじ113を、LDベース103の突起部103aに当接させ、調節ねじ113によりLDベース103の回転させて補正している。
【0006】
一方、光走査装置1は、複数のレーザビームが主走査方向において異なる入射角度で、ポリゴンミラー111に入射しており、シリンドリカルレンズ109の取付精度が、被走査面における走査線のビームピッチに大きな影響を及ぼす。特に、シリンドリカルレンズ109の光軸周りの偏心(γチルト)により、シリンドリカルレンズ109を射出する2本のレーザビームの成す角度(シリンドリカルレンズ109への入射角度)が変化する。従って、光源ユニット103とシリンドリカルレンズ109のレンズ面の曲率半径との相対的な位置関係がずれないように、光源ユニット103とシリンドリカルレンズ109との位置決めを精度良く行っている。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、上述した技術では、半導体レーザ104a、104bの劣化等により、LDベース103を交換すると、LDベース103とシリンドリカルレンズ109との相対的な位置関係のずれが発生しやすく、被走査面におけるビームピッチ変動が大きいという課題がある。
【0008】
そこで、本発明は、被走査面におけるビームピッチの変動を抑制できる光走査装置を提供することを目的とする。
【0009】
【課題を解決するための手段】
請求項1に記載の発明は、複数の半導体レーザと、上記複数の半導体レーザそれぞれに対応して設けられ且つ上記半導体レーザからのレーザ光をそれぞれカップリングするカップリングレンズと、上記それぞれのカップリングレンズからのレーザ光を、主走査方向に長い線像として偏向器に導く透過型光学素子と、上記透過型光学素子からのレーザ光を偏向しつつ被走査面上を等速走査する偏向器と、上記偏向器により偏向されたレーザ光を被走査面に結像する走査結像手段と、少なくとも上記半導体レーザ、上記カップリングレンズ、上記透過型光学素子を保持する光学ハウジングと、を備え、上記それぞれのレーザ光の偏向器への入射角が、少なくとも主走査方向で互いに異なる光走査装置であって、上記複数の半導体レーザと上記複数のカップリングレンズはベース部に固定され、上記透過型光学素子は保持部材に固定され、上記ベース部は、上記保持部材に対して上記半導体レーザの光軸周り方向に回転調整して固定され、上記ベース部と一体化された保持部材は、上記光学ハウジングに対して上記半導体レーザの光軸周り方向に回転調整して固定され、上記ベース部が回転調整されて上記保持部材に固定され、上記保持部材が回転調整されて上記光学ハウジングに固定されることにより、上記半導体レーザ、カップリングレンズ、透過型光学素子が光学ハウジングに保持されていることを特徴とする。
【0010】
この請求項1に記載の発明では、半導体レーザからのレーザ光はそれぞれ、カップリングレンズを介して透過型光学素子に入射し、透過型光学素子は、入射したそれぞれのレーザ光を、偏向器に対して主走査方向に長い線像として結像する。偏向器は、透過型光学素子からのレーザ光を偏向しつつ、走査線像手段を介して被走査面上を等速走査する。
【0011】
経時により、半導体レーザが劣化したときには、半導体レーザと、カップリングレンズと、透過型光学素子とが一体に取り付けられている保持部材を交換する。半導体レーザと、カップリングレンズと、透過型光学素子とが保持部材に一体に取り付けられていることにより、保持部材を交換しても半導体レーザ、カップリングレンズ、及び透過型光学素子のそれぞれの相対的な位置関係が変わらないので、被走査面におけるビームピッチの変動を抑制することができる。また、半導体レーザ、カップリングレンズ、及び透過型光学素子のそれぞれの相対的な位置関係が変わらないことにより、これらの位置を調整する必要がないので、ビームピッチの調整が容易である。
光学ハウジングに設けられた保持部材を回転することにより、被走査面におけるビームピッチを調整する。保持部材が光学ハウジングに対して回転可能なので、保持部材を回転するだけで、被走査面におけるビームピッチの調整を容易に行うことができる。
透過型光学素子が取り付けられた保持部材を回転することによりビームスポット径を調整し、半導体レーザ及びカップリングレンズが取り付けられたベース部を回転することにより、ビームピッチの調整を行う。
【0016】
