JP4109409B2 - 大型超電導体およびその作製方法 - Google Patents

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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、希土類系酸化物超電導体の大型材料およびその製造法に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来、本発明が対象とするREBa2Cu3x系超電導バルク材料の製法としては、Quench and Melt Growth法(特許登録番号1869884号、および特許登録番号2556401号)で代表されるような溶融法が挙げられる。この方法は、一度RE2BaCuO5相またはRE4Ba2Cu210相と、Ba−Cu−Oを主成分とした液相が共存する温度領域まで昇温し、 REBa2Cu3xが生成する包晶温度直上迄冷却し、その温度から徐冷を行うことにより結晶成長させ、核生成と結晶方位の制御をおこない、大型のバルク材を得る方法である。この製法を用いることによって、臨界電流密度(超電導特性のひとつで、単位断面積あたりに流せる電流密度)が高く、比較的大型の超電導材料を得ることができる。
【0003】
また、より大型超電導バルク材料の作製には、1つの種結晶を使用し、結晶成長開始温度が異なる材料を順次組み合わせて、核生成、結晶方位および結晶成長方向を制御する方法(従来方法1)(特開平5−170598号公報)が知られており、直径100mmを超える材料も作製することが可能になっている。しかし、結晶成長に要する時間は長くて1ヶ月を要し、生産性が低くなることが問題とされていた。
【0004】
一方、大型材料作製に複数個の種結晶を用い、各々の種結晶から結晶成長させる方法(従来方法2)も広く知られている。特徴は、個々の種結晶から結晶成長すべき領域が狭くなるため、比較的短期間で結晶成長が実現できる特徴をもつ。しかし、図1、図2に示すように、この方法では各々の種結晶から結晶成長した領域(A)内では臨界電流密度は高いものの、領域(A)間には主にBa−Cu−O化合物、Cu−O化合物、もしくは偏析したRE2BaCuO5相またはRE4Ba2Cu210相などが排斥相として析出し、領域間の臨界電流密度は極端に 低下し、超電導バルク体全体として、従来方法1で作製した超電導バルク材料に比べると特性が極めて劣る問題があった。それゆえ改良として、種結晶の間隔を狭めて(5mm程度)種結晶を配すると不純物相が生じにくいと報告されているが、種結晶で埋め尽くさなければならず生産性の面では実用的ではなかった。そこで領域(A)間に排斥相が生じにくい、もしくは生じない超電導バルク体およびその製造方法が望まれていた。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、複数の種結晶から超電導バルク材料を結晶成長させる際に、一方の種結晶から成長させた領域と他方の種結晶から成長させた領域の間に析出するBa−Cu−O化合物、Cu−O化合物、もしくは偏析したRE2BaCuO5相またはRE4Ba2Cu210相等の排斥相を減少、もしくは無くし、種結晶から成長させた領域間により大きな電流が流すことができる大型超電導バルク材料及びその製造方法を提供することにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】
本発明は上記の問題を解決するために、123相包晶温度(Tp)が異なる2種類以上の酸化物超電導体で構成し、かつ最も高いTpを有する酸化物超電導体の側に複数個の種結晶を配し、結晶成長させることによって、高いTpの超電導層ではBa−Cu−O化合物やCu−O化合物、もしくは偏析したRE2BaCuO5相またはRE4Ba2Cu210相等の排斥相を生じさせるものの、Tpの低い超電導層には該排斥相が伝播しにくいことを見いだし、よりTpの低い超電導層の部分においては超電導バルク体中を流れる電流の阻害要因である排斥相を減少もしくは無くし、結果的にTpの低い超電導層を用いることで大きな電流が流れうる超電導バルク体を得る手段を講じたものである。
