JP4035148B2 - 有機重合体と金属酸化物との複合体、その製造方法及び用途 - Google Patents
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Description
1)金属酸化物の粒子が分散する、有機重合体と金属酸化物との複合体であって、該複合体の厚み方向において、上記金属酸化物の粒径が傾斜的に変化し、かつ該金属酸化物の体積分率が実質的に変化しないことを特徴とする複合体。
2)前記金属酸化物の粒径の傾斜的変化は、複合体の両端から膜厚の40%以内の範囲における単位面積当りの平均粒径の最大値と最小値の比が1.2以上である1)記載の複合体。
3)前記体積分率の変化は、最大値と最小値の比が2以下である1)又は2)に記載の複合体。
4)上記有機重合体が、ポリイミド、ポリカーボネート、ポリアクリレート、ポリメタクリレート、ポリエーテルケトン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリスチレン、ポリエステル、エポキシ樹脂、ポリアミド、ポリスルホン、ポリアラミド、ポリウレタン、ポリ酢酸ビニル、ポリビニルアルコールから成る群より選ばれる1種以上の有機重合体である、1)〜3)いずれか一項に記載の複合体。
5)上記金属酸化物が、珪素、チタン、ジルコニウム、アルミニウムから選ばれる1種以上の金属を含有するものである、1)〜4)いずれか一項に記載の複合体。
6)有機重合体と金属酸化物との複合体がゾル−ゲル反応により製造されるものである1)〜5)いずれか一項に記載の複合体。
8)上記金属酸化物の粒子を成長させる段階において、該複合体の厚み方向で金属酸化物の粒子の成長を傾斜的に変化させる、7)に記載の製造方法。
9)上記金属酸化物の粒子を成長させる段階は、上記金属酸化物の粒子を形成する段階から得られた溶液を塗布し膜を形成し、この膜を乾燥させることにより、該複合体の厚み方向で傾斜的に金属酸化物の粒子の成長を変化させるものである、7)〜8)いずれかの項に記載の製造方法。
10)上記金属酸化物の粒子を成長させる段階は、上記金属酸化物の粒子を形成する段階から得られた溶液を塗布し膜を形成し、金属酸化物の粒子が成長する速度に対して溶媒の蒸発速度が遅くなるよう、乾燥温度を上昇させながら膜を乾燥させるものである、7)〜9)いずれかの項に記載の製造方法。
11)上記有機重合体が、ポリイミド、ポリカーボネート、ポリアクリレート、ポリメタクリレート、ポリエーテルケトン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリスチレン、ポリエステル、エポキシ樹脂、ポリアミド、ポリスルホン、ポリアラミド、ポリウレタン、ポリ酢酸ビニル、ポリビニルアルコール、ポリアクリル酸から成る群より選ばれる1種以上の有機重合体である、7)〜10)いずれかの項に記載の製造方法。
12)上記金属酸化物が、珪素、チタン、ジルコニウム、アルミニウムから選ばれる1種以上の金属を含有するものである、7)〜11)いずれかの項に記載の製造方法。
13)上記ゾルーゲル反応に用いられる金属酸化物の原料が、金属アルコキシド、金属アセチルアセトネート、金属カルボキシレートから選ばれる一種又は2種以上の組み合わせ、もしくはこれらの部分加水分解重縮合化合物である、7)〜12)いずれかの項に記載の製造方法。
14)7)〜13)記載の製造方法より得られうる、有機重合体に金属酸化物の粒子が分散する有機重合体と金属酸化物との複合体。
15)1)〜6)に記載の複合体から得られることを特徴とするフィルム。
16)14)記載の複合体から得られることを特徴とするフィルム。
17)光学用である15)に記載のフィルム。
DMAc:ジメチルアセトアミド
NMP:N−メチル−2−ピロリドン
TMOS:テトラメトキシシラン
APTMOS:アミノプロピルトリメトキシシラン
GPTMOS:グリシドキシプロピルトリメトキシシラン
m−BP:4,4’−(3−アミノフェノキシ)ビフェニル
ODA:4,4’−オキシジアニリン(4,4’−ジアミノジフェニルエーテル)
PPD:p−フェニレンジアミン
BPDA:3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物
PMDA:無水ピロメリット酸
有機重合体金属酸化物複合フィルムの熱重量測定を、熱重量測定装置(TGA−50、島津製作所(株)製)によって、30〜800℃の範囲で行い、800℃での焼成後に残った灰分量から、シリカ含有量を算出した。
