JP4078790B2 - Ovd媒体の製造方法 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、OVD媒体に関するものであり、特に、OVDに絵柄・文字など別な画像を形成したOVDが貼付されたOVD媒体の製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来よりOVDは、意匠性やセキュリティー性を向上させるために種々な媒体に貼付されてきた。これは、OVDはエンボス成形、或いは多層薄膜蒸着などにより大量に廉価に複製できるからであり、また一方では、カラーコピーなどでは複製できないためである。
しかし、一旦、撮影されたホログラムや多層薄膜を部分的に変えて絵柄・文字など別な画像を与えることは難しいものであり、ホログラムや多層薄膜の一部分に絵柄・文字など別な画像を与える際には、例えば、レーザを用いて部分的に加熱しOVDを破壊することになるが、この方法は設備に多大な投資を必要とする欠点を有している。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、上記の欠点を解決するためになされたものであり、ホログラムや多層薄膜などOVDの少なくとも一部分を破壊して、OVDに絵柄・文字など別な画像を形成したOVDが貼付されたOVD媒体であって、多大な投資を必要とせずに製造できる、廉価なOVD媒体の製造方法を提供することを課題とする。
【0004】
【課題を解決するための手段】
本発明は、OVDの少なくとも一部分を破壊して、OVDに絵柄・文字など別な画像を形成したOVDが貼付されたOVD媒体の、該少なくとも一部分を、表面が凹部と表面凹凸状の凸部とで構成され、該凹部と該表面凹凸状の凸部とで絵柄・文字など別な画像を表す凹凸版を用いた加熱・加圧によって破壊するOVD媒体の製造方法であって、OVDが形成されたOVD転写箔のOVDを支持体に転写する際に、前記凹凸版を用いて転写すると同時に、前記表面凹凸状の凸部がOVDの干渉構造もしくは回折構造を破壊し、前記OVD媒体に前記凹部に係わるOVDが破壊されていない領域と、前記表面凹凸状の凸部に係わるOVDが破壊された領域とを形成することを特徴とするOVD媒体の製造方法である。
【0005】
また、本発明は、上記発明によるOVD媒体の製造方法において、前記表面凹凸状の凸部は表面凹凸状が線状に設けてあることを特徴とする請求項1記載のOVD媒体の製造方法である。
【0006】
【発明の実施の形態】
以下に本発明の実施の形態を詳細に説明する。
図1は、本発明によるOVD媒体の一実施例の平面図である。また、図2は、図1における一実施例をX−X’断面で示す断面図である。
図1、及び図2に示すように、OVD媒体(16)は、支持体(14)上にOVD(13)が設けられたものである。
OVD(13)は、OVDが破壊されていない非凹凸部(13a)とOVDが破壊された凹凸部(13b)とで構成されている。そして、OVDが破壊されていない非凹凸部(13a)とOVDが破壊された凹凸部(13b)との境界によって示される文字「A」を表す別な画像がOVD(13)に与えられたものとなっている。
【0007】
図3は、このような、文字「A」を表す別な画像がOVD(13)に与えられたOVD媒体(16)を製造する際に用いるホットスタンプの概念を示した断面図である。
図3に示すように、ホットスタンプのプレス版取り付け部(11)に凹凸版(12)を取り付けておき、予め、支持体(14)上にOVD(13)が貼付されたOVD媒体(16)を台座(15)上に配し、凹凸版(12)を押し付けることにより、凹凸版(12)の凸部がOVDの干渉構造もしくは回折構造を破壊し、OVD(13)に、OVDが破壊されていない非凹凸部(13a)とOVDが破壊された凹凸部(13b)を形成する。
