JPH0943541A - コリメータユニット - Google Patents
コリメータユニットInfo
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- JPH0943541A JPH0943541A JP21250995A JP21250995A JPH0943541A JP H0943541 A JPH0943541 A JP H0943541A JP 21250995 A JP21250995 A JP 21250995A JP 21250995 A JP21250995 A JP 21250995A JP H0943541 A JPH0943541 A JP H0943541A
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- Japan
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- lens
- index lens
- semiconductor laser
- collimator unit
- distributed index
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 画像に濃淡のむらがない高品位な画像で光走
査を行うことができる。 【構成】 半導体レーザー光源１０の活性層である発光
点１０ａから出射された光束L1は、実線で示すように絞
り１２により光量が制限されて光軸に対して稍々傾斜し
た分布屈折率レンズ１１に入射し、平行光束L2となって
出射される。このとき、一部の光束L3は分布屈折率レン
ズ１１の出射面Ｉにおいて反射され、点線で示すように
再び分布屈折率レンズ１１を通って半導体レーザー光源
１０の方向に戻る。このとき、分布屈折率レンズ１１は
出射する平行光束L2に対して傾けて配置されているの
で、その戻り光L3は半導体レーザー光源１０の発光点１
０ａから所定量ずれた場所に戻る。
査を行うことができる。 【構成】 半導体レーザー光源１０の活性層である発光
点１０ａから出射された光束L1は、実線で示すように絞
り１２により光量が制限されて光軸に対して稍々傾斜し
た分布屈折率レンズ１１に入射し、平行光束L2となって
出射される。このとき、一部の光束L3は分布屈折率レン
ズ１１の出射面Ｉにおいて反射され、点線で示すように
再び分布屈折率レンズ１１を通って半導体レーザー光源
１０の方向に戻る。このとき、分布屈折率レンズ１１は
出射する平行光束L2に対して傾けて配置されているの
で、その戻り光L3は半導体レーザー光源１０の発光点１
０ａから所定量ずれた場所に戻る。
Description
【０００１】
【発明に属する技術分野】本発明は、例えば電子写真プ
ロセスを有するレーザービームプリンタやデジタル複写
機等の走査光学装置に使用されるコリメータユニットに
関するものである。
ロセスを有するレーザービームプリンタやデジタル複写
機等の走査光学装置に使用されるコリメータユニットに
関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来から、レーザービームプリンタ等の
走査光学装置においては、半導体レーザー光源等の光源
手段から放射した光束をレンズにより集光した後に、画
像信号に応じて光変調している。そして、光変調された
光束を例えばポリゴンミラーから成る光偏向器により周
期的に偏向させ、ｆθ特性を有する結像光学系によって
感光性の記録媒体面上にスポット状に集束させ、光走査
しながら画像記録を行っている。
走査光学装置においては、半導体レーザー光源等の光源
手段から放射した光束をレンズにより集光した後に、画
像信号に応じて光変調している。そして、光変調された
光束を例えばポリゴンミラーから成る光偏向器により周
期的に偏向させ、ｆθ特性を有する結像光学系によって
感光性の記録媒体面上にスポット状に集束させ、光走査
しながら画像記録を行っている。
【０００３】このような走査光学装置に使用されている
コリメータユニットは、半導体レーザー光源からの発散
光束を集光レンズにより平行光束又は収束光束に変換す
るためのものであるが、一般に両凸レンズや平凸レンズ
等の球面単レンズは球面収差が大いので、Ｆナンバの小
さい明るい系には使用できない。
コリメータユニットは、半導体レーザー光源からの発散
光束を集光レンズにより平行光束又は収束光束に変換す
るためのものであるが、一般に両凸レンズや平凸レンズ
