JP4057072B2 - 金属のニオブ酸塩および/またはタンタル酸塩、それらの製造およびそれらから生じさせたペロブスカイト類 - Google Patents

金属のニオブ酸塩および/またはタンタル酸塩、それらの製造およびそれらから生じさせたペロブスカイト類 Download PDF

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Description

【0001】
【発明の背景】
本発明は、一般式Me(II)A26またはMe(III)AO4[式中、Aは、Nbおよび/またはTaを表し、Me(II)は、原子価がIIのMg、Fe、Co、Ni、Cr、Mn、Cdおよび/またはZnを表し、そしてMe(III)は、原子価がIIIのFe、Co、Crおよび/またはMnを表す]で表される高反応性金属ニオブ酸塩および/または金属タンタル酸塩、それらの製造方法、一般式X(B’B”)O3[式中、Xは、Pbおよび/またはBaを表し、B’は、Mg、Fe、Co、Ni、Cr、Mn、Cd、Ti、Zrおよび/またはZnを表し、そしてB”は、Nbおよび/またはTaを表す]で表されるペロブスカイト類を生じさせるためのそれらのさらなる処理、並びにこれらのペロブスカイト類に関する。
【0002】
金属のニオブ酸塩および/または金属のタンタル酸塩の使用には、エレクトロセラミック(electroceramics)において材料として用いられる複合ペロブスカイト類を製造するための出発材料としての使用が含まれる。鉛金属のニオブ酸塩またはバリウム金属のニオブ酸塩および/またはタンタル酸塩は、高い誘電率、大きな電歪係数および極めて高い品質(特にタンタル酸塩の場合)を有することから、これらはエレクトロセラミックで益々重要な役割を果すようになってきており、この役割には、セラミック蓄電池、電歪セラミック(作動器)、圧電セラミックおよびマイクロ波セラミック(例えば共振器)などを製造するための必須材料であるといった役割が含まれる。ペロブスカイト構造を有する上記化合物は、一般式X(B’B”)O3[式中、Xは、BaおよびPbを表し、B’は、Mg、Fe、Co、Ni、Cr、Mn、Cd、Cu、Znを表し、そしてB”は、NbおよびTaを表す]に相当している(Apple.Phys.Lett.、10(5)、163−165(1967))。
【0003】
VB族の遷移金属(TaおよびNb)を含んでいる強誘電性複合ペロブスカイト類の製造では数種の方法が知られている。
【0004】
酸化物を混合した後、固相反応を非常に高い焼成温度で受けさせることは、J.Amer.Ceram.Soc.71(5)、C−250からC−251(1988)から公知である。このようなセラミック方法を用いたのでは、ペロブスカイト相を80%以上含んでいる高純度相のペロブスカイトを製造するのは極めて困難である。このような固相反応を受けさせる過程で、安定なパイロクロール相が不可避的に現れ、これが有意にその結果として生じるエレクトロセラミックの特性を害する。
【0005】
J.Ceram.Soc.67(5)311−314(1984)には、予備的に固相反応でNb25を例えばMgOと一緒に反応させた後PbOと反応させるとほとんど純粋な相のペロブスカイトが得られることが開示されており、これは、式
(I) Nb2O5 + MgO → MgNb2O6 (コルンブ石)
(II) MgNb2O6 + 3PbO → Pb3MgNb2O9 (ペロブスカイト、PMN)
に従って進行する。
【0006】
しかしながら、このコルンブ石を生じさせるための予備的反応で高温を用いていることから、ほんの1,000℃でも上述した混合酸化物から中程度の反応性を示すニオブ酸マグネシウムが生じ、その結果、次に行うPbOとの反応が成功裏に生じるのは高温(800℃以上)にした時のみである。このセラミック的に製造したペロブスカイト粉末のさらなる処理過程において、これを焼結させることができるのは高温にした時のみである。この場合、良好な誘電特性を同時に得るには少なくとも1,200℃の焼結温度を用いる必要がある。
【0007】