すなわち、OVDが破壊されていない非凹凸部(13a)とOVDが破壊された凹凸部(13b)との境界によって示される文字「A」を表す別な画像がOVD(13)に与えられる。
【0008】
図4は、この際に用いる凹凸版(12)の表面状態を示す説明図であるが、凹凸版(12)の表面状態は、凹部(12a)と凸部(12b)とで文字「A」を表すように構成されており、凸部(12b)の表面は、OVDを加熱・加圧することによって破壊するための表面凹凸状となっている。
従って、上記のように、本発明によるOVD媒体は、凹凸版を用いたプレスによってOVDに絵柄・文字など別な画像を形成するので、多大な投資を必要とせず、廉価なOVD媒体となる。
【0009】
図5は、本発明によるOVD媒体の製造方法を示す説明図である。
本発明によるOVD媒体の製造方法は、図5に示すように、ホットスタンプのプレス版取り付け部(11)に凹凸版(12)を取り付けておき、台座(15)上の支持体(14)の上に、OVDが形成されたOVD転写箔(53)を配し、凹凸版(12)を押し付けることにより、OVD転写箔(53)のOVD(13)を支持体(14)に転写し、製造するものである。
【0010】
この転写により、OVD転写箔(53)に形成されたOVD(13)が支持体(14)に転写されると同時に、上記凹凸版(12)の凸部がOVDの干渉構造もしくは回折構造を破壊し、OVD(13)に、OVDが破壊されていない非凹凸部(13a)とOVDが破壊された凹凸部(13b)を形成する。
すなわち、本発明によるOVD媒体の製造方法は、OVDが破壊されていない非凹凸部(13a)とOVDが破壊された凹凸部(13b)との境界によって示される文字「A」を表す別な画像がOVD(13)に効率よく与えられるOVD媒体の製造方法となる。
【0011】
本発明でいうOVD(Optical Variable Device)とは、ホログラムや回折格子などの光回折効果を持つものや多層薄膜のような光干渉効果を持つものを指す。
ホログラムや回折格子のようなOVDとしては、光の干渉縞を微細な凹凸パターンとして平面に記録するレリーフ型や体積方向に干渉縞を記録する体積型がある。
【0012】
また、見る角度により色の変化(カラーシフト)を生じる多層薄膜のようなOVDとしては、光学特性の異なるセラミックスや金属の薄膜を積層したものがある。この他に、光の干渉を利用した固有の像や色の変化を生じるものであればこれらに限られるものではない。
これらのOVDの中では、量産性やコストを考慮した場合には、レリーフ型ホログラム(回折格子)や多層薄膜が好ましいものである。
【0013】
レリーフ型ホログラム(回折格子)は光学的な撮影方法により、微細な凹凸パターンからなるレリーフ型のマスターホログラムを作製し、次に、このマスターホログラムから電気メッキ法により凹凸パターンを複製したニッケル製のプレス版を作製し量産する。
すなわち、このプレス版を加熱し、ホログラム形成層に押し当て、凹凸パターンを複製する。
【0014】
それゆえ、ホログラム形成層は熱による成形性が良好で、プレスムラが生じ難く、明るい再生像が得られる材料であることが必要であり、例えば、ポリカーボネート樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂などの熱可塑性樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂などの熱硬化性樹脂、あるいは、ラジカル重合性不飽和基を有する紫外線や電子線硬化性樹脂を単独あるいは複合して用いることができる。また、上記以外のものでも、ホログラム形成層として凹凸パターンを形成可能な安定な材料であれば使用可能である。
【0015】
また、OVDにレリーフ型ホログラム(回折格子)を用いた場合、その回折効率を高めるためレリーフ面を構成する高分子材料(ホログラム形成層)と屈折率の異なる反射層を設けることが好ましい。