【0007】
本発明の第1の特徴は、 REBa2Cu3x(REはYを含む希土類元素の1 種類またはその組み合わせ)系超電導体であって、 REBa2Cu3x相(123相)の包晶温度(Tp)が異なる123相中に非超電導相が微細に分散した組織を有する複数の酸化物超電導体層をTpの順に立体的に積層した構造を有し、かつ最も高いTpを有する酸化物超電導層上に2個以上の種結晶を載置し、少なくとも前記高Tp酸化物超電導層に排斥相を含有することを特徴とする大型超電導中間体である。
【0008】
本発明でのREBa2Cu3x(REはYを含む希土類元素の1種類またはその組み合わせ)系超電導体とは、母相がREBa2Cu3xのみならず、(RE1-zBaz1+yBa2-yCu3x(-0.5≦y≦1.0、0≦z≦0.5)であることも指しており、更にBa元素がSr元素に一部もしくは全部置き換えられた材料も含む。同様に母相であるREBa2Cu3x(123)相とは、 REBa2Cu3xのみならず、(RE1-zBaz1+yBa2-yCu3x(-0.5≦y≦1.0、0≦z≦0.5)も含んでおり、更にBa元素がSr元素に一部もしくは全部置き換えられた相も包含することとする。
【0009】
本発明での非超電導相とは、 母相であるREBa2Cu3x(123)相中に微細分散したRE2BaCuO5相またはRE4Ba2Cu210相等のことを指す。また、 REBa2Cu3x相(123相)の包晶温度(Tp)が異なる123相とは、RE組成を変化させるもしくはAg元素などの添加元素の添加量を変えることで123相の包晶温度(Tp)を変化させ、Tpの異なる組成粉末で構成された酸化物超電導体を指す。また、立体的に積層した構造とは、層状に積層した場合や、同心状に構成された場合、もしくはこの組み合わせを指す。
【0010】
本発明の第2の特徴は、前記複数個の種結晶を載置において、最近接の種結晶間の結晶方位のずれが30°以内である上記第1の大型超電導中間体である。本発明での最近接の種結晶とは、複数配置した各種結晶において最も距離が近い種結晶を指す。また結晶方位のずれとは、ある種結晶の結晶方位と、該種結晶の最近接種結晶の結晶方位とを空間上回転させて一致させるために必要な最小回転角度を指す。
【0011】
本発明の第3の特徴は、前記積層体が、0.001〜2.0質量%のRh元素、もしくは0.05〜5.0質量%のPt元素、もしくは0.05〜10.0質量%のCe元素のうち少なくともいずれか1つを含有する酸化物超電導体層を少なくとも1層積層している上記第1もしくは第2の大型超電導中間体である。
【0012】
本発明の第4の特徴は、上記第1〜3のいずれかに記載の大型超電導中間体から種結晶および排斥相を含有する酸化物超電導相を切除する工程と、酸素富化熱処理をする工程を含む処理により得られることを特徴とする大型超電導体である。
【0013】
本発明の第5の特徴は、 REBa2Cu3x(Yを含む希土類元素の1種類またはその組み合わせ)系超電導体を構成するRE 、Ba、およびCu成分を含 む原料成型体を加熱し、最高温度が該成型体の REBa2Cu3x相(123相)の包晶温度(Tp)以上とした後、冷却することにより123相中に非超電導相が微細に分散した酸化物超電導を作製する方法であって、123相のTpが異なる原料成型体をTpの順に立体的に積層した原料成型積層体とし、かつ最も高いTpを有する原料成型積層体上に複数個の種結晶を載置して、前記原料成型積層体を結晶成長させることを特徴とした酸化物超電導中間体の作製方法である。
【0014】
本発明の第6の特徴は、前記複数個の種結晶を載置において、最近接の種結晶間の結晶方位のずれが30°以内である上記第5の酸化物超電導中間体の作製方法である。
【0015】