(TEM観察)
作製した有機重合体の金属酸化物との複合フィルムをエポキシ樹脂で包埋後、ガラスナイフでトリミングを行い、その後ダイヤモンドナイフで超薄切片を作製した。作製した超薄切片にカーボン補強を施し、透過電子顕微鏡(TEM)(H−7000、日立製作所製)を用いて、加速電圧75kVにてTEM観察を行った。
(画像解析による粒径、体積分率測定)
TEM観察により得られた写真から、画像解析ソフト(Image−Pro Plus:プラネトロン社)を用いて粒子の面積を求めた。その後、面積から、計算により円相当径を求め、粒径を算出した。この際、膜の厚さ方向で5μmの範囲ごとに単位面積(25μm2)あたりの平均粒径を算出し、厚み方向での最大粒径と、最小粒径を求めた。また、単位面積(25μm2)あたりの粒子の面積率を計算し、それを体積分率とした。
(光学測定)
紫外/可視分光光度計(UV3100PC/日立製作所製)により、作製したフィルムの平行透過率、全光線透過率、および、反射率を測定した。測定は、測定波長:1000〜300nm、波長分解能:1nm、測定モード:中速で行った。また、波長550nmの平行透過率、および全光線透過率を用いて、次式によりヘイズを計算した。
ヘイズ(%)={1―(平行透過率/全光線透過率)}×100
(線膨張率測定)
熱機械分析計(TMA−50、島津製作所製)を用いて、フィルムの両端に一定の荷重をかけ、温度を変化させた際の伸び(縮み)を測定する引っ張り法により380〜430℃の範囲で測定し、平均の線膨張率(CTE)を求めた。
(粘弾性測定:450℃での貯蔵弾性率の測定)
弾性率の評価はレオメトリックス社製RSA−IIを使用して、引張変形モードにおける温度分散測定を実施した。測定には、温度範囲30〜500℃、昇温速度3℃/min、Auto−Strain制御下、歪み0.02%、周波数1Hzの条件を用いた。また、試料の寸法は、長さ20mm、幅5mmのものを用い、450℃での貯蔵弾性率E’を求めた。
撹拌機および窒素導入管を備えた容器に、溶媒としてDMAc261.0gを加え、これにODA20.44g、m−BP16.12gを加え20〜30℃で撹拌して溶解させた。その後、PMDA30.84gを加え、11.0gのDMAcでフラスコ内部に付着した原料を洗い落とし、50〜60℃に加熱し約1時間撹拌を行った後、さらに、PMDA0.44gを加え60℃に温度を保ちながら約4時間撹拌を行い、(A)ワニスを得た。次に、別の撹拌機および窒素導入管を備えた容器に、溶媒としてNMP263.0gを加え、PPD19.62gを加え20〜30℃で撹拌して溶解させた。その後、BPDA37.0g、PMDA11.06gを加え、10.0gのNMPにてフラスコ内部に付着した原料を洗い落とし、50〜60℃に加熱し約4時間撹拌を行い、(B)ワニスを得た。最後に、別の撹拌機および窒素導入管を備えた容器に、(B)ワニスと(A)ワニスを77:23の重量比で混合し50〜60℃に加熱し約4時間撹拌を行い、ポリアミック酸溶液とした。得られたポリアミック酸溶液はポリアミック酸の含有率が20重量%であり、25℃でのE型粘度は30000mPa・sであった。尚、このポリアミド酸から得られるポリイミドフィルムの線膨張係数は、10ppm/℃であった。
合成例1で製造されたポリアミド酸/NMP溶液(ポリアミド酸15重量%)18gを100mlの反応容器に装入し、TMOS(1.378g)、水(0.652g)を加え、60℃で6時間反応させた。なお、TMOS、水は、NMPで50重量%に希釈して加えた。得られたポリアミド酸溶液を銅箔上に乾燥膜厚がおよそ16μmとなるようにベーカーアプリケーターを用いて塗布し、イナートオーブンを用いて、窒素雰囲気下で50℃から180℃まで、昇温速度3℃/分で乾燥させた。次いで、IRリフロー炉を用いて280℃から380℃まで熱処理を行い、ポリイミド/シリカ複合フィルムを銅箔上に作製した。銅箔を塩化第二鉄溶液(40ボーメ)をスプレー式ノズルから噴出させる方式で、銅箔が完全になくなるまで数分程度処理し、水洗後、60℃で真空乾燥し、膜厚16μmのポリイミド/シリカ複合フィルムを得た。得られたフィルムのTEM観察を行い、得られたTEM写真を図1に、TEM写真から画像解析し求めた粒径、体積分率を表2に示す。TEM写真から銅箔側のシリカは粒子状に成長し、空気界面側は、シリカがナノ分散している様子が観察された。また、得られたフィルムのTGA測定により得られたシリカ含量を表1に、CTE(線膨張率)測定結果、固体粘弾性測定により得られた450℃での弾性率を表2に示す。
