JP4104909B2 - 基板冷却装置および処理装置 - Google Patents
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Description
【発明が属する技術分野】
本発明は、例えば半導体ウエハやLCD基板等の基板に対して行われる処理において温度が高められた状態の基板を冷却する基板冷却装置およびそれを備えた処理装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
半導体デバイスや液晶ディスプレイ(LCD)の製造においては、基板である半導体ウエハやにLCD基板にフォトレジスト液を塗布してレジスト膜を形成し、回路パターンに対応してレジスト膜を露光し、これを現像処理するという、いわゆるフォトリソグラフィー技術により回路パターンが形成される。
【0003】
このような塗布・現像処理においては、レジスト膜を形成する際に、フォトレジストの安定化のためのプリベーク、露光後のポストエクスポージャーベーク、および現像後のポストベーク等の熱処理が施される。また、これらの熱処理後の温度が高められた基板を冷却するための冷却工程が行われる。
【0004】
従来、熱処理後の温度が高められた基板を冷却する場合、基板を支持する支持体であるクーリングプレート上において熱交換を行っている。具体的には、冷却素子であるペルチェ素子を取り付けたクーリングプレートや、冷却水を循環させるための管路を設けたクーリングプレート上に温度が高められた基板を載置し、ペルチェ素子や冷却水と基板との間で熱交換を行い基板の温度を低下させている。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記基板冷却方法において、タクトタイムを短くするためには、
効率良く基板を冷却する必要があり、このためには、クーリングプレートに基板全面を直接接触させる必要がある。この場合、基板冷却後に基板をクーリングプレートから脱離させるときに静電気が発生し、基板が帯電してしまうという問題がある。
【0006】
本発明はかかる事情に鑑みてなされたものであって、効率良く基板を冷却することができる基板冷却装置およびそれを用いた処理装置を提供することを目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するために、本発明の第1の観点では、温度が高められた基板を冷却する基板冷却装置であって、冷却手段を有する冷却板と、前記冷却板の上面に設けられ、基板を前記冷却板から浮かせた状態で支持するための支持部と、この支持部に支持された基板の周囲に冷却媒体を直接接触させるための冷却媒体供給手段とを具備し、前記冷却手段は、前記冷却板内の上部に設けられた冷却素子と、前記冷却板内の前記冷却素子の周囲に設けられ、前記冷却板および基板を冷却する冷却水が通流される第1の冷却水管路と、前記支持体内の下部に設けられ、前記冷却素子を冷却する冷却水を通流する第2の冷却水管路とを具備することを特徴とする基板冷却装置を提供する。
【0008】
本発明の第2の観点では、基板に液体を供給して所定の処理を行う液処理部と、液処理後の基板に対して熱処理が行われ、基板の温度が高められる熱処理部と、温度が高められた基板を冷却する冷却部とを具備し、前記冷却部は、冷却手段を有する冷却板と、前記冷却板の上面に設けられ、基板を前記冷却板から浮かせた状態で支持するための支持部と、この支持部に支持された基板の周囲に冷却媒体を直接接触させるための冷却媒体供給手段とを具備し、前記冷却手段は、前記冷却板内の上部に設けられた冷却素子と、前記冷却板内の前記冷却素子の周囲に設けられ、前記冷却板および基板を冷却する冷却水が通流される第1の冷却水管路と、前記支持体内の下部に設けられ、前記冷却素子を冷却する冷却水を通流する第2の冷却水管路とを具備することを特徴とする処理装置を提供する。
【0009】
本発明によれば、冷却手段を有する冷却板と、前記冷却板の上面に設けられ、基板を前記冷却板から浮かせた状態で支持するための支持部と、この支持部に支持された基板の周囲に冷却媒体を直接接触させるための冷却媒体供給手段とを備えているので、冷却板による冷却の前に、冷却媒体が基板の周囲に直接接触して効率良く急冷を行うことができる。これにより、はじめから冷却素子のみ、または冷却水のみで冷却する場合に比べて効率良く基板冷却を行うことができ、基板冷却工程におけるタクトタイム短縮を図ることができる。
【0010】
本発明において、前記冷却手段は、前記冷却板に取り付けられた冷却素子と、前記冷却板に設けられた、冷却水が通流される冷却水管路とを具備することが好ましい。また、前記冷却手段は、前記冷却板内の上部に設けられた冷却素子と、前記冷却板内の前記冷却素子の周囲に設けられ、前記冷却板および基板を冷却する冷却水が通流される第1の冷却水管路と、前記支持体内の下部に設けられ、前記冷却素子を冷却する冷却水を通流する第2の冷却水管路とを具備することが好ましい。