この反射層を設けることにより、回折効率が向上し、より鮮明な画像や色の変化をもたらすものになる。用いる材料としては、屈折率の異なるTiO2 、SiO2 、SiO、Fe2 O3 、ZnSなどの高屈折率材料や、より反射効果の高いAl、Sn、Cr、Ni、Cu、Au等の金属材料が挙げられる。これらの材料は単独あるいは積層して使用できるものであり、これらの材料は真空蒸着法、スパッタリング等の公知の薄膜形成技術にて形成され、その膜厚は用途によって異なるが、5〜1000nm程度で形成される。
【0016】
また、その屈折率が、ホログラム形成層で使用される高分子材料(屈折率n=1.3〜1.5)よりも高い材料であれば、上記の無機材料以外の有機系、有機無機複合体、有機系材料に無機系フィラーを分散したものなどが使用可能である。
これらの材料はグラビアコート、ダイコート、スクリーン印刷等の公知のコーティング法や印刷法にて0.1〜10μm程度のホログラム形成層に形成される。また、上記以外の材料であっても反射性を有した材料であれば、適宜使用することが可能である。
【0017】
一方、多層薄膜で形成されるOVDは、異なる光学適性を有する多層薄膜層からなり、金属薄膜、セラミックス薄膜またはそれらを併設してなる複合薄膜として積層形成される。
たとえば、屈折率の異なる薄膜を積層する場合、高屈折率の薄膜と低屈折率の薄膜を組み合わせても良く、また特定の組み合わせを交互に積層するようにしてもよい。それらの組み合わせにより、所望の多層薄膜を得ることができる。
【0018】
この多層薄膜には、セラミックスや金属などの材料が用いられ、おおよそ屈折率が2.0以上の高屈折率材料と屈折率が1.5程度の低屈折率材料を所定の膜圧で積層したものである。以下に用いられる材料の一例を挙げる。
まず、セラミックスとしては、例えば、Sb2 O3 (3.0)、Fe2 O3 (2.7)、TiO2 (2.6)、CdS(2.6)、CeO2 (2.3)、ZnS(2.3)、PbCl2 (2.3)、CdO(2.2)、Sb2 O3 (2.0)、WO3 (2.0)、SiO(2.0)、Si2 O3 (2.5)、In2 O3 (2.0)、PbO(2.6)、Ta2 O3 (2.4)、ZnO(2.1)、ZrO2 (2.0)、MgO(1.6)、SiO2 (1.5)、MgF2 (1.4)、CeF3 (1.6)、CaF2 (1.3)、AlF3 (1.6)、Al2 O3 (1.6)、GaO(1.7)等が挙げられる。
尚、カッコ内の数値は屈折率を示す。
【0019】
金属単体もしくは合金の薄膜としては、例えば、Al、Sn、Fe、Mg、Zn、Au、Ag、Cr、Ni、Cu、Si等が挙げられる。
また、低屈折率の有機ポリマーとしては、たとえば、ポリエチレン(1.51)ポリプロピレン(1.49)、ポリテトラフロロエチレン(1.35)、ポリメチルメタクレート(1.49)、ポリスチレン(1.60)等が挙げられる。これらの高屈折率材料、もしくは透過率30%〜60%の金属薄膜より少なくとも一種、低屈折率材料より少なくとも一種選択し、所定の厚さで交互に積層させることにより、特定の波長の可視光に対する吸収あるいは反射を示す多層薄膜となる。
【0020】
上記の各材料の中から、屈折率、反射率、透過率等の光学特性や耐光性、耐薬品性、層間密着性などに基づき材料を適宜選択し、薄膜として積層し多層薄膜を形成する。形成方法は、公知の手法を用いることができ、膜厚、成膜速度、積層数、あるいは光学膜厚(=n・d、n:屈折率、d:膜厚)などの制御が可能な通常の真空蒸着法、スパッタリング法などの物理的気相析出法やCVD法などの化学的気相析出法を用いることができる。
また、低屈折率の有機ポリマーの成膜方法としては、公知のグラビア印刷法、オフセット印刷法、スクリーン印刷法などの印刷方法やバーコート法、グラビア法、ロールコート法などの塗布方法を用いることができる。