ペロブスカイト類を製造する場合湿潤化学方法を用いるのが有利であることが確かめられた。このように、J.Am.Ceram.Soc.72(8)1335−1357(1989)には、アルコキサイド混合物の加水分解を行うことが記述されており、そしてヨーロッパ特許出願公開第294 991号には、しゅう酸のアルコール溶液から共沈させることが記述されている。NbCl5またはNb(OR)5と金属塩にH22とクエン酸を添加することで予め製造したゲルの焼成を行うことは、Advances in Ceramics、21巻、91−98(1987)から公知である。一般に、湿潤化学方法では、非常に高い反応性を示す中間生成物がもたらされ、この中間生成物は、低い温度でも反応して所望のペロブスカイトを生じる。更にまた、これらの非常に微細な粉末が示す焼結特性は、セラミック的に製造された粉末が示す焼結特性に比較して有意に改良されている。しかしながら、また、湿潤化学方法で製造された粉末で高い誘電率を得るには、1,000℃以上の高温で焼結を実施する必要がある。更に、これらの湿潤化学方法はあまり経済的でない。このように例えばアルコキサイド方法はその出発材料の製造および取り扱いが非常に困難であるといった欠点を有している。
【0008】
より低い温度(まだ1,000℃であるが)で焼結すると同時に室温で非常に高い誘電率を示す材料を得る目的で、必須材料であるPMNに加えて他の多様な化合物を付随的に含んでいる一連の調合物が開発された。このように、米国特許第4 287 075号には、ニオブ酸鉛鉄、ニオブ酸鉛マグネシウムおよびタングステン酸鉛マグネシウムを含んでいる調合物が記述されているが、これと一緒にさらなる添加剤、例えばニオブ酸鉛マンガン、酸化リチウム、酸化クロムおよび/または酸化セリウムを用いる必要がある。特開昭57−208004号には、酸化マンガン、酸化セリウム、酸化クロムおよび/または酸化コバルトを含む添加剤と一緒にニオブ酸鉛マグネシウム、チタン酸カドミウム、タングステン酸鉛鉄を含んでいる組成物が記述されている。米国特許第5 011 803号に従い、酸化カドミウム、酸化チタン、酸化セリウムおよび/または酸化マンガンの如きさらなる添加剤のみならずニオブ酸鉛マグネシウムに加えてニオブ酸鉛鉄とタングステン酸鉛鉄が用いられている。この全体質量に更に焼結剤が2%加えられている。上述した材料は全部セラミック組成物であり、これらの中には、必須材料であるPMNが95重量%未満の量で存在している。
【0009】
他のペロブスカイト化合物、ドーピング剤および/または焼結剤などの如き添加剤を用いると、多少とも、高純度のペロブスカイト化合物、例えばニオブ酸鉛マグネシウムまたはタンタル酸バリウムマグネシウムなどの特性が変化する。このように、例えば、上述した添加剤を用いると、キューリー温度が劇的に変化する可能性があり、それによってこの材料の動作温度が変化する可能性がある。ニオブ酸鉛鉄などの如き化合物を用いると結果として絶縁抵抗の低下がもたらされる一方、タングステン酸鉛マグネシウムおよび焼結剤は誘電率を低くする。望ましいペロブスカイトに加えて異質の相が同時に現れる可能性さえある。純粋なペロブスカイト系に添加する添加剤の数が多くなればなるほど、均一な物質混合物を得るための方策を取る度合が大きくなるか或は険しくなって来る。このような方策は全て一般的には誘電特性の悪化をもたらし、その結果として、その純粋な材料が示し得る特性が充分に利用されなくなる。
【0010】
従って、本発明の目的は、さらなる加工で良好な誘電特性を示す低焼結セラミックを生じ得る高反応性金属ニオブ酸塩および/または金属タンタル酸塩を提供することにある。
【0011】
【発明の要約】
上記要求を全て満足させる生成物をここに見い出した。これらは一般組成Me(II)A26またはMe(III)AO4[ここで、Aは、NbまたはTaを表し、Me(II)は、化学原子価がIIのMg、Fe、Co、Ni、Cr、Mn、Cdおよび/またはZnを表し、そしてMe(III)は、化学原子価がIIIのFe、Co、Crおよび/またはMnを表す]で表される高反応性金属ニオブ酸塩および/または金属タンタル酸塩である。これらの生成物はLi、Naおよび/またはKを含む添加剤を含有しており、この添加剤の比率は0.1から20モル%である。ニオブ酸マグネシウムの場合、この添加剤は好適にはニオブ酸リチウムから成る。
【0012】
本発明はまた本発明に従う生成物の製造方法も提供する。これは、相当する金属酸化物をニオブ成分および/またはタンタル成分と一緒に浸潤混合し、乾燥させた後、焼成を行うことによって該金属ニオブ酸塩および/または金属タンタル酸塩を製造する方法であり、ここでは、このニオブ成分および/またはタンタル成分を水和酸化ニオブおよび/または水和酸化タンタルの形態で用いる。
【0013】
