JP2008511847A - 金属化されたセキュリティエレメント - Google Patents
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Abstract
【解決手段】キャリアフィルム(10)上のフィルム体は、剥離層(20)と、保護ラッカー層(21)と、レリーフ構造(25、26)を有する複製ラッカー層(22)と、金属層(23)と、接着層(24)とを有する。第一レリーフ構造(25)は、0.5より大きい深さ/幅比を有し、これにより、金属層(23)は前記第一レリーフ構造(25)の領域でより透明になる。第二レリーフ構造(26)は、低い深さ/幅比を有し、これにより、金属層(23)は第二レリーフ構造(26)の領域でより少ない透明性を有するかあるいは不透明となる。
【選択図】図1
Description
図1はキャリアフィルム10、剥離層20、保護ラッカー層21、レリーフ構造25および26を有する複製ラッカー層22、レリーフ構造25および26に配置された外部金属層23および接着層24を有する多層フィルム体の形態のセキュリティエレメント11を示す。レリーフ構造26は平面レリーフ構造の形態となっている。
成分 重量比
高分子PMMA樹脂 2000
オイルフリーシリコンアルキド 300
非イオン性湿潤剤 50
低粘度ニトロセルロース 12000
トルエン 2000
ジアセトンアルコール 2500
として求められる金属層の厚さとの商として形成される。
の偏光と偏光の性質(OT TMあるいはOT TE)との両者が同時に、光の波長に依存する透明度Tに影響を与える。非偏光としてOT unpolで示された曲線が、それぞれTM偏光およびTE偏光としてのOT TMとOT TEの2曲線の間に伸びている。
Claims (23)
- 複製ラッカー層(22)を有する多層フィルム体の形態のセキュリティエレメント(11)であって、座標軸xおよびyによって画定される平面には前記セキュリティエレメントの第一領域に第一レリーフ構造(25)が前記複製ラッカー層(22)に形成され、前記セキュリティエレメント(11)の前記第一領域および前記セキュリティエレメント(11)の隣接する第二領域に前記座標軸xおよびyによって画定される前記平面に対して一定の表面密度の金属層(23)が前記複製ラッカー層(22)に適用され、
前記第一レリーフ構造(25)は個々の構造エレメントの深さ/幅比が0.5より大きい回折構造であり、前記金属層(23)の透明性が前記第二領域における前記金属層の透明性に対して前記第一領域の第一レリーフ構造(25)によって増加することを特徴とするセキュリティエレメント。 - 前記金属層(23)は、最大反射度の85%〜95%の金属層の反射度でゼロに等しい深さ/幅比で前記金属層(23)のフラット表面への適用に相応する表面密度で前記複製ラッカー層(22)に適用されることを特徴とする請求項1に記載のセキュリティエレメント。
- 前記レリーフ構造(25)の深さは前記座標xおよび/またはyの関数の形状であることを特徴とする前述の請求項のいずれか1つに記載のセキュリティエレメント。
- 前記関数は確率関数であることを特徴とする請求項3に記載のセキュリティエレメント。
- 前記関数はsin2(x、y)の種類の関数であることを特徴とする請求項3に記載のセキュリティエレメント。
- 第二回折レリーフ構造(26)が前記隣接する第二領域で前記複製ラッカー層(22)に形成され、前記第二レリーフ構造の前記個々の構造エレメントの前記深さ/幅比が、前記第一レリーフ構造の前記個々の構造エレメントの前記深さ/幅比よりも小さいことを特徴とする前述の請求項のいずれか1つに記載のセキュリティエレメント。
- 前記第二レリーフ構造(26)は0.2より小さい深さ/幅比を有することを特徴とする前述の請求項のいずれか1つに記載のセキュリティエレメント。
- 前記第二レリーフ構造(26)は0.5より小さい深さ/幅比を有することを特徴とする前述の請求項のいずれか1つに記載のセキュリティエレメント。
- 前記第二領域は、パターン領域、特に組みひも飾りパターンまたはロゴもしくはテキストの形態であり、前記第一領域は背景領域であることを特徴とする前述の請求項のいずれか1つに記載のセキュリティエレメント。
