JP4104550B2 - 超音波プリント回路基板トランスデューサ - Google Patents
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Description
多様なマーケット向けのトランスデューサの製造時に、マイクロマシニング手法を実施する上で4つの主要な問題がしばしば現れてきている。
本発明の以上および他の利点は、以下の詳細な説明を読み図面を参照することにより明らかとなろう。
図1は、本発明の一態様に従って製造される超音波トランスデューサ・アセンブリ2を断面図で示している。標準的なPCB製造プロセスを使用して、(しばしば繊維複合材料からなる)電気的に絶縁性のPCB10の上部12上にも下部14上にも(しばしば銅からなる)パターン化された導電層を作成する。かかるPCBは、剛性または可とう性であることが可能で、既知の技術に従って製造することができる。可とう性のPCBの製造については、3MのMicroflex Circuit(商標)または他の可とう性の回路設計技術中で使用する技術と同様な技術を参照することができる。これらの技術は、本発明の趣旨の範囲内のトランスデューサ・アセンブリを構築するのに適したものである。
1)接地平面をPCBの上面および下面に接続するめっきされたスルーホール・バイアを使用することにより、1要素デバイス中に電界を封じ込めることができる
2)接地平面をPCBの上面および下面に接続する導電性バイアを使用することにより、有効な電界のシールディング(およびそれによって、多要素デバイス中の要素の分離)が可能である
3)狭帯域幅トランスデューサの費用がかからないが柔軟な製造
4)非常に費用がかかるのでマイクロマシニングによってはすぐには可能でなかったトランスデューサをさらに容易に試作し開発することができる
5)電気コネクタ、電子構成要素、音響構成要素などを取り付けるために簡単な熱アセンブリ技術が熱リフローはんだ付けを用いて使用可能になる。基本的には、適切な機械的ジグが加熱中に部品の相対的な位置を保持するために提供されるならば、炉を使用し加熱して様々なはんだ層を接合することにより、アセンブリ全体(またはアセンブリの任意部分)を接続することができる
6)エレクトロニクス(electronics)(スルーホールもSMTも)を、トランスデューサと同じPCB上に設けることができ、また逆も可能であり、多様なマーケットに向けたセンサーとエレクトロニクスとの費用のかからない一体化が可能になる
7)様々なエッチングまたは機械的な粗面化技術(サンドブラスト、研磨、機械加工など)による粗面化により銅表面および/またははんだ表面上にトランスデューサ・バックプレートを直接に画定することができる
8)マイクロマシニング加工したバックプレートをはんだ層の熱処理によりPCBに付着させることもでき、マイクロマシニング加工したバックプレートのより広い帯域幅とより高い性能を保持しながら、広範囲の高品質なシールディング技術および接続技術を可能にする
9)従来技術により機械加工されるものでも、あるいは将来の3次元マイクロマシニング技術によるものでも、湾曲したバックプレートをPCB上に取り付けて、焦点デバイスおよび他の超音波放射プロファイルを可能にする
10)可とう性(または曲げ性)のトランスデューサ・アセンブリが、様々な可とう性回路基板技術を用いて可能になる
11)はんだ層のリフローにより、またはおそらく様々な導電性エポキシなどにより、様々な要素と構成要素との接続を行うことができる
12)ガス結合および液体結合の静電容量型トランスデューサをこの手法によって製造することができる
13)すべての型の超音波トランスデューサ中の接続および信号線をシールディングしパターン化するために、この技術をより広く適用することができる
14)熱リフローはんだ付けおよび他の技術を使用して一体化された開口部を含む上側薄膜電極構成要素を取り付けることができる
15)電子業界ですぐに手に入る高密度同軸コネクタを使用することにより、静電容量トランスデューサを、特に厚さ方向に、しかも横方向にも、より小さくより小型に作ることができる
Claims (45)
- 超音波トランスデューサ・アセンブリを製造する方法であって、
上面および下面を有する多層のプリント回路基板を作成する工程と、
前記上面にも前記下面にもパターン化された導電層を作成する工程と、
前記基板上に少なくとも1つのパターン化されたバックプレート電極を作成する工程と、
前記基板と一体化された少なくとも1つの導電性信号バイアを作成する工程と、
前記基板と一体化された複数の収容バイアを作成する工程と、
前記少なくとも1つのバックプレートのそれぞれの少なくとも一部分を粗面化して前記少なくとも1つのバックプレートの表面の前記一部分にガス・ポケットを導入する工程と、
前記少なくとも1つのバックプレートと静電容量構造を形成するように構成される一体化された導電性表面を有する、絶縁性または誘電性の薄い膜を前記基板の一部分に付着する工程と
前記膜および前記複数の収容バイアを部分的に使用して前記少なくとも1つのバックプレートを電気的に収容して使用中に前記バックプレートを取り囲む空間内に生成される電界を封じ込める工程と
