JP4086218B2 - パターン状薄膜層の形成方法 - Google Patents
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は、リフトオフ法によるパターン状薄膜層の形成方法、特に、電気絶縁性のフレキシブルフィルム基板上に、光電変換層及び電極層を備えた光電変換素子が複数直列接続されてなる光電変換装置用の薄膜層の形成方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
現在、環境保護の立場から、クリーンなエネルギーの研究開発が進められている。中でも、太陽電池はその資源（太陽光）が無限であること、無公害であることから注目を集めている。
【０００３】
薄膜太陽電池は、薄型で軽量、製造コストの安さ、大面積化が容易であることなどから、今後の太陽電池の主流となると考えられる。
【０００４】
従来の薄膜太陽電池はガラス基板を用いていたが、軽量化、施工性、量産性においてプラスチックフィルムおよび金属フィルムを用いたフレキシブルタイプの太陽電池の研究開発がすすめられている。このフレキシブル性を生かし、ロールツーロール方式の製造方法により大量生産が可能となった。
【０００５】
上記の薄膜太陽電池は、フレキシブルな電気絶縁性フィルム基板上に下部電極層としての第１電極、薄膜半導体層からなる光電変換層および透明電極層としての第２電極が積層されてなる光電変換素子（またはセル）が複数形成されている。ある光電変換素子の第１電極と隣接する光電変換素子の第２電極を電気的に接続することを繰り返すことにより、最初の光電変換素子の第１電極と最後の光電変換素子の第２電極とに必要な電圧を出力させることができる。例えば、インバータにより交流化し商用電力源として交流１００Ｖを得るためには、薄膜太陽電池の出力電圧は１００Ｖ以上が望ましく、実際には数１０個以上の素子が直列接続される。
【０００６】
このような光電変換素子とその直列接続は、電極層と光電変換層の成膜と各層のパターニングおよびそれらの組み合わせ手順により形成される。少数の光電変換素子を直列接続した薄膜太陽電池により従来技術を説明する（特開平１０−２３３５１７号公報参照）。
【０００７】
図８は、上記特許出願明細書に記載された薄膜太陽電池の一例を示し、（ａ）は平面図、（ｂ）は（ａ）における線ＡＢＣＤおよびＢＱＣに沿っての断面図であり、（ｃ）は（ａ）におけるＥＥ断面図を示す。
【０００８】
電気絶縁性でフレキシブルな樹脂からなる長尺のフィルム基板上に、順次、第１電極層、光電変換層、第２電極層が積層され、フィルム基板の反対側（裏面）には第３電極層、第４電極層が積層され、裏面電極が形成されている。光電変換層は例えばアモルファスシリコンのpin接合である。フィルム基板用材料としては、ポリイミド、ポリエーテルイミド、パラ系アラミド、フッ素系樹脂全般等々が用いられている。
【０００９】
製造工程の概要につき以下に説明する。
【００１０】
先ず、フィルム基板にパンチを用いて、接続孔ｈ１を開け、基板の片側（表側とする）に第１電極層として、スパッタにより銀を成膜し、これと反対の面（裏側とする）には、第３電極層として、同じく銀電極を成膜する。接続孔ｈ１の内壁で第１電極層と第３電極層とは重なり、導通する。
【００１１】
成膜後、表側では、第１電極層を所定の形状にレーザ加工して、下電極ｌ１〜ｌ６をパターニングする。下電極ｌ１〜ｌ６の隣接部は一本の分離線ｇ２を、二列の直列接続の光電変換素子間および周縁導電部ｆとの分離のためには二本の分離線ｇ２を形成し、下電極ｌ１〜ｌ６は分離線により囲まれるようにする。再度パンチを用いて、集電孔ｈ２を開けた後、表側に、光電変換層ｐとしてa-Si層をプラズマＣＶＤにより成膜する。マスクを用いて幅Ｗ２の成膜とし、レーザ加工により二列素子の間だけに第１電極層と同じ分離線を形成する。
【００１２】
さらに第２電極層として表側にＩＴＯ層を成膜する。但し、二つの素子列の間とこれに平行な基板の両側端部にはマスクを掛け接続孔ｈ１には成膜しないようにし、素子部のみに成膜する。次いで裏面全面に第４電極層として銀電極を成膜する。第４電極の成膜により、集電孔ｈ２の内壁で第２電極と第４電極とが重なり、導通する。表側では、レーザ加工により下電極と同じパターンの分離線を入れ、個別の第２電極ｕ１〜ｕ６を形成し、裏側では第３電極と第４電極とを同時にレーザ加工し、接続電極ｅ１２〜ｅ５６、および電力取り出し電極ｏ１，ｏ２を個別化し、基板の周縁部では表側の分離線ｇ３と重なるように分離線ｇ２を形成し、隣接電極間には一本の分離線を形成する。
【００１３】
全ての薄膜太陽電池素子を一括して囲う周縁、および二列の直列接続太陽電池素子の隣接する境界には（周縁導電部ｆの内側）分離線ｇ３がある。分離線ｇ３の中にはどの層も無い。裏側では、全ての電極を一括して囲う周縁、および二列の直列接続電極の隣接する境界には（周縁導電部ｆの内側）分離線ｇ２がある。分離線ｇ２の中にはどの層も無い。
【００１４】
こうして、電力取り出し電極ｏ１−集電孔ｈ２−上電極ｕ１、光電変換層、下電極ｌ１−接続孔ｈ１−接続電極ｅ１２−上電極ｕ２、光電変換層、下電極ｌ２−接続電極ｅ２３−・・・−上電極ｕ６、光電変換層、下電極ｌ６−接続孔ｈ１−電力取出し電極ｏ２の順の光電変換素子の直列接続が完成する。
【００１５】
以上薄膜太陽電池を例として説明したが、従来のレーザ加工法によると、パターニングラインを１本ごとに加工していくため、大面積レベルの量産化への時間的ロスが問題になっていた。また、電極のパターニングにレーザ加工法を用いると、片面電極のパターニングにおいて、透過レーザ光により、裏面の薄膜がダメージをうけることから、基板の光透過率、太陽電池の膜構成等についてレーザ光が透過しないようにするため選択する材料に制限があった。
【００１６】
そこで、上記の問題に対する改善策として、電極の個別化や分離線の形成をレーザ加工によらず、フィルム基板上に、所定パターンのリフトオフ用マスク層を形成した後、前記基板およびマスク層の両面上にまたがって所定パターンの薄膜層を形成し、前記マスク層を前記基板との界面から剥離することにより、マスク層上の薄膜層をマスク層と共に除去して所望パターンの薄膜層を形成する方法、いわゆる、リフトオフ方式の薄膜形成方法が、前述の特開平１０−２３３５１７号公報に記載され提案されている。リフトオフ方式の薄膜形成方法は、他にも、特開昭６２−１７１１６９号公報にも記載されており、よく知られた方法である。
