JP4027033B2 - 車両用灯具の反射鏡の反射面設計方法 - Google Patents

車両用灯具の反射鏡の反射面設計方法 Download PDF

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    • Y02T10/82Elements for improving aerodynamics

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、自動車等の車両に用いられる車両用灯具の反射鏡の反射面設計方法、反射面設計システム、及び車両用灯具の反射鏡の反射面設計をコンピュータに実行させるためのプログラムを記録したコンピュータ読取可能な記録媒体に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
車両用灯具は、所定の光源位置に配置される光源(光源バルブ)と、光源バルブからの光を光軸の方向へと反射する反射鏡と、反射鏡からの反射光を透過して灯具の外部へと出射するレンズと、を有して構成される。
【0003】
このような構成を有する車両用灯具において、灯具から出射される光の配光パターンは、主に、光源バルブからの光に対する反射鏡の反射面形状やその位置関係によって設定される。すなわち、反射鏡の反射面へと入射された光源バルブからの光は、反射面の各部位において、それぞれでの面形状によって決まる反射方向や光拡散条件などの反射条件によって反射されて、反射光として灯具から出射される。また、反射光の光拡散条件などの反射条件の一部は、反射光が透過されるレンズによっても設定される。
【0004】
前照灯などの車両用灯具に用いられる反射鏡の反射面としては、特公昭45−7397号公報、及び特開平6−267302号公報に記載されたものなどがある。例えば、特公昭45−7397号公報に示されている前照灯では、反射面の長径方向の断面形状を双曲線とし、双曲線と同一の焦点を有して双曲線に接する回転放物面群の包絡面によって、反射面の面形状を生成している。
【0005】
また、特開平6−267302号公報に示されている前照灯では、回転放物面を反射面の基本面形状とするとともに、光軸に直交する回転中心軸を設定している。そして、この回転中心軸を中心として、光軸から離れるにしたがって増加する回転角度で回転放物面の各部位を回転させて、反射面の面形状を生成している。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】
上記した車両用灯具から出射される光に対しては、それぞれの灯具の種類、用途、車両での設置位置に応じて、得られる配光パターンが、反射鏡からの反射光が出射される範囲や、各反射方向での光強度などについて一定の条件を満たすことが要求される。これに対して、放物線や双曲線などの2次曲線や回転放物面などの単純な組合せを反射面の面形状とする上記の構成では、一般に、それぞれの灯具で要求される配光パターンを実現することが困難である。
【0007】
すなわち、車両用灯具においては、上記した配光パターンなどの(1)機能に関する側面からの条件に加えて、自動車などの車両に取り付けた状態で使用されることから、(2)形状に関する側面からの条件(形状制約条件)、及び(3)外観に関する側面からの条件(外観制約条件)が課せられる。特に、近年、車体構成上の制限や、車両のデザイン性の高まりなどにより、灯具に対して様々な条件が課せられるようになっている。
【0008】
したがって、車両に適用される灯具の反射鏡においては、その面積や奥行きなどに対して課せられた形状面及び外観面からの制約条件を満たした上で、要求される配光パターンが得られる反射面形状を実現しなくてはならない。このとき、回転放物面や双曲線などを用いた面形状からなる反射面では、反射面設計の自由度が小さく、上記の機能、形状、外観の諸条件をすべて満たすように反射面を作成することは困難である。
【0009】
また、そのような面形状に対して変形(回転や各部位の微調整など)を加えた面形状からなる反射面の場合でも、反射面形状の変形と配光パターンの変化との対応が必ずしも明確ではないために、変形による配光パターンの制御性が充分に得られない。このため、要求される配光パターンを実現する反射面設計において、設計作業の効率が低下して反射面設計に長時間を要するという問題を生じる。
【0010】
本発明は、以上の問題点を解決するためになされたものであり、配光パターンの制御性及び設計作業の効率が向上される車両用灯具の反射鏡の反射面設計方法、反射面設計システム、及び車両用灯具の反射鏡の反射面設計をコンピュータに実行させるためのプログラムを記録したコンピュータ読取可能な記録媒体を提供することを目的とする。
【0011】
【課題を解決するための手段】
このような目的を達成するために、本発明による反射面設計方法は、車両用灯具に用いられる反射鏡の反射面設計方法であって、(1)光源が配置される光源位置を通り光源からの光が反射鏡によって反射される方向となる光軸、及び光軸であるX軸に直交する第1基本軸であるY軸を含む第1基本平面上に配置される、反射鏡の反射面を生成するための複数の基点について、複数の基点 〜P の基点個数n+1を指定する基点個数指定ステップと、(2)複数の基点 〜P それぞれに対して、基点位置について第1基本軸方向の位置y 〜y を指定する基点位置指定ステップと、(3)複数の基点 〜P それぞれに対して、その基点において光源からの光が反射される方向となる第1基本軸方向での第1反射方向を光軸からみた基点で反射される反射光の反射角度β 〜β によって指定する第1反射方向指定ステップと、(4)複数の基点に対する基点個数n+1、基点位置について指定された第1基本軸方向の位置y 〜y 、及び第1反射方向について指定された反射角度β 〜β に基づいて、複数の基点P 〜P それぞれの基点位置(x ,y )〜(x ,y )を決定するとともに、決定された基点位置に基づいて、第1基本平面上の第1基本曲線を生成する第1基本曲線生成ステップと、(5)複数の基点に対する基点個数n+1、基点位置について指定された第1基本軸方向の位置y 〜y 、及び第1反射方向について指定された反射角度β 〜β に基づいて、複数の基点 〜P それぞれから第1基本平面に直交する第2基本軸であるZ軸方向に伸びる複数の第2基本曲線を生成する第2基本曲線生成ステップと、(6)第1基本曲線及び複数の第2基本曲線に基づいて、反射面の面形状を生成する面形状生成ステップとを備え、(7)基点位置指定ステップにおいて、光源位置がy=0となるように設定されたY軸に対して、全体の始点である基点P についてy =0とするとともに、i=1〜nの範囲で条件y i−1 <y を満たすように、光軸側から順に第1基本軸方向の位置y 〜y を指定し、(8)第1基本曲線生成ステップにおいて、複数の基点P 〜P それぞれの基点位置(x ,y )〜(x ,y )を、第1基本軸方向の位置y 〜y が指定された順番にしたがって光軸側から順に決定することを特徴とする。
