JP4026376B2 - Feeder of the developer - Google Patents

Feeder of the developer

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JP4026376B2
JP4026376B2 JP2002050841A JP2002050841A JP4026376B2 JP 4026376 B2 JP4026376 B2 JP 4026376B2 JP 2002050841 A JP2002050841 A JP 2002050841A JP 2002050841 A JP2002050841 A JP 2002050841A JP 4026376 B2 JP4026376 B2 JP 4026376B2
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嘉文 板東
崇弘 柴田
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三菱化学エンジニアリング株式会社
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Description

【0001】 [0001]
【発明の属する技術分野】 BACKGROUND OF THE INVENTION
本発明は、現像液の供給装置に関するものであり、詳しくは、液晶基板やプリント基板の現像プロセスから回収された現像液のアルカリ濃度および溶解樹脂濃度を管理すると共に、一定濃度に再調節した現像液を現像プロセスに供給する現像液の供給装置に関するものである。 The present invention relates to feeding apparatus of the developer, particularly, manages the alkali concentration and dissolution resin concentration of the recovered developer from the developing process of the liquid crystal substrate or a printed circuit board, and readjusted to a constant concentration development liquid and relates feeder of the developer supplied to the developing process.
【0002】 [0002]
【従来の技術】 BACKGROUND OF THE INVENTION
液晶基板やプリント基板の製造工程におけるフォトレジストの現像には、テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド(TMAH)等のアルカリ水溶液が現像液として使用される。 The development of the photoresist in the liquid crystal substrate or a printed circuit board manufacturing process, an alkaline aqueous solution such as tetramethylammonium hydroxide (TMAH) is used as the developing solution. 斯かる現像液は、昨今、基板サイズの大型化やプロセスの進歩によって多量に使用する様になり、コスト低減などの観点から現像プロセスに対して再生供給している。 Such developer, recently, become as used in a large amount by the progress in the size and process of the substrate size, playing supplied to the developing process in view of cost reduction.
【0003】 [0003]
一方、上記の様な現像液は、使用を繰り返すうちに、樹脂中の酸との反応、空気中の炭酸ガスや酸素との反応によってアルカリ濃度が低下し、また、現像処理の際のレジスト用樹脂の溶解によって樹脂濃度が上昇するため、レジストパターンの寸法精度および未露光部の膜厚精度を確保するには、現像液のアルカリ濃度を出来る限り一定に管理し、溶解樹脂濃度を一定以下に管理する必要がある。 On the other hand, such a developing solution described above is, after repeated use, the reaction of the acid in the resin, the alkali concentration decreases by reaction with carbon dioxide or oxygen in the air, also resist during development to increase the resin concentration by dissolution of the resin, in order to ensure the film thickness accuracy of the dimensional accuracy and the unexposed portions of the resist pattern manages as constant as possible alkali concentration of the developing solution, the dissolved resin concentration constant below there is a need to manage.
【0004】 [0004]
現像液の濃度管理に関し、例えば、特許第2561578号公報には、フォトレジストの現像に使用されるアルカリ系現像液を管理する装置であって、現像装置に対して現像液を循環供給すると共に、循環する現像液のアルカリ濃度および現像液中の溶解樹脂濃度の両方を同時に管理し、現像性能の劣化を防止する様にした「現像液管理装置」が記載されている。 Relates concentration control of the developing solution, for example, the Japanese Patent No. 2561578 discloses an apparatus for managing an alkaline developing solution used to develop the photoresist, circulates supplying a developing solution to the developing device, both alkali concentration and dissolution resin concentration in the developing solution in the developer circulating simultaneously manage, and the like to prevent deterioration of developing performance "developer management device" is described.
【0005】 [0005]
上記の現像液管理装置においては、現像液中の溶解樹脂濃度を吸光光度計により検出し、現像液のアルカリ濃度を導電率計により検出し、更に、装置内の現像液の液面レベルを液面レベル計により検出し、そして、溶解樹脂濃度、アルカリ濃度および液面レベルが一定となる様に、装置内の現像液を排出し、アルカリ系現像原液と純水を補給するか又は予め調合された新たな現像液を補給する様になされている。 In the above developing solution control device, dissolved resin concentration in the developing solution detected by absorption photometer, the alkali concentration of the developing solution detected by a conductivity meter, further liquid the liquid level of the developer in the apparatus detected by a surface level meter, then dissolved resin concentration, as the alkali concentration and liquid level becomes constant, and discharges the developer in the apparatus, be formulated or pre-replenishing an alkaline developing stock solution and pure water It has been made so as to supply a new developer was.