【００１７】
マスク層としては、シリコン系樹脂、フッ素系樹脂、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリアミド、ポリフェニレンスルファイド、ポリベンゾイミダゾールの中の一つまたはこれら材料の２種以上の組み合わせで構成される。
【００１８】
また、本願出願人から別途、基板との剥離性が良好でかつ除去を必要とする薄膜部を容易にリフトオフ可能な新規のパターン状薄膜層の形成方法が提案されている（特願平１０−３３０８９１号参照）。
【００１９】
上記特願平１０−３３０８９１号に記載された発明は、図６に示す薄膜太陽電池の模式図において、フィルム基板１の材料とマスク層５の材料に好適な材料を選定して剥離性を良好にすることと、図７に示すように、フィルム基板１上に、第１のマスク層６および第２のマスク層７を順次積層した所定パターンの２層構造のマスク層を形成した後、前記基板および第２のマスク層の両面上にまたがって所定パターンの薄膜層を形成し、前記第２のマスク層を前記第１のマスク層との界面から剥離することにより、第２のマスク層上の薄膜層を第２のマスク層と共に除去して所望パターンの薄膜層を形成する方法で、除去を必要とする薄膜部を第２のマスク層と共に容易に除去し得る新規の方法である。
【００２０】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、前記の方法において、マスク層の基板からの剥離方法としては、粘着性フィルムを薄膜層上面に貼り付け、この粘着性フィルムを機械的に引き剥がすことにより、薄膜層およびマスク層を除去する方法が従来から採用されていた。この方法の場合、量産性が悪くまた、時に剥離ミスが発生する問題があった。
【００２１】
この発明は、上記問題点に鑑みてなされたもので、この発明の課題は、量産性と歩留りの向上、総じて量産コストの低減を図ったリフトオフ方式のパターン状薄膜層の形成方法を提供することにある。
【００２２】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するために、この発明においては、電気絶縁性フィルム基板上に、所定パターンのリフトオフ用マスク層を形成した後、前記基板およびマスク層の両面上にまたがって所定パターンの薄膜層を形成し、前記マスク層を前記基板との界面から剥離することにより、マスク層とその上の薄膜層（以下、マスク層とその上の薄膜層を合わせて、リフトオフ層ともいう。）を除去して所望パターンの薄膜層を形成した後、吸引口と真空排気装置とを備えた真空吸引装置の前記吸引口を、前記リフトオフ層上を走査させることにより、リフトオフ層を吸引して剥離するパターン状薄膜層の形成方法において、前記電気絶縁性フィルム基板上に、第１のマスク層および第２のマスク層を順次積層した所定パターンの２層構造のマスク層を形成した後、前記基板および第２のマスク層の両面上にまたがって所定パターンの薄膜層を形成し、前記第２のマスク層を前記第１のマスク層との界面から剥離することにより、第２のマスク層上の薄膜層を第２のマスク層と共に除去して所望パターンの薄膜層を形成することとする（請求項１）。
【００２３】
これにより、リフトオフ層が、ほぼ均一な真空吸引力により、容易かつ安定的に除去できる。前記吸引口は、一つに限定されるものではなく、必要に応じパターンに応じて複数個の吸引口から同時に真空吸引して一括剥離し、走査の回数を低減することができる。
【００２４】
また、上記請求項１の方法においては、電気絶縁性フィルム基板上に、第１のマスク層および第２のマスク層を順次積層した所定パターンの２層構造のマスク層を形成した後、前記基板および第２のマスク層の両面上にまたがって所定パターンの薄膜層を形成し、前記第２のマスク層を前記第１のマスク層との界面から剥離することにより、第２のマスク層上の薄膜層を第２のマスク層と共に除去して所望パターンの薄膜層を形成することとするので、これにより、剥離はさらに容易かつ安定的となる。
【００２５】
さらに、請求項２ないし４の発明によれば、真空吸着に変えて、ホットメルト接着剤を用いて剥離操作を容易にすることができる。まず、請求項２によれば、電気絶縁性フィルム基板上に、所定パターンのリフトオフ用マスク層を形成した後、前記基板およびマスク層の両面上にまたがって所定パターンの薄膜層を形成し、前記マスク層を前記基板との界面から剥離することにより、マスク層とその上の薄膜層（リフトオフ層）を除去して所望パターンの薄膜層を形成するパターン状薄膜層の形成方法において、前記リフトオフ層上にホットメルト接着剤を所定の間隔でスポット状に滴下し、この接着剤硬化後に、剥離用ブレード部材の先端部を前記スポット状接着剤の側底部に当接して接着剤に剥離力を加えることにより、リフトオフ層を接着剤と共に除去して所望パターンの薄膜層を形成することとする。
【００２６】
また、前記請求項２の方法において、搬送ローラにより搬送されるフィルム基板に接着硬化したスポット状接着剤の側底部に剥離用ブレード部材の先端部を当接して、搬送ローラの搬送力によりリフトオフ層を接着剤と共に除去して所望パターンの薄膜層を形成することとする（請求項３）。
【００２７】
さらに、上記請求項２または３記載のリフトオフ層を接着剤と共に除去して所望パターンの薄膜層を形成する方法において、電気絶縁性フィルム基板上に、第１のマスク層および第２のマスク層を順次積層した所定パターンの２層構造のマスク層を形成した後、前記基板および第２のマスク層の両面上にまたがって所定パターンの薄膜層を形成し、前記第２のマスク層を前記第１のマスク層との界面から剥離することにより、第２のマスク層上の薄膜層を第２のマスク層と共に除去して所望パターンの薄膜層を形成することとする（請求項４）。
【００２８】