を含む方法。 - 前記膜と一体化される保護層を追加する工程をさらに含む、請求項1に記載の方法。
- 前記アセンブリ内の前記基板にパターン化されたはんだ層を追加する工程をさらに含む、請求項1に記載の方法。
- 前記基板の前記上面または下面のうちのいずれか一方または両方に電気的、電子的、機械的、および/または音響的な要素を取り付ける工程をさらに含む、請求項3に記載の方法。
- 前記バイアが、前記基板に分布する複数のホールをあけ、その後、前記あけられたホールの側壁を電気めっきすることによって作成される、請求項1に記載の方法。
- 前記粗面化する工程が、機械的粗面化、機械加工、微細加工、研磨、サンドブラスト、フライス加工、旋削、電気化学エッチング、選択的めっき、レーザ加工、およびプラズマ・スパッタリングからなる群から選択されるプロセスによって行われる、請求項1に記載の方法。
- 前記パターン化されたはんだ層が、機械的粗面化、機械加工、微細加工、研磨、サンドブラスト、フライス加工、旋削、電気化学エッチング、選択的めっき、レーザ加工、およびプラズマ・スパッタリングからなる群から選択されるプロセスによって粗面化される、請求項4に記載の方法。
- 前記膜が、回転成形法、ゾル・ゲル法、プラズマ堆積、スパッタリング、蒸着、または電気めっきを使用して作成される、請求項1に記載の方法。
- 前記膜が、ワイヤ・ボンディング、はんだ付け、導電性エポキシを用いた接着、および機械的容器構成要素によって加えられる機械的圧力接触からなる群から選択されるプロセスを用いて前記上部および下部の導電層上の接地平面に電気的に接続される、請求項1に記載の方法。
- 前記膜が、マイラー、Kapton、テフロン(登録商標)、Kynar、ポリエチレン、ポリイミド、マイカ、窒化ケイ素、酸化アルミニウムからなる群から選択される絶縁膜から構成される、請求項1に記載の方法。
- 前記膜の一部分がエレクトレットの形式で恒久的に帯電されて、前記アセンブリ内部の内部バイアス電界を供給する、請求項1に記載の方法。
- 前記基板が、剛性または可とう性であることがある、請求項1に記載の方法。
- 前記絶縁性または誘電性の膜が多層である、請求項1に記載の方法。
- 前記多層膜中の層をパターン化し選択的に取り除いて前記アセンブリ中にさらなるガス・ポケットを導入する工程をさらに含む、請求項13に記載の方法。
- 前記少なくとも1つのバックプレートのそれぞれが、別々の信号バイアに関連づけられ、電気的に独立に収容され得る、請求項1に記載の方法。
- 前記少なくとも1つのバックプレートのそれぞれが、別々のまたは同様な粗面化を有する、請求項1に記載の方法。
- 超音波トランスデューサ・アセンブリを製造する方法であって、
上面および下面を有する多層のプリント回路基板を作成する工程と、
上面にも下面にもパターン化された導電層を作成する工程と、
それぞれが少なくとも1つのバックプレート電極を含む少なくとも1つの個別構成要素を作成する工程と、
前記少なくとも1つのバックプレートの少なくとも一部分を粗面化する工程と、
前記基板に前記構成要素を取り付ける工程と、
前記基板と一体化された少なくとも1つの導電性信号バイアを作成する工程と、
前記基板と一体化された複数の収容バイアを作成する工程と、
前記バックプレートと静電容量構造を形成するように構成されている一体化された導電性表面を有する、絶縁性または誘電性の薄い膜を少なくとも1つの前記基板または少なくとも1つの個別構成要素の一部分に付着する工程と
前記膜および前記複数の収容バイアを部分的に使用して前記少なくとも1つのバックプレートを電気的に収容して使用中に前記バックプレートを取り囲む空間内に生成される電界を封じ込める工程と
を含む方法。 - 前記少なくとも1つのバックプレートから電気的に絶縁されることが可能なスペーサを前記少なくとも1つの個別構成要素上に作成する工程をさらに含む、請求項17に記載の方法。
- 前記少なくとも1つのバックプレートの前記それぞれと前記スペーサが、複数の破壊しやすい接続タブを使用して電気的に絶縁される、請求項18に記載の方法。
- 前記構成要素が、2次元または3次元である、請求項17に記載の方法。
- 前記アセンブリ内の前記基板にパターン化されたはんだ層を追加する工程をさらに含む、請求項17に記載の方法。
- 前記構成要素上のはんだ層と前記基板上のはんだ層の間のリフローはんだ付けを使用して、前記少なくとも1つの個別構成要素のそれぞれを前記基板に取り付ける、請求項21に記載の方法。
- 前記ボードが、剛性または可とう性であり得る、請求項17に記載の方法。
- 前記少なくとも1つの個別構成要素のそれぞれの表面の少なくとも一部分が電気的に導電性である、請求項17に記載の方法。
- 熱活性化導電性接着剤を塗布する工程、UV活性化導電性接着剤を塗布する工程、およびワイヤ・ボンディングからなる群から選択されるプロセスを使用して前記構成要素を前記基板に取り付ける、請求項17に記載の方法。
- 前記膜と一体化される保護層を追加する工程をさらに含む、請求項17に記載の方法。