【0006】 [0006]
上記の現像液管理装置は、アルカリ濃度と溶解樹脂濃度の測定ならびに新たな現像液との入替え操作をバッチ方式で行っていた従来法に対し、現像液中の溶解樹脂濃度とアルカリ濃度をリアルタイムに測定し且つ連続的にこれらを制御することにより、現像されるレジストパターンの寸法精度および未露光部の膜厚精度を高めると共に、液交換による稼動率の低下をなくすことを企図したものである。 The above developer management device, compared to the conventional method which has been performed batchwise replacement operation between the measured and the new developer alkali concentration and dissolution resin concentration, the dissolved resin concentration and the alkali concentration in the developing solution in real time by controlling these measured and continuously, to increase the thickness accuracy of the dimensional accuracy and the unexposed portions of the resist pattern to be developed, in which contemplates to eliminate the reduction in operation rate due to liquid exchange. 例えば、現像液として使用される上記のTMAH濃度は、通常、2.38重量%に調節されるが、上記の現像液管理装置においては、TMAH濃度を2.38±0.02重量%の範囲に管理している。 For example, the above TMAH concentration used as the developing solution is usually adjusted to 2.38% by weight, in the developer management apparatus, the range of 2.38 ± 0.02 wt% of TMAH concentration It has managed to.
【0007】 [0007]
【発明が解決しようとする課題】 [Problems that the Invention is to Solve
ところで、液晶基板やプリント基板の現像プロセスにおいては、パターン精度および膜厚精度を一層高め、製品歩留りをより向上させるため、一層高品位の現像液が望まれている。 Meanwhile, in the developing process of the liquid crystal substrate or a printed circuit board, further enhanced pattern accuracy and thickness accuracy, in order to further improve the product yield, it is more developer high quality desired. しかしながら、上記の様な従来の現像液管理装置においては、現像液中の溶解樹脂濃度とアルカリ濃度に対する測定精度の問題から、更に高い精度で現像液の濃度を調節するのは困難である。 However, in the conventional developing solution control apparatus as described above, the measurement accuracy problems for dissolving the resin concentration and the alkali concentration in the developing solution, it is difficult to adjust the concentration of the developing solution at a higher precision.
【0008】 [0008]
すなわち、現像液中の溶解樹脂濃度の吸光光度計による検出では、現像液中の溶解樹脂の吸収波長ピークが紫外光から可視光の波長範囲において多数あり、かつ、樹脂濃度の変化によって各ピーク値が変動し、しかも、樹脂濃度が高くなるに従って吸収波長ピークが重なった状態になるため、測定波長の選択の問題も相まって、検出精度の低下が避けられないのが実情である。 That is, in the detection by absorption spectrophotometer dissolved resin concentration in the developing solution, there are many in the wavelength range of visible light absorption wavelength peak of dissolved resin in the developing solution is from ultraviolet light, and, each peak value by a change in resin concentration There varies, moreover, since a state where the absorption wavelength peak is overlapped according resin concentration increases, together also a matter of choice of the measuring wavelength, the reduction in the detection accuracy can not be avoided in actuality. 従って、現像液中の樹脂濃度の管理精度を今以上に高めるのは難しく、また、樹脂濃度が高くなった場合には、検出精度の問題から導電率による測定ではアルカリ濃度の検出精度も高め難く、アルカリ濃度の管理精度についても今以上に高めるのは難しい状況である。 Therefore, it is difficult for enhancing the management precision of the resin concentration in the developer than now, also, when the resin concentration is higher, the detection accuracy of the alkali concentration is measured by the conductivity of the detection accuracy problem hardly increased , it is a difficult situation to increase even now more about managing accuracy of alkali concentration.
【0009】 [0009]
本発明は上記の実情に鑑みてなされたものであり、その目的は、液晶基板やプリント基板の現像プロセスから回収された現像液のアルカリ濃度および溶解樹脂濃度を管理すると共に、一定濃度に再調節した現像液を現像プロセスに供給する現像液の供給装置であって、現像液の各成分の濃度をより高精度に検出でき、一層正確に濃度調節された現像液を現像プロセスへ供給できる現像液の供給装置を提供することにある。 The present invention has been made in view of the above circumstances, and its object manages the alkali concentration and dissolution resin concentration of the recovered developer from the developing process of the liquid crystal substrate or a printed circuit board, re-adjusted to a constant concentration was developing solution a feeder of the developer supplied to the developing process, can detect the concentration of each component of the developing solution with higher accuracy can be supplied to a developing solution which is more accurately the concentration adjusted to a developing process developer to provide a feed device.
【0010】 [0010]
【課題を解決するための手段】 In order to solve the problems]
上記の課題を解決するため、本発明では、回収された現像液中のアルカリ濃度および溶解樹脂濃度を検出するにあたり、温度および各成分濃度によって一義的に決まり且つ濃度変動による測定精度の変動のない超音波伝播速度と電磁導電率とを同時に測定する方式の多成分濃度計を使用することにより、アルカリ濃度および樹脂濃度をより高精度に検出し、そして、一層高い精度で現像液の濃度を管理する。 To solve the above problems, the present invention, when detecting the recovered alkali concentration and dissolution resin concentration in the developing solution, without variation in the measurement accuracy of determined and density fluctuation uniquely by temperature and concentration of each component the use of multi-component concentration meter system for measuring the ultrasonic wave propagation velocity and electromagnetic conductivity simultaneously detect more accurately the alkali concentration and the resin concentration, and, managing the concentration of the developing solution at a higher precision to.