また、請求項５の発明は、薄膜太陽電池への適用に関わるもので、前記請求項１ないし４記載のいずれかの方法において、薄膜層は、下部電極としての第１電極層，光電変換層，透明電極層としての第２電極層とを備えた光電変換素子が複数直列接続されてなる光電変換装置用の薄膜層であることとする。特に、上記請求項４の方法は、ロール搬送方式の薄膜太陽電池の量産方法に好適である。
【００２９】
さらにまた、請求項６の発明によれば、請求項１または４記載の方法において、薄膜層は、下部電極としての第１電極層，光電変換層，透明電極層としての第２電極層とを備えた光電変換素子が複数直列接続されてなる光電変換装置用の薄膜層であって、第１のマスク層，第２のマスク層および第１電極層形成後に第２のマスク層および第１電極層を第１のマスク層から剥離し、その後第１のマスク層上に再度第２のマスク層（以下、再マスク層という。）を形成し、さらに第１電極層および前記再マスク層の両面上にまたがって光電変換層および第２電極層を形成し、前記再マスク層を第１のマスク層との界面から剥離することにより，再マスク層上の光電変換層および第２電極層を再マスク層と共に除去して所望パターンの薄膜層を形成することとする。
【００３０】
この方法によれば、各層の剥離を２回に分けて剥離するので、剥離がより確実となりフィルム基板上に残る剥離残り量を軽減でき、品質と歩留りが向上する。
【００３１】
最後に、請求項７の発明によれば、前記請求項６の方法において、再マスク層のパターン幅寸法を、最初に形成する第２のマスク層のパターン幅寸法より小とする。これにより、詳細は後述するが、防湿性の高い光電変換層が第１電極層を覆うため、水分の侵入が抑えられ、耐防湿性を有する信頼性の高い光電変換素子が提供できる。
【００３２】
【発明の実施の形態】
図面に基づき、本発明の実施例について以下にのべる。
【００３３】
（実施例１）
図１は、請求項１の発明に関わる実施例を示す概念図である。吸引口２０を有する真空吸引装置２１により、吸引口２０をＡ矢印で示す方向に走査させることにより、リフトオフ層１０をフィルム基板１から剥離する。
【００３４】
上記方法に関わるショートピースによる剥離実験例について、以下に述べる。厚さ５０μｍ，幅５０ｍｍの絶縁性フィルム基板１上に、スクリーン印刷法（版：ステンレスメッシュ ＃２００）を用いてシリコーン樹脂からなる第１のマスク層（幅２．５ｍｍ）のパターン（７．５ｍｍピッチのストライプ）を印刷し、９０℃〜１００℃の恒温槽内にて３分加熱乾燥した。第１のマスク層厚さは２〜３μｍとした。
【００３５】
前記第１のマスク層上に同じ版を用い、ポリイミドからなる第２のマスク層を印刷し、９０℃〜１００℃の恒温槽内にて３分、１４０℃の恒温槽内にて２分乾燥した。第２のマスク層の厚さは８〜１０μｍとした。
【００３６】
上記２層のマスク層上に、第１電極層、光電変換層、第２電極層を形成した。上記薄膜形成後、吸引口形状が２ｍｍ×５ｍｍで、１０〜２０°傾斜させたガラス管を吸引口として、パターン部分に押し当て、２０Torr以下の圧力でリフトオフ層（マスク層とその上の薄膜）を吸引、剥離した。この方法により、テープ剥離と同等のパターニングラインを容易に得ることができた。
【００３７】
（実施例２）
図２は、請求項２の発明に関わる実施例を示す概念図である。
【００３８】
リフトオフ層１０上にホットメルト接着剤を所定の間隔でスポット状に滴下し、この接着剤硬化後に、剥離用ブレード部材３１の先端部３２を前記スポット状接着剤３０の側底部に当接して接着剤に剥離力を加えることにより、リフトオフ層１０を接着剤と共に除去して所望パターンの薄膜層を形成する。
【００３９】
上記方法に関わるショートピースによる剥離実験例について、以下に述べる。第１のマスク層，第２のマスク層および前記２層のマスク層上に、第１電極層、光電変換層、第２電極層を形成する手順は、上記実施例１と同一である。
【００４０】
上記薄膜形成後、リフトオフ層の上から２液性エポキシ樹脂３〜５ｍｇを、１５ｍｍ間隔で滴下し、滴下後１００℃の恒温槽内にて３０秒エポキシ樹脂９を硬化させ、略円筒状の樹脂山スポットを形成した。その後、図２に示すようにシリコンゴム製のブレード部材３１にて第１のマスク層と第２のマスク層間を剥離し、リフトオフ層１０を接着剤と共に除去して所望パターンの薄膜層を形成した。上記ホットメルト接着剤を用いた剥離により、粘着テープを用いた剥離と同等のパターニングラインを容易に得ることができる。
【００４１】
図３は、請求項３の発明に関わる実施例を概念的に示す図で、図３（ｂ）に側面図を、図３（ａ）に図３（ｂ）の矢印Ｐ方向からみた部分平面図を示す。薄膜太陽電池の製造プロセスにおいては、一般に、その基板を搬送ロールにより張力をかけながら搬送し、各種の薄膜形成を行う。請求項３の発明は、このような製法とのマッチングを考慮してなされた発明もので、図３の搬送ローラ１１によりフィルム基板１が搬送される。搬送ローラにより搬送されるフィルム基板１に接着硬化したスポット状接着剤３０の側底部に剥離用ブレード部材３１の先端部３２を当接して、搬送ローラ１１の搬送力によりリフトオフ層１０を接着剤と共に除去して所望パターンの薄膜層を形成することができる。
【００４２】
（実施例３）
図４は、請求項６の発明に関わる実施例を概念的に示す図で、図４（ａ）は、第２のマスク層７を形成後，第１電極層を形成した状態を示し、図４（ｂ）は、再マスク層７０形成後，光電変換層３および第２電極層４を形成した状態を示す。
【００４３】
上記請求項６の発明に関わる実験例について、以下に述べる。厚さ５０μｍの絶縁性フィルム基板１上に、スクリーン印刷法（版：ステンレスメッシュ ＃２００）を用いて、第１のマスク層としてのシリコーン樹脂からなる所定のパターンを印刷し、９０℃〜１００℃の恒温槽内にて３分加熱乾燥した。第１のマスク層の厚さは２〜３μｍ，幅は４００μｍとした。
【００４４】
第１のマスク層６上に同じ版を用い、ポリイミドからなる第２のマスク層を印刷し、９０℃〜１００℃の恒温槽内にて３分、１４０℃の恒温槽内にて２分乾燥した。第２のマスク層７の厚さは８〜１０μｍ，幅は４００μｍとした。
【００４５】
上記２層のマスク層上に、第１電極層２を形成した後（図３（ａ））、真空吸引により第１のマスク層と第２のマスク層間で剥離した。
【００４６】