ベース部が保持部材に対して回転可能なので、保持部材を回転してビームスポット径を測定しつつ、ベース部を回転してビームピッチの調整を行うことができ、ビームスポット径及びビームピッチの調整を同時に且つ容易に行うことができる。
【0017】
請求項2に記載の発明は、請求項1記載の発明において、透過型光学素子におけるレーザ光の入射面は主走査方向を中心とした円筒状をなしており、透過型光学素子は、保持部材に接着により固定され、この接着面が副走査方向に平行になっていることによって、接着層の厚さ方向は、主走査方向に略一致していることを特徴とする。
【0018】
この請求項2に記載の発明では、請求項1記載の発明と同様な作用効果を奏するとともに、接着層の厚さが主走査方向と略一致しており、接着剤の硬化や温度変動等により、接着層の厚さが変化した場合、透過型光学素子は、主走査方向に移動する。透過型光学素子の入射面が、主走査方向を中心とした円筒形状をなしていることにより、透過型光学素子が主走査方向に移動しても、入射面に対するレーザ光の入射角度にほとんど影響がない。これに対し、透過型光学素子が、副走査方向に移動した場合は、入射面に対するレーザ光の入射角度が変わってしまい、ビームピッチが変動してしまう。
【0019】
従って、接着層の厚さが変化しても、透過型光学素子が、副走査方向及び光軸方向に移動することを抑制できるので、ビームピッチに対する影響を小さくでき、組み付け精度を向上する。
【0020】
請求項3に記載の発明は、請求項1または2記載の発明において、カップリングレンズを出射したそれぞれのレーザ光に対応して設けられ且つそれぞれのレーザ光が通過する開口を有するアパーチャを備え、アパーチャは光学ハウジングに固定されていることを特徴とする。
【0021】
この請求項3に記載の発明では、請求項1または2記載の発明と同様な作用効果を奏するとともに、カップリングレンズを出射したレーザ光はそれぞれ、対応するアパーチャの開口を通って、所定の形状に形成される。アパーチャが光学ハウジングに固定されていることにより、保持部材を回転しても、アパーチャの開口の位置が変わらず、レーザ光における副走査方向の高さに変化が生じ難いので、像高間のビームピッチの偏差を低減することができる。
【0022】
請求項4に記載の発明は、請求項3に記載の発明において、光学ハウジングには、上下方向に溝部が形成されており、この溝部に上下方向から保持部材が着脱自在に装着されることを特徴とする。
【0023】
この請求項4に記載の発明では、請求項3に記載の発明と同様な作用効果を奏するとともに、保持部材は、上下方向に着脱されることにより、カップリングレンズと透光型光学素子との間に位置するアパーチャを取り外すことなく、保持部材を光学ハウジングに着脱できるので、組み付けが容易になる。
【0024】
【発明の実施の形態】
以下、添付した図面を参照しながら本発明の実施の形態を詳細に説明する。図1乃至図3に示すように、光走査装置1は、例えば、カラーレーザプリンタ(図示せず)内に配置されており、光源ユニット3と、ポリゴンスキャナ5と、走査結像部(走査結像手段)7とが、光学ハウジング9に設けられている。光学ハウジング9には、ポリゴンスキャナ5を収納する収納室(図示せず)が形成されており、収納室はポリゴンミラー19の騒音を防止する防音ガラス25により密閉されている。また、光学ハウジング9には外部から光学ハウジング9内への埃の侵入を防止するための防塵ガラス27が配置されている。
【0025】
光源ユニット3は、レーザビームを出射する半導体レーザ11a、11bと、半導体レーザ11a、11bからの出射光(レーザビーム)12a、12bをそれぞれカップリングするためのカップリングレンズ13a、13bと、カップリングレンズ13a、13bからのレーザビーム12a、12bを、開口15a、15bに通過させることにより、レーザビーム12a、12bを所定の形状に成形するアパーチャ15と、アパーチャ15からのレーザビーム12a、12bを、主走査方向に長い線像としてポリゴンスキャナ5に導くシリンドリカルレンズ17とを有している。尚、レーザビーム12a、12bに対するシリンドリカルレンズ17の入射面は、主走査方向を中心とした円筒状をなしている。
【0026】
