JP4101442B2 - 焼却炉排ガス集塵方法及び集塵装置 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、焼却炉排ガスをセラミックフィルタを備えた集塵機で集塵するための焼却炉排ガス集塵方法及び集塵装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
焼却炉排ガスから排出されるダイオキシン類(PCDD:ポリ塩化ジベエンゾジオキキシン、および、PCDF:ポリ塩化ジベンゾフランの総称)は、極めて毒性が強くしかも発ガン性を有し、人体に深刻な影響を与えることから、大気中に放出される排ガス中のダイオキシン類濃度は規制されている。焼却炉新規施設に対する規制の一例は、以下の表1の通りであり、焼却炉の処理能力に応じてダイオキシン類の濃度が規定されている。
【0003】
【表1】
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
ダイオキシン類の濃度を上記規制値以下にするための技術として、本出願人は特開平11−239706号公報において、焼却炉からの排ガスをセラミックフィルタで高温集塵することで、ダイオキシン類の再合成を抑制する技術を開示している。しかしながら、上述した集塵方法を使用しても、集塵装置を通過する際の排ガスの条件によっては、ダイオキシン類の再合成を防ぎきれず、ダイオキシン類の再合成が生じてしまう問題があった。
【0005】
本発明の目的は上述した課題を解消して、集塵時のダイオキシン類の再合成をより効果的に抑制することのできる焼却炉排ガスの集塵方法及び集塵装置を提供しようとするものである。
【0006】
【課題を解決するための手段】
本発明の焼却炉排ガスの集塵方法は、焼却炉排ガスを、セラミックフィルタを備えた集塵機で集塵するにあたり、排ガス温度が300℃以上、集塵機内容積と処理ガス量の比が40秒以下の条件で集塵することを特徴とするものである。また、本発明の焼却炉排ガスの集塵装置は、上述した条件で、焼却炉排ガスをセラミックフィルタで集塵するよう集塵機を構成したことを特徴とするものである。
【0007】
本発明では、セラミックフィルタで高温集塵する際、いかに排ガスの淀みをなくし早く集塵させるかがダイオキシン類の再合成を抑制するために必要かをつきとめ、その条件を検討することで、排ガス温度が300℃以上、集塵機内容積と処理ガス量の比(=集塵機内ガス通過時間)が40秒以下の条件で集塵することで、ダイオキシン類の再合成を効果的に抑制できることを見いだした。
【0008】
本発明の好適な実施態様として、排ガス温度が500℃以上、集塵機内容積と処理ガス量の比が20秒以下の条件で集塵すること、集塵機内で処理すべき排ガスを拡散させて集塵すること、セラミックフィルタがハニカムフィルタであることが、ダイオキシン類の再合成をさらに効果的に抑制できるため好ましい。
【0009】
【発明の実施の形態】
図1は本発明の焼却炉排ガス集塵装置の一例の構成を示す図である。図1に示す例において、焼却炉排ガス集塵装置1は、焼却炉2と、焼却炉2からの排ガスをセラミックフィルタ3で集塵する集塵機4と、集塵機4で集塵された排ガスを吸引するブロワ6と、ブロワ6で吸引した排ガスを大気中に放出する煙突7とから構成されている。
【0010】
図1に示す焼却炉排ガス集塵装置1を利用した本発明の焼却炉排ガス集塵方法は、集塵機4で集塵するにあたり、排ガス温度を300℃以上とするとともに、集塵機4の内容積と処理ガス量の比(言い換えると、集塵機4内のガス通過時間)を40秒以下とすることに特徴がある。排ガス温度を500℃以上とすること、及び、集塵機4の内容積と処理ガス量の比を20秒以下とすることは、それぞれ本発明のダイオキシン類の再合成をさらに効果的に抑制できる。
【0011】
また、図2に集塵機4の他の例を示すように、集塵機4の排ガス入口11の内部に、供給される排ガスが衝突し一旦下側へ流れるよう排ガスの流れを規制する邪魔板12を設け、集塵機4内で処理すべき排ガスを拡散させて集塵するよう構成することが好ましい。集塵機3に邪魔板12を設置した場合は、排ガス中のダストの集塵をより効果的に実施することができるとともに、ダイオキシン類の再合成をさらに好適に抑制することができる。