本発明の第7の特徴は、前記原料成型積層体が0.001〜2.0質量%のRh元素、もしくは0.05〜5.0質量%のPt元素、もしくは0.05〜10.0質量%のCe元素のうち少なくともいずれか1つを添加する原料成型体層を少なくとも1層積層している上記第5または第6の大型超電導中間体の作製方法である。
【0016】
本発明の第8の特徴は、上記第5〜7の作製方法から得られた大型超電導中間体の種結晶および排斥相を含有する酸化物超電導層を切除する工程と、酸素富化処理する工程とを含む処理をすることを特徴とする大型超電導体の作製方法である。
【0017】
【発明の実施の形態】
本発明は、比較的短期間で結晶成長が実現できる特徴をもち、かつ超電導バルク体中を流れる電流の阻害要因であるBa−Cu−O化合物やCu−O化合物、もしくは偏析したRE2BaCuO5相またはRE4Ba2Cu210相等の排斥相の析出を減少もしくは無くし、結果的に大きな電流が流れうる大型酸化物超電導バルク体およびその製造方法である。本発明のポイントは、複数個の種結晶から結晶成長させる際にTpの異なる酸化物超電導相を用いる点にある。以下、この点について詳細に説明する。
【0018】
複数個の種結晶を用いた従来方法2では、図1(a)のような種結晶からの結晶成長がおこなわれ、結果的にBa−Cu−O相、Cu−O相もしくは偏析したRE2BaCuO5相またはRE4Ba2Cu210相等が結晶成長面に排斥され、 結果として図1(b)のように排斥相が析出したバルク体が得られることになる。しかし、 このような排斥相の存在は、超電導体を流れる電流を大きく減少さ せてしまう。液体窒素の沸点(77K)において磁場中冷却し、外部磁界を取り除いた後、捕捉磁束密度を測定すると、図2のような分布を示し、単一の種結晶で成長させた材料と比べると超電導体内を流れる電流が排斥相で遮られている事がわかる。
【0019】
一方、本発明方法では、Tpの異なる材料を例えば図3(a)のように配置することで、結晶成長方向が制御され、成長方向はおよそ図3(b)、図3(c)のようになる。これによって、従来方法2で結晶成長方向が対向する部分が生じていたが、本発明により結晶成長方向が変わり、結晶成長面に排斥されていた液相(Ba−Cu−O相もしくはCu−O相)等がTpの低い超電導相に排斥されない、もしくは排斥されにくくなり、結果として排斥相が存在しない、もしくは存在しにくくなり、超電導体内全体にわたって大きな電流が流れることが出来る。以上がTpの異なる材料を用いる理由である。また、Tpの異なる材料は3つ以上組み合わせることにより、排斥相の存在を完全になくすことも本方法で可能である。
【0020】
また、本方法では低いTpの超電導層にはBa−Cu−O化合物、Cu−O化合物、もしくは偏析したRE2BaCuO5相またはRE4Ba2Cu210相等の排斥相を減少、もしくは無くすことが出来るが、高いTpの超電導層では上記排斥相が析出する。そのため、排斥相が析出した高いTpの超電導層を切除することで、結果的に超電導バルク体中を流れる電流の阻害要因である排斥相を減少もしくは無くすことができ、大きな電流が流れうる大型超電導バルク体を得ることができる。
【0021】
さらに、図4(a)のようにTpの低い超電導層が厚くて、長い距離を結晶成長させる場合には、超電導層の配置を図4(a)でなく、図4(b)のように配置すると好ましい。図4(a)では、Tpの低い超電導層の結晶成長の際に、外側が結晶成長に必要な酸素を多く取り込むことができるため、結晶成長速度が内側より速く進むことがある。特に長い距離を結晶成長させる場合には、この差が顕著になり、図4(c)のように外側の結晶成長が進んだ分、内側に向かって結晶成長し始める(図4(c)中で横方向の矢印がそれに対応している)。そのため、遅れて成長していた内側の結晶成長方向と交差することとなり、結果として交差した領域にBa−Cu−O化合物、Cu−O化合物、もしくは偏析したRE2BaCuO5相またはRE4Ba2Cu210相等の排斥相が析出してしまう。こ れにより、不均一な大型超電導バルク体になり、特性が低下してしまう。