【0011】 [0011]
すなわち、本発明の要旨は、アルカリ水溶液から成る現像液を現像プロセスに供給する現像液の供給装置であって、供給すべき現像液を貯留する供給貯槽と、回収した使用済現像液の温度を一定に調節する温度調節手段を備え且つ使用済現像液を前記供給貯槽に送液する回収液供給機構と、新たな現像液原液を前記供給貯槽に送液する原液供給機構と、前記回収液供給機構によって送液される一定温度の使用済現像液のアルカリ濃度および樹脂濃度を検出する濃度計とが備えられ、前記濃度計は、現像液における超音波伝播速度および現像液の電磁導電率を計測し、予め作成された所定温度および所定濃度における超音波伝播速度と電磁導電率との関係に基づき、アルカリ濃度および樹脂濃度を検出する多成分濃度計であり、そして、前記濃 That is, the gist of the present invention, there is provided a developer supply device for supplying a developing solution comprising an alkali aqueous solution in the developing process, a supply tank for storing the liquid developer to be supplied, the temperature of the recovered spent developer a recovering solution supplying mechanism for feeding a and spent developer includes a temperature adjusting means for adjusting constant to the supply reservoir, the solution feed mechanism for feeding a new developer stock solution to the supply reservoir, the recovery liquid supply and a densitometer for detecting the alkali concentration and the resin concentration of the used developer of constant temperature is fed provided by a mechanism, the densitometer measures the electromagnetic conductivity of ultrasonic wave propagation velocity and the developer in the developer and, based on the relationship between ultrasonic wave propagation velocity and electromagnetic conductivity at a predetermined temperature and a predetermined concentration previously created a multi-component concentration meter for detecting the alkali concentration and the resin concentration, and the concentrated 計による検出濃度に基づき、前記原液供給機構による現像液原液の送液を制御可能になされていることを特徴とする現像液の供給装置に存する。 Based on the detected concentration by meter, lies in the supply system of the developing solution, characterized in that it is adapted to controllably feed liquid developer stock by the stock feed mechanism.
【0012】 [0012]
【発明の実施の形態】 DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
本発明に係る現像液の供給装置の一実施形態を図面に基づいて説明する。 An embodiment of the supply device of the developer according to the present invention will be described with reference to the drawings. 図1は、本発明に係る現像液の供給装置の主な構成要素を示すフロー図である。 Figure 1 is a flow diagram showing the main components of the supply device of the developer according to the present invention. 図2は、多成分濃度計の検出精度をリアルタイムで確認したグラフである。 Figure 2 is a graph confirming the accuracy of detecting multicomponent densitometer in real time. 以下、実施形態の説明においては、現像液の供給装置を「供給装置」と略記する。 Hereinafter, in the description of embodiments, abbreviated supply device of the developer as a "feeder".
【0013】 [0013]
本発明の供給装置は、現像プロセスに使用するスピンデベロッパ装置などの現像装置を含む現像プロセスに対し、アルカリ水溶液から成る現像液を供給する装置であり、現像プロセスから回収された現像液のアルカリ濃度および溶解樹脂濃度を管理すると共に、一定濃度に再調節した現像液を現像プロセスに供給する機能を有する。 Supply device of the present invention, to the development process including development apparatus such as a spin developer apparatus for use in developing process, an apparatus for supplying a developer comprising an alkali aqueous solution, the alkali concentration of the collected developer from the development process and it manages the dissolved resin concentration, has a function of supplying the developing process readjustment by developing solution at a constant concentration.
【0014】 [0014]
本発明において、アルカリ系の現像液としては、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、リン酸ナトリウム、ケイ酸ナトリウムなどの無機アルカリの単独又は混合物からなる無機アルカリ水溶液や、テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド(TMAH)、トリメチルモノエタノールアンモニウムハイドロオキサイド(コリン)などの有機アルカリ水溶液などが挙げられる。 In the present invention, the developing solution alkaline, potassium hydroxide, sodium hydroxide, sodium phosphate, inorganic alkali aqueous solution and consisting solely or a mixture of inorganic alkali such as sodium silicate, tetramethylammonium hydroxide (TMAH) and organic alkali aqueous solution such as trimethyl monoethanol ammonium hydroxide (choline).