【0012】
また、本発明による反射面設計システムは、車両用灯具に用いられる反射鏡の反射面設計システムであって、(1)光源が配置される光源位置を通り光源からの光が反射鏡によって反射される方向となる光軸、及び光軸に直交する第1基本軸を含む第1基本平面上に配置される、反射鏡の反射面を生成するための複数の基点について、複数の基点の基点個数を入力させる基点個数入力手段と、(2)複数の基点それぞれに対して、基点位置を入力させる基点位置入力手段と、(3)複数の基点それぞれに対して、その基点において光源からの光が反射される方向となる第1基本軸方向での第1反射方向を入力させる第1反射方向入力手段と、(4)複数の基点に対する基点個数、基点位置、及び第1反射方向に基づいて、第1基本平面上の第1基本曲線を生成する第1基本曲線生成手段と、(5)複数の基点に対する基点個数、基点位置、及び第1反射方向に基づいて、複数の基点それぞれから第1基本平面に直交する第2基本軸方向に伸びる複数の第2基本曲線を生成する第2基本曲線生成手段と、(6)第1基本曲線及び複数の第2基本曲線に基づいて、反射面の面形状を生成する面形状生成手段とを備えることを特徴とする。
【0013】
また、本発明による記録媒体は、車両用灯具に用いられる反射鏡の反射面設計をコンピュータに実行させるためのプログラムを記録したコンピュータ読取可能な記録媒体であって、(a)光源が配置される光源位置を通り光源からの光が反射鏡によって反射される方向となる光軸、及び光軸に直交する第1基本軸を含む第1基本平面上に配置される、反射鏡の反射面を生成するための複数の基点について、複数の基点の基点個数を指定する基点個数指定処理と、(b)複数の基点それぞれに対して、基点位置を指定する基点位置指定処理と、(c)複数の基点それぞれに対して、その基点において光源からの光が反射される方向となる第1基本軸方向での第1反射方向を指定する第1反射方向指定処理と、(d)複数の基点に対する基点個数、基点位置、及び第1反射方向に基づいて、第1基本平面上の第1基本曲線を生成する第1基本曲線生成処理と、(e)複数の基点に対する基点個数、基点位置、及び第1反射方向に基づいて、複数の基点それぞれから第1基本平面に直交する第2基本軸方向に伸びる複数の第2基本曲線を生成する第2基本曲線生成処理と、(f)第1基本曲線及び複数の第2基本曲線に基づいて、反射面の面形状を生成する面形状生成処理とをコンピュータに実行させるためのプログラムを記録したことを特徴とする。
【0014】
上記した車両用灯具の反射鏡の反射面設計方法、反射面設計システム、及び記録媒体に記録されたプログラムにおいては、光軸(X軸)及び第1基本軸(Y軸)を含む第1基本平面(XY平面、例えば水平面)上の単一の第1基本曲線(XY曲線)と、第1基本曲線上の点からほぼ第2基本軸(Z軸)方向に伸びる複数の第2基本曲線(XZ曲線)とを反射面形状の骨格として生成し、それらに基づいて曲面を張ることによって反射面形状を生成している。このように、骨格となる第1基本曲線及び複数の第2基本曲線を反射面設計に用いることにより、その設計作業の効率が向上される。
【0015】
また、複数の第2基本曲線の生成に用いる基点として、第1基本平面上に複数の基点を設定するとともに、それぞれの第2基本曲線を、指定された基点個数、基点位置、及び第1反射方向(第1基本軸方向での反射方向)に基づいて決定している。これによって、設計者は、各基点及び第2基本曲線に対して位置や反射条件のパラメータを指定して反射面形状の生成を指示することが可能となり、配光パターンの制御性が向上される。
【0016】
特に、各基点における面形状を曲率や焦点距離などによって指定せず、その基点での光の反射条件となる第1反射方向によって面形状を指定している。このとき、設計者がパラメータとして指定する第1反射方向は、得られる配光パターンに直接的に対応するパラメータとなるので、要求される配光パターンに対応した反射面形状の設計が容易化される。
【0017】
また、反射面設計時に各パラメータを入力させて指定する構成とした場合には、例えば、各基点の基点位置を間隔を変えつつ指定するなど、それぞれの灯具での具体的な条件を考慮して、最適なパラメータを指定することが可能となる。ただし、上記の各パラメータは、例えば、各基点の基点位置を第1基本軸に対して等間隔に指定するなど、適当なパラメータの指定方法をあらかじめ定めておいて、自動的に指定を行うことも可能である。
【0018】
また、反射面設計方法(記録媒体に記録されたプログラム)は、第2基本曲線生成ステップ(第2基本曲線生成処理)において、複数の第2基本曲線のそれぞれを、対応する基点に対して指定された第1反射方向に平行で第1基本平面に直交する第2基本平面上で生成することを特徴とする。
【0019】
このとき、それぞれの第2基本曲線上の各点からの反射光が、第1基本軸方向についてほぼ同一の反射方向で出射されることとなる。したがって、各第2基本曲線と、得られる配光パターンでの各パターン部分との対応が単純化されるので、配光パターンの制御性がさらに向上される。
【0020】
また、反射面設計方法(記録媒体に記録されたプログラム)は、複数の基点それぞれにおいて生成される第2基本曲線上の点に対して、その点において光源からの光が反射される方向となる第2基本軸方向での第2反射方向を指定する第2反射方向指定ステップ(第2反射方向指定処理)、または、複数の基点それぞれにおいて生成される第2基本曲線に対して、その位置または形状を調整するための調整係数を指定する調整係数指定ステップ(調整係数指定処理)の少なくとも一方をさらに備えることを特徴とする。
【0021】
同様に、反射面設計システムは、複数の基点それぞれにおいて生成される第2基本曲線上の点に対して、その点において光源からの光が反射される方向となる第2基本軸方向での第2反射方向を入力させる第2反射方向入力手段、または、複数の基点それぞれにおいて生成される第2基本曲線に対して、その位置または形状を調整するための調整係数を入力させる調整係数入力手段の少なくとも一方をさらに備えることを特徴とする。
【0022】