一方、図4(b)のような配置であれば、Tpの更に低い超電導層が存在することにより、酸素の取り込みの違いによる成長速度の違いがなくなり、まず内側のTpの低い超電導層が安定して成長することができる。その後Tpの更に低い超電導層において結晶が外側に向かって成長することになる(図4(d)参照)。このようにTpの更に低い超電導層を配置することで排斥相の析出をなくす、もしくは減少させることができる。また、Tpの更に低い超電導層の幅を薄くなるような配置しておけば、Tpの更に低い超電導層中に排斥相の析出が生じることも少なくなり、超電導層が厚くて、長い距離を結晶成長させる場合でも大きな電流が流れうる大型超電導バルク体を得ることができる。また、結晶成長後にTpの更に低い超電導層を切除してもよい。
【0022】
また、各超電導層の厚みに関して、以下に述べる。結晶成長時の高温下においては各Tpの異なる超電導層の拡散が生じる。そのため、拡散した領域の一部ではTpが同一になる領域が生じる。それゆえ厚みの下限に関しては、各Tpが異なる超電導層として残存できる厚みが好ましい。例えばRE成分を変えることでTpを変えた場合、各超電導層は100μm程度が下限として好ましい。また各超電導層の厚みの比率としては、本発明の請求項4もしくは8のように、最終的に排斥相の生じた領域を切除することを考慮して、切除する各異なるTpの超電導層の厚みが、切除後残存する超電導層の厚みを超えないことが好ましい。
【0023】
次に、最近接の種結晶間の結晶方位のずれが30°以内にすることについて、以下に説明する。 REBa2Cu3x系超電導体は、その内部において結晶方位が互いにずれた、隣接した領域において、超電導体を流れる電流が減少することが知られている。従来方法1で作製したREBa2Cu3x系超電導体には結晶方位が最大30°程度ずれた領域を含むものもあり、従来方法1で作製した超電導体と同程度の配向度をもたせるためにも種結晶の結晶方位のずれが30°以内にし、結晶成長した酸化物超電導体も結晶方位のずれが30°程度に留めることが必要である。
【0024】
また、Rh、Pt、Ce元素の添加について以下に説明する。これらの元素は母相であるREBa2Cu3x(123)相中に RE2BaCuO5相またはRE4Ba2Cu210相を微細分散させ、超電導特性の1つである臨界電流密度を向上させる効果がある。添加の量はそれぞれ、RE2BaCuO5相またはRE4B a2Cu210相の微細化に効果が現れ始める濃度から、これ以上添加しても効果があがらない濃度で限定しており、これによって超電導体内により大きな電流密度を流すことが可能になる。即ち、添加効果が得られる量が、Rh元素で0.001〜2.0質量%、Pt元素で0.05〜5.0質量%、Ce元素で0.05〜10.0質量%である。
【0025】
種結晶としては、NdBa2Cu3x系、(Sm,Nd)Ba2Cu3x系結晶や、もしくはSm2CuO4やNd2-XSrXCuO4-0.5X(0≦x≦2)などのK2NiF4型結晶構造を有する結晶、NdXSr3-XCu26+0.5X(0≦x<3)などの Sr3Ti2O7型結晶構造を有する結晶およびMgO結晶などが使用できる。また、これらの種結晶を1種類で用いても、組み合わせて用いてもよい。
【0026】
【実施例】
(実施例1)
Dy23、BaO2、CuOの各原料粉体を各元素のモル比(Dy:Ba:C u)が(13:17:24)になるように混合し、さらにこの混合粉に0.5質量 %のPt元素を添加し、混合した原料粉末を作製した。これを900℃で酸素気流 中で仮焼した。これを粉体1-Aとする。また、粉体1-Aの作製時に用いた原料粉体のうちDy23の代わりにY23を用いて、以下同様に作製した粉体を1−Bとする。
【0027】
次に、粉体1−A、1−Bを用いて図5(a)のように成型体を作製し、2ton/cm2で、直径54mm、厚さ40mmの円柱状前駆体を作製した。この 前駆体に3mm角で厚み1mmのSm0.7Nd0.3Ba2Cu3x系超電導体種結 晶を図5(b)のように配置し、大気中で1045℃まで10時間で昇温し、4時間保持したのち、1010℃に2時間で降温した。その後、980℃まで100時間かけて徐冷し結晶成長をおこない、24時間かけて室温まで冷却した。