【0015】 [0015]
本発明の供給装置は、図1に示す様に、現像プロセスの現像装置(99)へ供給すべき現像液を貯留する供給貯槽(1)と、回収した使用済現像液の温度を一定に調節する温度調節手段を備え且つ使用済現像液を供給貯槽(1)に送液する回収液供給機構(2)と、新たな現像液原液を供給貯槽(1)に送液する原液供給機構(3)と、回収液供給機構(2)によって送液される一定温度の使用済現像液のアルカリ濃度および樹脂濃度を検出する濃度計(5)(以下、「第1の濃度計」と言う。)とから主として構成される。 Supply device of the present invention, as shown in FIG. 1, adjusting a supply tank for storing the liquid developer to be supplied to the developing device (99) of the development process (1), the temperature of the recovered spent developer constant the recovery liquid supply mechanism temperature comprise adjusting means and the spent developer for feeding to the feed storage tank (1) (2), the starting solution feed mechanism for feeding a new developer stock solution supply tank (1) (3 ) and, recovering solution supplying mechanism (2) densitometer for detecting the alkali concentration and the resin concentration of the used developer of constant temperature is fed by (5) (hereinafter, referred to as "first densitometer".) mainly composed of a.
【0016】 [0016]
供給貯槽(1)は、現像液の濃度を一定の目標値に調節するすると共に、濃度調節された現像液を必要に応じて現像装置(99)へ供給するバッファタンクであり、例えば、100〜2000リットル程度の内容積の耐腐食性を備えた容器によって構成される。 Feed storage tank (1) is configured to regulate the concentration of the developer at a constant target value, a buffer tank for supplying to the developing device (99) optionally a developing solution which is the concentration adjusted, for example, 100 constituted by the container having the corrosion resistance of the internal volume of about 2,000 liters. 供給貯槽(1)には、貯留する現像液を均一な濃度に調節し且つ維持するため、ポンプ(71)及び循環流路(96)から成る現像液の撹拌手段が設けられる。 The supply tank (1), in order to adjust and maintain a uniform concentration developer storing, stirring means of the developer is provided a pump (71) and the circulation passage (96). 上記の様な循環による撹拌手段は、槽内に設置するスクリュー等の撹拌装置に比べ、パーティクルの発生が少なく、現像液の汚染を低減することが出来る。 Stirring means by the circulation, such as described above is compared with the stirring device, for a screw or the like to be installed in the tank, the generation of particles is small, it is possible to reduce the contamination of the developer. そして、供給貯槽(1)に貯留した現像液は、ポンプ(12)及び流路(97)を通じて現像装置(99)に供給する様になされている。 The developing solution was stored in the supply tank (1) is adapted so as to supply to the developing device (99) via a pump (12) and the flow path (97).
【0017】 [0017]
回収液供給機構(2)は、使用済現像液を一旦貯留する回収液貯槽(21)、貯留した使用済現像液を供給貯槽(1)側へ供給するポンプ(22)及び流路(91)等から構成される。 Recovering solution supplying mechanism (2), the recovery liquid storage tank for temporarily storing the spent developer (21), the pump supplies the reservoir with the spent developer to the supply tank (1) side (22) and the flow path (91) consisting of, or the like. 回収液貯槽(21)は、例えば、500〜3000リットル程度の内容積の耐腐食性を備えた容器によって構成される。 Recovered solution storage tank (21) is composed of, for example, a vessel equipped with a corrosion-resistant inner volume of about 500 to 3000 liters. 回収液貯槽(21)は、現像装置(99)から排出される使用済現像液を直接受け入れる様になされていてもよいし、一旦別途に保管された使用済現像液を受け入れる様になされていてもよい。 Recovered solution storage tank (21), to the spent developer discharged from the developing device (99) may be made as to accept direct, once have been made so as to accept separately the stored spent developer it may be.
【0018】 [0018]
回収液貯槽(21)には、受け入れた使用済現像液の濃度を均一化するため、ポンプ(24)及び循環流路(92)から成る撹拌手段が設けられる。 The recovered solution storage tank (21), in order to equalize the concentration of the used developer received, stirring means is provided with a pump (24) and the circulation flow path (92). 上記の様な循環による撹拌手段は、供給貯槽(1)におけるのと同様に、パーティクルの発生が少なく、現像液の汚染を低減することが出来る。 Stirring means by the circulation, such as described above, as well as in the supply tank (1), generation of particles is small, it is possible to reduce the contamination of the developer.
【0019】 [0019]
ポンプ(22)及び流路(91)は、例えば、混合器(4)及び流路(94)を介して供給貯槽(1)に至る後述の原液供給機構(3)の流路(93)に接続される。 Pump (22) and the flow path (91), for example, the mixer (4) and the flow path of the flow path stock supply mechanism described later leading to feed storage tank (1) through (94) (3) (93) It is connected. 回収液供給機構(2)の温度調節手段は、後述する第1の濃度計(5)によって正確に使用済現像液の濃度を測定するために設けられており、例えば、流路(91)の途中に配置された恒温槽(23)によって構成される。 Temperature adjusting means for collecting liquid supply mechanism (2) is provided for measuring the concentration of correctly spent developer by a first densitometer to be described later (5), for example, the flow path (91) a thermostat disposed in the middle constituted by (23). すなわち、回収された使用済現像液は、流路(91)の途中の恒温槽(23)において一定温度(例えば25℃)に調節され、そして、供給貯槽(1)側へ送液される様になされている。 That is, the recovered spent developer is adjusted to a constant temperature (e.g. 25 ° C.) in the through channel (91) during the constant temperature bath (23), and, as to be fed to the feed storage tank (1) side It has been made to. なお、図示しないが、通常、回収液供給機構(2)には、回収された使用済現像液の樹脂濃度が高い場合に使用済現像液の一部をパージするパージラインが設けられる。 Although not shown, typically, the recovery liquid supply mechanism (2) is a purge line for purging a portion of the spent developer when high recovered resin concentration of the spent developer was is provided. 更に、回収液貯槽(21)へ希釈水を供給可能になされていてもよい。 Furthermore, the dilution water may be made to be capable of supplying the recovered solution storage tank (21).
