JP4085537B2 - ダイカスト鋳造機及びダイカスト鋳造方法 - Google Patents

ダイカスト鋳造機及びダイカスト鋳造方法 Download PDF

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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、金型からダイカスト成型品の取り出しを容易にするための離型剤として粉体離型剤を用いるダイカスト鋳造機及びダイカスト鋳造方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
粉体離型剤を用いて、ダイカスト鋳造を行うダイカスト鋳造機としては、特開昭62−127150号に示されるものがある。このダイカスト鋳造機では、固定型と可動型とからなる金型を型締めし、この型締め後に金型キャビティに連通する排気口から排気して金型キャビティ内を減圧し、この減圧状態においてスリーブを介して粉体離型剤のような離型剤を金型キャビティ内に供給して塗布する。
【0003】
粉体離型剤を用いると、液体状の離型剤を用いた場合に比較して、種々の利点が得られる。たとえば、液体状離型剤では、金属溶湯により熱せられたときの熱分解ガスの発生量が多いため、ダイカスト成形品に比較的多くの巣の発生がみられるが、粉体離型剤では、このような巣の発生を低減できる。また、液体状の離型剤の塗布方法としては、エアーブローによる金型表面への吹き付けが一般的であるが、この方法では、ミストや騒音が発生し、作業環境を悪化させてしまう。さらに、液体状の離型剤を吹き付けると、金属溶湯によって加熱された金型の温度が急激に低下するので、ダイカスト鋳造における1サイクルの金型の温度変化幅が大きくなる。この結果、金型の寿命が低下し、ヘアークラック等が比較的早い時期に生じてしまう。
【0004】
これに対して、上記従来例のように粉体離型剤を用い、型締め後にその離型剤を塗布することにより、金型外への離型剤の飛散が低減される。この結果、効率的に離型剤の塗布が可能となるとともに、作業環境の悪化を防止できる。さらに、鋳造サイクルにおける金型の温度変化幅を小さくすることができるので、金型の寿命の向上を図ることができる。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
ここで、ダイカスト鋳造を行う際には、空気の巻き込みによる巣の発生を防止するため、事前にキャビティ内を高真空状態に減圧する場合がある。このときの真空度としては、空気を十分に排気する必要があるので、例えば20〜50Torr程度の真空度まで真空引きされることが望まれる。
【0006】
一方、上述のように、粉体離型剤をキャビティ内に吸引する場合には、上記のような高真空状態にする必要はないことが、本願発明者によって確認された。つまり、粉体離型剤は、キャビティ内に吸引されかつそこに留まる必要があるのに対し、過度に高い真空度で粉体離型剤を吸引すると、キャビティを通過し、真空装置まで達する粉体離型剤が増加する。粉体離型剤をキャビティ内に吸引するために必要とされる真空度は、例えば700〜750Torrである。
【0007】
ここで、キャビティ内を真空状態に減圧する真空装置は、通常真空タンクと真空ポンプとによって構成される。これは、真空ポンプによってキャビティ内を直接減圧しようとすると、非常に高い能力の真空ポンプを使用しなければならず、装置のコストが増大するためである。このため、真空ポンプと真空タンクとを組み合わせ、真空ポンプによって真空タンクを除々に減圧していく。そして、真空タンクの真空度が所望の真空度となった状態で、キャビティと連通させ、キャビティ内を真空引きする。このような真空装置を用いて、上記粉体離型剤を吸引するための真空度、及び金属溶湯を射出する際の空気排気のための真空度の両方を得ようとすると、以下のような問題が生ずる。
【0008】
すなわち、真空タンクは、一旦キャビティと連通されると、真空タンク内の真空度が大きく低下してしまう。このため、粉体離型剤を吸引するために真空タンクをキャビティに連通させた後、真空タンク内の真空度がキャビティの排気のための真空度に達するまでにかなりの時間が必要となる。この結果、ダイカスト成型品の鋳造サイクルが長くなり、生産性の低下を招く。
【0009】
一方、真空装置の能力を上げて上記の問題に対処しようとすると(真空タンクの大容量化および真空ポンプの真空引き能力の向上)、真空装置のコストが大幅に増加してしまう。
【0010】