合成例1で製造されたポリアミド酸/NMP溶液(ポリアミド酸15重量%)18gを100mlの反応容器に装入し、TMOS(1.378g)、水(0.652g)を加え、60℃で1時間反応させた後に、アミノ基含有アルコキシシランであるAPTMOS(0.0016g)を加え、60℃で5時間反応させ、シリカ分散ポリアミド酸組成物の溶液を得た。なお、TMOS、APTMOS、水は、NMPで50重量%に希釈して加えた。得られた溶液から、実施例1と同様にして膜厚16μmのポリイミド/シリカ複合フィルムを作製した。得られたフィルムのTEM観察を行い、TEM写真から画像解析し求めた粒径、体積分率を表2に示す。また、得られたフィルムのTGA測定により得られたシリカ含有量を表1に、固体粘弾性測定により得られた450℃での弾性率を表2に示す。
表1に示す条件で実施例2と同様に反応を行った。また、表1に示す条件で反応させ得られた溶液から、実施例1と同様にして膜厚16μmのポリイミド/シリカ複合フィルムを作製した。得られたフィルムのTEM観察を行い、TEM写真から画像解析し求めた粒径、体積分率を表2に示す。また、得られたフィルムのTGA測定により得られたシリカ含量を表1に示す。
実施例1と同様な条件で反応を行い得られた溶液を銅箔上に乾燥膜厚がおよそ16μmとなるようにベーカーアプリケーターを用いて塗布し、真空乾燥機を用いて室温で、5時間乾燥させた後に、イナートオーブンを用いて、窒素雰囲気下で50℃から180℃まで、昇温速度3℃/分で乾燥させた。次いで、IRリフロー炉を用いて280℃から380℃まで熱処理を行い、ポリイミド/シリカ複合フィルムを銅箔上に作製した。銅箔を塩化第二鉄溶液(40ボーメ)をスプレー式ノズルから噴出させる方式で、銅箔が完全になくなるまで数分程度処理し、水洗後、60℃で真空乾燥し、膜厚16μmのポリイミド/シリカ複合フィルムを得た。得られたフィルムのTEM観察を行い、TEM写真から画像解析し求めた粒径を表2に示す。また、得られたフィルムのTGA測定により得られたシリカ含量を表1に示す。
合成例1で製造されたポリアミド酸/NMP溶液(ポリアミド酸15重量%)18gを100mlの反応容器に装入し、TMOS(1.282g)、水(0.650g)を加え、60℃で1時間反応させた後に、エポキシ基含有アルコキシシランであるGPTMOS(0.1873g)を加え、60℃で5時間反応させ、シリカ分散ポリアミド酸組成物の溶液を得た。なお、TMOS、GPTMOS、水は、NMPで50重量%に希釈して加えた。得られた溶液から、実施例1と同様にして膜厚16μmのポリイミド/シリカ複合フィルムを作製した。得られたフィルムのTEM観察を行い、TEM写真から画像解析し求めた粒径を表2に示す。また、得られたフィルムのTGA測定により得られたシリカ含量を表3に示す。
合成例1のポリアミド酸/NMP溶液(ポリアミド酸12.5重量%)から、実施例1と同様にして膜厚16μmのポリイミドフィルムを作製した。また、得られたフィルムのTGA測定により得られたシリカ含量を表1に、CTE(線膨張率)測定結果、固体粘弾性測定により得られた450℃での弾性率を表2に示す。
コロイダルシリカ/DMAc溶液(シリカ20重量%)2.690gを合成例1のポリアミド酸/NMP溶液(ポリアミド酸15重量%)18gに加え、60℃で、5時間攪拌し、ポリアミド酸組成物の溶液を得た。得られたポリアミド酸溶液から実施例1と同様な方法でポリイミド/シリカ複合フィルムを作製した。得られたフィルムのTEM観察を行い、TEM写真から得られた粒径を表2に示す。また、得られたフィルムのTGA測定により得られたシリカ含量を表1に、固体粘弾性測定により得られた450℃での弾性率を表2に示す。
実施例1のポリイミド/シリカ複合体の空気界面近傍の、シリカ粒子がポリイミドフィルム中にナノ分散した部位の反射率を測定するために、ポリイミド/シリカ複合体の空気界面近傍と同様な構造を持つフィルムを以下の方法で作製した。合成例1で製造されたポリアミド酸/NMP溶液(ポリアミド酸15重量%)18gを100mlの反応容器に装入し、TMOS(1.838g)、水(0.652g)を加え、60℃で1時間反応させた後に、アミノ基含有アルコキシシランであるAPTMOS(0.1505g)を加え、60℃で5時間反応させ、シリカ分散ポリアミド酸組成物の溶液を得た。なお、TMOS、APTMOS、水は、NMPで50重量%に希釈して加えた。