続いて、第１のマスク層６上に再マスク層７０としてのポリイミドからなる所定のパターンを印刷し、９０℃〜１００℃の恒温槽内にて３分加熱乾燥した。再マスク層７０の厚さは２〜３μｍ，幅は４００μｍとした。
【００４７】
再マスク層７０上に、光電変換層３、第２電極層４を積層した（図３（ｂ））。薄膜積層後、真空吸引により再マスク層７０とその上の薄膜層を、第１のマスク層から剥離除去した。このように２回に分けて剥離を行うことにより、基板上に残る剥離残し量を減らすことができた。
【００４８】
（実施例４）
図５は、請求項７の発明に関わる実施例を概念的に示す図で、図５（ａ）は、第２のマスク層７を形成後，第１電極層を形成した状態を示し、図５（ｂ）は、再マスク層７０形成後，光電変換層３および第２電極層４を形成した状態を示し、図５（ｃ）は、リフトオフ完了後の部分拡大断面図を示す。
【００４９】
上記請求項７の発明に関わる実験例について、以下に述べる。図５（ａ）の第２のマスク層７を形成後，第１電極層を形成する手順を経て、図５（ｂ）の再マスク層７０形成後，光電変換層３および第２電極層４を形成する手順は、前記実施例３と略同様であるが、異なる点は、図５（ｂ）における再マスク層７０の幅を、実施例３における幅（４００μｍ）の半分の２００μｍとした点である。
【００５０】
このようにすることにより、図５（ｃ）に示すように、防湿性の高い光電変換層３が第１電極層２を覆うため、水分の侵入が抑えられ、信頼性の高い光電変換素子を提供できる。
【００５１】
【発明の効果】
この発明によれば、電気絶縁性フィルム基板上に、所定パターンのリフトオフ用マスク層を形成した後、前記基板およびマスク層の両面上にまたがって所定パターンの薄膜層を形成し、前記マスク層を前記基板との界面から剥離することにより、マスク層とその上の薄膜層（リフトオフ層）を除去して所望パターンの薄膜層を形成した後、吸引口と真空排気装置とを備えた真空吸引装置の前記吸引口を、前記リフトオフ層上を走査させることにより、リフトオフ層を吸引して剥離するパターン状薄膜層の形成方法において、前記電気絶縁性フィルム基板上に、第１のマスク層および第２のマスク層を順次積層した所定パターンの２層構造のマスク層を形成した後、前記基板および第２のマスク層の両面上にまたがって所定パターンの薄膜層を形成し、前記第２のマスク層を前記第１のマスク層との界面から剥離することにより、第２のマスク層上の薄膜層を第２のマスク層と共に除去して所望パターンの薄膜層を形成することとするか、もしくは、前記リフトオフ層上にホットメルト接着剤を所定の間隔でスポット状に滴下し、この接着剤硬化後に、剥離用ブレード部材の先端部を前記スポット状接着剤の側底部に当接して接着剤に剥離力を加えることにより、リフトオフ層を接着剤と共に除去して所望パターンの薄膜層を形成することとしたので、リフトオフ層が、真空吸引力もしくは接着剤を介して容易かつ安定的に剥離でき、量産性と歩留りの向上、総じて量産コストの低減を図ったリフトオフ方式のパターン状薄膜層の形成方法を提供することができる。この発明は、太陽電池以外に、半導体や感光体などの薄膜形成に広く適用できるが、特に、光電変換装置の製造プロセスに適用した場合、製造プロセスの簡易化，低コスト化に寄与できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】 この発明の真空吸引方式の実施例の概念図
【図２】 この発明の接着剤方式の実施例の概念図
【図３】 この発明の搬送ローラを用いる接着剤方式の実施例の概念図
【図４】 この発明の請求項６に関わる実施例の製造工程を示す図
【図５】 この発明の請求項７に関わる実施例の製造工程を示す図
【図６】 従来のマスク一層式パターン状薄膜層の形成方法を概念的に説明する図
【図７】 従来のマスク二層式パターン状薄膜層の形成方法を概念的に説明する図
【図８】 薄膜太陽電池の構成および製造方法を概念的に説明する図
【符号の説明】
１：フィルム基板、２：第１電極層、３：光電変換層、４：第２電極層、６：第１のマスク層、７：第２のマスク層、１０：リフトオフ層、１１：搬送ローラ、２０：吸引口、２１：真空吸引装置、３０：スポット状接着剤、３１：ブレード部材、７０：再マスク層。
【発明の属する技術分野】
この発明は、リフトオフ法によるパターン状薄膜層の形成方法、特に、電気絶縁性のフレキシブルフィルム基板上に、光電変換層及び電極層を備えた光電変換素子が複数直列接続されてなる光電変換装置用の薄膜層の形成方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
現在、環境保護の立場から、クリーンなエネルギーの研究開発が進められている。中でも、太陽電池はその資源（太陽光）が無限であること、無公害であることから注目を集めている。
【０００３】
薄膜太陽電池は、薄型で軽量、製造コストの安さ、大面積化が容易であることなどから、今後の太陽電池の主流となると考えられる。
【０００４】
従来の薄膜太陽電池はガラス基板を用いていたが、軽量化、施工性、量産性においてプラスチックフィルムおよび金属フィルムを用いたフレキシブルタイプの太陽電池の研究開発がすすめられている。このフレキシブル性を生かし、ロールツーロール方式の製造方法により大量生産が可能となった。
【０００５】
上記の薄膜太陽電池は、フレキシブルな電気絶縁性フィルム基板上に下部電極層としての第１電極、薄膜半導体層からなる光電変換層および透明電極層としての第２電極が積層されてなる光電変換素子（またはセル）が複数形成されている。ある光電変換素子の第１電極と隣接する光電変換素子の第２電極を電気的に接続することを繰り返すことにより、最初の光電変換素子の第１電極と最後の光電変換素子の第２電極とに必要な電圧を出力させることができる。例えば、インバータにより交流化し商用電力源として交流１００Ｖを得るためには、薄膜太陽電池の出力電圧は１００Ｖ以上が望ましく、実際には数１０個以上の素子が直列接続される。
【０００６】
このような光電変換素子とその直列接続は、電極層と光電変換層の成膜と各層のパターニングおよびそれらの組み合わせ手順により形成される。少数の光電変換素子を直列接続した薄膜太陽電池により従来技術を説明する（特開平１０−２３３５１７号公報参照）。
【０００７】