このとき、各第2基本曲線を、対応する基点に対して指定された第1反射方向に加えて、第2反射方向(第2基本軸方向での反射方向)や調整係数によって微調整することができる。これにより、第2基本軸方向についての配光パターンの制御性などが向上される。なお、調整係数としては、第2基本曲線を上下方向について調整する上下調整係数や、前後方向について調整する前後調整係数などがある。
【0023】
また、反射面設計方法(記録媒体に記録されたプログラム)は、基点位置指定ステップ(基点位置指定処理)において、複数の基点それぞれに対して、第1基本軸方向の位置を指定するとともに、第1基本曲線生成ステップ(第1基本曲線生成処理)において、複数の基点に対する基点個数、第1基本軸方向の位置、及び第1反射方向に基づいて、複数の基点それぞれの基点位置を決定することが好ましい。
【0024】
同様に、反射面設計システムは、基点位置入力手段において、複数の基点それぞれに対して、第1基本軸方向の位置を入力させるとともに、第1基本曲線生成手段において、複数の基点に対する基点個数、第1基本軸方向の位置、及び第1反射方向に基づいて、複数の基点それぞれの基点位置を決定することが好ましい。
【0025】
これにより、各基点の基点位置を、複数の第2基本曲線とともに反射面形状の骨格となる第1基本曲線と合わせて好適に設定することができる。
【0026】
また、反射面設計システムは、基点個数入力手段、基点位置入力手段、及び第1反射方向入力手段が、共通のパラメータ入力手段からなるとともに、反射面設計に用いられる設計画面を表示する設計画面表示手段と、設計画面として、基点個数、基点位置、及び第1反射方向の入力を指示する入力画面を作成する入力画面作成手段を有し、作成された設計画面の表示を設計画面表示手段に指示する画面表示指示手段とをさらに備えることを特徴とする。
【0027】
同様に、記録媒体は、プログラムが、基点個数指定処理、基点位置指定処理、及び第1反射方向指定処理のそれぞれにおいて、基点個数、基点位置、及び第1反射方向を入力させて指定するとともに、設計画面として、基点個数、基点位置、及び第1反射方向の入力を指示する入力画面を作成する入力画面作成処理を含み、作成された設計画面を設計画面表示手段に表示させる画面表示処理をさらに有することを特徴とする。
【0028】
これにより、設計者による各パラメータの入力を、入力画面を参照しつつ効率的に行うことができる。
【0029】
このような入力画面の構成としては、例えば、基点個数の入力を指示し、または入力された基点個数を表示する基点個数表示領域と、基点位置の入力を指示するとともに、入力された基点位置を表示する基点位置表示領域と、第1反射方向の入力を指示するとともに、入力された第1反射方向を表示する第1反射方向表示領域とを有する構成がある。
【0030】
また、第2反射方向、及び調整係数をさらに入力させる場合には、入力画面に、対応する第2反射方向表示領域、及び調整係数表示領域を設けることが好ましい。
【0031】
【発明の実施の形態】
以下、図面とともに本発明による車両用灯具の反射鏡の反射面設計方法、反射面設計システム、及び車両用灯具の反射鏡の反射面設計をコンピュータに実行させるためのプログラムを記録したコンピュータ読取可能な記録媒体の好適な実施形態について詳細に説明する。なお、図面の説明においては同一要素には同一符号を付し、重複する説明を省略する。また、図面の寸法比率は、説明のものと必ずしも一致していない。
【0032】
まず、本発明による車両用灯具の反射鏡の反射面設計方法の概略について説明する。図1は、本発明による車両用灯具の反射鏡の反射面設計方法を概略的に示す模式図である。図1中、符号RSは、設計の対象となる反射面を、符号Fは、光を供給する光源(光源バルブ)が配置される光源位置を、また、符号Axは、光源位置Fを通り光源バルブからの光が反射鏡によって反射される方向となる光軸をそれぞれ示している。これらの光源位置F及び光軸Axは、反射面設計の基本条件としてあらかじめ与えられる。
【0033】
以下に説明する反射面設計方法及び反射面設計システムを用いて設計される反射面RSは、光源バルブ、反射鏡、及びレンズからなる前照灯などの車両用灯具において、光源バルブからの光を反射し、レンズを介して灯具から出射させる反射鏡の反射面として用いられるものである。
【0034】
また、以下においては、図1にX、Y、Zの座標軸をそれぞれ示すように、光軸Axの方向である灯具の前後方向をX軸とする。また、このX軸に直交し第1基本軸となる軸(例えば、灯具の水平方向)をY軸とし、X軸及びY軸に直交し第2基本軸となる軸(例えば、灯具の垂直方向)をZ軸とする。
【0035】
本発明による反射面設計方法及び反射面設計システムにおいては、反射面RSの面形状は、X軸(光軸Ax)及びY軸を含む第1基本平面であるXY平面上のXY曲線(第1基本曲線)Qと、XY曲線Q上の複数の点からそれぞれほぼZ軸方向に伸びる複数のXZ曲線(第2基本曲線)Rとを骨格とし、これらに基づいて曲面を張ることによって反射面形状を生成する。
【0036】
単一の第1基本曲線であるXY曲線Qは、XY平面上において設定された複数の基点Pそれぞれの基点位置に基づいて生成された曲線からなる。図1においては、例として、X軸上にある基点P0を含む12個の基点P-5〜P6、及びそれらの基点P-5〜P6をなめらかに接続して生成されたXY曲線Qが示されている。
【0037】
また、複数の第2基本曲線であるXZ曲線Rは、XY曲線Q上にある複数の基点Pそれぞれから、ほぼZ軸方向に伸びる曲線からなる。図1においては、例として、上記した基点P-5〜P6それぞれから、Z軸方向に伸びる12本のXZ曲線R-5〜R6が示されている。
【0038】
以下、これらの複数の基点P、XY曲線Q、及び複数のXZ曲線Rの生成を含む反射面RSの設計を実行するための反射面設計方法、及び反射面設計システムについて説明する。
【0039】
ここで、光源位置Fに配置された光源バルブから供給された光(入射光)の反射面RSへの入射角度α、及び反射面RSで反射された反射光の光軸Axからみた反射角度βについて、図2を用いて定義しておく。
【0040】
入射角度α及び反射角度βは、図2に示すように、光軸AxであるX軸に対してXY平面上で定義される。入射角度αは、光源位置FからXY曲線Q(反射面RS)上の点Aへの入射光の光路とX軸とがなす角度によって、X軸の負の方向を0°として定義される。また、反射角度βは、XY曲線Q上の点Aからの反射光の光路とX軸とがなす角度によって、X軸の正の方向を0°として定義される。図2においては、XY曲線Q上の点A1、A2において、入射角度がα1、α2、反射角度がβ1、β2でそれぞれ反射される2つの光路l1、l2を、例として示してある。