本発明は、かかる問題点に鑑みてなされたもので、キャビティ内を真空引きして粉体離型剤の吸引のための真空状態及び金属溶湯の空気巻き込みを防止するための真空状態を得る場合であっても、ダイカスト成型品の鋳造サイクルの伸張を防止しつつ、真空装置のコストの上昇を極力抑えることが可能なダイカスト鋳造機及びダイカスト鋳造方法を提供することを目的とする。
【0011】
【課題を解決するための手段】
請求項1に記載されたダイカスト鋳造機は、固定型と可動型とを有し、当該固定型と可動型とを型締めすることによってキャビティを形成する金型と、
前記キャビティ内に向けて粉体離型剤を供給する粉体離型剤供給手段と、
前記キャビティと、前記キャビティに金属溶湯を導入するスリーブを介することなくキャビティと接続する第1の真空引き通路を介して接続される、前記キャビティ内を所定の第1の真空度まで真空引きして、前記粉体離型剤供給手段から供給される粉体離型剤を前記キャビティ内に吸引する、第1の真空タンクと、この第1の真空タンクを真空引きする第1の真空ポンプとを備える第1の真空引き手段と、
前記第1の真空引き通路における前記第1の真空タンクの上流側に配置され、前記キャビティと前記第1の真空引き手段の前記第1の真空タンクとの連通/非連通を切り換える第1の開閉手段と、
前記キャビティと、前記第1の真空引き通路に連結される第2の真空引き通路を介して接続され、前記キャビティの表面に粉体離型剤が塗布された後に、前記キャビティ内を前記所定の第1の真空度よりも真空度の高い所定の第2の真空度まで真空引きする、第2の真空タンクと、この第2の真空タンクを真空引きする第2の真空ポンプとを備える第2の真空引き手段
前記第2の真空引き通路における前記第2の真空タンクの上流側に配置され、前記キャビティと前記第2の真空引き手段の前記第2の真空タンクとの連通/非連通を切り換える第2の開閉手段と、
前記第2の真空引き手段によって前記キャビティ内が所定の第2の真空度まで真空引きされたとき、前記キャビティ内に金属溶湯を供給する金属溶湯供給手段とを備え
前記第1の開閉手段が開成されているときには、前記第2の開閉手段は閉成され、前記第2の開閉手段が開成されているときには前記第1の開閉手段は閉成されることを特徴とする。
【0012】
上記のように粉体離型剤を吸引するための第1の真空度は、第1の真空引き手段によって達成し、金属溶湯への空気の巻き込みを防止すべくキャビティ内の空気を排気するための第2の真空度は、第2の真空引き手段によって達成される。すなわち、第1の真空度と第2の真空度は、別個独立に設けられた第1の真空引き手段と第2の真空引き手段とによって形成されるので、所定の真空度を得るための待ち時間を設定する必要がない。これにより鋳造サイクルの伸張が防止できる。
【0013】
さらに、本願では、粉体離型剤を吸引するための第1の真空度と、金属溶湯への空気の巻き込みを防止すべくキャビティ内の空気を排気するための第2の真空度とのレベルの相違に着目した。つまり、上述したように、粉体離型剤をキャビティ内に吸引する場合には、金属溶湯への空気の巻き込みを防止するときのような高真空状態にする必要はない。この場合、それぞれの必要な真空度に対応して、第1の真空引き手段は第2の真空引き手段よりも低真空度を生成するように設定した。これにより、別個独立した2個の真空引き手段を設けながらも、そのためのコストの上昇を極力抑制することができる。
【0014】
さらには、前記第1の真空引き手段は、第1の真空タンクと、この第1の真空タンクを真空引きする第1の真空ポンプと、前記第1の真空引き通路における前記第1の真空タンクの上流側に配置され、当該第1の真空引き通路を開閉することにより前記キャビティと前記第1の真空タンクとの連通/非連通を切り換える第1の開閉手段とを備え、前記第2の真空引き手段は、第2の真空タンクと、この第2の真空タンクを真空引きする第2の真空ポンプと、前記第2の真空引き通路における前記第2の真空タンクの上流側に配置され、当該第2の真空引き通路を開閉することにより前記キャビティと前記第2の真空タンクとの連通/非連通を切り換える第2の開閉手段とを備え、前記第1の開閉手段が開成されているときには、前記第2の開閉手段は閉成され、前記第2の開閉手段が開成されているときには前記第1の開閉手段は閉成されることを特徴とする。
【0015】
上述のように、第1及び第2の開閉手段を択一的に開成状態とすることにより、キャビティ内の真空度を粉体離型剤を吸引するための第1の真空度と、金属溶湯への空気の巻き込みを防止すべくキャビティ内の空気を排気するための第2の真空度とに容易かつ正確に設定できる。
【0016】
請求項記載のダイカスト鋳造機においては、前記第2の真空ポンプは、前記第1の真空ポンプよりも大容量を持つことを特徴とする。
【0017】