ポリゴンスキャナ5は、図2の矢印A方向に回転駆動するポリゴンミラー(偏向器)19を有しており、ポリゴンミラー19の回転駆動によりシリンドリカルレンズ17からのレーザビーム12a、12bを偏向しつつ被走査面20上を等速走査するものである。走査結像部7は、第1走査結像レンズ21と、第2走査結像レンズ23とを有しており、ポリゴンミラー19に偏向されたレーザビーム12a、12bを被走査面20に結像するものである。尚、被走査面20は、像担持体である感光体の表面であり、被走査面20を光走査することにより、被走査面に静電潜像を形成するようになっている。
【0027】
本実施の光走査装置1の主要諸元及びその配置を表1に示す。
【0028】
【表1】
【0029】
Rm:主走査方向曲率半径(mm)
Rs:副走査方向局率半径(mm)
ΔX:面間距離(mm)
N:屈折率
波面収差補正のため、非球面係数が付加される。
走査結像性能補正のため、非球面係数が付加される。
上記記載の光学素子の他、ポリゴンスキャナの騒音を防止する防音ガラス、及び外部から光学ハウジング内への埃の侵入を防ぐための防塵ガラスが付加されている。
シリンドリカルレンズの光軸と走査結像光学系の光軸のなす角度は、61.55(deg)である。また、シリンドリカルレンズの光軸は、半導体レーザからの光束に対し、均等に1.55(deg)の角度を有する。
【0030】
光源ユニット3の半導体レーザ11a、11bと、カップリングレンズ13a、13bと、シリンドリカルレンズ17とは、ホルダ(保持部材)29に一体に保持されている。ホルダ29は、LDベース(ベース部)31を有しており、図3に示すように、半導体レーザ11a、11bがLDベース31に圧入され、カップリングレンズ13a、13bは、LDベース31に接着剤33(例えば、紫外線硬化型)により接着固定されている。
【0031】
また、2つの半導体レーザ11a、11b、及び対応するカップリングレンズ13a、13bが略主走査方向に配列しており、被走査面20において所望のビームピッチを得るために、半導体レーザ11a、11bとカップリングレンズ13a、13bとの副走査方向の相対位置をずらしている。相対位置をずらすことにより、シリンドリカルレンズ17に対する2本のレーザビーム12a、12bの副走査方向の入射角度の偏差を発生させることができ、所望のビームピッチを得ることが可能になる。本実施の形態では、被走査面20での副走査方向の書き込み密度を1200dpi(ビームピッチ:21.16(μm))とするため、相対位置のずらし量をそれぞれ2.2(μm)に設定しているが、これに限定されるものではない。
【0032】
LDベース31は、ホルダ29に形成されたLDベース挿入孔29aに回転可能(γチルト可能)になっており、LDベース31をLDベース挿入孔29aに対して回転させることで、被走査面20における走査線間のピッチ(ビームピッチ)を調整してから、LDベース31をホルダ29にねじどめ或いは接着等で固定するようになっている。また、シリンドリカルレンズ17は、ホルダ29に設けられたシリンドリカルレンズ保持部29bに、図示しない板ばね又は接着等により固定されている。これにより、半導体レーザ11a、11bと、カップリングレンズ13a、13bと、シリンドリカルレンズ17とのそれぞれの相対的位置関係を不変とすることができる。
【0033】
ホルダ29は、光学ハウジング9に形成されたホルダ挿入孔9aに回転可能(γチルト可能)に保持され、ホルダ回転調整用ねじ35を、ホルダ29に固定されているLDベース31の突起31aに当接させている。従って、ホルダ29は、ホルダ回転調整用ねじ35により、光軸周りの配置角度を調整されるようになっている。
【0034】
次に、上述した構成に基づき、本実施の形態の作用を説明する。光走査装置1を組み立てるときは、先ず、シリンドリカルレンズ17をホルダ29の保持部29bに取り付け、このホルダ29を光学ハウジング9のホルダ挿入孔9aに挿入する。ホルダ挿入孔9aに挿入したホルダ29を回転することにより、ビームスポット径を確保しつつ、LDベース31を回転して、ビームピッチの調整を行なってからLDベース31をホルダ29に固定する。
【0035】
ホルダ29を光学ハウジング9に取り付けた後、ポリゴンスキャナ5、走査結像部7等を光学ハウジング9内に取り付ける。このようにして組み立てられた光走査装置1は、カラーレーザプリンタ内の所定の部位に位置決めされる。
【0036】