【0041】
まず、反射面RSを設計するための反射面設計方法について説明する。図3は、本発明による車両用灯具の反射鏡の反射面設計方法の一実施形態を示すフローチャートである。なお、以下においては、反射面RSのうち、Y≧0かつZ≧0のYZ平面での第1象限内にある面部分(図1での右上部分)の反射面形状の生成を例として説明する。ただし、他の象限内の面部分についても、同様な方法で面形状を生成することができる。それらの各面部分については、第1象限について求められた面形状をそのまま用いても良いし、それぞれ別々の面形状として生成し、それらを合わせて全体の反射面形状とすることも可能である。
【0042】
図3に示す反射面設計方法においては、まず、反射面RSの設計の基本的な諸条件(パラメータ)を設定する(ステップS100)。この基本的なパラメータとしては、光源位置FのX座標、及び始点での焦点距離f0などがある。また、必要に応じて、反射面RSの上端、下端のZ座標なども設定される。ただし、光源位置FのX座標は通常では0として、反射面形状の生成に用いる座標系の原点が光源位置Fとされる。
【0043】
続いて、XY曲線Q、複数のXZ曲線R、及び反射面RSの面形状の生成に用いられる複数の基点Pの基点個数を指定する(S101、基点個数指定ステップ)。この基点個数は、基点の個数自体によって指定しても良いし、あるいは、XY曲線Qの分割数によって指定することもできる。XY曲線Qの分割数によって基点個数を指定した場合には、基点個数=分割数+1となる。ここでは、XY曲線Qの分割数がnとして指定されたものとする。
【0044】
基点個数が指定されたら、XY平面上に設定される複数(n+1個)の基点P0〜Pnについて、それぞれの基点位置を指定する(S102、基点位置指定ステップ)。本実施形態においては、ここでは基点位置としてY軸方向の位置のみを指定し、後述する第1基本曲線生成ステップにおいて基点位置を決定することとしている。
【0045】
このY軸方向の位置は、例えば、各基点のY座標によって指定することが好ましい。あるいは、各基点での光源位置Fからの光の入射角度αによって指定しても良い。ここでは、各基点P0〜PnのY座標y0〜ynによってY軸方向の位置が指定されたものとする。ただし、全体の始点である基点P0のY座標は、y0=0である。また、他の基点P1〜PnのY座標は、条件yi-1<yi(i=1〜n)を満たすように、光軸Ax側から順に指定される。
【0046】
次に、基点P0〜Pnについて、それぞれの基点Pi(i=0〜n)において光源位置Fからの入射光が反射される方向となる反射方向(第1反射方向)を指定する(S103、第1反射方向指定ステップ)。ここで指定される第1反射方向は、Y軸方向での反射方向であり、例えば、各基点で反射される反射光の光軸Axからみた反射角度βによって指定することが好ましい。ここでは、各基点P0〜Pnでの反射角度β0〜βnによって第1反射方向が指定されたものとする。
【0047】
各基点P0〜Pnに対するY座標y0〜yn及び反射角度β0〜βnの指定が終了したら、上述したように、複数の基点P0〜Pnそれぞれの基点位置を決定するとともに、決定された基点位置に基づいて、XY平面上の第1基本曲線となるXY曲線Qを生成する(S104、第1基本曲線生成ステップ)。それぞれの基点Piの基点位置は、その基点Piに対して指定されたY座標yi、反射角度βi、あるいはさらに隣接する基点Pi-1またはPi+1の基点位置などを参照して決定される。また、XY曲線Qは、例えば、得られた基点P0〜Pnをなめらかに接続することによって生成される。
【0048】
XY曲線Qが生成されたら、続いて、XY曲線Qに対して、基点P0〜PnそれぞれからほぼZ軸方向に伸びる複数の第2基本曲線となるXZ曲線R0〜Rnを生成する(S105、第2基本曲線生成ステップ)。それぞれのXZ曲線Riは、対応する基点Piの決定された基点位置、及びその基点Piに対して指定された反射角度βiなどを参照して生成される。また、各XZ曲線Riは、例えば、対応する基点Piを通る所定形状の曲線(例えば、放物線や双曲線、3次以上の曲線)によって生成される。
【0049】
XY曲線Q、及び複数のXZ曲線R0〜Rnを生成したら、それらの曲線Q、R0〜Rnに基づいて、反射面RSの面形状を生成する(S106、面形状生成ステップ)。以上によって、反射面RSの設計を終了する。
【0050】
なお、図1においては、反射面RSの面形状を、その外形が光軸Axの方向からみて略長方形として示しているが、最終的に反射鏡として作成される反射面の外形は、車体側から課せられる形状制約条件などの諸条件に基づいて決定される。この場合、上記した面形状の生成を終了した後、反射面RSの実際の外形形状(デザイン形状)に合わせて不要な部分を削除するトリム化が行われる。
【0051】
上記した反射面設計方法においては、X軸(光軸Ax)及びY軸を含むXY平面上の単一のXY曲線Qと、XY曲線Q上の点からほぼZ軸方向に伸びる複数のXZ曲線Rとを反射面RSの骨格として生成し、それらに基づいて曲面を張ることによって反射面RSの面形状を生成している。このように、骨格となるXY曲線及び複数のXZ曲線を反射面設計に用いることにより、その設計作業の効率が向上される。
【0052】
また、XZ曲線Rの生成に用いる基点として、XY平面上に複数の基点Pを設定するとともに、それぞれのXZ曲線を、指定された基点個数、基点位置、及び反射角度(第1反射方向)に基づいて決定しているので、設計者は、反射条件などのパラメータを基点及びXZ曲線ごとに指定して反射面形状の生成を指示することが可能となり、配光パターンの制御性が向上される。
【0053】
特に、各基点Pにおける面形状を曲率や焦点距離などによって指定せず、その基点Pでの光の反射条件となる第1反射方向によって反射面RSの面形状を指定している。すなわち、各基点Pでの局所的な面形状を曲率等によって指定すると、指定した面形状と、得られる配光パターンとの対応が明確でないため、配光パターンの制御性が充分に得られない。これに対して、反射角度などの反射方向によって面形状を指定することとすれば、設計者は、配光パターンにより直接的に対応するパラメータを指定することが可能となるので、要求される配光パターンに対応した反射面形状の設計が容易化される。
【0054】