【0028】
得られた超電導バルク材料を調べるため、図5(c)のように切断したところ、粉体1-B側にはBa−Cu−Oなどの排斥相は見られなかった。また該材料を切り出し、厚さ20mmのバルクとし、酸素気流中にて450℃まで24時間で昇温し、300℃まで100時間かけて徐冷したのち、10時間かけて室温まで降温した。
【0029】
上記の酸素富化処理をおこなった超電導バルク材料を77Kにおいて磁場中冷却し、外部磁界を取り除いた後、捕捉磁束密度を測定したところ最高0.9Tの良好な値が得られた。
【0030】
(実施例2)
Sm23、BaO2、CuOの各原料粉体を各元素のモル比(Sm:Ba:C u)が(12:18:26)になるように混合し、さらにこの混合粉に0.5質量 %のPt元素を添加し、混合した原料粉末を作製した。これを900℃で酸素気流 中で仮焼した。これを粉体2-Aとする。またSm23、BaO2、CuOの各原料粉体を各元素のモル比(Sm:Ba:Cu)が(12:18:26)になるように混合し、さらにこの混合粉に1.0質量%のCe元素および20質量%のAg元素を添加し、混合した原料粉末を作製した。これを900℃で酸素気流中で仮焼した。これを粉体2-Bとする。
【0031】
次に、粉体2−A、2−Bを用いて図6(a)のように成型体を作製し、2ton/cm2で、直径36mm、厚さ30mmの円柱状前駆体を作製した。この 前駆体を99%窒素分圧、1%酸素分圧の雰囲気中にて1100℃まで10時間で昇温し、30分間保持したのち、1025℃に2時間で降温した。その後、2mm角で厚み1.5mmのNdBa2Cu3x系超電導体種結晶を図6(b)の ように配置し、990℃まで50時間かけて徐冷し結晶成長をおこない、24時間かけて室温まで冷却した。
【0032】
得られた超電導バルク材料を調べるため、図6(c)のように切断したところ、粉体2-B側にはBa−Cu−Oなどの排斥相は見られなかった。また該材料を切り出し、厚さ20mmのバルクとし、酸素気流中にて400℃まで24時間で昇温し、300℃まで100時間かけて徐冷したのち、10時間かけて室温まで降温した。
【0033】
上記の酸素富化処理をおこなった超電導バルク材料を77Kにおいて磁場中冷却し、外部磁界を取り除いた後、捕捉磁束密度を測定したところ最高0.6Tの良好な値が得られた。
【0034】
(実施例3)
23、Dy23、BaO2、CuOの各原料粉体を各元素のモル比(Y:Dy:Ba:Cu)が(6.5:6.5:17:24)になるように混合し、さらにこの混合粉に0.2質量%のPh元素を添加し、混合した原料粉末を作製した。これを900℃で酸素気流中で仮焼した。これを粉体3-Aとする。 また、Y23 、BaO2、CuOの各原料粉体を各元素のモル比(Y: Ba:Cu)が(12.5:17.5:24.5)になるように混合し、さらにこの混合粉に0.2質量%のRh元素を添加し、混合した原料粉末を作製した。これを900℃で酸素気流中で仮焼した。これを粉体3-Bとする。
【0035】
次に、粉体3−A、3−Bを用いて図7(a)のように成型体を作製し、2ton/cm2で、直径54mm、厚さ40mmの円柱状前駆体を作製した。また 、比較の為に3−Bのみを用いて作製した直径54mm、厚さ40mmの円柱状 前駆体も作製した。各前駆体に約2mm角で厚み1.5mmのNdBa2Cu3x系超電導体種結晶12個を図7(b)のように配置し、大気中で1050℃ま で10時間で昇温し、4時間保持したのち、1010℃に2時間で降温した。その後、980℃まで200時間かけて徐冷し結晶成長をおこない、24時間かけて室温まで冷却した。
【0036】
得られた超電導バルク材料を調べるため、いずれの試料も図7(c)のように切り出し、厚さ20mmのバルクとし、酸素気流中にて450℃まで24時間で昇温し、250℃まで100時間かけて徐冷したのち、10時間かけて室温まで降温した。
