JP4740944B2 - 多層フィルム体形状のセキュリティエレメント - Google Patents
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Description
本発明の目的はさらに、セキュリティエレメントの第一の領域において第一のレリーフ構造が多層フィルム体の複製ラッカー層に形成され、さらに、干渉によって視角依存性色変化効果をもたらすために複製ラッカー層に薄膜層が適用され、薄膜層によって色変化効果がもたらされるのを抑えるレリーフ構造がセキュリティエレメントの第一の領域における第一のレリーフ構造として形成され、その結果、第一のレリーフ構造が設けられているセキュリティエレメントの第一の領域において色変化は現れず、第一のレリーフ構造が設けられていないセキュリティエレメントの第二の領域において薄膜層によって生じる色変化効果が現れるといった、多層フィルム体形状にあるセキュリティエレメントの生産プロセスによって実現される。
本発明の目的はさらに、セキュリティエレメントの第一の領域で第一のレリーフ構造が多層フィルム体の複製ラッカー層に形成され、さらに、干渉によって視角依存性色変化効果をもたらすために複製ラッカー層に薄膜層が適用され、薄膜層による色変化効果を変化させるレリーフ構造がセキュリティエレメントの第一の領域における第一のレリーフ構造として形成され、その結果、第一のレリーフ構造が設けられているセキュリティエレメントの第一の領域において第一の色変化効果は薄膜層によって生じ、第一のレリーフ構造が設けられていないセキュリティエレメントの第二の領域において第一の色変化効果とは異なる第二の色変化効果が薄膜層によって生じるような、多層フィルム体形状にあるセキュリティエレメントの生産プロセスによって実現される。
(数1)
(数2)
(成分) (重量比)
高分子量PMMA樹脂 2000
オイルフリーシリコンアルキド樹脂 300
非イオン性湿潤剤 50
低粘性ニトロセルロース 12000
トルエン 2000
ジアセトンアルコール 2500
(数3)
(数4)
(数5)
(数6)
(数7)
(数8)
(数9)
(数10)
22 複製ラッカー層
23 薄膜層
25、26 レリーフ構造
31 第一領域
32 第二領域
Claims (39)
- 複製ラッカー層(22)と、
公称厚さt0で前記複製ラッカー層(22)に適用され、可視光の範囲でλ/4またはλ/2の条件を満たす少なくとも一つのスペーサー層を有し、干渉による可視光の範囲の第一の角度依存性色変化効果を生じる薄膜層干渉層構造(23)と、を有する多層フィルム体の形状のセキュリティエレメント(11、12、13)において、
座標軸xおよびy(257、258)で定義づけられる平面において、前記セキュリティエレメント(11、12、13)の第一領域(31、33、35、37)において、第一レリーフ構造が前記複製ラッカー層(22)と前記薄膜層干渉層構造(23)との間の境界面に形成されるセキュリティエレメント(11、12、13)であって、
前記第一レリーフ構造が形成されない前記セキュリティエレメントの第二領域において、前記第一色変化効果が現れ、
前記第一レリーフ構造が形成された前記セキュリティエレメントの第一領域において可視光の範囲である第一色変化効果が現れないように前記第一レリーフ構造の第一領域において前記薄膜層干渉層構造の有効厚さtが前記公称厚さt 0 より減少され、
前記第一レリーフ構造は、前記スペーサー層の有効厚さが大きく減少されて、前記第一レリーフ構造の領域で第一レリーフ構造によって前記スペーサー層がもはやλ/2またはλ/4の条件を可視光の範囲で満たさないように、大きくなるように選択された個々の構造エレメントの平均深さ幅比を有する構造であることを特徴とするセキュリティエレメント(11、12、13)。 - 前記第一レリーフ構造(25、26、27)が、前記レリーフ構造の個々の構造エレメントの平均深さ幅比が、0.5より大きい構造であることを特徴とする、請求項1に記載のセキュリティエレメント。
- 前記第一レリーフ構造の前記個々の構造エレメントの前記深さ幅比が大きく、前記第一レリーフ構造(25、26、27)が形成された前記セキュリティエレメントの前記第一領域(31、33、35、37)において色変化効果がないように選ばれることを特徴とする、請求項1乃至2のいずれか一つに記載のセキュリティエレメント。
- 前記第一レリーフ構造(25、26、27)が、前記第一レリーフ構造の前記個々の構造エレメントの前記深さ幅比が0.5から10の範囲の回折構造であることを特徴とする、請求項2乃至3のいずれか一つに記載のセキュリティエレメント。