【0011】
これらのように冷却手段を構成することにより、高価な冷却素子の数を少なくすることができ、それに伴い冷却素子のドライバーICの数を少なくすることができる。したがって、簡易な構成で、しかもコストが高くならずに、精密な温度制御下における基板冷却を行うことができる。
【0012】
また、本発明において、前記チャンバ内に供給する冷却媒体の供給量を調整する供給量調整手段をさらに具備することが好ましい。また、前記冷却媒体を整流して均等に基板に供給する拡散板をさらに具備することが好ましい。
【0013】
【発明の実施の形態】
以下、添付図面を参照して、本発明の実施の形態について詳細に説明する。
図1は、本発明が適用されるLCD基板の塗布・現像処理システムを示す斜視図である。
【0014】
この塗布・現像処理システムは、複数の基板Sを収容するカセットCを載置するカセットステーション1と、基板Sにレジスト塗布および現像を含む一連の処理を施すための複数の処理ユニットを備えた処理部2と、カセットステーション1上のカセットCと処理部2との間で半導体ウエハの搬送を行うための搬送機構3とを備えている。そして、カセットステーション1においてシステムへのカセットCの搬入およびシステムからのカセットCの搬出が行われる。また、搬送機構3はカセットの配列方向に沿って設けられた搬送路12上を移動可能な搬送アーム11を備え、この搬送アーム11によりカセットCと処理部2との間で基板Sの搬送が行われる。
【0015】
処理部2は、前段部分2aと後段部分2bとに分かれており、それぞれ中央に通路15、16を有しており、これら通路の両側に各処理ユニットが配設されている。そして、これらの間には中継部17が設けられている。
【0016】
前段部2aは、通路15に沿って移動可能なメインアーム18を備えており、通路15の一方側には、ブラシ洗浄ユニット21、水洗ユニット22、アドヒージョン処理ユニット23、および冷却ユニット24が、他方側には2つのレジスト塗布ユニット25が配置されている。一方、後段部2bは、通路16に沿って移動可能なメインアーム19を備えており、通路19の一方側には複数の加熱処理ユニット26および冷却ユニット27からなる熱系ユニット群28が、他方側には2つの現像処理ユニット29が配置されている。熱系ユニット群28は、ユニットが2段積層されてなる組が通路19に沿って3つ並んでおり、上段が加熱処理ユニット26であり、下段が冷却ユニット27である。加熱処理ユニット26は、レジストの安定化のためのプリベーク、露光後のポストエクスポージャーベーク、および現像後のポストベーク処理を行うものである。なお、後段部2bの後端には露光装置(図示せず)との間で基板Sの受け渡しを行うためのインターフェース部30が設けられている。
【0017】
上記メインアーム18は、搬送機構3のアーム11との間で半導体ウエハWの受け渡しを行うとともに、前段部2aの各処理ユニットに対する基板Sの搬入・搬出、さらには中継部17との間で基板Sの受け渡しを行う機能を有している。また、メインアーム19は中継部17との間で基板Sの受け渡しを行うとともに、後段部2bの各処理ユニットに対する基板Sの搬入・搬出、さらにはインターフェース部30との間の基板Sの受け渡しを行う機能を有している。
このように各処理ユニットを集約して一体化することにより、省スペース化および処理の効率化を図ることができる。
【0018】
このように構成される塗布・現像処理システムにおいては、カセットC内の基板Sが、処理部2に搬送され、まず、洗浄ユニット21および水洗ユニット22により洗浄処理され、レジストの定着性を高めるためにアドヒージョン処理ユニット23にて疎水化処理され、冷却ユニット24で冷却後、レジスト塗布ユニット25でレジストが塗布される。その後、基板Sは、加熱処理ユニット26の一つでプリベーク処理され、冷却ユニット27で冷却された後、インターフェース部30を介して露光装置に搬送されてそこで所定のパターンが露光される。そして、再びインターフェース部30を介して搬入され、加熱処理ユニット26の一つでポストエクスポージャーベーク処理が施される。その後、冷却ユニット27で冷却された基板Sは、現像処理ユニット29で現像処理され、所定の回路パターンが形成される。現像処理された基板Sは、メインアーム19,18および搬送機構3によってカセットステーション1上の所定のカセットに収容される。
【0019】
図2は上記塗布・現像処理システムにおける冷却ユニット27内に設けられたの本発明の基板冷却装置の一実施形態を示す正面図である。図中31は基板Sの支持体であるクーリングプレートを示す。クーリングプレート31内には、冷却手段として、冷却素子であるペルチェ素子が複数取り付けられるか、冷却水管路が埋設されている。クーリングプレート31上には、基板Sを所定量浮かせた状態で基板Sの周縁部を支持する樹脂やゴム等からなる支持部34が設けられている。この支持部34は複数、例えば4個設けられており、それらの側面で基板Sの周縁部を支持するものである。なお、基板S支持する手段としては、その側面で基板Sの周縁部を支持する上記支持部34の他に、基板Sの裏面を支持する固定ピンや、基板Sが冷却ユニットに搬入されて支持される時にクーリングプレートから突出して基板Sを支持するプロキシミティーピンでも良い。これらの支持部を用いることにより、基板Sの全面がクーリングプレートに接触することが無いので、基板Sの脱着の際に発生する静電気による基板Sへの帯電を防止することができる。