ここで、それぞれのXZ曲線Riの生成については、各基点Piに対して指定された第1反射方向に平行、かつ、第1基本平面であるXY平面に直交する第2基本平面(XZ平面を反射方向に傾けた平面)上で生成することが好ましい。このとき、XZ曲線Ri全体が指定された反射方向を向き、XZ曲線Ri上の各点からの反射光が、Y軸方向についてほぼ同一の反射方向に出射されることとなる。したがって、各XZ曲線Riと、得られる配光パターンでの各パターン部分との対応が単純化されるので、配光パターンの制御性がさらに向上される。
【0055】
また、XZ曲線Riの生成に対して、各生成ステップS104〜S106を開始する前に、図3に示すように、第2反射方向を指定するステップ(S107、第2反射方向指定ステップ)、または、調整係数を指定するステップ(S108、調整係数指定ステップ)の少なくとも一方を行うこととしても良い。これらの第2反射方向及び調整係数は、いずれも、XZ曲線Riの微調整に用いられるものである。
【0056】
すなわち、第2反射方向は、各基点Piにおいて生成されるXZ曲線Ri上の点に対して、その点において光源位置Fからの入射光が反射される方向となるZ軸方向での反射方向を指定するものである。このような第2反射方向を指定して、XZ曲線上の各点における反射角度を調整することによって、配光パターンの上下方向への広がりを調整することができる。具体的な第2反射方向の指定方法としては、例えば、XZ曲線の端点である上端及び下端に対して、それぞれ第2反射方向として反射角度(上端反射角度、下端反射角度)を指定し、それらに基づいて各点での反射角度を調整する方法がある。
【0057】
また、調整係数は、各基点Piにおいて生成されるXZ曲線Riの位置または形状を調整するための係数を指定するものである。このような調整係数を指定して、XZ曲線の位置または形状を調整することによって、配光パターンの上下位置や広がりなどを調整することができる。具体的な調整係数の指定方法としては、例えば、XZ曲線の各部を上下方向に調整する上下調整係数、及びXZ曲線の全体を前後方向に調整する前後調整係数を指定し、それらに基づいて各点での位置または形状を調整する方法がある。
【0058】
次に、図3に示した反射面設計方法の実行に用いられる反射面設計システムについて説明する。図4は、本発明による車両用灯具の反射鏡の反射面設計システムの一実施形態の構成を示すブロック図である。
【0059】
図4に示す反射面設計システム1は、反射面RSの設計に用いられるパラメータを設計者に入力させるパラメータ入力部2と、入力されたパラメータに基づいて反射面RSを生成する反射面生成部3とを備えて構成されている。
【0060】
パラメータ入力部2は、基点個数(分割数)を入力させる基点個数入力部21と、各基点P0〜PnのY座標y0〜ynを入力させる基点位置入力部22と、各基点P0〜Pnでの反射角度β0〜βnを入力させる第1反射方向入力部23とを有している。これらの各入力部21〜23は、それぞれ図3のフローチャートにおける各指定ステップS101〜S103に対応している。
【0061】
また、本実施形態のパラメータ入力部2は、各基点P0〜Pnに対して上端反射角度及び下端反射角度などの第2反射方向を入力させる第2反射方向入力部24と、各基点P0〜Pnに対して上下調整係数及び前後調整係数などの調整係数を入力させる調整係数入力部25とをさらに有している。これらの入力部24、25は、それぞれ図3のフローチャートにおける各指定ステップS107、S108に対応している。
【0062】
本実施形態では、入力部21〜25が単一のパラメータ入力部2を共有しており、このパラメータ入力部2から、基点個数、Y座標、及び反射角度、あるいはさらに第2反射方向、調整係数などの各パラメータが入力される。また、光源位置FのX座標や始点での焦点距離f0などの他のパラメータについても、同様にこのパラメータ入力部2から入力される構成としても良い。
【0063】
反射面生成部3は、各基点P0〜Pnの基点位置を決定するとともにXY曲線Qを生成するXY曲線生成部(第1基本曲線生成部)31と、XZ曲線R0〜Rnを生成するXZ曲線生成部(第2基本曲線生成部)32と、生成されたXY曲線Q及びXZ曲線R0〜Rnに基づいて反射面RSの面形状を生成する面形状生成部33とを有している。これらの各生成部31〜33は、それぞれ図3のフローチャートにおける各生成ステップS104〜S106に対応している。
【0064】
また、本実施形態の反射面設計システム1は、反射面RSの設計に用いられる設計画面を設計者に表示する設計画面表示部4と、設計画面を作成するとともにその表示を設計画面表示部4に指示する画面表示指示部5とをさらに備えている。画面表示指示部5は、設計画面を作成する画面作成部として、設計画面として入力画面を作成する入力画面作成部51と、設計画面として評価画面を作成する評価画面作成部52とを有している。
【0065】
入力画面作成部51において作成される入力画面は、パラメータ入力部2の各入力部21〜25から入力される基点個数n+1(分割数n)、各基点P0〜PnのY座標y0〜yn、及び反射角度β0〜βnなどについて、それらの入力を設計者に指示するものである。また、評価画面作成部52において作成される評価画面は、反射面生成部3において生成されたXY曲線Q、複数のXZ曲線R0〜Rn、及び反射面RSの面形状などを設計者に表示するものである。
【0066】
図5は、図4に示した反射面設計システム1に用いられるハードウェア構成の一例を示すブロック図である。本反射面設計システム1におけるパラメータ入力部2からのパラメータ入力の受付(入力処理)などによるパラメータの指定(指定処理)や、反射面生成部3によるXY曲線、複数のXZ曲線、及び反射面形状の生成(生成処理)、画面表示指示部5による設計画面の作成及び設計画面表示部4への表示の指示(表示処理)、などのソフトウェア的機能は、CPU10によって行われる。
【0067】
このCPU10には、本システム1の処理動作に必要な各ソフトウェアプログラムなどが記憶されているROM11と、プログラム実行中に一時的にデータが記憶されるRAM12とが接続されている。また、ハードディスクなどの外部記憶装置13が接続されており、入力されたパラメータなどの各データの保持に用いられる。
【0068】
そして、これらのCPU10等に対して、パラメータの入力に用いられ、図4のパラメータ入力部2に対応する入力装置14と、設計画面の表示に用いられ、図4の設計画面表示部4に対応する表示装置15とが接続されて、本反射面設計システム1が構成されている。入力装置14としては、例えば、マウスなどのポインティングデバイスやキーボードなどが用いられる。また、表示装置15としては、例えば、CRTディスプレイや液晶ディスプレイなどが用いられる。
【0069】