【0037】
上記の酸素富化処理をおこなった超電導バルク材料を77Kにおいて図8のような配置をしたNd−Fe−B系磁石により磁場中冷却した。 Nd−Fe−B 系磁石を軸上に変位させて吸引力を調べたところ、最大吸引力は3−Bのみを用 いて作製した試料に比べて3−Aを用いた試料のほうが3倍大きな値が得られた。
【0038】
(実施例4)
23、Dy23、BaO2、CuOの各原料粉体を各元素のモル比(Y:D y:Ba:Cu)が(6.5:6.5:17:24)になるように混合し、さらにこの混合粉に0.5質量%のPt元素を添加し、混合した原料粉末を作製した。 これを870℃で酸素気流中で仮焼した。これを粉体4-Aとする。
【0039】
実施例1で用いた1−A、1−B及び上記4−Aを用いて図9(a)、図9( b)のような成型体を作製し、2ton/cm2で、直径115mm、厚さ50 mmの円柱状前駆体Pを作製した。また比較のため、同様に図10(a)のような成型体を作製し、2ton/cm2で、直径115mm、厚さ50mmの円柱 状前駆体Qを作製した。
【0040】
図9(c)に示すように、前駆体Pは、2mm角厚み1.5mmのNdBa2 Cu3x系超電導体種結晶16個を各1−A前駆体層上の中心付近に1個づつ配 置した。また、図10(b)に示すように、前駆体Qは、種結晶を中心付近に1個配置した。いずれの試料も大気中で1055℃まで10時間で昇温し、4時間保持したのち、1010℃に2時間で降温した。その後、980℃まで100時間かけて徐冷し結晶成長をおこない、24時間かけて室温まで冷却した。
【0041】
得られた超電導バルク材料のうち、種結晶16個を用いた試料Pは、バルク材料表面のうちほぼ全面が結晶成長していたが、種結晶1個を用いた試料Qは、結晶した領域が43mm角であり、結晶成長が十分おこなわれなかった。
【0042】
(実施例5)
Gd23、 Dy23、BaO2、CuOの各原料粉体を各元素のモル比(Gd:Dy:Ba:Cu)が(3:10:17:24)になるように混合し、さらにこの混合粉に0.5質量%のPt元素を添加し、混合した原料粉末を作製した。これを900℃で酸素気流中で仮焼した。これを粉体5−Aとする。
【0043】
実施例1で用いた粉体1−A、1−Bおよび上記5−Aを用いて図11(a)のように成型体を作製し、2ton/cm2で、直径54mm、厚さ40mmの 円柱状前駆体を作製した。この前駆体に3mm角で厚み1mmのSm0.7Nd0.3Ba2Cu3x系超電導体種結晶を図11(b)のように配置し、大気中で10 55℃まで10時間で昇温し、4時間保持したのち、1030℃に2時間で降温した。その後、980℃まで100時間かけて徐冷し結晶成長をおこない、24時間かけて室温まで冷却した。
【0044】
得られた超電導バルク材料を調べるため、図11(c)のように切断したところ、粉体1-B側にはBa−Cu−Oなどの排斥相は見られなかった。また該材料を切り出し、厚さ20mmのバルクとし、酸素気流中にて450℃まで24時間で昇温し、300℃まで120時間かけて徐冷したのち、10時間かけて室温まで降温した。
【0045】
上記の酸素富化処理をおこなった超電導バルク材料を77Kにおいて磁場中冷却し、外部磁界を取り除いた後、捕捉磁束密度を測定したところ最高1.1Tの良好な値が得られた。
【0046】
(実施例6)
実施例1で用いた粉体1−A、1−Bを用いて図12(a)のように成型体を作製し、2ton/cm2で、長さ80mm、幅20mm、厚さ20mmの棒状 前駆体を作製した。この前駆体に3mm角で厚み1mmのSm0.7Nd0.3Ba2 Cu3x系超電導体種結晶を図12(b)のように配置し、大気中で1050℃まで10時間で昇温し、4時間保持したのち、1010℃に2時間で降温した。その後、980℃まで110時間かけて徐冷し結晶成長をおこない、24時間かけて室温まで冷却した。
【0047】