光走査装置1の駆動時において、半導体レーザ11a、11bからのレーザビーム12a、12bはそれぞれ、カップリングレンズ13a、13bを介してシリンドリカルレンズ17に入射し、シリンドリカルレンズ17は、入射したそれぞれのレーザビーム12a、12bを、ポリゴンミラー19に対して主走査方向に長い線像として結像する。ポリゴンミラー19は、その回転駆動により、シリンドリカルレンズ17らのレーザビーム12a、12bを偏向しつつ、第1及び第2走査結像レンズ21、23を介して被走査面20上を等速走査する。
【0037】
経時により、半導体レーザ11a、11bが劣化したときには、半導体レーザ11a、11bと、カップリングレンズ13a、13bと、シリンドリカルレンズ17とが一体に取り付けられているホルダ29を交換する。
【0038】
半導体レーザ11a、11bと、カップリングレンズ13a、13bと、シリンドリカルレンズ17ととがホルダ29に一体に取り付けられていることにより、ホルダ29を交換しても半導体レーザ11a、11b、カップリングレンズ13a、13b、及びシリンドリカルレンズ17との相対的な位置関係が変わらないので、被走査面20におけるビームピッチの変動を抑制することができる。また、半導体レーザ11a、11b、カップリングレンズ13a、13b、及びシリンドリカルレンズ17の相対的な位置関係が変わらないことにより、これらの位置の調整をする必要がないので、ビームピッチの調整が容易である。
【0039】
本実施の形態のホルダ29を光軸周りに回転したときのビームピッチと、LDベース31のみを光軸周りに回転したときのビームピッチと、シリンドリカルレンズ17のみを光軸周りに回転したときのビームピッチとを比較する試験を行ったので、その結果を図4及び表2に示す。
【0040】
図4は、縦軸に被走査面におけるビームピッチを取り、横軸に像高をとったグラフであり、(a)は、LDベースのみを光軸周りに回転(γチルト)したときのビームピッチを示し、(b)は、シリンドリカルレンズのみを光軸周りに回転(γチルト)したときのビームピッチを示し、(c)は、LDベースが固定されたホルダを、光軸周りに回転(γチルト)したときの被走査面におけるビームピッチの変動を示している。また、表2は、図4のグラフにおいて像高H=0の数値をまとめた表である(設計中央値の像高H=0を基準としたビームピッチ変動)。
【0041】
【表2】
【0042】
図4の(a)及び表2により、半導体レーザ11a、11b及びカップリングレンズ13a、13bを一体に保持するLDベース31のみを、0.2(度=deg)回転した場合は、ビームピッチが略12.7(μm)ずれていた。従って、この場合、LDベース31の取り付け誤差と、ビームピッチとの関係(勾配)は、略63(μm/deg)となった。例えば、LDベース31の取り付け誤差が、1/6(deg)発生した場合には、ビームピッチ変動が略10(μm)となってしまう。
【0043】
同様に、図4の(b)及び表2により、シリンドリカルレンズ17の取り付け誤差と、ビームピッチとの関係は、略74(μm/deg)となった。例えば、シリンドリカルレンズ17の取り付け誤差が、1/6(deg)発生した場合には、ビームピッチ変動が略12(μm)となってしまう。
【0044】
これに対し、半導体レーザ11a、11bと、カップリングレンズ13a、13bと、シリンドリカルレンズ17とを一体に保持するホルダ29を、0.2(deg)回転させた場合は、ビームピッチのずれが略2.0(μm)であり、ホルダ19の取り付け誤差と、ビームピッチの関係は、略10(μm/deg)となった。例えば、ホルダ29の取り付け誤差が、1/6(deg)発生した場合には、ビームピッチ変動が略1.7(μm)であり、LDベース31のみ、又はシリンドリカルレンズ17のみを回転させた場合に比べ、ビームピッチ変動が効果的に抑制されるのがわかる。
【0045】
このように被走査面20である感光体の表面に対するビームピッチの変動を抑制することができるので、ホルダ29を交換したときに、光学ハウジング9に対するホルダ29の取り付け誤差が生じても出力画像品質の劣化を防止することができる。
【0046】
一般に、被走査面20におけるビームピッチは、シリンドリカルレンズ17を射出する2本のレーザビームのなす角度により決定される。即ち、LDベース31のみ、又はシリンドリカルレンズ17のみを回転させた場合に比べ、ビームピッチ変動が効果的に抑制されるのは、シリンドリカルレンズ17に対するレーザビーム12a、12bの入射及び出射角度の変化が小さいからであると考えられる。