湿潤混合を行う前および/または湿潤混合中にこれらの添加剤を導入することができる。これに関連して用いるLi、Naおよび/またはKを、好適には、それらの個々の塩類、水酸化物および/または酸化物の形態で単独にか或は混合して用いる。ニオブ酸リチウムおよび/またはタンタル酸リチウムを添加するのが特に有利であることを確認し、ここでは、このリチウムを塩、水酸化物および/または酸化物の形態で添加しそしてそのニオブ成分および/またはタンタル成分を水和酸化ニオブおよび/または水和酸化タンタルの形態で加える。
【0014】
上述した方法を用いると粉砕過程なしにミキサーを用いて非常に簡単に均一な物質混合物を製造することができ、また、この中に該ドーピング剤(doping agents)も非常に均一に分散する。特に有効に5分から90分の範囲の時間湿潤混合を実施することができる。この金属成分とドーピング剤を炭酸塩、重炭酸塩、水酸化物および/または酸化物の形態で用いるとその最終生成物が追加的妨害アニオンで汚染されることはない。この乾燥させた物質混合物の焼成を400℃から1,200℃、好適には500℃から1,000℃の温度で15分から6時間行う。
【0015】
本発明はまたこの金属ニオブ酸塩および/または金属タンタル酸塩を更に処理して一般式X(B’B”)O3[式中、Xは、Pbおよび/またはBaを表し、B’は、Mg、Fe、Co、Ni、Cr、Mn、Cd、Ti、Zrおよび/またはZnを表し、そしてB”は、Nbおよび/またはTaを表す]で表されるペロブスカイト類を生じさせる方法も提供する。
【0016】
驚くべきことに、本発明に従ってドープ処理した金属ニオブ酸塩および/または金属タンタル酸塩は非常に低い温度でも鉛成分と反応し得ることを見い出した。このように、例えば、Li、Naおよび/またはKを添加したニオブ酸マグネシウムを鉛成分(PbOまたはPb34)と混合すると600℃で早くも反応して所望のペロブスカイトを生じる。このペロブスカイト相の比率は650℃の焼成温度で早くも90%になる。このような低い温度でこのように高い変換率でペロブスカイトを生じる粉末は今日まで文献で知られていない。従って、本発明に従う粉末が示す反応性は、湿潤化学方法で製造された粉末が示すそれよりもずっと優れている。
【0017】
【表1】
Figure 0004057072
【0018】
焼成時間:*4時間以上、**2時間
P=鉛(Ld)
M=マグネシウム
N=ニオブ
MN=ニオブ酸マグネシウム
(1)J.Am.Ceram.Soc.67(5)311−315(1984)
(2)Ceram.Trans.1、182−189(1988)
(3)Advances in Ceramics、21、91−98(1987)
低い焼成温度を用いていることから、この得られたペロブスカイトは例外的に微細な粒子を有しており、その結果として、これらのさらなる処理を直接行うことができる。今までに知られている他の方法では全て、セラミックを生じさせるためのさらなる処理を行う前にそのペロブスカイト粉末をある時間に渡って粉砕する。この過程を行っている間に、その粉末が外来物質で再び汚染され、これが今度はその焼結特性と誘電特性を悪化させる。
【0019】
驚くべきことに、本発明に従う金属ニオブ酸塩および/または金属タンタル酸塩が示す高い反応性はまたその反応後に得られるペロブスカイト粉末に伝えられる。このように、例えば、ニオブ酸鉛マグネシウムの焼結を極めて低い温度で行うことで密なセラミックを生じさせることができる。850℃/2時間で早くも95%以上の密度が達成される。驚くべきことに、このように極めて低い温度で焼結を行っても、このPMNセラミックが示す誘電率は非常に高い。例えば、850℃で焼結を行ったPMNセラミックの場合、測定周波数を100kHzにした時25℃で9,000以上の誘電率値が得られる。
【0020】
ゾル−ゲル方法を用いることでもまた活性を示す焼結粉末を製造することができる。しかしながら、ゾル−ゲル方法で製造されたセラミックが許容され得る誘電特性を示すのは、その焼結温度を1,000℃以上にした時のみである。このゾル−ゲル粉末の焼結を加圧下で行うことによってその誘電特性を改良することができる。しかしながら、これらの粉末は、誘電特性に関して、本発明に従う粉末に全く匹敵しない。このように、必須成分を95%以上、好適には98%以上含んでおりそして焼結を1,000℃より明らかに低い温度で行うことで早くも非常に良好な誘電特性を示す密なセラミックを生じる活性を示す焼結鉛ペロブスカイト粉末を利用できるようにしたのは初めてである(表3から5を参照)。