また、CPU10によって行われる各処理(上記した入力処理、指定処理、生成処理、表示処理など)を実現する反射面設計用のプログラムは、コンピュータ読取可能な記録媒体に記録して頒布することが可能である。このような記録媒体には、例えば、ハードディスク及びフロッピーディスクなどの磁気媒体、CD−ROM及びDVD−ROMなどの光学媒体、フロプティカルディスクなどの磁気光学媒体、あるいは、プログラム命令を実行または格納するように特別に配置された、例えばRAM、ROM、及び半導体不揮発性メモリなどのハードウェアデバイスなどが含まれる。また、このような記録媒体からのプログラムの読取または実行に対し、図5に示すように、必要に応じて、記録媒体からプログラム等を読み取る記録媒体読取用のドライブ16(例えばフロッピーディスクドライブなど)をCPU10に対して接続しておいても良い。
【0070】
上記した反射面設計システム、及び記録媒体に記録されたプログラムにおいては、上述した反射面設計方法を適用するとともに、基点個数、Y座標、及び反射角度などの各パラメータを、設計者に入力させることによって指定している。このとき、例えば、各基点のY軸方向の位置を、適宜間隔を変えつつ指定するなど、それぞれの灯具での具体的な条件などを考慮して、最適なパラメータを指定することが可能となる。ただし、これらの各パラメータは、例えば、各基点のY軸方向の位置をY軸に対して等間隔に指定するなど、適当なパラメータの指定方法をあらかじめ定めておいて、自動的に指定を行うことも可能である。
【0071】
また、本実施形態においては、設計画面表示部4と、入力画面作成部51及び評価画面作成部52を有する画面表示指示部5とを設けている。このように、入力画面を表示することにより、設計者による各パラメータの入力を、入力画面を参照しつつ効率的に行うことができる。また、評価画面を表示することにより、反射面RSの生成を終了した後に、生成されたXY曲線Q、XZ曲線R、及び反射面RSの面形状等を、評価画面を参照しつつ評価し、必要があれば、評価結果をフィードバックして再度反射面設計を実行することが可能となる。
【0072】
図6に、入力画面作成部51において作成されて設計画面表示部4に表示される入力画面の構成の一例を示す。この入力画面40は、複数の基点Pについて、基点個数の入力を指示し、または入力された基点個数を表示する基点個数表示領域41と、複数の基点P、XY曲線Q、及び複数のXZ曲線Rについてのパラメータの入力を指示するとともに、入力されたパタメータを表示するXY曲線パラメータ表示領域42と、XZ曲線Rについてのパラメータの入力を指示するとともに、入力されたパラメータを表示するXZ曲線パラメータ表示領域43とを有して構成されている。
【0073】
また、この入力画面40には、光源位置(X方向)、反射面上端(Z方向)、反射面下端(Z方向)、及び焦点距離についても、それぞれ表示領域が設けられている。また、基点個数表示領域41においては、XY曲線Qの分割数によって基点個数が指定(図6では分割数=9、基点個数=10)されている。
【0074】
XY曲線パラメータ表示領域42は、XY曲線Q及び複数のXZ曲線Rの生成に用いられる複数の基点Pのそれぞれに対して、各パラメータを指定するように構成されている。具体的には、この表示領域42は、各基点Piの番号i(図中の例ではi=0〜9)を表示する基点番号表示領域42aと、各基点PiのY座標yiの入力を指示するとともに入力されたY座標(yi=0.00、…、55.00)を表示する基点位置表示領域42bと、各基点Piでの反射角度βiの入力を指示するとともに入力された反射角度(βi=0.00、…、45.00)を表示する第1反射方向表示領域42cとを有して構成されている。
【0075】
同様に、XZ曲線パラメータ表示領域43は、複数のXZ曲線Rの生成に用いられる複数の基点Pのそれぞれに対して、各パラメータを指定するように構成されている。具体的には、この表示領域43は、各基点Piの番号i(i=0〜9)を表示する基点番号表示領域43aと、各基点Piから伸びるXZ曲線Riの上端での反射角度の入力を指示するとともに入力された上端反射角度(0.00、…、1.00)を表示する上端反射角度表示領域43bと、XZ曲線Riの下端での反射角度の入力を指示するとともに入力された下端反射角度(0.50、…、5.00)を表示する下端反射角度表示領域43cとを有して構成されている。これらの上端反射角度表示領域43b及び下端反射角度表示領域43cは、第2反射方向表示領域を構成している。
【0076】
また、この表示領域43は、XZ曲線Riに対する上下調整係数の入力を指示するとともに入力された上下調整係数(0.00、…、0.90)を表示する上下調整係数表示領域43dと、XZ曲線Riに対する前後調整係数の入力を指示するとともに入力された前後調整係数(0.900、…、0.990)を表示する前後調整係数表示領域43eとを有して構成されている。これらの上下調整係数表示領域43d及び前後調整係数表示領域43eは、調整係数表示領域を構成している。
【0077】
図6においては、入力画面40は、それぞれの表示領域内の各入力欄に、入力されるパラメータ値の例が表示された状態で示されている。また、これらの表示領域内の各入力欄は、設計者がパラメータ値を入力する前では、空欄またはデフォルト値が表示された状態で示される。また、基点個数表示領域41に表示される基点個数(分割数)や光源位置、焦点距離などの基本的なパラメータについては、この入力画面40の前にさらに別の入力画面を表示してあらかじめ入力させ、この入力画面40では表示のみとしても良い。
【0078】
なお、図6に表示されたパラメータ値の例では、基点P0〜Pnに対して指定されたY座標y0〜ynの間隔が、内側の基点P0から基点Pnに向かって順次小さくなっている。これは、XY曲線Qの形状を考慮して、XY曲線Q上で基点の間隔がほぼ等しくなるように指定しているものである。
【0079】
また、評価画面作成部52において作成されて設計画面表示部4に表示される評価画面としては、例えば、基点P、XY曲線Q、XZ曲線R、及び反射面RSの面形状等を、X、Y、Zの座標軸とともに3次元的に表示する画面などがある。このような評価画面の表示及び面形状の評価は、反射面設計の各ステップ中に必要に応じて行うことを可能にしておくことが好ましい。
【0080】