【0020】
クーリングプレート31は、基板Sを密閉雰囲気下に置くように、チャンバ32で覆われている。このチャンバ32は、図示しない昇降手段により昇降可能であり、図2(A)および図2(B)に示すように開閉可能に構成されている。チャンバ32の頂部には、冷却媒体、例えば液体窒素等の流体をチャンバ32内に導入するための冷却媒体供給管32aが設けられており、この冷却媒体供給管32aには、フローメータ35が取り付けられている。さらに、チャンバ32内には、導入された冷却媒体を基板S表面に均等に供給するための拡散板33が取り付けられている。
【0021】
次に、上記構成を有する基板冷却装置を用いて温度が高められた基板を冷却する方法について説明する。
まず、フォトレジストの安定化のためのプリベーク、露光後のポストエクスポージャーベーク、および現像後のポストベーク等の熱処理が施された基板Sを冷却ユニット27内に搬入する。搬入された基板Sをクーリングプレート31の支持部34によりクーリングプレート31の上面から浮いた状態で支持する。次いで、図2(A)に示すように、昇降手段によりチャンバ32が降下して基板Sを密閉雰囲気下に置く。次いで、チャンバ32に備えられた図示しない排気手段によりチャンバ32内をガスパージする。その後、冷却媒体供給管32aを通じて冷却媒体をチャンバ32内に導入する。導入された冷却媒体は、チャンバ32内の拡散板33を通過することにより、整流されて均等に基板Sの表面に到達する。このように、冷却媒体が基板S表面に直接接触することにより、基板Sの温度は急冷により急激に降下する。
【0022】
上記操作において、冷却媒体導入の際、冷却媒体の供給量をフローメータ35で調節することにより、基板Sの温度をどのレベルまで急冷するか、すなわち急冷の際の冷却速度を制御することができる。なお、冷却媒体を導入する時間を調節して基板Sの温度をどのレベルまで急冷するかを制御しても良い。また、チャンバ32により密閉雰囲気下で冷却媒体を基板Sに供給するので、断熱効果により冷却媒体を温度上昇させずに基板Sに供給することができる。これにより、効率良く基板急冷を行うことができる。
【0023】
次いで、図2(B)に示すように、昇降手段でチャンバ32を上昇させて冷却ユニット27内で基板Sを開放状態にする。その後、クーリングプレート31の冷却素子または冷却水で従来と同様な精密な基板冷却を行う。
【0024】
上記の基板冷却方法においては、基板温度と時間との関係は図3に示すようになる。すなわち、急冷においては図中Xに示すような冷却速度(第1の冷却速度)で基板温度が降下し、通常の冷却においては図中Yに示すような冷却速度(第2の冷却速度)で基板温度が降下する。
【0025】
図3から分かるように、本発明の基板冷却方法では、急冷によりラフな温度降下させた後で精密な温度降下を行うので、所望の基板温度に冷却する場合に従来よりもZ分だけ短くすることができる。したがって、基板冷却工程におけるタクトタイムを短縮することができる。
【0026】
また、このように効率良い基板冷却を行うことができるので、基板全面をクーリングプレートに接触させなくても良く、図2に示すような支持構成を採ることができる。したがって、基板Sの脱着の際に発生する静電気による基板Sへの帯電を防止することができる。
【0027】
図4は本発明の基板冷却装置の他の実施形態におけるクーリングプレートを示す斜視図である。図中41はクーリングプレートを示す。このクーリングプレート41は、上部プレート41aと下部プレート41bとの二層構造となっており、上部41aプレートには、クーリングプレート41および基板Sを冷却するための冷却水用の管路42aが埋設されており、下部41bには、冷却素子であるペルチェ素子43を冷却するための冷却水用の管路42bが埋設されている。図中の実線矢印はクーリングプレート41および基板Sを冷却するための冷却水用の管路42aを示している。また、クーリングプレート41の上部プレート41aには、複数のペルチェ素子43が整列して設置されている。
【0028】
このようにクーリングプレート41の冷却手段としてペルチェ素子43と冷却水管路42aとを組み合わせて用いることにより、高価な冷却素子を数を少なくすることができ、それに伴い冷却素子のドライバーICの数を少なくすることができる。具体的には、例えば2000kcal/hの熱交換を行う場合、ペルチェ素子のみでは約66枚必要であり(ペルチェ素子1枚の熱交換能を30kcal/hとする)、そのペルチェ素子のドライバーICの多数必要となるが、図4に示す構成により、2000kcal/hの熱交換を行う場合、ペルチェ素子は約30枚で良く、それに伴いドライバーICの数も少なくて済む。また、ペルチェ素子を用いているので、温度応答性は高く、精密な基板冷却を行うことができる。