【0021】
【表2】
Figure 0004057072
【0022】
(1)J.Am.Ceram.Soc.67、311−315(1984)
(4)Ferroelectrics Letters、11、137−144(1990)
(5)J.Mater.Res.、5、2902−2909(1990)
全く制限することを意図するものでない実施例を用いて本発明を以下に説明する。
【0023】
【実施例】
実施例1
濾過したことで湿っている、Nb含有量が24.4%の水和酸化ニオブ8kgを3リットルの水で希釈した後、これに水酸化炭酸マグネシウムを980g加えた。2,000回転/分で運転されているThyssen−Henschelミキサーの中で上記懸濁液を15分間均一にした。この得られるペーストを分離して取り出した。このペーストの一部を更に15分間均一にした。別の一部に、最終焼成生成物を基準にして0.5重量%の量で金属成分を加え、この混合物もまたThyssen−Henschelミキサーの中で更に15分間均一にした。この濃縮物質混合物(ドープ処理を行ったものとドープ処理を行わなかったもの)を105℃で乾燥させた後、焼成を1,000℃で2時間行った。次に、このニオブ酸マグネシウムにPb34を相当する化学量論的量で加えた後、更に水を加えながらこの混合物をボールミル内で2時間均一にした。
【0024】
これらの混合物を105℃で乾燥させた後、異なる温度で焼成を行った。X線回折分析を行うことにより、所望のペロブスカイトが600℃で早くも生じることを立証することができた。どの添加剤を選択するかに拘りなく、ペロブスカイトの比率は650℃/2時間で早くも90%になる(表1参照)。
【0025】
800℃で得られたペロブスカイトをプレス加工してペレット(直径10mm/深さ1.5mm)を生じさせた後、標準的大気条件下、異なる温度で焼結を2時間行った。これらのセラミックが示す誘電特性を測定した。全焼結サンプルの誘電損率tan δは200−10-1未満であった。ここで実施した全実施例のキューリー温度は匹敵していた。下記の表に誘電率を示す。
【0026】
【表3】
Figure 0004057072
【0027】
【表4】
Figure 0004057072
【0028】
【表5】
Figure 0004057072
【0029】
本発明の特徴および態様は以下のとおりである。
【0030】
1. 一般組成Me(II)Nb26またはMe(III)NbO4[ここで、Me(II)は、Mg、Fe、Co、Ni、Cr、Mn、CdおよびZnから成る群から選択される原子価(II)金属を表し、そしてMe(III)は、Fe、Co、CrおよびMnから成る群から選択される原子価III金属を表す]で表される金属ニオブ酸塩において、Li、NaおよびKから成る群から選択される金属を含む添加剤を0.1から20モル%の量で含有していることを特徴とする金属ニオブ酸塩。
【0031】
2. 該ニオブ酸塩がニオブ酸マグネシウムでありそして該添加剤がニオブ酸リチウムであることを特徴とする第1項記載の金属ニオブ酸塩。
【0032】
3. 一般組成Me(II)Ta26またはMe(III)TaO4[ここで、Me(II)は、Mg、Fe、Co、Ni、Cr、Mn、CdおよびZnから成る群から選択される原子価(II)金属を表し、そしてMe(III)は、Fe、Co、CrおよびMnから成る群から選択される原子価III金属を表す]で表される金属タンタル酸塩において、Li、NaおよびKから成る群から選択される金属を含む添加剤を0.1から20モル%の量で含有していることを特徴とする金属タンタル酸塩。
【0033】
4. 相当する金属酸化物をニオブ成分および/またはタンタル成分と一緒に浸潤混合し、乾燥させた後、焼成を行うことによって、第1、2または3項いずれか記載の金属ニオブ酸塩および/または金属タンタル酸塩を製造する方法において、このニオブ成分および/またはタンタル成分をこれらの個々の水和酸化物の形態で用いることを特徴とする方法。
【0034】
5. 該添加剤をLi、NaおよびKから成る群から選択される元素の塩類、水酸化物および酸化物から成る群から選択される少なくとも1種の化合物の形態で供給することを特徴とする第4項記載の方法。
【0035】
6. 該添加剤をニオブ酸リチウムおよびタンタル酸リチウムから成る群から選択することを特徴とする第4項記載の方法。
【0036】