つまり、それぞれに必要とされる真空度のレベルを考慮し、第2の真空ポンプの容量が第1の真空ポンプの容量よりも大きくされるのである。
【0018】
請求項記載のダイカスト鋳造機においては、前記第1の開閉手段と前記第1の真空タンクとの間に配置され、少なくとも前記粉体離型剤の平均粒径よりも小さい濾過口径を有する第1のフィルタと、前記第2の開閉手段と前記第2の真空タンクとの間に配置され、少なくとも前記粉体離型剤の平均粒径よりも小さい濾過口径を有する第2のフィルタとを備えることを特徴とする。
【0019】
上記のように、粉体離型剤の平均粒径よりも小さい濾過口径を有する第1及び第2のフィルタを設けたので、対応する開閉手段が開成して、第1あるいは第2の真空タンクが前記キャビティ内を真空引きしたときでも、余剰の粉体離型剤の大部分は第1あるいは第2のフィルタによって捕獲される。このため、粉体離型剤が第1あるいは第2の真空タンクまで達することがほぼ防止できるので、所望の真空度が得られない等の不具合の発生を防止できる。
【0020】
これら第1及び第2のフィルタの濾過口径は、請求項に記載されるように、粉体離型剤の最小粒径よりも小さく設定されることが好ましい。これにより、粉体離型剤が第1及び第2の真空タンクに達することがほぼ完全に防止できる。なお、第1及び第2のフィルタは定期的に交換されるものである。
【0021】
請求項記載のダイカスト鋳造機においては、前記第1の真空引き通路の前記キャビティと前記第1の開閉手段との間に、前記第1のフィルタよりも大きな濾過口径を有する第3のフィルタを設け、前記第2の真空引き通路の前記キャビティと前記第2の開閉手段との間に、前記第2のフィルタよりも大きな濾過口径を有する第4のフィルタを設けたことを特徴とする。
【0022】
これら第3及び第4のフィルタにより、比較的大きな異物、例えばダイカスト成型品のバリ等を捕獲する。このため、比較的大きな異物の侵入による第1及び第2の開閉手段の動作不良を防止できるとともに、第1及び第2フィルタの寿命を長くすることが可能となる。
【0023】
請求項記載のダイカスト鋳造機においては、前記第1及び第2の開閉手段は、それぞれ電磁弁によって構成され、弁体の開弁時にその弁体に連結された摺動部が前記弁体によって前記第1または第2の真空引き経路から遮蔽されることを特徴とする。
【0024】
もし、開弁時に第1あるいは第2の開閉手段を構成する電磁弁の摺動部が第1あるいは第2の真空引き通路に露出する状態であると、粉体離型剤がその摺動部に付着し、摺動部の摺動不良が引き起こされる可能性がある。これに対し、請求項記載のように、弁体の開弁時にその弁体に連結された摺動部が前記弁体によって前記真空引き通路から遮蔽されるように構成すると、電磁弁の動作不良を未然に防止することが可能になる。
【0025】
請求項記載のダイカスト鋳造機においては、前記金属溶湯供給手段は、前記金属溶湯を前記キャビティ内に導入するためのスリーブと、当該スリーブに金属溶湯が供給されたときに、その金属溶湯を前記キャビティ内に射出するプランジャと、前記スリーブ内を摺動するプランジャの潤滑剤を供給する潤滑剤供給手段とを備え、前記粉体離型剤供給手段は、前記スリーブを介して前記キャビティ内に粉体離型剤を供給するものであり、前記潤滑剤供給手段は、前記粉体離型剤供給手段が粉体離型剤の供給を完了した後に、前記潤滑剤を前記スリーブ内に供給することを特徴とする。
【0026】
上述したように、粉体離型剤供給手段が、スリーブを介してキャビティ内に粉体離型剤を供給するものである場合、上述したように、スリーブ内に供給される潤滑剤によって粉体離型剤がスリーブ内に堆積される可能性がある。このため、上記のダイカスト鋳造機では、潤滑剤供給手段は、粉体離型剤供給手段が上記スリーブを介して粉体離型剤の供給を完了した後に、潤滑剤を前記スリーブ内に供給する。
【0027】
これにより、スリーブ内がドライな状態で粉体離型剤をスリーブを介してキャビティ内に供給することができるので、スリーブ内に粉体離型剤が堆積されることが防止される。
【0028】
請求項記載のダイカスト鋳造機においては、前記粉体離型剤供給手段が粉体離型剤を供給する時には、前記金型の表面温度が300℃以下まで低下した状態とするための冷却機構を備えることを特徴とする。
【0029】
粉体離型剤は、金型温度が300℃を超えるような高温であると、金型のキャビティ表面への付着性が低下することが、本願発明者の実験により確認された。このため、上記のようにダイカスト鋳造機に冷却機構を設け、粉体離型剤供給時には、金型温度が300℃以下まで低下していることが好ましい。
【0030】