等の球面単レンズは球面収差が大いので、Ｆナンバの小
さい明るい系には使用できない。
【０００４】従って、Ｆナンバの小さい系では、集光レ
ンズとして複数の球面レンズを組み合わせた光学系が使
用されているが、複数のレンズを使用するとコストが高
くなってしまう。このために、集光レンズとして、両凸
レンズ、平凸レンズ、複数の球面レンズを組み合わせ
た、例えば日本板ガラス株式会社製のセルフォックレン
ズに代表されるような、光軸から外周部にむけて屈折率
勾配を有する分布屈折率レンズ（gradient index lens
、ＧＩレンズ) が使用されている。
ンズとして複数の球面レンズを組み合わせた光学系が使
用されているが、複数のレンズを使用するとコストが高
くなってしまう。このために、集光レンズとして、両凸
レンズ、平凸レンズ、複数の球面レンズを組み合わせ
た、例えば日本板ガラス株式会社製のセルフォックレン
ズに代表されるような、光軸から外周部にむけて屈折率
勾配を有する分布屈折率レンズ（gradient index lens
、ＧＩレンズ) が使用されている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら上述の従
来例のように、集光レンズとして分布屈折率レンズを使
用する場合は、その入射面と出射面が共に平面であるこ
とから、図７に示すように分布屈折率レンズ１の出射面
Ｉから反射された光束が、点線で示すように再び分布屈
折率レンズ１を通り、絞り２を介して半導体レーザー光
源３へ戻ってくる。この戻り光は半導体レーザー光源３
の発光点、ステム、自動光量制御用のピンフォトダイオ
ード等に作用して光量変動を引き起こすため、このよう
なコリメータユニットを搭載した走査光学装置において
は、戻り光により画像に濃淡のむらが発生し、高品位な
画像形成を行う上で問題となっている。
来例のように、集光レンズとして分布屈折率レンズを使
用する場合は、その入射面と出射面が共に平面であるこ
とから、図７に示すように分布屈折率レンズ１の出射面
Ｉから反射された光束が、点線で示すように再び分布屈
折率レンズ１を通り、絞り２を介して半導体レーザー光
源３へ戻ってくる。この戻り光は半導体レーザー光源３
の発光点、ステム、自動光量制御用のピンフォトダイオ
ード等に作用して光量変動を引き起こすため、このよう
なコリメータユニットを搭載した走査光学装置において
は、戻り光により画像に濃淡のむらが発生し、高品位な
画像形成を行う上で問題となっている。
【０００６】本発明の目的は、上述の問題点を解消し、
画像に濃淡のむらがない高品位な画像で光走査を行うた
めのコリメータユニットを提供することにある。
画像に濃淡のむらがない高品位な画像で光走査を行うた
めのコリメータユニットを提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
の第１発明に係るコリメータユニットは、半導体レーザ
ー光源からの発散光束を、光軸から外周部に向かって屈
折率勾配を有する分布屈折率レンズにより略平行光束に
変換する際に、前記分布屈折率レンズの焦点距離をｆと
したときに、前記分布屈折率レンズの光軸のコリメータ
ユニットからの出射光軸に対する傾き角θが、ｆ・tan
(２θ−１°) ≧０．１の関係を満足することを特徴と
する。
の第１発明に係るコリメータユニットは、半導体レーザ
ー光源からの発散光束を、光軸から外周部に向かって屈
折率勾配を有する分布屈折率レンズにより略平行光束に
変換する際に、前記分布屈折率レンズの焦点距離をｆと
したときに、前記分布屈折率レンズの光軸のコリメータ
ユニットからの出射光軸に対する傾き角θが、ｆ・tan
(２θ−１°) ≧０．１の関係を満足することを特徴と
する。
【０００８】第２発明に係るコリメータユニットは、半
導体レーザー光源光源からの発散光束を、光軸から外周
部に向かって屈折率勾配を有する分布屈折率レンズによ
り収束光束に変換する際に、前記分布屈折率レンズの焦
点距離をｆ、前記分布屈折率レンズの傾斜面内における
絞りの直径をｄ、平行光束入射時におけるレンズバック
をSk、収束光束入射時におけるレンズバックをSk’とし
たときに、前記分布屈折率レンズの光軸のコリメータユ
ニットからの出射光軸に対する傾き角θが、ｆ・tan(２
θ−１°) −ｄ・（Sk’−Sk）／ｆ≧０．１の関係を満
足することを特徴とする。
導体レーザー光源光源からの発散光束を、光軸から外周
部に向かって屈折率勾配を有する分布屈折率レンズによ
り収束光束に変換する際に、前記分布屈折率レンズの焦