【0020】 [0020]
現像装置(99)から回収された使用済現像液は、レジスト中の酸との反応、空気中の炭酸ガスや酸素との反応によってアルカリ濃度が低下し、また、レジスト用樹脂の溶解によって樹脂濃度が上昇しているため、本発明の供給装置においては、原液供給機構(3)により、使用済現像液に対して新たな現像液原液を必要に応じて添加可能に構成される。 A developing device (99) spent developer collected from the reaction with an acid in the resist, reduces the alkali concentration by reaction with carbon dioxide or oxygen in the air, also, the resin concentration by dissolution of the resist resin since There has been an increase in the supply device of the present invention, the solution feed mechanism (3), which can be added configured as needed new developer stock against spent developer.
【0021】 [0021]
原液供給機構(3)は、高濃度の現像液原液、例えば濃度20〜25重量%の原液を貯留する原液貯槽(31)、貯留した現像液原液を供給貯槽(1)側へ供給するポンプ(32)及び流路(93)から主に構成される。 Solution feed mechanism (3) is a high-density liquid developer stock solution, having a concentration 20 to 25 wt% stock solution stock tank for storing (31), the pump supplies the reservoir with developing stock solution to the supply tank (1) side ( 32) and mainly comprised of the passage (93). 原液貯槽(31)は、上記の回収液貯槽(21)と同様に、例えば、500〜3000リットル程度の内容積の耐腐食性を備えた容器によって構成される。 Stock solution storage tank (31), in a manner similar to the above-mentioned recovery solution storage tank (21), for example, constituted by a container having the corrosion resistance of the internal volume of about 500 to 3000 liters. 流路(93)は、混合器(4)及び流路(94)を介して供給貯槽(1)に接続される。 Flow path (93) is connected to the supply tank (1) via the mixer (4) and the flow path (94). 混合器(4)は、回収液供給機構(2)の流路(91)によって送液される使用済現像液に新たな現像液原液を混合するための固定スクリューを内蔵した撹拌器である。 Mixer (4) is a recovery liquid flow path (91) agitator incorporating a set screw for mixing the fresh developer stock the used developer is fed by the feed mechanism (2).
【0022】 [0022]
なお、上記の供給貯槽(1)、回収液貯槽(21)及び原液貯槽(31)は、現像液や現像液原液の空気との接触を防止するため、窒素などの不活性ガスによってシールする様になされている。 Incidentally, the supply tank (1), recovered solution storage tank (21) and the stock solution storage tank (31), in order to prevent contact with the air of the developing solution and the developing solution stock, as to seal the inert gas such as nitrogen It has been made to. また、本発明の供給装置においては、系内の液量を一定に保つため、現像液原液を供給した際に余剰の使用済現像液を系外に排出する機構が適宜の箇所に設けられる。 Further, the supply device of the present invention, in order to keep a liquid volume in the system constant, a mechanism for discharging the excess spent developer to the outside of the system is provided in an appropriate position when supplying the developer stock solution. 図示しないが、例えば、回収液貯槽(21)には、制御弁を含むドレン用の流路またはオーバーフロー装置が付設される。 Although not shown, for example, the recovered liquid storage tank (21), a flow path or the overflow device for a drain including a control valve is attached.
【0023】 [0023]
上記の第1の濃度計(5)は、供給貯槽(1)へ送液される一定温度の使用済現像液の濃度を検出するため、例えば、恒温槽(23)の後段側の流路(91)の途中に配置される。 First densitometer above (5), in order to detect the concentration of the used developer of constant temperature is fed to the feed storage tank (1), for example, the rear stage side of the flow path of the thermostatic chamber (23) ( are located in the middle of the 91). 本発明の供給装置においては、使用済現像液中の溶解樹脂濃度の変動に影響を受けることなく高精度に樹脂濃度およびアルカリ濃度を検出するために特定の濃度計が使用される。 In the supply device of the present invention, the specific densitometer to detect the resin concentration and the alkali concentration with high accuracy without being influenced by the variation of dissolution resin concentration in the spent developer is used. 具体的には、上記の第1の濃度計(5)としては、現像液における超音波伝播速度および現像液の電磁導電率を計測し、予め作成された所定温度および所定濃度における超音波伝播速度と電磁導電率との関係(マトリックス)に基づき、アルカリ濃度および樹脂濃度を検出する多成分濃度計が使用される。 Specifically, the first concentration meter (5), the electromagnetic conductivity of ultrasonic wave propagation velocity and the developer in the developer is measured, the ultrasonic propagation velocity in the predetermined temperature and a predetermined concentration previously created and based on the relationship between the electromagnetic conductivity (matrix), multi-component concentration meter that detects the alkali concentration and the resin concentration is used.