請求項記載のように、上記冷却機構は、前記金型内に形成された、内部を冷水が通過する冷却管によって構成されうる。この場合、冷却管はダイカスト成形品を前記金型内から取り出した後に前記粉体離型剤を供給するときまでに、前記金型のキャビティ表面の温度を300℃以下まで低下できるように、その本数、設置位置が設定されるのである。
【0036】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態を図面に基づいて説明する。
【0037】
図1は、本発明の実施の形態としてのダイカスト鋳造機を示している。
【0038】
図1に示されるように、金型は、可動型1と固定型7とから構成されている。固定型7は、固定母型9と固定型入子10とからなり、固定型入子10は固定母型9にボルト等で固定されている。そして、それらはダイカスト鋳造機の固定盤8に取り付けられている。可動型1は可動母型4と可動型入子5とからなり、固定型入子10との間にキャビティ40を形成する可動型入子5は、可動母型4にボルト等で固定される。そして、それらはダイベース3を介してダイカスト鋳造機の可動盤2に取り付けられている。
【0039】
キャビティ40の一端は、固定母型9及び固定盤8に固定されたスリーブ13に接続されている。スリーブ13の上部には、粉体離型剤供給口14及び金属溶湯給湯口15が形成され、スリーブ13を介して粉体離型剤及び金属溶湯がキャビティ40内に供給される。なお、金属溶湯給湯口15からは、後述するようにチップ潤滑剤も供給される。キャビティ40の他端は、排気通路12に連結され、この排気通路12は、キャビティ40内を減圧するために真空引き通路17に接続されている。
【0040】
排気通路12とキャビティ40との接続箇所を開閉可能であるように、カットオフピン6が設けられている。このカットオフピン6は、図示しない油圧供給源からの油圧を利用して、排気通路12とキャビティ40との接続箇所の開閉を切り換えるものである。
【0041】
このカットオフピン6の摺動通路から分岐するように通路11が形成されており、この通路11は、ホースによって圧力計28に接続される。この圧力計28は、金属溶湯をキャビティ40内に供給するときに、キャビティ40内の真空度が所定の真空度まで達したか否かを検出するためのものである。圧力計28の前方には開閉バルブ29が設けられており、粉体離型剤供給時に閉成して粉体離型剤が圧力計28まで達することを防止している。
【0042】
キャビティ40の排気通路12には、真空引き通路17を介して2系統の真空引き機構が接続されている。第1の系統の真空引き機構は主に真空タンク21と真空ポンプ22とからなり、粉体離型剤をキャビティ40内に吸引するために、キャビティ40内を所定の真空度(−20mmHgまたは700〜750Torr)まで真空引きする。なお、真空タンク21の容量は例えば100Lに設定される。第2の系統の真空引き機構は主に真空タンク26と真空ポンプ27とからなり、ダイカスト成型品の形成時に空気の巻き込みによる巣の発生を防止するために、キャビティ40内を所定の高真空度(60Torr以下)まで真空引きする。なお、真空タンク26の容量は、例えば400Lに設定され、かつ真空ポンプ27は真空ポンプ22よりも能力が高いものが用いられる。
【0043】
これら第1及び第2の真空引き機構では、ダイカスト鋳造の1サイクル毎に上記所定の真空度が得られるように、真空ポンプ22,27がそれぞれの真空タンク21,26を真空引きする。そして、真空引きされたそれぞれの真空タンク21,26をキャビティ40と連結することにより、上記のそれぞれの真空度を得るのである。なお、真空タンク21と真空タンク26とは異なるタイミングでキャビティ40と連結される。
【0044】
キャビティ40と真空タンク21,26との連結・遮断を制御するために、真空引き通路17における真空タンク21,26の上流側には、それぞれ電磁弁19,24が配置されている。
【0045】
この電磁弁19の概略構成を図2に示す。なお、電磁弁24も電磁弁19と同様の構成を有している。電磁弁19は、ハウジング44内に略円筒状の空間が形成され、この空間内に摺動部45が摺動可能に設けられている。この摺動部45の先端には弁体41が連結され、弁体41は摺動部45と一体となってハウジング44内を移動する。図2に示されるように、ハウジング44内には、真空引き通路17の一部をなす通路43が形成されている。さらに、図示してはいないが、ハウジング44内には、摺動部45を図2において下方に向かって付勢するスプリング、及び通電された時に摺動部45が上方に向かって移動するように摺動部45を吸引するソレノイドが設けられている。
【0046】