点距離をｆ、前記分布屈折率レンズの傾斜面内における
絞りの直径をｄ、平行光束入射時におけるレンズバック
をSk、収束光束入射時におけるレンズバックをSk’とし
たときに、前記分布屈折率レンズの光軸のコリメータユ
ニットからの出射光軸に対する傾き角θが、ｆ・tan(２
θ−１°) −ｄ・（Sk’−Sk）／ｆ≧０．１の関係を満
足することを特徴とする。
【０００９】
【発明の実施の形態】本発明を図１〜図６に図示の実施
例に基づいて詳細に説明する。図１は第１の実施例の光
走査光学装置の平面図を示し、半導体レーザー光源１
０、分布屈折率レンズ１１、絞り１２から成るコリメー
タユニット１３の前方の光軸Ｏ上には、シリンドリカル
レンズ１４、回転偏向器１５が配列されており、回転偏
向器１５の反射方向には走査レンズ１６、被走査面１７
が配列されている。
例に基づいて詳細に説明する。図１は第１の実施例の光
走査光学装置の平面図を示し、半導体レーザー光源１
０、分布屈折率レンズ１１、絞り１２から成るコリメー
タユニット１３の前方の光軸Ｏ上には、シリンドリカル
レンズ１４、回転偏向器１５が配列されており、回転偏
向器１５の反射方向には走査レンズ１６、被走査面１７
が配列されている。
【００１０】コリメータユニット１３からの光束は、シ
リンドリカルレンズ１４により主走査方向に長手の線像
となって回転偏向器１５に入射する。この光束は走査レ
ンズ１６により被走査面１７にスポット状に結像され、
回転偏向器１５の矢印Ａ方向への回動により被走査面１
７上を偏向走査される。
リンドリカルレンズ１４により主走査方向に長手の線像
となって回転偏向器１５に入射する。この光束は走査レ
ンズ１６により被走査面１７にスポット状に結像され、
回転偏向器１５の矢印Ａ方向への回動により被走査面１
７上を偏向走査される。
【００１１】図２はコリメータユニット１３の断面図を
示し、鏡筒１８にはレーザー光が出射する側にコリメー
タレンズである分布屈折率レンズ１１が組み込まれ、分
布屈折率レンズ１１は光軸Ｏから外周方向に向かって屈
折率分布を有し、光軸Ｏに垂直な面に対し稍々傾斜して
固定されている。そして、鏡筒１８のレーザー光が入射
する側には、出射光量を制限する絞り１２が設けられて
いる。一方、半導体レーザー光源１０はレーザーホルダ
１９に固定され、レーザーホルダ１９は鏡筒１８の調整
接着台に嵌合されており、出射光束のピント位置や照射
位置が調整された後に接着固定される。
示し、鏡筒１８にはレーザー光が出射する側にコリメー
タレンズである分布屈折率レンズ１１が組み込まれ、分
布屈折率レンズ１１は光軸Ｏから外周方向に向かって屈
折率分布を有し、光軸Ｏに垂直な面に対し稍々傾斜して
固定されている。そして、鏡筒１８のレーザー光が入射
する側には、出射光量を制限する絞り１２が設けられて
いる。一方、半導体レーザー光源１０はレーザーホルダ
１９に固定され、レーザーホルダ１９は鏡筒１８の調整
接着台に嵌合されており、出射光束のピント位置や照射
位置が調整された後に接着固定される。
【００１２】図３はコリメータユニット１３における光
路図を示し、半導体レーザー光源１０の活性層である発
光点１０ａから出射された光束L1は、実線で示すように
絞り１２により光量が制限されて分布屈折率レンズ１１
に入射し、平行光束L2となって出射される。このとき、
一部の光束L3は分布屈折率レンズ１１の出射面Ｉにおい
て反射され、点線で示すように再び分布屈折率レンズ１
１を通って半導体レーザー光源１０の方向に戻る。
路図を示し、半導体レーザー光源１０の活性層である発
光点１０ａから出射された光束L1は、実線で示すように
絞り１２により光量が制限されて分布屈折率レンズ１１
に入射し、平行光束L2となって出射される。このとき、
一部の光束L3は分布屈折率レンズ１１の出射面Ｉにおい
て反射され、点線で示すように再び分布屈折率レンズ１
１を通って半導体レーザー光源１０の方向に戻る。
【００１３】ここで、分布屈折率レンズ１１は出射する
平行光束L2に対して傾けて配置されているので、その戻
り光L3は半導体レーザー光源１０の発光点１０ａから所
定量ずれた場所に戻る。このときのずれ量ΔＺは、分布
屈折率レンズ１１の焦点距離をｆとし、出射光束L2に対
する分布屈折率レンズ１１の傾き角をθとすると、ΔＺ
＝ｆ・tan ２θと表すことができる。
平行光束L2に対して傾けて配置されているので、その戻
り光L3は半導体レーザー光源１０の発光点１０ａから所
定量ずれた場所に戻る。このときのずれ量ΔＺは、分布
屈折率レンズ１１の焦点距離をｆとし、出射光束L2に対