【0012】
さらに、集塵機4内で使用するセラミックフィルタ3の材質については、例えばコージェライト等従来から集塵機4用として知られているセラミックスであれば何でも使用することができる。さらにまた、セラミックフィルタ3の形状については、図3(a)に示すようなキャンドルフィルタ21でも良いが、図3(b)に示すように両端に互い違いに目封止部22を設けたハニカムフィルタ23の方が集塵機4の容積を小さくでき、より効果的である。ハニカムフィルタ23の一例として、本出願人が市販しているセラレック(商標名)を好適に使用することができる。
【0013】
以下、実際の例について説明する。
図4に示すように、ゴミ焼却炉31、排ガス温度調整用の冷却機32、セラミックハニカムフィルタを使用した集塵機33、ダイオキシン類の濃度を測定する測定口34、排ガス量を調整するために排ガスを吸引するブロア35から実験用システムを構成し、この実験用システムにより、以下の表2に示す試験No.1〜9の条件でゴミを実際に焼却したときの集塵機出口ダイオキシン類濃度を測定し比較した。変化させた条件は、表2に示すように、集塵機33内の排ガス温度、集塵機容積V、排ガス量Q、集塵機内排ガス通過時間V/Q、ガス拡散装置(邪魔板)の有無であった。結果を表2に示す。
【0014】
【表2】
【0015】
表2の結果から、試験No.5、7の場合ダイオキシン類の濃度が5ng-TEQ /m3N以上となるため、集塵機の温度が300℃以上で集塵機内の排ガス通過時間が40秒以下であれば、2000kg/h未満の小型炉の規制値をクリアできることがわかった。また、試験No.4〜7の場合ダイオキシン類の濃度が0.1ng-TEQ /m3N以上となるため、集塵機の温度が500℃以上で集塵機内の排ガス通過時間が20秒以下であれば、4000kg/h以上の大型炉の規制値をクリアできることがわかった。
【0016】
【発明の効果】
以上の説明から明らかなように、本発明によれば、排ガス温度が300℃以上、集塵機内容積と処理ガス量の比(=集塵機内ガス通過時間)が40秒以下の条件で集塵しているため、ダイオキシン類の再合成を効果的に抑制することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の焼却炉排ガス集塵装置の一例の構成を示す図である。
【図2】集塵機の他の例の構成を示す図である。
【図3】(a)、(b)はいずれもセラミックフィルタの一例を示し、(a)はキャンドルフィルタの例を、(b)はハニカムフィルタの例を示す。
【図4】実験用システムの構成を示す図である。
【符号の説明】
1 焼却炉排ガス集塵装置、2 焼却炉、3 セラミックフィルタ、4 集塵機、6 ブロワ、7 煙突、11 排ガス入口、12 邪魔板、21 キャンドルフィルタ、22 目封止部、23 ハニカムフィルタ、31 ゴミ焼却炉、32冷却機、33 集塵機、34 ダイオキシン類濃度測定口、35 フィルタ
Claims (5)
- 焼却炉排ガスを、セラミックフィルタを備えた集塵機で集塵するにあたり、排ガス温度が300℃以上、集塵機内容積と処理ガス量の比が40秒以下の条件で集塵することを特徴とする焼却炉排ガス集塵方法。
- 排ガス温度が500℃以上、集塵機内容積と処理ガス量の比が20秒以下の条件で集塵する請求項1記載の焼却炉排ガス集塵方法。
- 集塵機内で処理すべき排ガスを拡散させて集塵する請求項1または2記載の焼却炉排ガス集塵方法。
- セラミックフィルタがハニカムフィルタである請求項1〜3のいずれか1項に記載の焼却炉排ガス集塵方法。
- 請求項1〜4のいずれか1項に記載の条件で、焼却炉排ガスをセラミックフィルタで集塵するよう集塵機を構成したことを特徴とする焼却炉排ガス集塵装置。
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