【0024】 [0024]
上記の多成分濃度計は、一定温度の溶液中の超音波伝播速度および電磁導電率を測定することにより、3成分系溶液の2成分の濃度を同時にリアルタイムで測定可能な濃度計である。 The above multi-component concentration meter, by measuring the ultrasound propagation velocity and electromagnetic conductivity of the solution in a constant temperature, a real-time measurable densitometer simultaneously the concentrations of two components of ternary solution. すなわち、多成分濃度計は、溶液の温度が一定ならば、各成分の濃度に応じて液中の超音波の伝播速度および電磁導電率が一義的に特定されると言う原理に基づくものであり、主に、超音波変換器、超音波発信器、電磁導電率変換器、電磁導電率発信器および所定の演算を行うマイクロプロセッサーから成る。 That is, the multi-component concentration meter, if the temperature of the solution is constant, is based on the principle called ultrasound propagation velocity and electromagnetic conductivity in the solution depending on the concentration of each component is uniquely identified primarily, ultrasonic transducers, ultrasonic transmitter, inductive conductivity transducer, comprising inductive conductivity transmitter and from the microprocessor to perform a predetermined operation.
【0025】 [0025]
多成分濃度計においては、上記の様な現像液の濃度測定に適用する場合、アルカリ濃度および溶解樹脂濃度の各種組み合わせ毎に一定温度条件下で予め計測された超音波伝播速度と電磁導電率の関係をマトリックスとして予め準備されることにより、すなわち、マイクロプロセッサーに書き込まれることにより、前記のマトリックスに基づき、測定値からアルカリ濃度および溶解樹脂濃度を正確に推定演算できる。 In multi-component concentration meter, when applied to the concentration measurement of such developing solution described above, the pre-measured ultrasound propagation velocity and the electromagnetic conductivity at constant temperature conditions in each various combinations of alkali concentration and dissolution resin concentration by being prepared in advance a relation as a matrix, i.e., by being written into the microprocessor, based on the matrix, it can be accurately estimated and calculated alkali concentration and dissolution resin concentration from the measured values. 上記の様な多成分濃度計としては、富士工業社製の商品名「FUD−1 Model−51」として知られる液体用超音波多成分濃度計が好適に使用できる。 The multi-component concentration meter such as described above, liquid ultrasonic multicomponent densitometer known as Fujikogyo Co., Ltd. under the trade name "FUD-1 Model-51" can be preferably used.
【0026】 [0026]
本発明の供給装置は、上記の第1の濃度計(5)による検出濃度に基づき、原液供給機構(3)による現像液原液の送液を制御可能になされている。 Supply device of the present invention is based on the concentration detected by the first concentration meter (5), are made controllably liquid transfer of the developer stock solution by solution feed mechanism (3). 現像液原液の送液は、後述する制御装置(図示省略)によって制御される。 Feeding of the developer stock is controlled by the later-described control unit (not shown). これにより、使用済現像液におけるアルカリ濃度の低下ならびに樹脂濃度の上昇を補完し、供給貯槽(1)に貯留する現像液のアルカリ濃度を常時一定に管理でき、樹脂濃度を常時一定以下に管理できる。 Thus, complement the increase of reduction and resin concentration of the alkali concentration in the spent developer, the alkali concentration of the developing solution stored in the supply tank (1) can be managed to always constant, it can manage the resin concentration constant at all times or less .
【0027】 [0027]
ところで、現像装置(99)に供給する現像液の濃度をより高精度に管理するには、供給貯槽(1)における現像液の濃度を直接検出するのが好ましい。 However, to manage the density of the developer supplied to the developing device (99) more accurately, it is preferable to detect the concentration of the developer in the supply tank (1) directly. また、回収液供給機構(2)によって送液される使用済現像液の溶解樹脂濃度が許容値を越えている場合にも、溶解樹脂濃度が所定値以下となる様に、原液供給機構(3)によって現像液原液を供給するが、現像液原液の供給量によっては、供給貯槽(1)におけるアルカリ濃度が目標値を越える虞がある。 Also, if the dissolving resin concentration of the used developer is fed by the recovery liquid supply mechanism (2) exceeds the allowable value even as dissolved resin concentration is equal to or less than a predetermined value, the starting solution feed mechanism (3 ) supplies a developer stock solution by, depending on the supply amount of the developer stock, the alkali concentration in the feed storage tank (1) there is a possibility to exceed the target value.