する分布屈折率レンズ１１の傾き角をθとすると、ΔＺ
＝ｆ・tan ２θと表すことができる。
【００１４】鏡筒１８は取付時において、出射光束L2に
対し３０°程度の傾き公差が見込まれており、更に一般
的な半導体レーザー光源１０の発光点１０ａ部分の形状
を考慮すると、戻り光L3のずれ量ΔＺは０．１ｍｍ以上
に設定することが望ましい。従って、戻り光L3が発光点
１０ａに戻らないようにするためには、ｆ・tan(２θ−
１°) ≧０．１なる関係を満足させる必要がある。
対し３０°程度の傾き公差が見込まれており、更に一般
的な半導体レーザー光源１０の発光点１０ａ部分の形状
を考慮すると、戻り光L3のずれ量ΔＺは０．１ｍｍ以上
に設定することが望ましい。従って、戻り光L3が発光点
１０ａに戻らないようにするためには、ｆ・tan(２θ−
１°) ≧０．１なる関係を満足させる必要がある。
【００１５】図４は分布屈折率レンズ１１の光軸Ｏの出
射光束L2に対する傾き角θと戻り光のずれ量ΔＺとの関
係を示し、本実施例の場合は分布屈折率レンズ１１の焦
点距離はｆ＝１６ｍｍなので、戻り光を発光点１０ａか
ら０．１ｍｍ以内に戻さないようにするためには、傾き
角θを０．７°以上に設定する必要がある。
射光束L2に対する傾き角θと戻り光のずれ量ΔＺとの関
係を示し、本実施例の場合は分布屈折率レンズ１１の焦
点距離はｆ＝１６ｍｍなので、戻り光を発光点１０ａか
ら０．１ｍｍ以内に戻さないようにするためには、傾き
角θを０．７°以上に設定する必要がある。
【００１６】図５は分布屈折率レンズ１１の光軸Ｏの出
射光束L2に対する傾き角θと分布屈折率レンズ１１によ
り生ずる波面収差との関係を示し、通常の分布屈折率レ
ンズ１１をコリメータレンズとして使用する場合には、
波面収差はλ／５以下に抑える必要がある。本実施例の
場合には、分布屈折率レンズ１１の光軸Ｏの出射光束L2
に対する傾き角θが４°以上になると、波面収差が悪化
してコリメータレンズとして使用できなくなる。
射光束L2に対する傾き角θと分布屈折率レンズ１１によ
り生ずる波面収差との関係を示し、通常の分布屈折率レ
ンズ１１をコリメータレンズとして使用する場合には、
波面収差はλ／５以下に抑える必要がある。本実施例の
場合には、分布屈折率レンズ１１の光軸Ｏの出射光束L2
に対する傾き角θが４°以上になると、波面収差が悪化
してコリメータレンズとして使用できなくなる。
【００１７】このことから、分布屈折率レンズ１１の光
軸Ｏの出射光束L2に対する傾き角θを１．０°以上に設
定することにより、戻り光L3による光量変動がなく波面
収差の少ないコリメータユニット１３を実現することが
できる。
軸Ｏの出射光束L2に対する傾き角θを１．０°以上に設
定することにより、戻り光L3による光量変動がなく波面
収差の少ないコリメータユニット１３を実現することが
できる。
【００１８】このようにして、コリメータレンズとして
使用する分布屈折率レンズ１１からの戻り光による半導
体レーザー光源１０の光量変動をなくすことができ、画
像に濃淡のむらがない高品位な画像を提供する光走査光
学装置を形成することが可能となる。
使用する分布屈折率レンズ１１からの戻り光による半導
体レーザー光源１０の光量変動をなくすことができ、画
像に濃淡のむらがない高品位な画像を提供する光走査光
学装置を形成することが可能となる。
【００１９】図６は第２の実施例のコリメータユニット
１３における光路図を示し、半導体レーザー光源１０か
らの光束を収束光束に変換し、分布屈折率レンズ１１の
光軸Ｏの出射光軸に対する傾き角θを戻り光のぼけを考
慮して変更するようにしている。その他は第１の実施例
と同様であり、同じ符号は同じ部材を表している。
１３における光路図を示し、半導体レーザー光源１０か
らの光束を収束光束に変換し、分布屈折率レンズ１１の
光軸Ｏの出射光軸に対する傾き角θを戻り光のぼけを考
慮して変更するようにしている。その他は第１の実施例
と同様であり、同じ符号は同じ部材を表している。
【００２０】半導体レーザー光源１０から出射した光束
は、絞り１２によりその光量が制限されて分布屈折率レ
ンズ１１に入射する。この入射光束L4は分布屈折率レン
ズ１１により収束光束となり出射されるが、一部の光束
は出射面Ｉで反射されて、再び分布屈折率レンズ１１を
通り半導体レーザー光源１０の方向への戻り光L5とな
る。分布屈折率レンズ１１を出射光束L4に対して傾けて
いるので、戻り光L5は発光点１０ａから所定量ずれたと
ころに戻るが、この戻り光L5は半導体レーザー光源１０