- 前記基板の前記上面または下面のうちのいずれか一方または両方に電気的、電子的、機械的、および/または音響的な要素を取り付ける工程をさらに含む、請求項21に記載の方法。
- 前記バイアが、前記基板に分布される複数のホールをあけ、その後、前記あけられたホールの側壁を電気めっきすることによって作成される、請求項17に記載の方法。
- 前記粗面化する工程が、機械的粗面化、機械加工、微細加工、研磨、サンドブラスト、フライス加工、旋削、電気化学エッチング、選択的めっき、レーザ加工、およびプラズマ・スパッタリングからなる群から選択されるプロセスによって行われる、請求項17に記載の方法。
- 前記パターン化されたはんだ層が、機械的粗面化、機械加工、微細加工、研磨、サンドブラスト、フライス加工、旋削、電気化学エッチング、選択的めっき、レーザ加工、およびプラズマ・スパッタリングからなる群から選択されるプロセスによって粗面化される、請求項21に記載の方法。
- 前記膜が、回転成形法、ゾル・ゲル法、プラズマ堆積、スパッタリング、蒸着、または電気めっきを使用して作成される、請求項17に記載の方法。
- 前記膜が、ワイヤ・ボンディング、はんだ付け、導電性エポキシを用いた接着、および機械的容器構成要素によって加えられる機械的圧力接触からなる群から選択されるプロセスを用いて前記上部および下部の導電層上の接地平面に電気的に接続される、請求項17に記載の方法。
- 前記膜が、マイラー、Kapton、テフロン(登録商標)、Kynar、ポリエチレン、ポリイミド、マイカ、窒化ケイ素、酸化アルミニウムからなる群から選択される絶縁膜から構成される、請求項17に記載の方法。
- 前記膜の一部分がエレクトレットの形式で恒久的に帯電されて、前記アセンブリ内部の内部バイアス電界を供給する、請求項17に記載の方法。
- 前記絶縁性または誘電性の膜が多層である、請求項17に記載の方法。
- 前記多層膜中の層をパターン化し選択的に取り除いて前記アセンブリ中にさらなるガス・ポケットを導入する工程をさらに含む、請求項35に記載の方法。
- 前記少なくとも1つのバックプレートのそれぞれが、別々の信号バイアに関連づけられ、電気的に独立に収容され得る、請求項17に記載の方法。
- 前記少なくとも1つのバックプレートのそれぞれが、別々のまたは同様な粗面化を有する、請求項17に記載の方法。
- 剛性または可とう性である、上面および下面を有する多層プリント回路基板と、
前記上面および下面の各面上のパターン化された導電層と、
前記基板と一体化された少なくとも1つの導電性信号バイアと
前記基板と一体化された複数の収容バイアと、
上面の少なくとも一部分が粗面化されて前記バックプレート中にガス・ポケットが作成される、少なくとも1つのパターン化されたバックプレート電極と、
前記バックプレートと静電容量構造を形成するように構成される一体化された導電性表面を有する、前記基板の一部分上に動作可能に付着される絶縁性の膜とを備え、
前記膜および前記複数の収容バイアを部分的に使用して前記少なくとも1つのバックプレートを電気的に収容して使用中に前記バックプレートを取り囲む空間内に生成される電界を封じ込めるようにした超音波トランスデューサ・アセンブリ。 - 前記少なくとも1つのバックプレートが、個別構成要素の一部であり、前記膜が、前記基板または前記個別構成要素のうちの少なくとも一方の一部分への付着によって動作可能に付着される、請求項39に記載のアセンブリ。
- 前記個別構成要素が、さらにスペーサを含む、請求項40に記載のアセンブリ。
- 前記バックプレートが、2次元または3次元であり得る、請求項40に記載のアセンブリ。
- 前記膜と一体化された保護層をさらに備える、請求項39に記載のアセンブリ。
- 前記絶縁膜が、多層になっている、請求項39に記載のアセンブリ。
- ピットが、前記膜中に、または前記膜と少なくとも1つのバックプレートとの間に作成される、請求項44に記載のアセンブリ。
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JP4347885B2 (ja) * | 2004-06-03 | 2009-10-21 | オリンパス株式会社 | 静電容量型超音波振動子の製造方法、当該製造方法によって製造された静電容量型超音波振動子を備えた超音波内視鏡装置、静電容量型超音波プローブおよび静電容量型超音波振動子 |
EP1779784B1 (en) * | 2004-06-07 | 2015-10-14 | Olympus Corporation | Electrostatic capacity type ultrasonic transducer |
JP3867716B2 (ja) * | 2004-06-18 | 2007-01-10 | セイコーエプソン株式会社 | 超音波トランスデューサ、超音波スピーカ、及び超音波トランスデューサの駆動制御方法 |
JP4746291B2 (ja) * | 2004-08-05 | 2011-08-10 | オリンパス株式会社 | 静電容量型超音波振動子、及びその製造方法 |