図８は、上記特許出願明細書に記載された薄膜太陽電池の一例を示し、（ａ）は平面図、（ｂ）は（ａ）における線ＡＢＣＤおよびＢＱＣに沿っての断面図であり、（ｃ）は（ａ）におけるＥＥ断面図を示す。
【０００８】
電気絶縁性でフレキシブルな樹脂からなる長尺のフィルム基板上に、順次、第１電極層、光電変換層、第２電極層が積層され、フィルム基板の反対側（裏面）には第３電極層、第４電極層が積層され、裏面電極が形成されている。光電変換層は例えばアモルファスシリコンのpin接合である。フィルム基板用材料としては、ポリイミド、ポリエーテルイミド、パラ系アラミド、フッ素系樹脂全般等々が用いられている。
【０００９】
製造工程の概要につき以下に説明する。
【００１０】
先ず、フィルム基板にパンチを用いて、接続孔ｈ１を開け、基板の片側（表側とする）に第１電極層として、スパッタにより銀を成膜し、これと反対の面（裏側とする）には、第３電極層として、同じく銀電極を成膜する。接続孔ｈ１の内壁で第１電極層と第３電極層とは重なり、導通する。
【００１１】
成膜後、表側では、第１電極層を所定の形状にレーザ加工して、下電極ｌ１〜ｌ６をパターニングする。下電極ｌ１〜ｌ６の隣接部は一本の分離線ｇ２を、二列の直列接続の光電変換素子間および周縁導電部ｆとの分離のためには二本の分離線ｇ２を形成し、下電極ｌ１〜ｌ６は分離線により囲まれるようにする。再度パンチを用いて、集電孔ｈ２を開けた後、表側に、光電変換層ｐとしてa-Si層をプラズマＣＶＤにより成膜する。マスクを用いて幅Ｗ２の成膜とし、レーザ加工により二列素子の間だけに第１電極層と同じ分離線を形成する。
【００１２】
さらに第２電極層として表側にＩＴＯ層を成膜する。但し、二つの素子列の間とこれに平行な基板の両側端部にはマスクを掛け接続孔ｈ１には成膜しないようにし、素子部のみに成膜する。次いで裏面全面に第４電極層として銀電極を成膜する。第４電極の成膜により、集電孔ｈ２の内壁で第２電極と第４電極とが重なり、導通する。表側では、レーザ加工により下電極と同じパターンの分離線を入れ、個別の第２電極ｕ１〜ｕ６を形成し、裏側では第３電極と第４電極とを同時にレーザ加工し、接続電極ｅ１２〜ｅ５６、および電力取り出し電極ｏ１，ｏ２を個別化し、基板の周縁部では表側の分離線ｇ３と重なるように分離線ｇ２を形成し、隣接電極間には一本の分離線を形成する。
【００１３】
全ての薄膜太陽電池素子を一括して囲う周縁、および二列の直列接続太陽電池素子の隣接する境界には（周縁導電部ｆの内側）分離線ｇ３がある。分離線ｇ３の中にはどの層も無い。裏側では、全ての電極を一括して囲う周縁、および二列の直列接続電極の隣接する境界には（周縁導電部ｆの内側）分離線ｇ２がある。分離線ｇ２の中にはどの層も無い。
【００１４】
こうして、電力取り出し電極ｏ１−集電孔ｈ２−上電極ｕ１、光電変換層、下電極ｌ１−接続孔ｈ１−接続電極ｅ１２−上電極ｕ２、光電変換層、下電極ｌ２−接続電極ｅ２３−・・・−上電極ｕ６、光電変換層、下電極ｌ６−接続孔ｈ１−電力取出し電極ｏ２の順の光電変換素子の直列接続が完成する。
【００１５】
以上薄膜太陽電池を例として説明したが、従来のレーザ加工法によると、パターニングラインを１本ごとに加工していくため、大面積レベルの量産化への時間的ロスが問題になっていた。また、電極のパターニングにレーザ加工法を用いると、片面電極のパターニングにおいて、透過レーザ光により、裏面の薄膜がダメージをうけることから、基板の光透過率、太陽電池の膜構成等についてレーザ光が透過しないようにするため選択する材料に制限があった。
【００１６】
そこで、上記の問題に対する改善策として、電極の個別化や分離線の形成をレーザ加工によらず、フィルム基板上に、所定パターンのリフトオフ用マスク層を形成した後、前記基板およびマスク層の両面上にまたがって所定パターンの薄膜層を形成し、前記マスク層を前記基板との界面から剥離することにより、マスク層上の薄膜層をマスク層と共に除去して所望パターンの薄膜層を形成する方法、いわゆる、リフトオフ方式の薄膜形成方法が、前述の特開平１０−２３３５１７号公報に記載され提案されている。リフトオフ方式の薄膜形成方法は、他にも、特開昭６２−１７１１６９号公報にも記載されており、よく知られた方法である。
【００１７】
マスク層としては、シリコン系樹脂、フッ素系樹脂、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリアミド、ポリフェニレンスルファイド、ポリベンゾイミダゾールの中の一つまたはこれら材料の２種以上の組み合わせで構成される。
【００１８】
また、本願出願人から別途、基板との剥離性が良好でかつ除去を必要とする薄膜部を容易にリフトオフ可能な新規のパターン状薄膜層の形成方法が提案されている（特願平１０−３３０８９１号参照）。
【００１９】
上記特願平１０−３３０８９１号に記載された発明は、図６に示す薄膜太陽電池の模式図において、フィルム基板１の材料とマスク層５の材料に好適な材料を選定して剥離性を良好にすることと、図７に示すように、フィルム基板１上に、第１のマスク層６および第２のマスク層７を順次積層した所定パターンの２層構造のマスク層を形成した後、前記基板および第２のマスク層の両面上にまたがって所定パターンの薄膜層を形成し、前記第２のマスク層を前記第１のマスク層との界面から剥離することにより、第２のマスク層上の薄膜層を第２のマスク層と共に除去して所望パターンの薄膜層を形成する方法で、除去を必要とする薄膜部を第２のマスク層と共に容易に除去し得る新規の方法である。
【００２０】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、前記の方法において、マスク層の基板からの剥離方法としては、粘着性フィルムを薄膜層上面に貼り付け、この粘着性フィルムを機械的に引き剥がすことにより、薄膜層およびマスク層を除去する方法が従来から採用されていた。この方法の場合、量産性が悪くまた、時に剥離ミスが発生する問題があった。
【００２１】
この発明は、上記問題点に鑑みてなされたもので、この発明の課題は、量産性と歩留りの向上、総じて量産コストの低減を図ったリフトオフ方式のパターン状薄膜層の形成方法を提供することにある。