の発光面上ではぼけて、所定のイメージサークルを有す
る像となる。
は、絞り１２によりその光量が制限されて分布屈折率レ
ンズ１１に入射する。この入射光束L4は分布屈折率レン
ズ１１により収束光束となり出射されるが、一部の光束
は出射面Ｉで反射されて、再び分布屈折率レンズ１１を
通り半導体レーザー光源１０の方向への戻り光L5とな
る。分布屈折率レンズ１１を出射光束L4に対して傾けて
いるので、戻り光L5は発光点１０ａから所定量ずれたと
ころに戻るが、この戻り光L5は半導体レーザー光源１０
の発光面上ではぼけて、所定のイメージサークルを有す
る像となる。
【００２１】この戻り光L5のずれ量とぼけ量を考慮し、
更に鏡筒への取り付けによる傾き公差も考えた上で、何
れの場合も戻り光L5が発光点１０ａに戻らないようにす
るためには、分布屈折率レンズ１１の焦点距離をｆ、分
布屈折率レンズ１１の傾斜面内における絞り１２の直径
をｄ、平行光束入射時におけるレンズバックをSk、収束
光束入射時におけるレンズバックをSk’をしたときに、
ｆ・tan(２θ−１°)−ｄ・( Sk’−Sk)/ｆ≧０．１の
関係を満足させる必要がある。
更に鏡筒への取り付けによる傾き公差も考えた上で、何
れの場合も戻り光L5が発光点１０ａに戻らないようにす
るためには、分布屈折率レンズ１１の焦点距離をｆ、分
布屈折率レンズ１１の傾斜面内における絞り１２の直径
をｄ、平行光束入射時におけるレンズバックをSk、収束
光束入射時におけるレンズバックをSk’をしたときに、
ｆ・tan(２θ−１°)−ｄ・( Sk’−Sk)/ｆ≧０．１の
関係を満足させる必要がある。
【００２２】本実施例では、ｆ＝１７ｍｍ、ｄ＝１．２
ｍｍ、Sk＝１６．０４６ｍｍ、Sk’＝１６．８６０ｍｍ
なので、戻り光L5を発光点１０ａから距離０．１ｍｍ以
内に戻さないためには、分布屈折率レンズ１１の傾き角
θを０．８゜以上に設定する必要があるが、分布屈折率
レンズ１１の光軸Ｏの出射光束L4に対する傾き角θを
１．５゜に設定することにより、戻り光L4による光量変
動がなく、波面収差の少ないコリメータユニット１３を
実現することができる。
ｍｍ、Sk＝１６．０４６ｍｍ、Sk’＝１６．８６０ｍｍ
なので、戻り光L5を発光点１０ａから距離０．１ｍｍ以
内に戻さないためには、分布屈折率レンズ１１の傾き角
θを０．８゜以上に設定する必要があるが、分布屈折率
レンズ１１の光軸Ｏの出射光束L4に対する傾き角θを
１．５゜に設定することにより、戻り光L4による光量変
動がなく、波面収差の少ないコリメータユニット１３を
実現することができる。
【００２３】このようなコリメータユニット１３を使用
した光走査光学装置では、コリメータレンズとして使用
する分布屈折率レンズ１１からの戻り光L5がないので、
半導体レーザー光源１０の光量変動がなく、画像に濃淡
のむらがない高品位な画像を提供することができる。ま
た、このコリメータユニット１３は出射光束L4が収束光
束であるために、光路長の短縮や走査レンズの薄肉化を
行うことができ、より小型化、低コスト化された高精細
な光走査光学装置を形成することができる。
した光走査光学装置では、コリメータレンズとして使用
する分布屈折率レンズ１１からの戻り光L5がないので、
半導体レーザー光源１０の光量変動がなく、画像に濃淡
のむらがない高品位な画像を提供することができる。ま
た、このコリメータユニット１３は出射光束L4が収束光
束であるために、光路長の短縮や走査レンズの薄肉化を
行うことができ、より小型化、低コスト化された高精細
な光走査光学装置を形成することができる。
【００２４】
【発明の効果】以上説明したように第１発明に係るコリ
メータユニットは、半導体レーザー光源からの光束を分
布屈折率レンズにより平行光束とし、分布屈折率レンズ
をその光軸が出射光軸に対し傾けて取り付けることによ
り、分布屈折率レンズの出射面からの戻り光を半導体レ
ーザー光源の発光点からずらすことができるので、半導
体レーザー光源の光量変動をなくしＦナンバを大きくす
ることができ、画像に濃淡むらのない高品位な画像を提
供する光走査光学装置を実現することが可能となる。
メータユニットは、半導体レーザー光源からの光束を分
布屈折率レンズにより平行光束とし、分布屈折率レンズ
をその光軸が出射光軸に対し傾けて取り付けることによ
り、分布屈折率レンズの出射面からの戻り光を半導体レ
ーザー光源の発光点からずらすことができるので、半導
体レーザー光源の光量変動をなくしＦナンバを大きくす
ることができ、画像に濃淡むらのない高品位な画像を提