US20070299345A1 (en) * | 2004-10-27 | 2007-12-27 | Hideo Adachi | Capacitive Ultrasonic Transducer and Endo Cavity Ultrasonic Diagnosis System Using the Same |
US7798970B2 (en) * | 2004-11-17 | 2010-09-21 | Salutron, Inc | Ultrasonic monitor for measuring blood flow and pulse rates |
US7815575B2 (en) * | 2005-05-09 | 2010-10-19 | Salutron, Inc. | Ultrasonic monitor with a biocompatible oil based transmission medium |
TWI260940B (en) * | 2005-06-17 | 2006-08-21 | Ind Tech Res Inst | Method for producing polymeric capacitive ultrasonic transducer |
JP4523879B2 (ja) * | 2005-06-20 | 2010-08-11 | 株式会社日立製作所 | 電気・音響変換素子、アレイ型超音波トランスデューサおよび超音波診断装置 |
JP2007181190A (ja) * | 2005-12-01 | 2007-07-12 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 半導体装置およびその製造方法 |
CN1997243B (zh) * | 2005-12-31 | 2011-07-27 | 财团法人工业技术研究院 | 可挠式扬声器及其制法 |
CN101152646B (zh) * | 2006-09-27 | 2012-07-04 | 香港理工大学 | 柔性超声换能器阵列及其应用装置 |
WO2008044910A1 (en) * | 2006-10-11 | 2008-04-17 | Mems Technology Bhd | Ultra-low pressure sensor and method of fabrication of same |
JP4294678B2 (ja) | 2006-10-30 | 2009-07-15 | オリンパスメディカルシステムズ株式会社 | 超音波トランスデューサ、超音波トランスデューサの製造方法、及び超音波内視鏡 |
JP4285537B2 (ja) * | 2006-12-20 | 2009-06-24 | セイコーエプソン株式会社 | 静電型超音波トランスデューサ |
CN101636112B (zh) * | 2007-03-20 | 2011-10-26 | 株式会社日立医药 | 超声波探头及其制造方法及超声波诊断装置 |
US7743659B2 (en) * | 2007-05-25 | 2010-06-29 | The Boeing Company | Structural health monitoring (SHM) transducer assembly and system |
TWI336597B (en) | 2007-08-07 | 2011-01-21 | Cotron Corp | Earphone speaker with esd protection |
CN101374362B (zh) * | 2007-08-24 | 2012-06-13 | 固昌通讯股份有限公司 | 具有防静电电路板的耳机喇叭 |
JP5019997B2 (ja) * | 2007-08-28 | 2012-09-05 | オリンパスメディカルシステムズ株式会社 | 超音波トランスデューサ、超音波診断装置及び超音波顕微鏡 |
US8047995B2 (en) | 2007-08-28 | 2011-11-01 | Olympus Medical Systems Corp. | Ultrasonic transducer, method of manufacturing ultrasonic transducer, ultrasonic diagnostic apparatus, and ultrasonic microscope |
JP4774393B2 (ja) * | 2007-08-28 | 2011-09-14 | オリンパスメディカルシステムズ株式会社 | 超音波トランスデューサ、超音波診断装置及び超音波顕微鏡 |
JP5399660B2 (ja) * | 2008-03-13 | 2014-01-29 | 富士フイルム株式会社 | 超音波内視鏡 |
JP4594995B2 (ja) * | 2008-04-16 | 2010-12-08 | オリンパスメディカルシステムズ株式会社 | 超音波トランスデューサ及び電子機器 |
JP5397670B2 (ja) * | 2008-09-16 | 2014-01-22 | 株式会社ニデック | 非接触式超音波眼圧計 |