【００２２】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するために、この発明においては、電気絶縁性フィルム基板上に、所定パターンのリフトオフ用マスク層を形成した後、前記基板およびマスク層の両面上にまたがって所定パターンの薄膜層を形成し、前記マスク層を前記基板との界面から剥離することにより、マスク層とその上の薄膜層（以下、マスク層とその上の薄膜層を合わせて、リフトオフ層ともいう。）を除去して所望パターンの薄膜層を形成した後、吸引口と真空排気装置とを備えた真空吸引装置の前記吸引口を、前記リフトオフ層上を走査させることにより、リフトオフ層を吸引して剥離するパターン状薄膜層の形成方法において、前記電気絶縁性フィルム基板上に、第１のマスク層および第２のマスク層を順次積層した所定パターンの２層構造のマスク層を形成した後、前記基板および第２のマスク層の両面上にまたがって所定パターンの薄膜層を形成し、前記第２のマスク層を前記第１のマスク層との界面から剥離することにより、第２のマスク層上の薄膜層を第２のマスク層と共に除去して所望パターンの薄膜層を形成することとする（請求項１）。
【００２３】
これにより、リフトオフ層が、ほぼ均一な真空吸引力により、容易かつ安定的に除去できる。前記吸引口は、一つに限定されるものではなく、必要に応じパターンに応じて複数個の吸引口から同時に真空吸引して一括剥離し、走査の回数を低減することができる。
【００２４】
また、上記請求項１の方法においては、電気絶縁性フィルム基板上に、第１のマスク層および第２のマスク層を順次積層した所定パターンの２層構造のマスク層を形成した後、前記基板および第２のマスク層の両面上にまたがって所定パターンの薄膜層を形成し、前記第２のマスク層を前記第１のマスク層との界面から剥離することにより、第２のマスク層上の薄膜層を第２のマスク層と共に除去して所望パターンの薄膜層を形成することとするので、これにより、剥離はさらに容易かつ安定的となる。
【００２５】
さらに、請求項２ないし４の発明によれば、真空吸着に変えて、ホットメルト接着剤を用いて剥離操作を容易にすることができる。まず、請求項２によれば、電気絶縁性フィルム基板上に、所定パターンのリフトオフ用マスク層を形成した後、前記基板およびマスク層の両面上にまたがって所定パターンの薄膜層を形成し、前記マスク層を前記基板との界面から剥離することにより、マスク層とその上の薄膜層（リフトオフ層）を除去して所望パターンの薄膜層を形成するパターン状薄膜層の形成方法において、前記リフトオフ層上にホットメルト接着剤を所定の間隔でスポット状に滴下し、この接着剤硬化後に、剥離用ブレード部材の先端部を前記スポット状接着剤の側底部に当接して接着剤に剥離力を加えることにより、リフトオフ層を接着剤と共に除去して所望パターンの薄膜層を形成することとする。
【００２６】
また、前記請求項２の方法において、搬送ローラにより搬送されるフィルム基板に接着硬化したスポット状接着剤の側底部に剥離用ブレード部材の先端部を当接して、搬送ローラの搬送力によりリフトオフ層を接着剤と共に除去して所望パターンの薄膜層を形成することとする（請求項３）。
【００２７】
さらに、上記請求項２または３記載のリフトオフ層を接着剤と共に除去して所望パターンの薄膜層を形成する方法において、電気絶縁性フィルム基板上に、第１のマスク層および第２のマスク層を順次積層した所定パターンの２層構造のマスク層を形成した後、前記基板および第２のマスク層の両面上にまたがって所定パターンの薄膜層を形成し、前記第２のマスク層を前記第１のマスク層との界面から剥離することにより、第２のマスク層上の薄膜層を第２のマスク層と共に除去して所望パターンの薄膜層を形成することとする（請求項４）。
【００２８】
また、請求項５の発明は、薄膜太陽電池への適用に関わるもので、前記請求項１ないし４記載のいずれかの方法において、薄膜層は、下部電極としての第１電極層，光電変換層，透明電極層としての第２電極層とを備えた光電変換素子が複数直列接続されてなる光電変換装置用の薄膜層であることとする。特に、上記請求項４の方法は、ロール搬送方式の薄膜太陽電池の量産方法に好適である。
【００２９】
さらにまた、請求項６の発明によれば、請求項１または４記載の方法において、薄膜層は、下部電極としての第１電極層，光電変換層，透明電極層としての第２電極層とを備えた光電変換素子が複数直列接続されてなる光電変換装置用の薄膜層であって、第１のマスク層，第２のマスク層および第１電極層形成後に第２のマスク層および第１電極層を第１のマスク層から剥離し、その後第１のマスク層上に再度第２のマスク層（以下、再マスク層という。）を形成し、さらに第１電極層および前記再マスク層の両面上にまたがって光電変換層および第２電極層を形成し、前記再マスク層を第１のマスク層との界面から剥離することにより，再マスク層上の光電変換層および第２電極層を再マスク層と共に除去して所望パターンの薄膜層を形成することとする。
【００３０】
この方法によれば、各層の剥離を２回に分けて剥離するので、剥離がより確実となりフィルム基板上に残る剥離残り量を軽減でき、品質と歩留りが向上する。
【００３１】
最後に、請求項７の発明によれば、前記請求項６の方法において、再マスク層のパターン幅寸法を、最初に形成する第２のマスク層のパターン幅寸法より小とする。これにより、詳細は後述するが、防湿性の高い光電変換層が第１電極層を覆うため、水分の侵入が抑えられ、耐防湿性を有する信頼性の高い光電変換素子が提供できる。
【００３２】
【発明の実施の形態】
図面に基づき、本発明の実施例について以下にのべる。
【００３３】
（実施例１）
図１は、請求項１の発明に関わる実施例を示す概念図である。吸引口２０を有する真空吸引装置２１により、吸引口２０をＡ矢印で示す方向に走査させることにより、リフトオフ層１０をフィルム基板１から剥離する。
【００３４】
上記方法に関わるショートピースによる剥離実験例について、以下に述べる。厚さ５０μｍ，幅５０ｍｍの絶縁性フィルム基板１上に、スクリーン印刷法（版：ステンレスメッシュ ＃２００）を用いてシリコーン樹脂からなる第１のマスク層（幅２．５ｍｍ）のパターン（７．５ｍｍピッチのストライプ）を印刷し、９０℃〜１００℃の恒温槽内にて３分加熱乾燥した。第１のマスク層厚さは２〜３μｍとした。