【0047】
これを確認するため、LDベース31のみ、シリンドリカルレンズ17のみ、ホルダ29を光軸周りに回転したときのシリンドリカルレンズ(CYL)17に対するレーザビーム12bの入射及び出射角度を比較する試験を行ったので、その結果を図5に示す。
【0048】
図5は、縦軸にシリンドリカルレンズ(CYL)に対する入射及び出力角度(分=min)をとり、横軸に(a)LDベースの回転角度、(b)シリンドリカルレンズの回転角度、(c)ホルダ29の回転角度をとっており、上記(a)〜(c)のγチルト量に対するレーザビーム12bのシリンドリカルレンズ17への入射及び出射角度を示したグラフである。
【0049】
図5に示すように、LDベース31のみ、シリンドリカルレンズ19のみを回転した場合(図5の(a)、(b))と比較して、ホルダ29を回転した場合(図5の(c))には、シリンドリカルレンズ17に対する入射角度及び出射角度の変化が小さかった。即ち、ホルダ29をγチルトした場合は、入射角度及び出射角度の変化が小さくなり、光学ハウジング9に対するホルダ29の取り付け誤差がビームピッチに及ぼす影響が小さくなったことがわかる。
【0050】
一方、シリンドリカルレンズ17の取り付け誤差(γチルト)は、被走査面20でのビームスポット径にも影響を及ぼすことが知られている。像高H=0におけるシリンドリカルレンズ17のγチルト量と、被走査面におけるビームスポット径との関係を表3に示す。
【0051】
【表3】
【0052】
表3からも明らかなように、シリンドリカルレンズ17のγチルト量の増加に従い、ビームスポット径が増大していることがわかる。これは、シリンドリカルレンズ17のγチルト量の増加に従い、シリンドリカルレンズ17と、第1及び第2走査結像レンズ21、23との間の相対的な水平度(ポリゴンミラー19前後の光学系の主走査及び副走査方向)の関係が劣化するため、波面収差が増加することで、ビームスポット径の増大をもたらしていると考えられる。
【0053】
これに対し、本実施の形態では、組み立て前において、LDベース31がホルダ29に対して回転可能になっており、ホルダ挿入孔9aに挿入したホルダ29にLDベース31を固定する前に、ホルダ29を回転することにより、ビームスポット径を確保(ポリゴンミラー19前後の光学系の水平度を確保)し、LDベース31を回転して、ビームピッチの調整を行なっている。従って、ホルダ29を回転してビームスポット径を測定しながら、ビームピッチの調整を行うことが容易にでき、ビームスポット径の増大を防止できる。
【0054】
次に、第2実施の形態を説明するが、その説明にあたり、上述した部分と同様な部分には、同一の符号を付することによりその説明を省略する。
【0055】
図6は、第2実施の形態にかかる光走査装置を示す分解斜視図である。図6に示すように、ホルダ29の保持部29bにおけるシリンドリカルレンズ17の接着面が副走査方向に略平行になっており、シリンドリカルレンズ17が、保持部29bに接着剤により固定されている。即ち、保持部29bとシリンドリカルレンズ17との接着層39の厚さ方向は、主走査方向に略一致する。尚、シリンドリカルレンズ17は、第1実施の形態と同様に、レーザビーム12a、12bの入射面が、主走査方向を中心とした円筒状をなしている。
【0056】
接着層39の厚さ方向が、主走査方向に略一致するので、接着剤の硬化や温度変動等により、接着層39の厚さが変化した場合、シンドリカルレンズ17は、主走査方向に移動する。従って、接着層39の厚さが変化しても、シンドリカルレンズ17が、副走査方向及び光軸方向に移動することを抑制できるので、ビームピッチに対する影響を小さくでき、組み付け精度が向上する。
【0057】
即ち、シリンドリカルレンズ17の入射面が、主走査方向を中心とした円筒形を成していることにより、シリンドリカルレンズ17が主走査方向に移動しても、入射面に対するレーザビーム12a、12bの入射角度にほとんど影響がない。これに対し、シリンドリカルレンズ17が、副走査方向に移動した場合は、入射面に対するレーザビーム12a、12bの入射角度が変わってしまい、ビームピッチが変動してしまうことがある。
【0058】