【0028】 [0028]
そこで、本発明の供給装置においては、希釈水を供給貯槽(1)に供給する希釈水供給機構が備えられている。 Therefore, in the supply device of the present invention, the dilution water supply mechanism is provided for supplying the feed storage tank (1) dilution water. しかも、供給貯槽(1)において現像液のアルカリ濃度を最終的に微調節するため、供給貯槽(1)の現像液の温度を一定に調節する第2の温度調節手段と、供給貯槽(1)の一定温度の現像液のアルカリ濃度および樹脂濃度を検出する第2の濃度計(8)とが備えられている。 Moreover, in order to ultimately fine adjustment of alkali concentration of the developing solution in the feed tank (1), and a second temperature adjusting means for adjusting the temperature of the developing solution supply tank (1) constant, the supply tank (1) second concentration meter for detecting the alkali concentration and the resin concentration of the developing solution at a constant temperature (8) and are provided for. そして、本発明の供給装置においては、第2の濃度計(8)による検出濃度に基づき、原液供給機構(3)による現像液原液の送液ならびに上記の希釈水供給機構による希釈水の送液を後述の制御装置によって制御可能になされている。 Then, the supply device of the present invention is based on the concentration detected by the second concentration meter (8), feeding the dilution water by the liquid feed and the above-described dilution water supply mechanism of the developer stock solution by solution feed mechanism (3) the have been made to be controlled by a control device which will be described later.
【0029】 [0029]
上記の希釈水供給機構としては、通常、純水製造装置(6)が使用され、供給貯槽(1)には、純水製造装置(6)から流路(95)を通じて超純水が供給可能になされている。 Examples of the dilution water supply mechanism typically used pure water production device (6) is, the feed storage tank (1) is ultra pure water can be supplied through the channel (95) from the pure water production system (6) It has been made to. 上記の第2の温度調節手段は、一層正確に現像液の濃度を測定するために設けられており、例えば、現像液の撹拌手段としての循環流路(96)の途中に配置された恒温槽(72)によって構成される。 The second temperature adjustment means mentioned above is provided for measuring the concentration of more accurately developer, for example, a thermostat positioned in the middle of the circulation flow path as stirring means in the developing solution (96) constituted by (72). すなわち、供給貯槽(1)においては、循環途中の現像液を一時的に恒温槽(72)に滞留させることにより、現像液の温度を一定に保持する様になされている。 That is, in the feed storage tank (1), by staying temporarily thermostatic bath liquid developer in the middle of the circulation (72), it has been made so as to maintain the temperature of the developer constant. また、第2の濃度計(8)としては、第1の濃度計(5)と同様の多成分濃度計が使用される。 As the second concentration meter (8), the multi-component concentration meter similar to the first concentration meter (5) is used.
【0030】 [0030]
現像液原液および希釈水の供給制御は、上記の第2の濃度計(8)による検出濃度に基づき、原液供給機構(3)からの現像液原液の供給量および希釈水供給機構(純水製造装置(6))からの希釈水の供給量をカスケード制御することにより行われる。 Supply control of the developer stock solution and dilution water, based on the detected concentration of the second densitometer (8), feed rate and the dilution water supply mechanism (pure water production of the developer stock solution from the stock solution feed mechanism (3) the supply amount of dilution water from the device (6)) is performed by cascade control. 斯かる制御においては、例えば、特開平10−180076号公報に記載の「酸またはアルカリ原液の希釈方法および希釈装置」にて開示されたいわゆる漸近法が利用できる。 In such a control, for example, a so-called asymptotic method disclosed in "dilution method and the dilution device of acid or alkaline stock solution" described in JP-A-10-180076 can be used.
【0031】 [0031]
具体的には、上記の漸近法を利用した供給貯槽(1)におけるアルカリ濃度の調節では、アルカリ濃度が低下した(又はアルカリ濃度が高くなった)供給貯槽(1)内の現像液に高濃度の現像液原液(又は希釈水)を添加して所定濃度に調節するにあたり、第2の濃度計(8)によって現像液の濃度を測定する濃度測定工程と、濃度測定工程で測定された濃度値と目標濃度値の差に基づいて現像液原液の不足量(又は希釈水の添加量)を演算し、算出された不足量(又は添加量)の85〜99%、好ましくは92〜98%に相当する量を供給する調製工程とを実行すると共に、測定される濃度値が予め設定された目標濃度の域値内の値となるまで前記の濃度測定工程および調製工程を繰り返す。 Specifically, the adjustment of alkali concentration in the feed storage tank (1) using the asymptotic method described above, the alkali concentration is lowered (or alkali concentration is higher) high concentration in the developer in the supply reservoir (1) Upon adjusting the developer solution (or diluting water) a predetermined concentration with the addition of a density measuring step of measuring the concentration of the developer by the second concentration meter (8), the concentration values ​​measured in the concentration measurement step a shortage of the developer stock solution based on the difference between the target density value (or amount of dilution water) to calculate the 85 to 99 percent of insufficient quantity calculated (or amount), preferably a 92% to 98% and executes a preparation step of supplying a corresponding quantity, to a concentration value to be measured is a value within range values ​​preset target concentration repeating the concentration measuring process and the preparation process. これにより、供給貯槽(1)における現像液中のアルカリ濃度を更に高い精度で管理することが出来る。 Thus, it is possible to manage with higher accuracy alkali concentration in the developing solution in the supply tank (1).