得られた超電導バルク材料を調べるため、図12(c)のように切断したところ、粉体1-B側にはBa−Cu−Oなどの排斥相は見られなかった。また該材料を切り出し、厚さ8mmのバルクとし、全面に電極としてスパッタにより銀を蒸着してから、酸素気流中にて450℃まで24時間で昇温し、300℃まで100時間かけて徐冷したのち、10時間かけて室温まで降温した。
【0048】
上記の酸素富化処理をおこなった超電導バルク材料を77Kにおいて直流通電試験を行ったが、抵抗が発生することなく100Aまで通電可能であった。
【0049】
【発明の効果】
本発明により、酸化物超電導バルク体に大きな電流が流すことが出来、かつ大型バルク材料においても短期間で結晶成長が実現できる効果が得られた。
【図面の簡単な説明】
【図1】複数個の種結晶を用いた従来方法2の例で、(a)は斜視図、(b)は断面図
【図2】2個の種結晶を用いた従来方法2で作製した(a)酸化物超電導体の(b)捕捉磁束密度の分布図
【図3】複数個の種結晶を用いた本発明の例で、(a)は本発明の構成図の一例、(b)は結晶成長温度が“Tpの高い酸化物超電導体”の包晶温度以下で“Tpの低い酸化物超電導体”の包晶温度以上の領域にある場合の概略図、(c)は結晶成長温度が“Tpの低い酸化物超電導体”の包晶温度以下の領域にある場合の概略図
【図4】(a)は Tpの低い超電導層が厚くて、長い距離を結晶成長させる場合の概 略図、(b)はTpの低い超電導層が厚くて、長い距離を結晶成長させる場合に好ましい配置の概略図、(c)は(a)の場合の結晶成長の例。(d)は(b)の場合の結晶成長の例
【図5】実施例1に使用した超電導体の概略図で、(a)は実施例1に使用した成型体の概略図、(b)は実施例1に使用した種結晶の配置図、(c)は実施例1に使用した酸化物超電導バルク材料の切断位置の概略図
【図6】実施例2に使用した超電導体の概略図で、(a)は実施例2に使用した成型体の概略図、(b)は実施例2に使用した種結晶の配置図、(c)は実施例2に使用した酸化物超電導バルク材料の切断位置の概略図
【図7】実施例3に使用した超電導体の概略図で(a)は実施例3中の比較例に使用した成型体の概略図、(b)は実施例3に使用した種結晶の配置図、(c)は実施例3に使用した酸化物超電導バルク材料の切断位置の概略図
【図8】実施例3に使用したリング形状磁石の形状と吸引力測定の配置図
【図9】実施例4に使用した超電導体の概略図で、(a)は実施例3に使用した成型体Pの概略図(粉体1−A側からの正視図)、(b)は実施例3に使用した成型体の概略図(斜視図)、(c)は実施例3に使用した成型体Pの種結晶の配置概略図(粉体1−A側からの正視図)
【図10】(a)は実施例3に使用した成型体Qの概略図(斜視図)、(b)は実施例3中の比較例に使用した成型体Qの種結晶の配置概略図(粉体1−A側からの正視図)
【図11】実施例5に使用した超電導体の概略図で、(a)は実施例5に使用した成型体の概略図(断面図)、(b)は実施例5に使用した種結晶の配置図(粉体1−A側からの正視図)、(c)は実施例5に使用した酸化物超電導バルク材料の切断位置の概略図
【図12】実施例6に使用した超電導体の概略図で、(a)は実施例6に使用した成型体の概略図(斜視図)、(b)は実施例6に使用した種結晶の配置図(粉体1−A側からの正視図)、(c)は実施例6に使用した酸化物超電導バルク材料の切断位置の概略図

Claims (8)

  1. REBa2Cu3x(REはYを含む希土類元素の1種類またはその組み合わせ)系超電導体であって、 REBa2Cu3x相(123相)の包晶温度(Tp)が異なる123相中に非超電導相が微細に分散した組織を有する複数の酸化物超電導体層をTpの順に立体的に積層した構造を有し、かつ最も高いTpを有する酸化物超電導相上に2個以上の種結晶を載置し、少なくとも前記高Tp酸化物超電導相に排斥相を含有することを特徴とする大型超電導中間体。
  2. 前記複数個の種結晶を載置において、最近接の種結晶間の結晶方位のずれが30°以内であることを特徴とする請求項1記載の大型超電導中間体。