7. 該リチウム成分をこれの塩類、水酸化物および酸化物から成る群から選択される化合物形態で供給し、そして適切な当量の該ニオブ成分および/またはタンタル成分を水和酸化ニオブおよび/または水和酸化タンタルの形態で用いることを特徴とする第4項記載の方法。
【0037】
8. 該添加剤の量が0.1から20モル%であることを特徴とする第4項記載の方法。
【0038】
9. 湿潤混合を5分から90分の範囲の時間実施し、そして焼成を400℃から1,200℃の範囲の温度で15分から6時間の範囲の時間実施することを特徴とする第4項記載の方法。
【0039】
10. 該焼成を500℃から1,000℃で実施することを特徴とする第9項記載の方法。
【0040】
11. 該金属ニオブ酸塩および/または金属タンタル酸塩を上記成分含有材料と一緒に15分から24時間混合することを特徴とする第10項記載の方法。
【0041】
12. 第4項に従って製造した金属ニオブ酸塩および/または金属タンタル酸塩を更に処理して一般式X(B’,B”)O3[式中、Xは、PbまたはBaから成る群から選択される金属を表し、B’は、Mg、Fe、Co、Ni、Cr、Mn、Cd、Ti、ZrおよびZnから成る群から選択される金属を表し、そしてB”は、NbおよびTaから成る群から選択される金属を表す]で表されるペロブスカイト類を生じさせる方法。
【0042】
13. 該金属ニオブ酸塩および/または金属タンタル酸塩を上記成分X含有材料と一緒に15分から24時間混合することを特徴とする第12項記載の方法。
【0043】
14. 該焼成を30分から6時間実施する第13項記載の方法。
【0044】
15. 焼成を400℃から1,100℃の範囲の温度で15分から6時間の範囲の時間実施することを特徴とする第9項記載の方法。
【0045】
16. 該焼成を900℃未満で実施する第13項記載の方法。
【0046】
17. その結果として生じるペロブスカイトの純度が少なくとも95%であることを特徴とする第9項記載の方法。
【0047】
18. 該ペロブスカイトの純度が98%以上である第17項記載の方法。
【0048】
19. 該ペロブスカイトの焼結を700℃から1,300℃の範囲の温度で15分から10時間実施することを特徴とする第9項記載の方法。
【0049】
20. 該焼結を1,000℃未満で実施する第19項記載の方法。
【0050】
21. 25℃および100kHzの測定周波数で10,000以上の誘電率を示すことを特徴とする第1、2または3項いずれかに従う鉛ペロブスカイトセラミック類。
【0051】
22. 900℃未満の焼結温度で理論密度の95%以上の密度を示すことを特徴とする第1、2または3項いずれかに従う鉛ペロブスカイトセラミック類。

Claims (6)

  1. 一般組成Me(II)Nb26またはMe(III)NbO4[ここで、Me(II)は、Mg、Fe、Co、Ni、Cr、Mn、CdおよびZnから成る群から選択される原子価(II)金属を表し、そしてMe(III)は、Fe、Co、CrおよびMnから成る群から選択される原子価III金属を表す]で表される金属ニオブ酸塩において、Li、NaおよびKから成る群から選択される金属を含む添加剤を0.1から20モル%で含有していることを特徴とする金属ニオブ酸塩。
  2. 一般組成Me(II)Ta26またはMe(III)TaO4[ここで、Me(II)は、Mg、Fe、Co、Ni、Cr、Mn、CdおよびZnから成る群から選択される原子価(II)金属を表し、そしてMe(III)は、Fe、Co、CrおよびMnから成る群から選択される原子価III金属を表す]で表される金属タンタル酸塩において、Li、NaおよびKから成る群から選択される金属を含む添加剤を0.1から20モル%で含有していることを特徴とする金属タンタル酸塩。
  3. 相当する金属酸化物をニオブ成分および/またはタンタル成分と一緒に浸潤混合し、乾燥させた後、焼成を行うことによって、請求項1または2いずれか記載の金属ニオブ酸塩および/または金属タンタル酸塩を製造する方法において、このニオブ成分および/またはタンタル成分をこれらの個々の水和酸化物の形態で用いることを特徴とする方法。
  4. 請求項3に従って製造した金属ニオブ酸塩および/または金属タンタル酸塩を更に処理して一般式X(B’B”)O3[式中、Xは、PbまたはBaから成る群から選択される金属を表し、B’はMg、Fe、Co、Ni、Cr、Mn、Cd、Ti、ZrおよびZnから成る群から選択される金属を表し、そしてB”はNbおよびTaから成る群から選択される金属を表す]で表されるペロブスカイトを生じさせる方法。