供する光走査光学装置を実現することが可能となる。
【００２５】第２発明に係るコリメータユニットは、半
導体レーザー光源からの光束を分布屈折率レンズにより
収束光束とし、分布屈折率レンズの光軸の出射光軸に対
する傾き角を戻り光のぼけを考慮して変更することによ
り、分布屈折率レンズの出射面からの戻り光を発光点か
らずらしかつぼけた像とすることができ、半導体レーザ
ー光源の光量変動を全くなくすることができる。また、
収束光束を使用することにより光路長を短縮し、走査レ
ンズの薄肉化が可能となり、画像に濃淡むらのない高品
位な画像を提供する高精細な光走査光学装置を実現する
ことができる。
導体レーザー光源からの光束を分布屈折率レンズにより
収束光束とし、分布屈折率レンズの光軸の出射光軸に対
する傾き角を戻り光のぼけを考慮して変更することによ
り、分布屈折率レンズの出射面からの戻り光を発光点か
らずらしかつぼけた像とすることができ、半導体レーザ
ー光源の光量変動を全くなくすることができる。また、
収束光束を使用することにより光路長を短縮し、走査レ
ンズの薄肉化が可能となり、画像に濃淡むらのない高品
位な画像を提供する高精細な光走査光学装置を実現する
ことができる。
【図１】第１の実施例の光走査光学装置の平面図であ
る。
る。
【図２】コリメータユニットの断面図である。
【図３】光路図である。
【図４】分布屈折率レンズの傾き角と戻り光のずれ量の
グラフ図である。
グラフ図である。
【図５】分布屈折率レンズの傾き角と波面収差のグラフ
図である。
図である。
【図６】第２の実施例の光路図である。
【図７】従来例の光路図である。
１０ 半導体レーザー光源 １１ 分布屈折率レンズ １２ 絞り １３ コリメータユニット １４ シリンドリカルレンズ １５ 回転偏向器 １６ ｆθレンズ １７ 被走査面
Claims (6)
- 【請求項１】 半導体レーザー光源からの発散光束を、
光軸から外周部に向かって屈折率勾配を有する分布屈折
率レンズにより略平行光束に変換する際に、前記分布屈
折率レンズの焦点距離をｆとしたときに、前記分布屈折
率レンズの光軸のコリメータユニットからの出射光軸に
対する傾き角θが、ｆ・tan(２θ−１°) ≧０．１の関
係を満足することを特徴とするコリメータユニット。 - 【請求項２】 前記分布屈折率レンズは前記半導体レー
ザー光源の水平横モード方向を回転軸として傾斜してい
る請求項１に記載のコリメータユニット。 - 【請求項３】 前記分布屈折率レンズを固定する鏡筒の
取付平面部は、前記半導体レーザー光源からの光束を制
限する絞りに対して傾斜している請求項１に記載のコリ
メータユニット。 - 【請求項４】 半導体レーザー光源光源からの発散光束
を、光軸から外周部に向かって屈折率勾配を有する分布
屈折率レンズにより収束光束に変換する際に、前記分布
屈折率レンズの焦点距離をｆ、前記分布屈折率レンズの
傾斜面内における絞りの直径をｄ、平行光束入射時にお
けるレンズバックをSk、収束光束入射時におけるレンズ
バックをSk’としたときに、前記分布屈折率レンズの光
軸のコリメータユニットからの出射光軸に対する傾き角
θが、ｆ・tan(２θ−１°) −ｄ・（Sk’−Sk）／ｆ≧
０．１の関係を満足することを特徴とするコリメータユ
ニット。 - 【請求項５】 前記分布屈折率レンズは前記半導体レー
ザー光源の水平横モード方向を回転軸として傾斜してい
る請求項４に記載のコリメータユニット。 - 【請求項６】 前記分布屈折率レンズを固定する鏡筒の
取付平面部は前記半導体レーザー光源からの光束を制限
する絞りに対して傾斜している請求項４に記載のコリメ
ータユニット。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21250995A JPH0943541A (ja) | 1995-07-28 | 1995-07-28 | コリメータユニット |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21250995A JPH0943541A (ja) | 1995-07-28 | 1995-07-28 | コリメータユニット |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0943541A true JPH0943541A (ja) | 1997-02-14 |
Family
ID=16623856