  3. 前記積層体が、0.001〜2.0質量%のRh元素、もしくは0.05〜5.0質量%のPt元素、もしくは0.05〜10.0質量%のCe元素のうち少なくともいずれか1つを含有する酸化物超電導体層を少なくとも1層積層していることを特徴とする請求項1もしくは2記載の大型超電導中間体。
  4. 請求項1〜3のいずれかに記載の大型超電導中間体から種結晶および排斥相を含有する酸化物超電導相を切除する工程と、酸素富化熱処理をする工程を含む処理により得られることを特徴とする大型超電導体。
  5. REBa2Cu3x(Yを含む希土類元素の1種類またはそ の組み合わせ)系超電導体を構成するRE、Ba、およびCu成分を含む原料成型体を加熱し、最高温度が該成型体の REBa2Cu3x相(123相)の包晶温度(Tp)以上とした後、冷却することにより123相中に非超電導相が微細に分散した酸化物超電導を作製する方法であって、123相のTpが異なる原料成型体をTpの順に立体的に積層した原料成型積層体とし、かつ最も高いTpを有する原料成型積層体上に複数個の種結晶を載置して、前記原料成型積層体を結晶成長させることを特徴とした酸化物超電導中間体の作製方法。
  6. 前記複数個の種結晶を載置において、最近接の種結晶間の結晶方位のずれが30°以内であることを特徴とする請求項5記載の酸化物超電導中間体の作製方法。
  7. 前記原料成型積層体が0.001〜2.0質量%のRh元素、もしくは0.05〜5.0質量%のPt元素、もしくは0.05〜10.0質量%のCe元素のうち少なくともいずれか1つを添加する原料成型体層を少なくとも1層積層していることを特徴とする請求項5もしくは6記載の大型超電導中間体の作製方法。
  8. 請求項5〜7のいずれかに記載の作製方法から得られた大型超電導中間体の種結晶および排斥相を含有する酸化物超電導層を切除する工程と、酸素富化処理する工程とを含む処理をすることを特徴とする大型超電導体の作製方法。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5084436A (en) * 1989-01-31 1992-01-28 Asahi Glass Company Ltd. Oriented superconductor containing a dispersed non-superconducting phase
JP2838742B2 (ja) * 1991-12-20 1998-12-16 新日本製鐵株式会社 酸化物バルク超電導体およびその製造方法
JP3237953B2 (ja) * 1993-04-28 2001-12-10 新日本製鐵株式会社 酸化物超電導材料の製造方法
JP3207066B2 (ja) * 1994-12-28 2001-09-10 住友電気工業株式会社 酸化物結晶の製造方法
JPH09100193A (ja) * 1995-10-06 1997-04-15 Sumitomo Electric Ind Ltd 酸化物結晶の作製方法
US5863326A (en) * 1996-07-03 1999-01-26 Cermet, Inc. Pressurized skull crucible for crystal growth using the Czochralski technique
JP2967154B2 (ja) * 1996-08-02 1999-10-25 同和鉱業株式会社 Agを含み結晶方位の揃った酸化物超電導体及びその製造方法
US6256521B1 (en) * 1997-09-16 2001-07-03 Ut-Battelle, Llc Preferentially oriented, High temperature superconductors by seeding and a method for their preparation

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