US8227295B2 (en) * | 2008-10-16 | 2012-07-24 | Texas Instruments Incorporated | IC die having TSV and wafer level underfill and stacked IC devices comprising a workpiece solder connected to the TSV |
FR2938780B1 (fr) * | 2008-11-25 | 2011-04-22 | Sealynx Automotive Transieres | Ensemble a transducteur piezo-electrique a connexions electriques perfectionnees, emetteur ou recepteur sonore et dispositif capteur de detection de choc ou pincement d'un obstacle ainsi equipes. |
JP4803245B2 (ja) * | 2008-12-19 | 2011-10-26 | セイコーエプソン株式会社 | 静電型超音波トランスデューサ |
JP4803246B2 (ja) * | 2008-12-19 | 2011-10-26 | セイコーエプソン株式会社 | 超音波スピーカ、音声信号再生方法、超指向性音響システム |
JP5478230B2 (ja) | 2009-03-31 | 2014-04-23 | 株式会社ニデック | 非接触式超音波眼圧計 |
US8280080B2 (en) * | 2009-04-28 | 2012-10-02 | Avago Technologies Wireless Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Microcap acoustic transducer device |
JP5469381B2 (ja) * | 2009-06-09 | 2014-04-16 | 株式会社ニデック | 非接触式超音波測定装置 |
JP5478129B2 (ja) | 2009-06-22 | 2014-04-23 | 株式会社ニデック | 非接触式超音波眼圧計 |
IT1399905B1 (it) * | 2010-04-21 | 2013-05-09 | Saati Spa | Struttura tessile laminare, particolarmente idonea per componenti acustici. |
US8299687B2 (en) * | 2010-07-21 | 2012-10-30 | Transducerworks, Llc | Ultrasonic array transducer, associated circuit and method of making the same |
JP5732781B2 (ja) * | 2010-08-26 | 2015-06-10 | ヤマハ株式会社 | 音響用シートおよび音響用シートの製造方法 |
JP5022501B2 (ja) * | 2010-11-04 | 2012-09-12 | 株式会社日本表面処理研究所 | 成形回路部品の製造方法 |
CN102686052A (zh) * | 2011-03-16 | 2012-09-19 | 钒创科技股份有限公司 | 软性印刷电路板及其制造方法 |
JP5757163B2 (ja) * | 2011-06-02 | 2015-07-29 | ソニー株式会社 | 多層配線基板およびその製造方法、並びに半導体装置 |
WO2013005486A1 (ja) * | 2011-07-04 | 2013-01-10 | オリンパスメディカルシステムズ株式会社 | 静電容量型超音波振動子及び電子機器 |
DE102012202422A1 (de) * | 2012-02-16 | 2013-08-22 | Robert Bosch Gmbh | Schallwandleranordnung |
KR101919013B1 (ko) | 2012-09-13 | 2019-02-08 | 삼성전자주식회사 | 미세가공 초음파 변환기 어레이 |
US9254118B2 (en) * | 2013-03-15 | 2016-02-09 | Analogic Corporation | Floating transducer drive, system employing the same and method of operating |
JP6271887B2 (ja) * | 2013-07-10 | 2018-01-31 | キヤノン株式会社 | 静電容量型トランスデューサ、プローブ、及び被検体情報取得装置 |
JP5855142B2 (ja) * | 2014-02-06 | 2016-02-09 | キヤノン株式会社 | 静電容量型トランスデューサの制御装置、及び静電容量型トランスデューサの制御方法 |