【００３５】
前記第１のマスク層上に同じ版を用い、ポリイミドからなる第２のマスク層を印刷し、９０℃〜１００℃の恒温槽内にて３分、１４０℃の恒温槽内にて２分乾燥した。第２のマスク層の厚さは８〜１０μｍとした。
【００３６】
上記２層のマスク層上に、第１電極層、光電変換層、第２電極層を形成した。上記薄膜形成後、吸引口形状が２ｍｍ×５ｍｍで、１０〜２０°傾斜させたガラス管を吸引口として、パターン部分に押し当て、２０Torr以下の圧力でリフトオフ層（マスク層とその上の薄膜）を吸引、剥離した。この方法により、テープ剥離と同等のパターニングラインを容易に得ることができた。
【００３７】
（実施例２）
図２は、請求項２の発明に関わる実施例を示す概念図である。
【００３８】
リフトオフ層１０上にホットメルト接着剤を所定の間隔でスポット状に滴下し、この接着剤硬化後に、剥離用ブレード部材３１の先端部３２を前記スポット状接着剤３０の側底部に当接して接着剤に剥離力を加えることにより、リフトオフ層１０を接着剤と共に除去して所望パターンの薄膜層を形成する。
【００３９】
上記方法に関わるショートピースによる剥離実験例について、以下に述べる。第１のマスク層，第２のマスク層および前記２層のマスク層上に、第１電極層、光電変換層、第２電極層を形成する手順は、上記実施例１と同一である。
【００４０】
上記薄膜形成後、リフトオフ層の上から２液性エポキシ樹脂３〜５ｍｇを、１５ｍｍ間隔で滴下し、滴下後１００℃の恒温槽内にて３０秒エポキシ樹脂９を硬化させ、略円筒状の樹脂山スポットを形成した。その後、図２に示すようにシリコンゴム製のブレード部材３１にて第１のマスク層と第２のマスク層間を剥離し、リフトオフ層１０を接着剤と共に除去して所望パターンの薄膜層を形成した。上記ホットメルト接着剤を用いた剥離により、粘着テープを用いた剥離と同等のパターニングラインを容易に得ることができる。
【００４１】
図３は、請求項３の発明に関わる実施例を概念的に示す図で、図３（ｂ）に側面図を、図３（ａ）に図３（ｂ）の矢印Ｐ方向からみた部分平面図を示す。薄膜太陽電池の製造プロセスにおいては、一般に、その基板を搬送ロールにより張力をかけながら搬送し、各種の薄膜形成を行う。請求項３の発明は、このような製法とのマッチングを考慮してなされた発明もので、図３の搬送ローラ１１によりフィルム基板１が搬送される。搬送ローラにより搬送されるフィルム基板１に接着硬化したスポット状接着剤３０の側底部に剥離用ブレード部材３１の先端部３２を当接して、搬送ローラ１１の搬送力によりリフトオフ層１０を接着剤と共に除去して所望パターンの薄膜層を形成することができる。
【００４２】
（実施例３）
図４は、請求項６の発明に関わる実施例を概念的に示す図で、図４（ａ）は、第２のマスク層７を形成後，第１電極層を形成した状態を示し、図４（ｂ）は、再マスク層７０形成後，光電変換層３および第２電極層４を形成した状態を示す。
【００４３】
上記請求項６の発明に関わる実験例について、以下に述べる。厚さ５０μｍの絶縁性フィルム基板１上に、スクリーン印刷法（版：ステンレスメッシュ ＃２００）を用いて、第１のマスク層としてのシリコーン樹脂からなる所定のパターンを印刷し、９０℃〜１００℃の恒温槽内にて３分加熱乾燥した。第１のマスク層の厚さは２〜３μｍ，幅は４００μｍとした。
【００４４】
第１のマスク層６上に同じ版を用い、ポリイミドからなる第２のマスク層を印刷し、９０℃〜１００℃の恒温槽内にて３分、１４０℃の恒温槽内にて２分乾燥した。第２のマスク層７の厚さは８〜１０μｍ，幅は４００μｍとした。
【００４５】
上記２層のマスク層上に、第１電極層２を形成した後（図３（ａ））、真空吸引により第１のマスク層と第２のマスク層間で剥離した。
【００４６】
続いて、第１のマスク層６上に再マスク層７０としてのポリイミドからなる所定のパターンを印刷し、９０℃〜１００℃の恒温槽内にて３分加熱乾燥した。再マスク層７０の厚さは２〜３μｍ，幅は４００μｍとした。
【００４７】
再マスク層７０上に、光電変換層３、第２電極層４を積層した（図３（ｂ））。薄膜積層後、真空吸引により再マスク層７０とその上の薄膜層を、第１のマスク層から剥離除去した。このように２回に分けて剥離を行うことにより、基板上に残る剥離残し量を減らすことができた。
【００４８】
（実施例４）
図５は、請求項７の発明に関わる実施例を概念的に示す図で、図５（ａ）は、第２のマスク層７を形成後，第１電極層を形成した状態を示し、図５（ｂ）は、再マスク層７０形成後，光電変換層３および第２電極層４を形成した状態を示し、図５（ｃ）は、リフトオフ完了後の部分拡大断面図を示す。
【００４９】
上記請求項７の発明に関わる実験例について、以下に述べる。図５（ａ）の第２のマスク層７を形成後，第１電極層を形成する手順を経て、図５（ｂ）の再マスク層７０形成後，光電変換層３および第２電極層４を形成する手順は、前記実施例３と略同様であるが、異なる点は、図５（ｂ）における再マスク層７０の幅を、実施例３における幅（４００μｍ）の半分の２００μｍとした点である。
【００５０】
このようにすることにより、図５（ｃ）に示すように、防湿性の高い光電変換層３が第１電極層２を覆うため、水分の侵入が抑えられ、信頼性の高い光電変換素子を提供できる。
【００５１】
【発明の効果】