- 前記第一レリーフ構造(25)および/または前記第二レリーフ構造(26)の前記深さ/幅比は前記x方向および/またはy方向で変化することを特徴とする前述の請求項のいずれか1つに記載のセキュリティエレメント。
- 前記第一領域または第二領域はマクロ領域においてラスタされた構造であり、前記マクロ領域では、前記マクロ領域の大きさおよび/または前記ラスタ間隔が人間の眼によって分解され得る前記間隔であるかあるいはより小さいことを特徴とする前述の請求項のいずれか1つに記載のセキュリティエレメント。
- 前記第二レリーフ構造は、パターン、マクロ構造あるいはマット構造を生じる光学回折効果を有する構造であることを特徴とする前述の請求項のいずれか1つに記載のセキュリティエレメント。
- 前記第一または第二レリーフ構造(125、126)は0.5より大きい前記個々の構造エレメントの深さ/幅比で膜構造と回折構造との重ね合わせから形成されることを特徴とする前述の請求項のいずれか1つに記載のセキュリティエレメント。
- 前記膜構造は光学回折効果、特にホログラムを生じるレリーフ構造を有する構造であることを特徴とする請求項13に記載のセキュリティエレメント。。
- 前記膜構造は、マクロ構造であることを特徴とする請求項13に記載のセキュリティエレメント。
- 前記膜構造は、マット構造であることを特徴とする請求項13に記載のセキュリティエレメント。
- 前記多層フィルム体は転写フィルム、特にホットスタンピングフィルムであることを特徴とする前述の請求項のいずれか1つに記載のセキュリティエレメント。
- セキュリティドキュメント、特に前述の請求項のいずれか1つに記載のセキュリティエレメントを有する通帳(banknote)またはパスポート。
- 多層フィルム体の形態のセキュリティエレメント(11、111)の製造方法であって、前記方法において、前記セキュリティエレメント(11、111)の第一領域で前記多層フィルム体の複製ラッカー層(22)に第一レリーフ構造(25)が形成され、前記セキュリティエレメント(11)の前記第一領域および前記セキュリティエレメント(11)の隣接する前記第二領域で前記複製ラッカー層によって画定される平面に対して一定の表面密度の金属層(23)が前記複製ラッカー層(22)に適用され、
前記第一レリーフ構造(25)は0.5より大きい前記深さ/幅比を有する回折構造の形状で形成され、
前記金属層(23)は前記複製ラッカー層(22)で画定された前記平面に対してある表面密度で適用され、前記金属層(23)の透明性が前記第二領域における前記金属層(23)の透明性に関して前記第一領域における前記第一レリーフ構造(25)によって増加することを特徴とする製造方法。 - 前記金属層(23)は前記複製ラッカー層(22)に蒸着によって、特にスパッタリング、電子ビーム蒸着、あるいは抵抗加熱による熱蒸着によって適用されることを特徴とする請求項19に記載の製造方法。
- 前記金属層(23)を形成する金属は、前記沈着方向に垂直に配置されたフラット表面への前記金属層(23)の適用に相応する表面密度で、前記複製ラッカー層(22)によって画定された平面に沈着され、前記金属層は前記金属からなる光学的に不透明な金属層の最大反射度85%〜95%でゼロに等しい深さ/幅比を有することを特徴とする請求項20に記載の製造方法。
- 第四レリーフ構造と前記第一レリーフ構造(25)および/または前記第二レリーフ構造(26)と、膜曲線の重ね合わせの形状である第三レリーフ構造(125、126)が前記セキュリティエレメント(111)の第三領域に形成され、前記第一レリーフ構造(25)で重ねられた前記第三領域の準領域において前記第四レリーフ構造によって具体化された情報が可視になり、前記第二レリーフ構造(26)で重ねられた前記第三領域の準領域において前記第四レリーフ構造によって具体化された情報が可視でなくなることを特徴とする請求項19〜21のいずれか1つに記載の製造方法。
- 前記レリーフ構造は、UV複製によって前記複製ラッカー層(22)に形成されることを特徴とする請求項19〜22のいずれか1つに記載の製造方法。
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