DE102015223534B4 (de) | 2015-11-27 | 2019-05-23 | Siemens Healthcare Gmbh | Schaltungsanordnung zur Reduzierung der maximalen elektrischen Feldstärke, Hochspannungserzeugungseinheit mit einer derartigen Schaltungsanordnung und Röntgengenerator mit einer derartigen Hochspannungserzeugungseinheit |
US10347818B2 (en) | 2016-03-31 | 2019-07-09 | General Electric Company | Method for manufacturing ultrasound transducers |
US11329098B2 (en) | 2018-11-08 | 2022-05-10 | Vanguard International Semiconductor Singapore Pte. Ltd. | Piezoelectric micromachined ultrasonic transducers and methods for fabricating thereof |
CN109341906B (zh) * | 2018-12-05 | 2024-01-05 | 伍颖超 | 变电容压力传感器 |
DE102019202847A1 (de) * | 2019-03-01 | 2020-09-03 | Syntegon Technology Gmbh | Schlauchbeutelmaschine zur Herstellung von Papierbeuteln |
DE102019202850A1 (de) | 2019-03-01 | 2020-09-03 | Syntegon Technology Gmbh | Verfahren und Vorrichtung zum Fügen von Papiermaterial |
US11043945B2 (en) * | 2019-03-22 | 2021-06-22 | Yingchao WU | Capacitance-variable pressure sensor |
CN111482807B (zh) * | 2020-04-22 | 2021-07-13 | 南京丛迈信息科技有限公司 | 一种换能器零件半自动加工装置 |
CN111757207B (zh) * | 2020-07-10 | 2022-04-19 | 菏泽韩升元电子股份有限公司 | 耳机振动组件及具有该振动组件的振动式耳机 |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02197183A (ja) * | 1988-03-29 | 1990-08-03 | Pennwalt Corp | 積層圧電構造及びその形成方法 |
US4993072A (en) * | 1989-02-24 | 1991-02-12 | Lectret S.A. | Shielded electret transducer and method of making the same |
GB2231235B (en) | 1989-05-05 | 1993-11-10 | Transfer Technology Ltd | Electroacoustical transducer |
JPH04257200A (ja) * | 1991-02-12 | 1992-09-11 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | エレクトレットコンデンサマイクロホン |
US5287331A (en) * | 1992-10-26 | 1994-02-15 | Queen's University | Air coupled ultrasonic transducer |
US5475606A (en) * | 1993-03-05 | 1995-12-12 | International Business Machines Corporation | Faraday cage for a printed circuit card |
US5745333A (en) * | 1994-11-21 | 1998-04-28 | International Business Machines Corporation | Laminar stackable circuit board structure with capacitor |
JP3227444B2 (ja) * | 1999-11-10 | 2001-11-12 | ソニーケミカル株式会社 | 多層構造のフレキシブル配線板とその製造方法 |
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