図2は、電磁弁19の開弁状態を示している。この開弁状態は、ソレノイドに通電され、摺動部45が上方に移動することによって達成される。図2に示されるように、電磁弁19の開弁状態においては、弁体41が通路43に露出するのみで、摺動部45は通路43から弁体41によって遮蔽されている。このため、余剰の粉体離型剤が真空タンク21に向かって流動した場合であっても、その粉体離型剤が摺動部45の外周面に付着することが防止される。これにより、粉体離型剤が摺動部45の摺動不良を引き起こすことが防止できるので、電磁弁19の開閉動作を確実に行うことが可能となる。
【0047】
電磁弁19と真空タンク21との間、及び電磁弁24と真空タンク26との間には、それぞれバッグフィルタ20,25が配置されている。このバッグフィルタ20の概略構成を示す一部断面斜視図を図3に示す。なお、バッグフィルタ25も同様の構成を有している。
【0048】
図3に示すように、吸気口51及び排気口53を備えたハウジング50内に、バッグ状のフィルタエレメント52が設けられている。このバッグフィルタ20においては、実線矢印で示すように、吸気口51から取り入れられた粉体離型剤を含む気流が、バッグ状のフィルタエレメント52の全面で濾過された後、排気口53から排出される。このように、バッグフィルタ25は大きな濾過面積を持つので、真空タンク21による真空吸引効果の低下を抑えることができる。
【0049】
フィルタエレメント52の濾過口径(メッシュサイズ)は3μmに設定されている。これは、粉体離型剤の平均粒径が8μmであり、最小粒径は4μm、最大粒径は12μmであることを考慮したものである。つまり、フィルタエレメント52の濾過口径が粉体離型剤の最小粒径よりも小さければ、バッグフィルタ20によってほぼ完全に粉体離型剤を捕獲することができるので、そのような関係となるようにフィルタエレメント52の濾過口径を選択したのである。
【0050】
図4に、フィルタエレメント52の濾過口径と真空タンク21、真空ポンプ22を含む真空装置の月当たりの故障回数との関係を調べたグラフを示す。バッグフィルタ20を用いない場合には、真空装置は月当たり3回の故障が発生したが、バッグフィルタ20を設け、その濾過口径を小さくするほど故障回数が少なくなることが確認された。特に、フィルタエレメント52の濾過口径が5μm以下である場合には、真空装置の故障は発生しなかった。このため、フィルタエレメント52の濾過口径は、粉体離型剤の最小粒径より小さくなくとも、十分効果を発揮することができ、少なくとも粉体離型剤の平均粒径(8μm)よりも小さければ実用可能であることがわかる。
【0051】
上記電磁弁19,24の上流側には、さらに比較的大きな濾過口径を有するフィルタ18,23が設けられている。具体的には、フィルタ18,23として、50〜300μmの濾過口径を有するフィルタを用いている。これらのフィルタ18,23は、例えばダイカスト成型品のバリ等の比較的大きな異物を捕獲するために設けられている。これらのフィルタ18,23の作用により、比較的大きな異物の侵入による電磁弁の19,24の動作不良を防止できるとともに、バッグフィルタ20,25の寿命を長くすることが可能となる。
【0052】
本実施例によるダイカスト鋳造機は、さらに粉体供給装置30を備える。この粉体供給装置30は、計量排出部31を有し、1回当たりに供給すべき量の粉体離型剤を計量し、粉体離型剤供給口14に向けて排出する。さらに、計量排出部31には、電磁弁33を介して正圧供給源34が接続されている。計量排出部31は、所定量の粉体離型剤の排出を終了した後、正圧供給源34からの正圧をキャビティ40内に印加する。これにより、粉体離型剤のキャビティ40表面全面への均一な塗布を図っている。すなわち、粉体離型剤がキャビティ40内に充填された状態で、キャビティ40内に正圧を印加すると、たとえキャビティ40内が複雑な形状をしていたとしても、ほぼ均一に粉体離型剤をキャビティ40表面全面に渡って塗布することができるのである。
【0053】
上記の粉体供給装置30の作動は制御盤35によって制御される。すなわち制御盤35は、粉体供給装置30における計量排出部31の作動及び電磁弁33の開閉作動を制御する。また、制御盤35には、真空計36が設けられている。この真空計36には、粉体供給装置30を介して、キャビティ40内の圧力が導入されており、キャビティ40内の真空度を計測する。特に、この真空計36は、粉体離型剤供給時のキャビティ40内の真空度を計測するために用いられるものである。
【0054】
さらに、ダイカスト鋳造機全体の作動を制御するための制御盤38が設けられている。すなわち、制御盤38は、真空引き機構における電磁弁19,24の開閉作動、カットオフピン6及び開閉バルブ29の開閉作動、プランジャ16の位置制御、及び可動盤2の型開き、型締め作動等を制御する。