この発明によれば、電気絶縁性フィルム基板上に、所定パターンのリフトオフ用マスク層を形成した後、前記基板およびマスク層の両面上にまたがって所定パターンの薄膜層を形成し、前記マスク層を前記基板との界面から剥離することにより、マスク層とその上の薄膜層（リフトオフ層）を除去して所望パターンの薄膜層を形成した後、吸引口と真空排気装置とを備えた真空吸引装置の前記吸引口を、前記リフトオフ層上を走査させることにより、リフトオフ層を吸引して剥離するパターン状薄膜層の形成方法において、前記電気絶縁性フィルム基板上に、第１のマスク層および第２のマスク層を順次積層した所定パターンの２層構造のマスク層を形成した後、前記基板および第２のマスク層の両面上にまたがって所定パターンの薄膜層を形成し、前記第２のマスク層を前記第１のマスク層との界面から剥離することにより、第２のマスク層上の薄膜層を第２のマスク層と共に除去して所望パターンの薄膜層を形成することとするか、もしくは、前記リフトオフ層上にホットメルト接着剤を所定の間隔でスポット状に滴下し、この接着剤硬化後に、剥離用ブレード部材の先端部を前記スポット状接着剤の側底部に当接して接着剤に剥離力を加えることにより、リフトオフ層を接着剤と共に除去して所望パターンの薄膜層を形成することとしたので、リフトオフ層が、真空吸引力もしくは接着剤を介して容易かつ安定的に剥離でき、量産性と歩留りの向上、総じて量産コストの低減を図ったリフトオフ方式のパターン状薄膜層の形成方法を提供することができる。この発明は、太陽電池以外に、半導体や感光体などの薄膜形成に広く適用できるが、特に、光電変換装置の製造プロセスに適用した場合、製造プロセスの簡易化，低コスト化に寄与できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】 この発明の真空吸引方式の実施例の概念図
【図２】 この発明の接着剤方式の実施例の概念図
【図３】 この発明の搬送ローラを用いる接着剤方式の実施例の概念図
【図４】 この発明の請求項６に関わる実施例の製造工程を示す図
【図５】 この発明の請求項７に関わる実施例の製造工程を示す図
【図６】 従来のマスク一層式パターン状薄膜層の形成方法を概念的に説明する図
【図７】 従来のマスク二層式パターン状薄膜層の形成方法を概念的に説明する図
【図８】 薄膜太陽電池の構成および製造方法を概念的に説明する図
【符号の説明】
１：フィルム基板、２：第１電極層、３：光電変換層、４：第２電極層、６：第１のマスク層、７：第２のマスク層、１０：リフトオフ層、１１：搬送ローラ、２０：吸引口、２１：真空吸引装置、３０：スポット状接着剤、３１：ブレード部材、７０：再マスク層。
Claims (7)
- 電気絶縁性フィルム基板上に、所定パターンのリフトオフ用マスク層を形成した後、前記基板およびマスク層の両面上にまたがって所定パターンの薄膜層を形成し、前記マスク層を前記基板との界面から剥離することにより、マスク層とその上の薄膜層（リフトオフ層）を除去して所望パターンの薄膜層を形成した後、吸引口と真空排気装置とを備えた真空吸引装置の前記吸引口を、前記リフトオフ層上を走査させることにより、リフトオフ層を吸引して剥離するパターン状薄膜層の形成方法において、
前記電気絶縁性フィルム基板上に、第１のマスク層および第２のマスク層を順次積層した所定パターンの２層構造のマスク層を形成した後、前記基板および第２のマスク層の両面上にまたがって所定パターンの薄膜層を形成し、前記第２のマスク層を前記第１のマスク層との界面から剥離することにより、第２のマスク層上の薄膜層を第２のマスク層と共に除去して所望パターンの薄膜層を形成することを特徴とするパターン状薄膜層の形成方法。 - 電気絶縁性フィルム基板上に、所定パターンのリフトオフ用マスク層を形成した後、前記基板およびマスク層の両面上にまたがって所定パターンの薄膜層を形成し、前記マスク層を前記基板との界面から剥離することにより、マスク層とその上の薄膜層（リフトオフ層）を除去して所望パターンの薄膜層を形成するパターン状薄膜層の形成方法において、前記リフトオフ層上にホットメルト接着剤を所定の間隔でスポット状に滴下し、この接着剤硬化後に、剥離用ブレード部材の先端部を前記スポット状接着剤の側底部に当接して接着剤に剥離力を加えることにより、リフトオフ層を接着剤と共に除去して所望パターンの薄膜層を形成することを特徴とするパターン状薄膜層の形成方法。
- 請求項２記載の方法において、搬送ローラにより搬送されるフィルム基板に接着硬化したスポット状接着剤の側底部に剥離用ブレード部材の先端部を当接して、搬送ローラの搬送力によりリフトオフ層を接着剤と共に除去して所望パターンの薄膜層を形成することを特徴とするパターン状薄膜層の形成方法。
- 請求項２または３記載のリフトオフ層を接着剤と共に除去して所望パターンの薄膜層を形成する方法において、電気絶縁性フィルム基板上に、第１のマスク層および第２のマスク層を順次積層した所定パターンの２層構造のマスク層を形成した後、前記基板および第２のマスク層の両面上にまたがって所定パターンの薄膜層を形成し、前記第２のマスク層を前記第１のマスク層との界面から剥離することにより、第２のマスク層上の薄膜層を第２のマスク層と共に除去して所望パターンの薄膜層を形成することを特徴とするパターン状薄膜層の形成方法。
- 請求項１ないし４のいずれか１項に記載の方法において、薄膜層は、下部電極としての第１電極層，光電変換層，透明電極層としての第２電極層とを備えた光電変換素子が複数直列接続されてなる光電変換装置用の薄膜層であることを特徴とするパターン状薄膜層の形成方法。
- 請求項１または４記載の方法において、薄膜層は、下部電極としての第１電極層，光電変換層，透明電極層としての第２電極層とを備えた光電変換素子が複数直列接続されてなる光電変換装置用の薄膜層であって、第１のマスク層，第２のマスク層および第１電極層形成後に第２のマスク層および第１電極層を第１のマスク層から剥離し、その後第１のマスク層上に再度第２のマスク層（再マスク層）を形成し、さらに第１電極層および前記再マスク層の両面上にまたがって光電変換層および第２電極層を形成し、前記再マスク層を第１のマスク層との界面から剥離することにより，再マスク層上の光電変換層および第２電極層を再マスク層と共に除去して所望パターンの薄膜層を形成することを特徴とするパターン状薄膜層の形成方法。
- 請求項６記載の方法において、再マスク層のパターン幅寸法を、最初に形成する第２のマスク層のパターン幅寸法より小としたことを特徴とするパターン状薄膜層の形成方法。
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- 1999-10-29 JP JP30826099A patent/JP4086218B2/ja not_active Expired - Lifetime
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