尚、本発明ではセラミックスおよび金属と同等、あるいは類似する屈折率と反射率を有するものであれば用いることが可能である。
【0021】
この多層薄膜層の層厚は、具体的には5〜2000nmの範囲であり、また、薄膜の層構成は上記高屈折率の材料もしくは金属材料からなる薄膜、例えば、ZnS、TiO2 、ZrO2 、In2 O3 、SnO、ITO、CeO2 、ZnO、Ta2 O3 、Al、Fe、Mg、Zn、Au、Ag、Cr、Ni、Cu、Siなどと、上記低屈折率の材料からなる薄膜、例えば、MgF2 、SiO2 、CaF2 、MgO、Al2 O3 などとの組み合わせであり、それらを交互に積相し、その積層数が2層以上、好ましくは2層〜9層である。
分光特性は層数に応じて変化する。尚、用いる材料、組み合わせにより多層膜の光学特性が異なるため、これに限定されるものではない。
【0022】
凹凸版の凸部の表面凹凸状は、0.01から1mmの間隔で凹凸を、例えば、線状に設けたものである。この凹凸版をOVDに加熱・加圧することによりOVDの効果を破壊もしくは変化させ、絵柄・文字など別な画像を形成することができる。凸部の表面凹凸状が深い場合には破壊され、浅い場合には変形される。また、凸部の表面凹凸状により反射方向を変えることにより画像を形成することができる。
凹凸版は、エッチング、彫刻、旋盤など公知の金属加工技術を用いて作製することができる。
【0023】
支持体上にOVDを設けOVD媒体を作製するには、ステッカーの貼付、転写箔の転写など、どのような方法であっても良い。また、加熱・加圧をかける装置としては、ホットスタンプ以外に、プレス機、平押し、若しくはシリンダ型の箔押し機などを用いることができる。
【0025】
【発明の効果】
本発明は、OVD媒体の製造において、OVDが形成されたOVD転写箔のOVDを支持体に転写する際に、凹凸版を用いて転写すると同時に、凸部がOVDの干渉構造もしくは回折構造を破壊し、非凹凸部に係わるOVDが破壊されていない領域と、凹凸部に係わるOVDが破壊された領域を形成するので、多大な投資を必要とせずに製造できる、廉価なOVD媒体の製造方法となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明によるOVD媒体の一実施例の平面図である。
【図2】図1における一実施例をX−X’断面で示す断面図である。
【図3】OVD媒体を製造する際に用いるホットスタンプの概念を示した断面図である。
【図4】凹凸版の表面状態を示す説明図である。
【図5】本発明によるOVD媒体の製造方法を示す説明図である。
【符号の説明】
11…プレス版取り付け部
12…凹凸版
12a…凹凸版の凹部
12b…凹凸版の凸部
13…OVD
13a…OVDが破壊されていない非凹凸部
13b…OVDが破壊された凹凸部
14…支持体
15…台座
16…OVD媒体
53…OVD転写箔
Claims (2)
- OVDの少なくとも一部分を破壊して、OVDに絵柄・文字など別な画像を形成したOVDが貼付されたOVD媒体の、該少なくとも一部分を、表面が凹部と表面凹凸状の凸部とで構成され、該凹部と該表面凹凸状の凸部とで絵柄・文字など別な画像を表す凹凸版を用いた加熱・加圧によって破壊するOVD媒体の製造方法であって、OVDが形成されたOVD転写箔のOVDを支持体に転写する際に、前記凹凸版を用いて転写すると同時に、前記表面凹凸状の凸部がOVDの干渉構造もしくは回折構造を破壊し、前記OVD媒体に前記凹部に係わるOVDが破壊されていない領域と、前記表面凹凸状の凸部に係わるOVDが破壊された領域とを形成することを特徴とするOVD媒体の製造方法。
- 前記表面凹凸状の凸部は表面凹凸状が線状に設けてあることを特徴とする請求項1記載のOVD媒体の製造方法。
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