【0055】
以下、制御盤35及び制御盤38の制御内容を、ダイカスト鋳造機の作動とともに説明する。なお、ダイカスト鋳造機の主要な作動状態を図7(A)〜図7(D)に示している。
【0056】
図5は、これら制御盤35,38の制御内容を示すフローチャートである。なお、ダイカストマシンを制御する制御盤38と、粉体離型剤を供給する装置30を制御する制御盤35とは、互いに通信によって制御状態に関するデータの授受を行う。
【0057】
まず、ステップ100において、可動型1と固定型7との型締めを行う。次に、ステップ110においてプランジャ16を金属溶湯給湯口15を塞ぐ位置まで前進させる。そして、ステップ120において、電磁弁19を開いて、キャビティ40内の減圧を開始する。
【0058】
電磁弁19が開弁された旨は、粉体供給装置側の制御盤35に伝えられ、制御盤35は、ステップ130において、電磁弁19が閉弁されてからキャビティ40内に粉体離型剤を吸引させるのに必要な真空度が得られる時間(数秒)が経過したときに、真空計36によって真空度を計測する。このとき、真空計36によって計測される真空度が所定の範囲(−20mmHgまたは700Torr−750Torr)に入っていないときには、真空装置等の異常が発生したとして、ダイカスト鋳造機を停止させる(ステップ160)。一方、計測された真空度が所定の範囲内の値であったときには、ステップ140において、計量排出部31から所定量の粉体離型剤が排出され、粉体離型剤供給口14,スリーブ13を介してキャビティ40内に吸引される(図7(A)参照)。
【0059】
次にステップ150では、再びキャビティ40内の真空度を計測し、この計測した真空度が所定の範囲内に入っているか否かを判定する。粉体離型剤の供給開始から終了まで、電磁弁19は開弁状態を維持しているので、正常に粉体離型剤がキャビティ40内に供給されたならば、その供給終了時点での真空度は、供給開始時の真空度よりも高真空度の所定の真空度範囲(350Torr〜450Torr)に入るはずである。つまり、供給終了時点においてキャビティ40内の真空度が上記の範囲外の値であるときには、例えば、粉体離型剤の供給経路における詰まり等の異常が発生したと推測されうる。このため、ステップ150にて計測された真空度が所定範囲から外れていると判断された場合には、ステップ160においてダイカスト鋳造機を停止させる。一方、計測された真空度が所定範囲に入っているときには、ステップ180で電磁弁33を開弁させる。これにより、正圧供給源34から電磁弁33を介してキャビティ40内に正圧が印加され、キャビティ40内に充填された粉体離型剤がキャビティ40表面全面に渡ってほぼ均一に塗布される。
【0060】
このとき、電磁弁33の開弁と同期して、ダイカスト鋳造機側の制御盤38では、開閉バルブ29を閉弁させるとともに、電磁弁19を閉弁させる。
【0061】
開閉バルブ29を閉弁させるのは、キャビティ40内から余剰の粉体離型剤が排出され、圧力計28まで達するのを防止するためである。この場合、余剰の粉体離型剤は、通路11と開閉バルブ29とを接続するホース内に滞留することになるが、このホースは定期的に交換されるものであり、圧力計28による真空度の計測に影響はない。また、電磁弁19を閉弁することにより、真空タンク21の真空度が低下することを防止している。
【0062】
次にステップ190において、所定時間が経過したか否かを判別し、所定時間が経過したならば、ステップ200において、電磁弁33を閉じ、正圧の印加を終了する。なお、このとき印加される正圧のレベル及び時間に関しては、例えば2〜8kg/cm2程度の正圧を数秒印加する。
【0063】
電磁弁33を閉弁した旨は、ダイカスト鋳造機側の制御盤38に伝えられる。そして、制御盤38は、ステップ210において、プランジャ16を後退させて、溶湯給湯口15を開く。この状態で、溶湯給湯口15からチップ潤滑剤ノズル39を介してチップ潤滑剤を噴射する(図7(B)参照)。このチップ潤滑剤は、プランジャ16の摺動を円滑に行うためのもので、例えば商品名グラフェースP1200N(花野商事)を使用することができる。このチップ潤滑剤は液状のものであり、また粘性を有するものである。従って、このチップ潤滑剤がスリーブ13に供給された後に粉体離型剤が粉体離型剤供給口14から供給されたとすると、粉体離型剤がチップ潤滑剤に付着しスリーブ13内で凝集する。すると、金属溶湯をスリーブ13からキャビティ40へ射出する際に、金属溶湯とともに凝集した粉体離型剤もキャビティ40内に押し出され、ダイカスト成型品内に混入されることになる。これは、ダイカスト成型品の品質を著しく低下させる要因となる。