  5. 25℃および100kHzの測定周波数で10,000以上の誘電率を示すことを特徴とする請求項4の方法で生じさせた鉛ペロブスカイト。
  6. 900℃未満の焼結温度で理論密度の95%以上の密度を示すことを特徴とする請求項4の方法で生じさせた鉛ペロブスカイト。
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Families Citing this family (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6117806A (en) * 1996-10-25 2000-09-12 Ngk Spark Plug Co., Ltd. Dielectric material, a method for producing the same and a dielectric resonator device comprising same
KR100199301B1 (ko) * 1997-04-09 1999-06-15 김병규 유전체 세라믹 조성물
US6136229A (en) * 1998-10-15 2000-10-24 Alliedsignal Inc. Method for the mechanochemical preparation of high performance ceramics
EP1431422B1 (de) * 2002-12-16 2006-12-13 Basf Aktiengesellschaft Verfahren zur Gewinnung von Lithium
EP1431423A1 (de) * 2002-12-16 2004-06-23 Basf Aktiengesellschaft Verfahren zur Herstellung eines Lithiumionenleiters
US20050136292A1 (en) * 2003-08-14 2005-06-23 Mariani Robert D. Thin film dielectrics with perovskite structure and preparation thereof
JP5044902B2 (ja) * 2005-08-01 2012-10-10 日立電線株式会社 圧電薄膜素子
ES2651590T5 (es) * 2006-05-17 2023-05-05 Dow Global Technologies Llc Proceso de polimerización en disolución a alta temperatura
CN100462307C (zh) * 2007-04-23 2009-02-18 山东大学 一种制备铌酸锌纳米材料的方法
CN101774812B (zh) * 2010-02-02 2012-05-09 天津大学 溶胶凝胶技术制备钽酸镁微波陶瓷粉体的方法
JP6016333B2 (ja) * 2011-05-27 2016-10-26 キヤノン株式会社 ニオブ酸ナトリウム粉末、ニオブ酸ナトリウム粉末の製造方法、板状粒子、板状粒子の製造方法、配向セラミックスの製造方法
CN103157458B (zh) * 2013-04-01 2015-04-15 桂林理工大学 可见光响应的钽酸盐光催化剂LiMTa3O9及其制备方法
CN106414618B (zh) * 2014-09-22 2019-01-25 科学与工业研究委员会 来自具有过渡元素氧化物的钴掺杂的镁的新型无机蓝色颜料及其制备方法
CN104386750B (zh) * 2014-10-31 2016-08-17 渤海大学 一种钪钽酸钡粉体的制备方法
CN114452983B (zh) * 2021-11-18 2024-06-21 杭州同晨环保科技有限公司 一种钙钛矿与尖晶石复合型臭氧分解催化剂

Family Cites Families (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3607752A (en) * 1970-06-30 1971-09-21 Ciba Ltd Process for the culture of large monocrystals of lithium niobate