フッ素変性ポリアミド酸/DMAc溶液(日立化成工業株式会社製光学用ポリイミド「OPI」、ポリアミド酸25重量%)6gを20mlの反応容器に装入し、TMOS(0.911g)、水(0.432g)を加え、室温で5時間反応させた。なお、水は、DMAcで50重量%に希釈して加えた。得られたポリアミド酸溶液をガラス基板上に乾燥膜厚がおよそ50μmとなるようにベーカーアプリケーターを用いて塗布し、イナートオーブンを用いて、窒素雰囲気下で50℃から330℃まで、昇温速度3℃/分で乾燥させ、イミド化を行い、ポリイミド/シリカ複合フィルムを作製した。ポリイミド/シリカ複合フィルムは、ガラス基板から容易に剥離することができた。得られたフィルムのTEM観察を行い、粒径がフィルム断面方向で傾斜的に変化した粒子を含有していることを確認した。また、画像解析により得られた粒径を表4に示す。また、波長550nmにおけるヘイズは96%であった。
Claims (15)
- 金属酸化物の粒子が分散する、有機重合体と金属酸化物との複合体であって、該複合体の厚み方向において、上記金属酸化物の粒径が傾斜的に変化し、当該傾斜的変化は複合体の両端から膜厚の40%以内の範囲における単位面積当りの平均粒径の最大値と最小値の比が1.2以上であり、かつ厚み方向における該金属酸化物の体積分率の最大値と最小値の比が2以下であることを特徴とする複合体。
- 上記有機重合体が、ポリイミド、ポリカーボネート、ポリアクリレート、ポリメタクリレート、ポリエーテルケトン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリスチレン、ポリエステル、エポキシ樹脂、ポリアミド、ポリスルホン、ポリアラミド、ポリウレタン、ポリ酢酸ビニル、ポリビニルアルコールから成る群より選ばれる1種以上の有機重合体である、請求項1に記載の複合体。
- 上記金属酸化物が、珪素、チタン、ジルコニウム、アルミニウムから選ばれる1種以上の金属を含有するものである、請求項1又は2に記載の複合体。
- 有機重合体と金属酸化物との複合体がゾル−ゲル反応により製造されるものである請求項1〜3いずれか一項に記載の複合体。
- 有機重合体の溶液中でゾル−ゲル反応を行うことにより金属酸化物の粒子前駆体又は粒子を形成する段階、及び上記金属酸化物の粒径を大きくする段階を含む、請求項1に記載の複合体の製造方法。
- 上記金属酸化物の粒径を大きくする段階において、該複合体の厚み方向で金属酸化物の粒径の大きさを傾斜的に変化させる、請求項5に記載の製造方法。
- 上記金属酸化物の粒径を大きくする段階は、上記金属酸化物の粒子を形成する段階から得られた溶液を塗布し膜を形成し、この膜を乾燥させることにより、該複合体の厚み方向で傾斜的に金属酸化物の粒径の大きさを変化させるものである、請求項5〜6いずれかの項に記載の製造方法。
- 上記金属酸化物の粒径を大きくさせる段階は、上記金属酸化物の粒子を形成する段階から得られた溶液を塗布し膜を形成し、乾燥温度を上昇させながら膜を乾燥させ、金属酸化物の粒径を大きくするものである、請求項5〜7いずれかの項に記載の製造方法。
- 上記有機重合体が、ポリイミド、ポリカーボネート、ポリアクリレート、ポリメタクリレート、ポリエーテルケトン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリスチレン、ポリエステル、エポキシ樹脂、ポリアミド、ポリスルホン、ポリアラミド、ポリウレタン、ポリ酢酸ビニル、ポリビニルアルコール、ポリアクリル酸から成る群より選ばれる1種以上の有機重合体である、請求項5〜8いずれかの項に記載の製造方法。
- 上記金属酸化物が、珪素、チタン、ジルコニウム、アルミニウムから選ばれる1種以上の金属を含有するものである、請求項5〜9いずれかの項に記載の製造方法。
- 上記ゾル−ゲル反応に用いられる金属酸化物の原料が、金属アルコキシド、金属アセチルアセトネート、金属カルボキシレートから選ばれる一種又は2種以上の組み合わせ、もしくはこれらの部分加水分解重縮合化合物である、請求項5〜10いずれかの項に記載の製造方法。
- 請求項5〜11記載の製造方法より得られうる、有機重合体に金属酸化物の粒子が分散する有機重合体と金属酸化物との複合体。
- 請求項1〜4に記載の複合体から得られることを特徴とするフィルム。
- 請求項12記載の複合体から得られることを特徴とするフィルム。
- 光学用である請求項13に記載のフィルム。
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