【0064】
このため、本実施形態例では、粉体離型剤は、チップ潤滑剤がスリーブ13に供給される前に、キャビティ40内に吸引されるようにしている。この結果、先にチップ潤滑剤をスリーブ13に供給したときのスリーブ内の粉体残差量に比較して、粉体離型剤を先にキャビティ40内に供給するようにした場合、その残差量は1/8程度に低減できた。
【0065】
チップ潤滑剤を供給した後には、柄杓60により溶湯給湯口15からスリーブ13内に金属溶湯が注入される(図7(C)参照)。そして、ステップ220において、プランジャ16を溶湯給湯口15を塞ぐ位置まで前進させ、スリーブ内を気密状態とする。
【0066】
この状態で、電磁弁24を開弁するとともに、開閉バルブ29を開く。これにより、キャビティ40内が所定の高真空度(60Torr以下)まで真空引きされるとともに、その真空度が真空計28により計測可能となる。電磁弁24を開弁後、上記所定の高真空度を得るために必要な時間が経過した時点で、真空計28によってキャビティ40内の真空度を計測する。この時、計測した真空度が所定の高真空度に達していなければ、鋳造機に何らかの異常があるとみなして異常停止する(ステップ250)。一方、計測した真空度が所定の高真空度に達していれば、ステップ260において、カットオフピン6を、キャビティ40と排気通路12との接続箇所を閉じる位置まで移動させた後に、電磁弁24を閉弁する。これにより、キャビティ40内に射出される金属溶湯が排気通路12等へ流出することを防止する。
【0067】
ステップ270では、金属溶湯がスリーブ13からキャビティ40内へ射出されるようにプランジャ16を高速に前進させる(図7(D)参照)。その後、プランジャ16は、キャビティ40内の溶湯が凝固するタイミングで初期位置まで後退される。
【0068】
ステップ280では、可動型1を移動して金型を開き、形成されたダイカスト成型品を金型から取り出す。
【0069】
上記の一連の手順によってダイカスト成型品が形成されるのであり、当該一連の手順は繰り返し実行される。
【0070】
ここで、上記の一連の手順を繰り返し実行した場合、金属溶湯の温度が約700℃度前後であるため、ダイカスト成形品の取り出し時の金型温度は約400℃〜500℃にもなり、次の鋳造サイクルに移行してもなお金型の温度は高温を維持する。
【0071】
しかしながら、本実施形態における粉体離型剤は、金型温度が300℃を超えるような高温においては、金型への付着性が低下することが本願の発明者の検討の結果明らかとなった。このため、図示されてはいないが、従来の金型と同様に可動型1及び固定型7の内部に複数の冷却管を形成し、この冷却管内に冷水を流通させることにより、金型を冷却している。
【0072】
ここで、粉体離型剤が付着される金型のキャビティ40表面は、金属溶湯によって最も高温に加熱される部位である。このため、本実施形態では、このキャビティ40表面の温度が、粉体離型剤の供給される時点までに300℃以下まで低下できる冷却能力を有するように、複数の冷却管の本数、形成位置が決定されている。これにより、粉体離型剤の付着性の低下を防止することが可能となった。
【0073】
なお、本実施形態において使用される粉体離型剤は、タルク80%、ワックス20%の割合で混合した混合物である。また、金属溶湯としては、アルミニウム溶湯やマグネシウム溶湯が使用される。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施形態におけるダイカスト鋳造機の全体構成図である。
【図2】図1のダイカスト鋳造機の真空引き機構に用いられる電磁弁の概略構造を示す図である。
【図3】バッグフィルタの構造を示す一部破断斜視図である。
【図4】バッグフィルタのフィルタエレメントの濾過口径と真空装置の月当たりの故障回数との関係を示すグラフである。
【図5】制御盤35,38の制御内容の前半部を示すフローチャートである。
【図6】制御盤35,38の制御内容の後半部を示すフローチャートである。
【図7】ダイカスト鋳造機の主要な作動工程を示す作動説明図である。
【符号の説明】
1…可動型、7…固定型、15…金属溶湯給湯口
18…フィルタ(第3のフィルタ)、19…電磁弁(第1の開閉手段)、
20…バッグフィルタ(第1のフィルタ)、
21…真空タンク(第1の真空タンク)、23…フィルタ(第4のフィルタ)
24…電磁弁(第2の開閉手段)、25…バッグフィルタ(第2のフィルタ)
26…真空タンク(第2の真空タンク)、30…粉体供給装置

Claims (9)

  1. 固定型と可動型とを有し、当該固定型と可動型とを型締めすることによってキャビティを形成する金型と、