【0029】
このように、図4に示す構成のクーリングプレート41を用いることにより、冷却水管路で基板の荒熱を除去してペルチェ素子で精密な基板温度調整を行うことができるので、簡易な構成で、しかもコストが高くならずに、精密な温度制御下における基板冷却を行うことができる。
【0030】
また、図2に示す構成において、クーリングプレート31の代わりに図4に示すクーリングプレート41を用いることにより、両者の効果を発揮することができる、すなわち簡易な構成で、しかもコストが高くならずに、精密な温度制御下における基板冷却を行うことができると共に、基板冷却工程におけるタクトタイム短縮を図ることができる。
【0031】
なお、本発明は上記実施の形態に限定されず、種々の変形が可能である。例えば、上記実施の形態では、本発明の基板冷却装置をレジスト塗布・現像ユニットに適用した例を示したが、これに限らず他の処理に適用しても良い。また、上記実施形態においては、基板としてLCD基板を用いた場合について示したが、これに限らず半導体ウエハ等他の基板の処理の場合にも適用可能であることはいうまでもない。
【0032】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明のによれば、冷却手段を有する冷却板と、前記冷却板の上面に設けられ、基板を前記冷却板から浮かせた状態で支持するための支持部と、この支持部に支持された基板の周囲に冷却媒体を直接接触させるための冷却媒体供給手段とを備えているので、冷却板による冷却の前に、冷却媒体が基板の周囲に直接接触して効率良く急冷を行うことができる。これにより、はじめから冷却素子のみ、または冷却水のみで冷却する場合に比べて効率良く基板冷却を行うことができ、基板冷却工程におけるタクトタイム短縮を図ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の対象となる基板冷却装置が適用されるレジスト塗布・現像システムを示す斜視図。
【図2】(A)および(B)は本発明の基板冷却装置の一実施形態を示す正面図。
【図3】本発明の基板冷却方法における冷却速度を説明するための基板温度と時間との間の関係を示す特性図。
【図4】本発明の基板冷却装置の他の実施形態におけるクーリングプレートを示す斜視図。
【符号の説明】
31,41…クーリングプレート
32…チャンバ
32a…冷却媒体供給管
33…拡散板
34…支持部
35…フローメータ
41a…上部プレート
41b…下部プレート
42a…プレート冷却水用管路
42b…ペルチェ素子冷却水用管路
43…ペルチェ素子
S…基板
Claims (5)
- 温度が高められた基板を冷却する基板冷却装置であって、冷却手段を有する冷却板と、前記冷却板の上面に設けられ、基板を前記冷却板から浮かせた状態で支持するための支持部と、この支持部に支持された基板の周囲に冷却媒体を直接接触させるための冷却媒体供給手段とを具備し、
前記冷却手段は、前記冷却板内の上部に設けられた冷却素子と、前記冷却板内の前記冷却素子の周囲に設けられ、前記冷却板および基板を冷却する冷却水が通流される第1の冷却水管路と、前記支持体内の下部に設けられ、前記冷却素子を冷却する冷却水を通流する第2の冷却水管路とを具備することを特徴とする基板冷却装置。 - 前記冷却板上の基板の存在雰囲気を密閉雰囲気とすることが可能な開閉可能なチャンバをさらに具備することを特徴とする請求項1に記載の基板冷却装置。
- 前記チャンバ内に供給する冷却媒体の供給量を調整する供給量調整手段をさらに具備することを特徴とする請求項1から請求項2のいずれか1項に記載の基板冷却装置。
- 前記冷却媒体を整流して均等に基板に供給する拡散板をさらに具備することを特徴とする請求項1から請求項3のいずれか1項に記載の基板冷却装置。
- 基板に液体を供給して所定の処理を行う液処理部と、液処理後の基板に対して熱処理が行われ、基板の温度が高められる熱処理部と、温度が高められた基板を冷却する冷却部とを具備し、前記冷却部は、冷却手段を有する冷却板と、前記冷却板の上面に設けられ、基板を前記冷却板から浮かせた状態で支持するための支持部と、この支持部に支持された基板の周囲に冷却媒体を直接接触させるための冷却媒体供給手段とを具備し、
前記冷却手段は、前記冷却板内の上部に設けられた冷却素子と、前記冷却板内の前記冷却素子の周囲に設けられ、前記冷却板および基板を冷却する冷却水が通流される第1の冷却水管路と、前記支持体内の下部に設けられ、前記冷却素子を冷却する冷却水を通流する第2の冷却水管路とを具備することを特徴とする処理装置。
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