- 前記深さ幅比が1以上であることを特徴とする、請求項4に記載のセキュリティエレメント。
- 前記第一レリーフ構造の前記個々の構造エレメントの深さ幅比は大きく、前記薄膜層干渉層構造による前記セキュリティエレメントの前記第二領域に生じる前記第一色変化効果と異なる第二色変化効果が前記セキュリティエレメントの前記第一領域(31、33、35、37)に生じるように選ばれることを特徴とする、請求項2乃至5のいずれか一つに記載のセキュリティエレメント。
- 前記第一レリーフ構造(25、26、27)の深さは、x方向及びy方向に変化し、前記第一レリーフ構造(25、26、27)の隣接する突起部(254、255、256)の平均間隔は前記第一レリーフ構造の平均輪郭深さよりも小さく、前記第一レリーフ構造の前記隣接する突起部(254、255、256)は、200μmより小さい間隔で互いに離れていることを特徴とする、請求項1乃至6のいずれか一つに記載のセキュリティエレメント。
- 前記第一レリーフ構造(25、26、27)は、前記x方向及び前記y方向に前記第一レリーフ構造の前記深さを周期的に変化させる前記座標軸x及びyの周期関数であり、
前記関数の周期長(252、253)は、前記第一レリーフ構造(25、26、27)の前記構造深さ(251)以下であることを特徴とする請求項7に記載のセキュリティエレメント。 - 前記第一レリーフ構造(25、26、27)は、実質的に互いに直角に配置された二つの基本回折格子からなる交差回折格子であり、前記基本回折格子の周期長はいずれも前記第一レリーフ構造の前記構造深さ以下であることを特徴とする請求項7に記載のセキュリティエレメント。
- 前記隣接する突起部の前記平均間隔あるいは少なくとも一つの前記周期長が400nmよりも短いことを特徴とする、請求項8に記載のセキュリティエレメント。
- 前記第一レリーフ構造(25、26、27)の隣接する突起部(254、255、256)の前記平均間隔が、可視光の限界波長より小さく、好ましくは可視光の限界波長の半分より小さいことを特徴とする、請求項7乃至10に記載のセキュリティエレメント。
- 前記第二領域(32、34、36、38)はパターン領域(51)であり、前記第一領域(31,33、35、37)は背景領域(52)であることを特徴とする、請求項1に記載のセキュリティエレメント。
- 前記第二領域(32、34、36、38)はロゴまたはテキストの形状のパターン領域(51)であることを特徴とする、請求項12に記載のセキュリティエレメント。
- 前記第二領域(36、38)の前記境界面に第二レリーフ構造(28、29)が形成され、前記第二領域(36、38)では前記第二レリーフ構造(28、29)によって生じた光学的効果が、前記薄膜層干渉層構造によって生じた前記第一色変化効果と重ね合わせられることを特徴とする、請求項1乃至13のいずれか一つに記載のセキュリティエレメント。
- 前記第二レリーフ構造(28,29)は、前記第二レリーフ構造の個々の構造エレメントに対して深さ幅比が0.2より小さいレリーフ構造であることを特徴とする、請求項14に記載のセキュリティエレメント。
- 前記第一領域及び前記第二領域が互いに直接隣接していることを特徴とする請求項15に記載のセキュリティエレメント。
- 前記第二レリーフ構造(28、29)の回折周期が前記第二レリーフ構造の前記構造深さよりも大きいことを特徴とする請求項15に記載のセキュリティエレメント。
- 前記第二レリーフ構造(28、29)は、光学的回折効果を有する構造であることを特徴とする請求項15に記載のセキュリティエレメント。
- 前記第二レリーフ構造はマクロ構造であることを特徴とする請求項15に記載のセキュリティエレメント。
- 前記第二レリーフ構造はマット構造であることを特徴とする請求項15に記載のセキュリティエレメント。
- 前記薄膜層干渉層構造(23)は透過性薄膜層干渉層構造であることを特徴とする、請求項1乃至20のいずれか一つに記載のセキュリティエレメント。
- 前記薄膜層干渉層構造(23)は反射性薄膜層干渉層構造であることを特徴とする、請求項1から20のいずれか一つに記載のセキュリティエレメント。
- 前記薄膜層干渉層構造は複数の誘電層を有する薄膜層システムであることを特徴とする、請求項1乃至22のいずれか一つに記載のセキュリティエレメント。
- 前記薄膜層干渉層構造は複数の誘電層及び金属層を有する薄膜層システムであることを特徴とする、請求項1から22のいずれか一つに記載のセキュリティエレメント。
- 前記薄膜層干渉層構造は真珠光沢層を有することを特徴とする、請求項1から22のいずれか一つに記載のセキュリティエレメント。