一方、第2実施の形態において、ハウジング9には、第1実施の形態のホルダ挿入孔9aの代りに、略U字状の溝部9bが形成されており、この溝部9bにLDベース31が固定されたホルダ29が、上下方向に着脱可能になっている。また、アパーチャ15は、ホルダ29を溝部9aに装着したとき、シンドリカルレンズ17とカップリングレンズ13a、13bとの間に位置するように、ハウジング9に固定されている。
【0059】
アパーチャ15が、ハウジング9に固定されていることにより、ビームピッチ調整のためにホルダ29を回転(γチルト)しても、アパーチャ15の開口の位置が変わらず、レーザビーム12a、12bにおける副走査方向の高さに変化が生じないので、像高間のビームピッチの偏差を低減することができる。
【0060】
アパーチャ15をハウジング9に固定した場合と、アパーチャ15をホルダ29と一体に設けた場合(ホルダ29が回転するとアパーチャ15も回転する場合)とを比較した試験を行ったので、その結果を図8に示す。図8は、縦軸にレーザビーム12a、12bの通過高さをとり、横軸にレーザビーム12a、12bの光路長をとったグラフであり、(a)は、アパーチャ15を光学ハウジング15に固定した場合であり、(b)は、アパーチャをホルダ29に固定した場合である。
【0061】
図7の(a)に示すように、アパーチャ15を光学ハウジング9に固定した場合は、被走査面20への入射角度が小くなり、部品公差、組立公差により、副走査方向の像面湾曲が生じても、像高間のビームピッチ偏差が小さくなった。これに対し、図7の(b)に示すように、アパーチャ15とホルダ29とがともに回転する場合は、被走査面20への入射角度が大きくなり、部品公差、組立公差により、副走査方向の像面湾曲が生じると、像高間のビームピッチ偏差が大きくなってしまった。従って、アパーチャ15を光学ハウジング9に固定することにより、像高間のビームピッチ偏差を抑制することができることがわかる。
【0062】
また、本実施の形態では、光学ハウジング9に対するホルダ29の着脱は、上下方向に行われており、ホルダ29を交換するときに、光学ハウジング9に固定されたアパーチャ15を取り外す必要がないので、光学ハウジング9に対するホルダ29の組み付けが容易である。
【0063】
本発明は、上述した実施の形態に限定されず、その要旨を逸脱しない範囲内において、種々の変形が可能である。例えば、本実施の形態では、半導体レーザ11a、11bを2つ用いたが、これに限定されるものではなく、3つ、4つ等複数の半導体レーザを用いても同様の作用効果を得る。
【0064】
また、本発明の光走査装置は、カラーレーザプリンタに適用したが、例えば、デジタル複写機等の画像形成装置に適用しても良い。
【0065】
【発明の効果】
請求項1に記載の発明では、半導体レーザと、カップリングレンズと、透過型光学素子とが保持部材に一体に取り付けられていることにより、保持部材を交換しても半導体レーザ、カップリングレンズ、及び透過型光学素子のそれぞれの相対的な位置関係が変わらないので、被走査面におけるビームピッチの変動を抑制することができる。また、半導体レーザ、カップリングレンズ、及び透過型光学素子のそれぞれの相対的な位置関係が変わらないことにより、これらの位置を調整する必要がないので、ビームピッチの調整が容易である。
保持部材が光学ハウジングに対して回転可能なので、保持部材を回転するだけで、被走査面におけるビームピッチの調整を容易に行うことができる。
ベース部が保持部材に対して回転可能なので、透過型光学素子が取り付けられた保持部材を回転してビームスポット径を測定しつつ、ベース部を回転してビームピッチの調整を行うことができ、ビームスポット径及びビームピッチの調整を同時に且つ容易に行うことができる。
【0068】
請求項2に記載の発明では、請求項1記載の発明と同様な効果を奏するとともに、接着層の厚さが主走査方向と略一致していることにより、接着層の厚さが変化しても、透過型光学素子が、副走査方向及び光軸方向に移動することを抑制できるので、ビームピッチに対する影響を小さくでき、組み付け精度を向上する。
【0069】
請求項3に記載の発明では、請求項1または2記載の発明と同様な効果を奏するとともに、アパーチャが光学ハウジングに固定されていることにより、保持部材を回転しても、アパーチャの開口の位置が変わらず、レーザ光における副走査方向の高さに変化が生じ難いので、像高間のビームピッチの偏差を低減することができる。
【0070】