例えば、図3に示したフローチャートでは、XY曲線の生成(S104)後、XZ曲線の生成(S105)後、反射面形状の生成(S106)後などに評価画面による評価を適宜行うことが好ましい。この場合、それぞれの時点で必要があれば、前の適当な設計ステップに戻って、評価結果をフィードバックしつつ各パラメータを再指定して反射面設計を実行し直すことができる。ただし、評価画面の表示、及びそれによる反射面RSの面形状等の評価については、この反射面設計システムでは行わない構成としても良い。
【0081】
図3のフローチャートに示した反射面設計方法におけるXY曲線の生成方法(S104)、複数のXZ曲線の生成方法(S105)、及び反射面RSの面形状の生成方法(S106)について、その具体的な実施例とともに説明する。
【0082】
まず、XY曲線の生成方法について、図7及び図8を参照して説明する。図7は、XY曲線の生成方法の一実施例を示すフローチャートである。また、図8は、図7に示したXY曲線の生成方法を説明する図である。
【0083】
図7のフローチャートに示すXY曲線の生成方法では、指定された分割数n(基点個数n+1)によって、XY曲線Qをn本のXY曲線Qi(i=1〜n)に分割して、XY曲線の生成を行っている。また、基点Piの決定、及びXY曲線Qiの生成の順序としては、最も内側(光軸Ax側)でX軸上の基点P0から、外側に向かって順次行うこととしている。
【0084】
最初に、i=0として、XY曲線Q全体の始点となる基点P0(x0,y0)=(x0,0)の位置を決定する(ステップS200)。このX軸上にある基点P0の位置は、指定された光源位置F(通常は(0,0))及び初期条件の焦点距離f0などから決定される。
【0085】
基点P0の位置が決定されたら、i=1として(S201)、基点Piの決定、及びXY曲線Qを分割したXY曲線Qiの生成(i=1〜n)を開始する(S202)。ここで、基点Pi及びXY曲線Qiに対して指定されているパラメータとしては、基点PiのY軸方向の位置を指定するY座標yi、及び基点Piでの光の第1反射方向を指定する反射角度βiがある。
【0086】
図8は、基点番号iでの基点Piの決定方法、及びXY曲線Qiの生成方法を示している。この図8に示すように、既に位置が決定されている基点Pi-1を始点Psとし、これから位置を決定する基点Piを終点Peとする(S203)。このとき、始点Psの位置(xs,ys)はいずれも既知、終点Peの位置(xe,ye)はyeが指定済、xeが未知である。また、始点Psでの入射角度αs及び反射角度βsはいずれも既知、終点Peでの入射角度αe及び反射角度βeはαeが未知、反射角度βeが指定済である。そして、基点P0〜Ps間のXY曲線Q1〜Qi-1を、指定されている条件を満たすように終点Peに向けて延長し、基点Pi=Peの位置を決定するとともに、基点Ps〜Pe間のXY曲線Qiを生成する(S204)。
【0087】
基点Piの位置の決定、及びXY曲線Qiの生成を終了したら、i=nであるかどうかを判断する(S205)。i<nであれば、位置が決定されていない基点があるので、i=i+1として(S206)、次の基点の決定、及びXY曲線の生成を行う。i=nであれば、すべての基点Pi(i=0〜n)の決定、及びXY曲線Qi(i=1〜n)の生成を終了しているので、得られたXY曲線Qiから全体のXY曲線Qを生成して(S207)、基点の決定及びXY曲線の生成を終了する。
【0088】
続いて、XZ曲線の生成方法について説明する。図9は、XZ曲線の生成方法の一実施例を示すフローチャートである。また、図10は、図9に示したXZ曲線の生成方法を説明する図である。
【0089】
図9のフローチャートに示すXZ曲線の生成方法では、各基点Piに対して指定された第1反射方向に平行、かつ、XY平面に直交するUZ平面を設定し、そのUZ平面上で、XZ曲線Riの生成を行っている。このUZ平面は、各基点Piごとに設定される。また、XZ曲線Riの生成の順序としては、内側(光軸Ax側)でXZ平面上のXZ曲線R0から、外側に向かって順次行っている。
【0090】
i=0として(ステップS301)、XZ曲線Riの生成(i=0〜n)を開始する(S302)。ここで、XZ曲線Riに対して指定されているパラメータとしては、既に決定されている基点Piの位置(xi,yi)、及びXZ曲線Ri(基点Pi)での光のY軸方向での第1反射方向を指定する反射角度βiがある。あるいは、上端反射角度、下端反射角度、上下調整係数、前後調整係数などがさらに指定されている場合もある(図6参照)。なお、図10に示す例では、上述したようにYZ平面での第1象限内にある面部分の生成について示しており、XZ曲線Riの上端は点Ti、下端はXY平面上の基点Piである。
【0091】
まず、XZ曲線Riの生成に用いるUiZ平面を設定する(S303)。図10は、基点番号iでのXZ曲線Riの生成方法を示している。この図10に示すように、XYZ座標軸に対して、X軸に代えてUi軸を、また、Y軸に代えてVi軸を設定する。Ui軸は、基点Piでの反射角度βiで指定される第1反射方向に平行で、Z軸に直交する軸として設定される。また、Vi軸は、Ui軸及びZ軸に直交する軸として設定される。そして、このUi軸及びZ軸から、基点Piを含む平面として、図10に示すUiZ平面が設定される。
【0092】
次に、XZ曲線Riを生成するのに必要な形状パラメータを決定する(S304)。例えば、XZ曲線Riを放物線によって生成する場合には、光源位置F及び基点Piの位置関係や、基点Piに対して指定されている反射方向などを参照して、必要な形状パラメータとして放物線の焦点距離fiなどが決定される。また、XZ曲線Riの上端、下端での反射角度や調整係数などが指定されていれば、それらに基づいて形状パタメータの決定または調整が行われる。この場合、曲線としては、放物線に限らず、他の2次曲線や3次以上の曲線などを用いて良い。特に、3次曲線などの3次以上の曲線とした場合には、曲線形状の微調整を行うために好適である。そして、形状パラメータの決定を終了したら、その形状パラメータに基づいて、UiZ平面上でXZ曲線Riを生成する(S305)。
【0093】
XZ曲線Riの生成を終了したら、i=nであるかどうかを判断する(S306)。i<nであれば、生成されていないXZ曲線があるので、i=i+1として(S307)、次のXZ曲線の生成を行う。i=nであれば、すべてのXZ曲線Ri(i=0〜n)の生成を終了しているので、得られた複数のXZ曲線Riから反射面RSの面形状を生成して(S308)、XZ曲線の生成及び反射面形状の生成を終了する。
【0094】