- 前記薄膜層干渉層構造は反射層を有することを特徴とする、請求項23から25のいずれか一つに記載のセキュリティエレメント。
- 前記複製層と前記薄膜層干渉層構造の間に反射層が部分的に配置されていることを特徴とする、請求項1乃至26のいずれか一つに記載のセキュリティエレメント。
- 前記多層フィルム体(11)は転写フィルムであることを特徴とする、請求項1乃至27のいずれか一つに記載のセキュリティエレメント。
- 請求項1乃至28のいずれか一つに記載のセキュリティエレメントを有するセキュリティドキュメントであって、具体的には、通帳(banknote)あるいはパスポート。
- 多層フィルム体の形状のセキュリティエレメント(11、12、13)の生産プロセスであって、
前記セキュリティエレメント(11、12、13)の第一領域において、前記多層フィルム体の複製ラッカー層(22)に第一レリーフ構造(25、26、27)が形成され、
さらに可視光の範囲でλ/4またはλ/2の条件を満たす少なくとも一つのスペーサー層を有し、干渉によって可視光の範囲である視角依存性第一色変化効果を生じる薄膜層干渉層構造(23)が、公称厚さt0で前記複製ラッカー層に適用されるプロセスであって、
前記第一レリーフ構造(25、26、27)が形成されないセキュリティエレメントの第二領域で前記薄膜層干渉層構造(23)の前記第一色変化効果が生じ、
前記第一レリーフ構造(25、26、27)が形成されたセキュリティエレメントの前記第一領域で可視光の範囲である第一色変化効果が生じないように前記第一レリーフ構造において前記薄膜層干渉層構造の有効厚さtが前記公称厚さt 0 より減少され、
前記第一レリーフ構造は、前記スペーサー層の有効厚さが大きく減少されて、前記第一レリーフ構造の領域で第一レリーフ構造によって前記スペーサー層がもはやλ/2またはλ/4の条件を可視光の範囲で満たさないように、大きくなるように選択された個々の構造エレメントの平均深さ幅比を有する構造であることを特徴とするセキュリティエレメントの生産プロセス。 - UV複製によって前記複製ラッカー層に第一レリーフ構造が形成されることを特徴とする請求項30に記載のプロセス。
- スパッタリングまたは蒸着によって前記薄膜層干渉層構造が前記複製ラッカー層に適用されることを特徴とする請求項30に記載のプロセス。
- スパッタリングまたは蒸着によって前記薄膜層干渉層構造のスペーサー層が表面積に対して等しい密度で前記第一及び第二領域に適用されることを特徴とする請求項30に記載のプロセス。
- 前記第一レリーフ構造(25、26、27)が有効厚さが減少した薄膜層干渉層構造によって形成された前記セキュリティエレメントの前記第一領域(31、33、35、37)で第二色変化効果が生じるように薄膜層干渉層構造(23)によって生じた前記第一色変化効果が変化されることによって、前記薄膜層干渉層構造(23)の前記有効厚さtが前記第一レリーフ構造(25、26、27)の領域で減少するように、セキュリティエレメントの前記第一領域(31、33、35、37)に前記第一レリーフ構造(25、26、27)が形成されることを特徴とする請求項30に記載のプロセス。
- 前記セキュリティエレメント(31、33、35、37)の前記第一領域に現れる前記第二色変化効果が、前記セキュリティエレメントの前記第二領域に現れる前記第一色変化効果と異なるように、前記レリーフ構造の個々の構造エレメントの深さ幅比が選ばれることを特徴とする請求項34に記載のプロセス。
- 前記深さ幅比は0.5より大きいことを特徴とする請求項35に記載のプロセス。
- 前記第一レリーフ構造とは異なる第二レリーフ構造がセキュリティエレメントの第三領域(31、33、35、37)に形成され、前記第二レリーフ構造は薄膜層干渉層構造(23)によって生じる前記第一色変化効果を変化させ、前記第二レリーフ構造(25、26、27)が設けられるセキュリティエレメントの前記第三領域(31、33、35、37)では前記薄膜層干渉層構造によって前記第一及び第二色変化効果と異なる第三色変化効果が生じることを特徴とする請求項34に記載のプロセス。
- 前記第一及び第二レリーフ構造の個々の構造エレメントの前記深さ幅比は異なり、前記第一、第二、及び第三色変化効果がそれぞれ異なるように選ばれることを特徴とする請求項34に記載のプロセス。
- 前記第一及び第二レリーフ構造の深さ幅比は0.2倍異なり、それぞれが0.5より大きくなるように選ばれることを特徴とする請求項38に記載のプロセス。
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