請求項4に記載の発明では、請求項3に記載の発明と同様な効果を奏するとともに、保持部材は、上下方向に着脱されることにより、カップリングレンズと透光型光学素子との間に位置するアパーチャを取り外すことなく、保持部材を光学ハウジングに着脱できるので、組み付けが容易になる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明にかかる光源ユニットの近傍を示す分解斜視図である。
【図2】本発明にかかる光走査装置を概略的に示す平面図である。
【図3】LDベースを示す断面図である。
【図4】(a)は、LDベースのみを回転したときのビームピッチを示し、(b)は、シリンドリカルレンズのみを回転したときのビームピッチを示し、(c)は、LDベースを固定したホルダを回転したときのビームピッチを示すグラフである。
【図5】(a)は、LDベースの回転角度と、シリンドリカルレンズに対するレーザビームの入射及び出射角の関係を示し、(b)は、シリンドリカルレンズの回転角度と、シリンドリカルレンズに対するレーザビームの入射及び出射角の関係を示し、(c)は、ホルダの回転角度と、シリンドリカルレンズに対するレーザビームの入射及び出射角の関係を示したグラフである。
【図6】第2実施の形態に係る光源ユニット3の近傍を示す分解斜視図である。
【図7】(a)は、アパーチャを光学ハウジングに固定したときのレーザビームの光路長と通過高さとの関係を示し、(b)は、アパーチャをホルダに取り付けたときのレーザビームの光路長と通過高さとの関係を示すグラフである。
【図8】従来にかかる光走査装置を示す分解斜視図である。
【符号の説明】
1 光走査装置
7 走査結像部(走査結像手段)
9 光学ハウジング
9b 溝部
11a、11b 半導体レーザ
13a、13b カップリングレンズ
17 シリンドリカルレンズ(透過型光学素子)
19 ポリゴンミラー(偏向器)
29 ホルダ(保持部材)
31 LDベース(ベース部)
Claims (5)
- 複数の半導体レーザと、
上記複数の半導体レーザそれぞれに対応して設けられ且つ上記半導体レーザからのレーザ光をそれぞれカップリングするカップリングレンズと、
上記それぞれのカップリングレンズからのレーザ光を、主走査方向に長い線像として偏向器に導く透過型光学素子と、
上記透過型光学素子からのレーザ光を偏向しつつ被走査面上を等速走査する偏向器と、
上記偏向器により偏向されたレーザ光を被走査面に結像する走査結像手段と、
少なくとも上記半導体レーザ、上記カップリングレンズ、上記透過型光学素子を保持する光学ハウジングと、を備え、
上記それぞれのレーザ光の偏向器への入射角が、少なくとも主走査方向で互いに異なる光走査装置であって、
上記複数の半導体レーザと上記複数のカップリングレンズはベース部に固定され、
上記透過型光学素子は保持部材に固定され、
上記ベース部は、上記保持部材に対して上記半導体レーザの光軸周り方向に回転調整して固定され、
上記ベース部と一体化された保持部材は、上記光学ハウジングに対して上記半導体レーザの光軸周り方向に回転調整して固定され、
上記ベース部が回転調整されて上記保持部材に固定され、上記保持部材が回転調整されて上記光学ハウジングに固定されることにより、上記半導体レーザ、カップリングレンズ、透過型光学素子が光学ハウジングに保持されていることを特徴とする光走査装置。 - 透過型光学素子におけるレーザ光の入射面は主走査方向を中心とした円筒状をなしており、透過型光学素子は、保持部材に接着により固定され、この接着面が副走査方向に平行になっていることによって、接着層の厚さ方向は、主走査方向に略一致していることを特徴とする請求項1記載の光走査装置。
- カップリングレンズを出射したそれぞれのレーザ光に対応して設けられ且つそれぞれのレーザ光が通過する開口を有するアパーチャを備え、アパーチャは、カップリングレンズと透過型光学素子との間において光学ハウジングに固定されていることを特徴とする請求項1または2記載の光走査装置。
- 光学ハウジングには、上下方向に溝部が形成されており、この溝部に上下方向から保持部材が着脱自在に装着されることを特徴とする請求項3記載の光走査装置。
- 請求項1乃至4のいずれかに記載の光走査装置を備えた画像形成装置。
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