    前記キャビティ内に向けて粉体離型剤を供給する粉体離型剤供給手段と、
    前記キャビティと、前記キャビティに金属溶湯を導入するスリーブを介することなくキャビティと接続する第1の真空引き通路を介して接続される、前記キャビティ内を所定の第1の真空度まで真空引きして、前記粉体離型剤供給手段から供給される粉体離型剤を前記キャビティ内に吸引する、第1の真空タンクと、この第1の真空タンクを真空引きする第1の真空ポンプとを備える第1の真空引き手段と、
    前記第1の真空引き通路における前記第1の真空タンクの上流側に配置され、前記キャビティと前記第1の真空引き手段の前記第1の真空タンクとの連通/非連通を切り換える第1の開閉手段と、
    前記キャビティと、前記第1の真空引き通路に連結される第2の真空引き通路を介して接続され、前記キャビティの表面に粉体離型剤が塗布された後に、前記キャビティ内を前記所定の第1の真空度よりも真空度の高い所定の第2の真空度まで真空引きする、第2の真空タンクと、この第2の真空タンクを真空引きする第2の真空ポンプとを備える第2の真空引き手段と、
    前記第2の真空引き通路における前記第2の真空タンクの上流側に配置され、前記キャビティと前記第2の真空引き手段の前記第2の真空タンクとの連通/非連通を切り換える第2の開閉手段と、
    前記第2の真空引き手段によって前記キャビティ内が所定の第2の真空度まで真空引きされたとき、前記キャビティ内に金属溶湯を供給する金属溶湯供給手段とを備え
    前記第1の開閉手段が開成されているときには、前記第2の開閉手段は閉成され、前記第2の開閉手段が開成されているときには前記第1の開閉手段は閉成されることを特徴とするダイカスト鋳造機。
  2. 請求項記載のダイカスト鋳造機において、前記第2の真空ポンプは、前記第1の真空ポンプよりも大容量を持つことを特徴とするダイカスト鋳造機。
  3. 請求項記載のダイカスト鋳造機において、前記第1の開閉手段と前記第1の真空タンクとの間に配置され、少なくとも前記粉体離型剤の平均粒径よりも小さい濾過口径を有する第1のフィルタと、前記第2の開閉手段と前記第2の真空タンクとの間に配置され、少なくとも前記粉体離型剤の平均粒径よりも小さい濾過口径を有する第2のフィルタとを備えることを特徴とするダイカスト鋳造機。
  4. 請求項記載のダイカスト鋳造機において、前記第1及び第2のフィルタの濾過口径は、前記粉体離型剤の最小粒径よりも小さく設定されていることを特徴とするダイカスト鋳造機。
  5. 請求項または請求項記載のダイカスト鋳造機において、前記第1の真空引き通路の前記キャビティと前記第1の開閉手段との間に、前記第1のフィルタよりも大きな濾過口径を有する第3のフィルタを設け、
    前記第2の真空引き通路の前記キャビティと前記第2の開閉手段との間に、前記第2のフィルタよりも大きな濾過口径を有する第4のフィルタを設けたことを特徴とするダイカスト鋳造機。
  6. 請求項乃至請求項のいずれかに記載のダイカスト鋳造機において、前記第1及び第2の開閉手段は、それぞれ電磁弁によって構成され、弁体の開弁時にその弁体に連結された摺動部が前記弁体によって前記第1または第2の真空引き経路から遮蔽されることを特徴とするダイカスト鋳造機。
  7. 請求項1乃至請求項のいずれかに記載のダイカスト鋳造機において、前記金属溶湯供給手段は、前記スリーブと、当該スリーブに金属溶湯が供給されたときに、その金属溶湯を前記キャビティ内に射出するプランジャと、前記スリーブ内を摺動するプランジャの潤滑剤を供給する潤滑剤供給手段とを備え、
    前記粉体離型剤供給手段は、前記スリーブを介して前記キャビティ内に粉体離型剤を供給するものであり、
    前記潤滑剤供給手段は、前記粉体離型剤供給手段が粉体離型剤の供給を完了した後に、前記潤滑剤を前記スリーブ内に供給することを特徴とするダイカスト鋳造機。
  8. 請求項1乃至請求項のいずれかに記載のダイカスト鋳造機において、前記粉体離型剤供給手段が粉体離型剤を供給する時には、前記金型の表面温度が300℃以下まで低下した状態とするための冷却機構を備えることを特徴とするダイカスト鋳造機。
  9. 請求項記載のダイカスト鋳造機において、前記冷却機構は、前記金型内に形成された、内部を冷水が通過する冷却管によって構成され、ダイカスト成形品を前記金型内から取り出した後に前記粉体離型剤を供給するときまでに、前記金型のキャビティ表面の温度を300℃以下まで低下するように設けられていることを特徴とするダイカスト鋳造機。
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