US4287075A (en) * 1978-04-17 1981-09-01 Tdk Electronics Co., Ltd. High dielectric constant type ceramic composition consisting essentially of Pb(Fe1/2 Nb1/2)O3 -Pb(Mg1/3 Nb2/3)O3 -Pb(Mg1/2 W1/2)O3
JPS585804A (ja) * 1981-07-02 1983-01-13 Toshiba Corp プロセスコントロ−ラ
US4550088A (en) * 1984-04-13 1985-10-29 Union Carbide Corporation Ceramic composition for dielectric in multilayer capacitors
JPH0233654B2 (ja) * 1985-07-26 1990-07-30 Kagaku Gijutsucho Mukizaishitsu Kenkyushocho Ta2o5*nh2oryushinoseizohoho
EP0294991A3 (en) * 1987-06-10 1989-08-16 Nippon Steel Corporation Readily sinterable powder of perovskite type oxide containing group va element and laminated element obtained therefrom
JPH0629140B2 (ja) * 1988-08-31 1994-04-20 秩父セメント株式会社 圧電素子材料及びその製造方法
FR2644779A1 (fr) * 1989-03-22 1990-09-28 Centre Nat Rech Scient Composition ceramique a constante dielectrique elevee
JPH0798680B2 (ja) * 1989-11-13 1995-10-25 堺化学工業株式会社 鉛系ペロブスカイト型セラミックスの原料粉末の製造方法
US5011803A (en) * 1990-01-10 1991-04-30 Kemet Electronics Corporation Lead magnesium niobate ceramic dielectrics having low sintering temperatures
US5051280A (en) * 1990-10-01 1991-09-24 Eastman Kodak Company Low temperature synthesis of alkali metal niobates and tantalates
US5164882A (en) * 1990-12-17 1992-11-17 Kabushiki Kaisha Toshiba Ceramic capacitor
US5229101A (en) * 1991-01-09 1993-07-20 Munetoshi Watanabe Process for producing a powder of perovskite-type double oxide
JP2692448B2 (ja) * 1991-10-01 1997-12-17 株式会社村田製作所 誘電体磁器組成物
DE4217817C2 (de) * 1992-05-29 1994-06-16 Starck H C Gmbh Co Kg Verfahren zur Herstellung von Blei-Perowskiten
DE4217819C1 (ja) * 1992-05-29 1993-09-16 H.C. Starck Gmbh & Co Kg, 3380 Goslar, De
JPH06144837A (ja) * 1992-11-10 1994-05-24 Mizusawa Ind Chem Ltd コロンバイト型ニオブ酸塩の合成法及びそれを用いるペロブスカイト型化合物の合成法
US5461014A (en) * 1994-01-13 1995-10-24 Tam Ceramics, Inc. Lead perovskite based ceramic compositions without any free lead oxide

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