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21250995A Pending JPH0943541A (ja) | 1995-07-28 | 1995-07-28 | コリメータユニット |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0943541A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002258186A (ja) * | 2001-03-06 | 2002-09-11 | Canon Inc | 光源装置 |
| JP2004354500A (ja) * | 2003-05-27 | 2004-12-16 | Canon Inc | 光走査装置及びそれを用いた画像形成装置 |
| JP2005235867A (ja) * | 2004-02-17 | 2005-09-02 | Citizen Watch Co Ltd | レーザダイオードモジュール |
| SG120886A1 (en) * | 2001-09-25 | 2006-04-26 | Semiconductor Energy Lab | Laser irradiation method and laser irradiation device and method of manufacturing semiconductor device |
-
1995
- 1995-07-28 JP JP21250995A patent/JPH0943541A/ja active Pending
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002258186A (ja) * | 2001-03-06 | 2002-09-11 | Canon Inc | 光源装置 |
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| US8686315B2 (en) | 2001-09-25 | 2014-04-01 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Laser irradiation method and laser irradiation device and method of manufacturing semiconductor device |
| US9748099B2 (en) | 2001-09-25 | 2017-08-29 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Laser irradiation method and laser irradiation device and method of manufacturing semiconductor device |
| US10366885B2 (en) | 2001-09-25 | 2019-07-30 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Laser irradiation method and laser irradiation device and method of manufacturing semiconductor device |
| US10910219B2 (en) | 2001-09-25 | 2021-02-02 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Laser irradiation method and laser irradiation device and method of manufacturing semiconductor device |
| JP2004354500A (ja) * | 2003-05-27 | 2004-12-16 | Canon Inc | 光走査装置及びそれを用いた画像形成装置 |
| JP4590166B2 (ja) * | 2003-05-27 | 2010-12-01 | キヤノン株式会社 | 光走査装置及びそれを用いた画像形成装置 |
| JP2005235867A (ja) * | 2004-02-17 | 2005-09-02 | Citizen Watch Co Ltd | レーザダイオードモジュール |
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