なお、反射面RSの面形状の生成については、すべてのXZ曲線の生成を終了してから全体として面形状の生成を行っても良いが、XY曲線Qを分割したXY曲線Qiと同様に、反射面RSをn個の反射面RSi(i=1〜n)に分割し、各XZ曲線Riの生成が終了するごとに順次面形状を生成しても良い。例えば、図10においては、生成が終了したXZ曲線Riと、既に生成されているXZ曲線Ri-1との間での反射面RSiの面形状の生成が示されている。
【0095】
本発明による車両用灯具の反射鏡の反射面設計方法、反射面設計システム、及び記録媒体は、上記した実施形態及び実施例に限られるものではなく、様々な変形が可能である。例えば、指定(入力)された基点個数、第1基本軸方向の位置、及び反射方向に基づいて行われる、複数の基点Pの決定方法、XY曲線Q及び複数のXZ曲線Rの生成方法については、上記した方法に限られず、様々な生成方法を用いて良い。
【0096】
【発明の効果】
本発明による車両用灯具の反射鏡の反射面設計方法、反射面設計システム、及び記録媒体は、以上詳細に説明したように、次のような効果を得る。すなわち、第1基本平面上の第1基本曲線と、第1基本曲線上の点からほぼ第2基本軸方向に伸びる複数の第2基本曲線とを反射面形状の骨格とするとともに、指定された基点個数、基点位置、及び各基点での第1反射方向に基づいて複数の第2基本曲線のそれぞれを生成することによって、配光パターンの制御性及び設計作業の効率が向上される車両用灯具の反射鏡の反射面設計方法、反射面設計システム、及び記録媒体が実現される。
【図面の簡単な説明】
【図1】車両用灯具の反射鏡の反射面設計方法を概略的に示す模式図である。
【図2】反射面に対する入射光の入射角度及び反射光の反射角度を示す図である。
【図3】車両用灯具の反射鏡の反射面設計方法の一実施形態を示すフローチャートである。
【図4】車両用灯具の反射鏡の反射面設計システムの一実施形態の構成を示すブロック図である。
【図5】図4に示した反射面設計システムに用いられるハードウェア構成の一例を示すブロック図である。
【図6】入力画面の構成の一例を示す図である。
【図7】XY曲線の生成方法の一実施例を示すフローチャートである。
【図8】図7に示したXY曲線の生成方法を説明する図である。
【図9】XZ曲線の生成方法の一実施例を示すフローチャートである。
【図10】図9に示したXZ曲線の生成方法を説明する図である。
【符号の説明】
1…反射面設計システム、10…CPU、11…ROM、12…RAM、13…記憶装置、14…入力装置、15…表示装置、16…ドライブ、
2…パラメータ入力部、21…基点個数入力部、22…基点位置入力部、23…第1反射方向入力部、24…第2反射方向入力部、25…調整係数入力部、3…反射面生成部、31…XY曲線生成部、32…XZ曲線生成部、33…面形状生成部、4…設計画面表示部、5…画面表示指示部、51…入力画面作成部、52…評価画面作成部、
40…入力画面、41…基点個数表示領域、42…XY曲線パラメータ表示領域、42a…基点番号表示領域、42b…基点位置表示領域、42c…第1反射方向表示領域、43…XZ曲線パラメータ表示領域、43a…基点番号表示領域、43b…上端反射角度表示領域、43c…下端反射角度表示領域、43d…上下調整係数表示領域、43e…前後調整係数表示領域、
RS…反射面、F…光源位置、Ax…光軸、P…基点、Q…XY曲線(第1基本曲線)、R…XZ曲線(第2基本曲線)。

Claims (3)

  1. 車両用灯具に用いられる反射鏡の反射面設計方法であって、
    光源が配置される光源位置を通り前記光源からの光が反射鏡によって反射される方向となる光軸、及び前記光軸であるX軸に直交する第1基本軸であるY軸を含む第1基本平面上に配置される、前記反射鏡の反射面を生成するための複数の基点について、前記複数の基点 〜P の基点個数n+1を指定する基点個数指定ステップと、
    前記複数の基点 〜P それぞれに対して、基点位置について前記第1基本軸方向の位置y 〜y を指定する基点位置指定ステップと、
    前記複数の基点 〜P それぞれに対して、その基点において前記光源からの光が反射される方向となる前記第1基本軸方向での第1反射方向を、前記光軸からみた基点で反射される反射光の反射角度β 〜β によって指定する第1反射方向指定ステップと、
    前記複数の基点に対する前記基点個数n+1、前記基点位置について指定された前記第1基本軸方向の位置y 〜y 、及び前記第1反射方向について指定された前記反射角度β 〜β に基づいて、前記複数の基点P 〜P それぞれの前記基点位置(x ,y )〜(x ,y )を決定するとともに、決定された前記基点位置に基づいて、前記第1基本平面上の第1基本曲線を生成する第1基本曲線生成ステップと、
    前記複数の基点に対する前記基点個数n+1、前記基点位置について指定された前記第1基本軸方向の位置y 〜y 、及び前記第1反射方向について指定された前記反射角度β 〜β に基づいて、前記複数の基点 〜P それぞれから前記第1基本平面に直交する第2基本軸であるZ軸方向に伸びる複数の第2基本曲線を生成する第2基本曲線生成ステップと、
    前記第1基本曲線及び前記複数の第2基本曲線に基づいて、前記反射面の面形状を生成する面形状生成ステップと
    を備え
    前記基点位置指定ステップにおいて、前記光源位置がy=0となるように設定されたY軸に対して、全体の始点である基点P についてy =0とするとともに、i=1〜nの範囲で条件y i−1 <y を満たすように、前記光軸側から順に前記第1基本軸方向の位置y 〜y を指定し、
    前記第1基本曲線生成ステップにおいて、前記複数の基点P 〜P それぞれの前記基点位置(x ,y )〜(x ,y )を、前記第1基本軸方向の位置y 〜y が指定された順番にしたがって前記光軸側から順に決定することを特徴とする車両用灯具の反射鏡の反射面設計方法。
  2. 前記第2基本曲線生成ステップにおいて、前記複数の第2基本曲線のそれぞれを、対応する基点に対して指定された前記第1反射方向に平行で、前記第1基本平面に直交する第2基本平面上で生成することを特徴とする請求項1記載の反射面設計方法。
  3. 前記複数の基点それぞれにおいて生成される前記第2基本曲線上の点に対して、その点において前記光源からの光が反射される方向となる前記第2基本軸方向での第2反射方向を指定する第2反射方向指定ステップ、または、
    前記複数の基点それぞれにおいて生成される前記第2基本曲線に対して、その位置または形状を調整するための調整係数を指定する調整係数指定ステップの少なくとも一方をさらに備えることを特徴とする請求項1または2記載の反射面設計方法。
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