【0032】 [0032]
更に、本発明のより好ましい態様においては、供給貯槽(1)にて現像液の濃度を一層高精度に管理するため、第2の温度調節手段としての恒温槽(72)には、現像液の温度を検出する温度センサー(図示省略)が備えられている。 Furthermore, in a more preferred embodiment of the present invention, to manage the more accurate the concentration of the developing solution at a delivery tank (1), the thermostat of the second temperature adjusting means (72), the developer temperature sensor for detecting the temperature (not shown) is provided. そして、第2の濃度計(8)には、供給貯槽(1)におけるアルカリ濃度および樹脂濃度を検出するにあたり、上記の温度センサーによって検出された現像液の温度に基づいて補正演算する機能が備えられている。 Then, the second concentration meter (8), when detecting the alkali concentration and the resin concentration in the feed storage tank (1), function of correcting operation based on the temperature of the developing solution detected by said temperature sensor comprises It is.
【0033】 [0033]
すなわち、上記の様な多成分濃度計においては、アルカリ濃度および溶解樹脂濃度の各種組み合わせ毎に且つ複数の温度条件下で予め測定して得られた超音波伝播速度と電磁導電率の関係をマトリックスとして予め準備することにより、斯かるマトリックス及び検出された実際の現像液の温度に基づき、供給貯槽(1)の現像液のアルカリ濃度および溶解樹脂濃度を一層正確に推定演算できる。 That is, in such a multi-component concentration meter above, the matrix alkali concentration and dissolution resin concentration of various combinations every and previously measured and the resulting relationship ultrasonic propagation velocity and electromagnetic conductivity at a plurality of temperature conditions by preparing in advance as, on the basis of the temperature of such a matrix and detected actual developer can more accurately estimate operation of the alkali concentration and dissolution resin concentration of the developing solution supply tank (1).
【0034】 [0034]
本発明の供給装置においては、装置全体の稼働制御の他、上記の様な第1の濃度計(5)の測定に基づく現像液原液の送液を制御し、第2の濃度計(8)の測定に基づく現像液原液の送液および希釈水の送液を制御するための演算機能を有する制御装置(図示省略)が設けられる。 In the supply device of the present invention, other operational control of the entire apparatus, to control the liquid feed of the developing solution stock based on the measurement of the first concentration meter such as described above (5), a second concentration meter (8) developer liquid feed and control device having a calculation function for controlling the liquid feeding dilution water stock solution based on the measurement (not shown) is provided. 斯かる制御装置は、各計測機器の信号をデジタル変換する入力装置と、プログラムコントローラやコンピュータ等の演算処理装置と、演算処理装置からの制御信号をアナログ変換する出力装置とを含む。 Such control device includes an input device for digital conversion of the signals of each measurement instrument, the arithmetic processing unit such as a program controller and computer, and an output device for analog conversion on the control signal from the processor.
【0035】 [0035]
本発明の供給装置においては、回収液供給機構(2)の回収液貯槽(21)に貯留した使用済現像液を恒温槽(23)で一定温度にした後、流路(91)、流路(94)を通じて供給貯槽(1)に送液する。 In the supply device of the present invention, after a constant temperature in the recovering solution supplying mechanism recovered liquid thermostatic tank reservoir was spent developer reservoir (21) (2) (23), the passage (91), the flow path to feed the supply storage tank (1) through (94). その際、流路(91)に設けられた第1の濃度計(5)により、使用済現像液のアルカリ濃度および樹脂濃度を測定する。 At that time, the first concentration meter provided in the passage (91) (5), to measure the alkali concentration and the resin concentration of the used developer. その結果、第1の濃度計(5)で測定されたアルカリ濃度が基準値よりも低下している場合、または、樹脂濃度が基準の限界値を越えている場合には、流路(93)、流路(94)を通じ、原液貯槽(31)に貯留した高濃度の現像液原液を供給貯槽(1)へ送液する。 As a result, when the alkali concentration measured in the first concentration meter (5) is lower than the reference value, or, if the resin concentration exceeds the limit value of the reference has a passage (93) through the passage (94), feeding a developer stock solution of high concentrations stored in the stock tank (31) to the feed storage tank (1).
【0036】 [0036]
現像液原液を供給する場合、流路(91)及び流路(93)の後段に設けられた混合器(4)によって使用済現像液と現像液原液とを混合する。 When supplying a developer stock solution is mixed with the developer stock solution and spent developer by the channel (91) and a mixer disposed downstream of the flow path (93) (4). 更に、供給貯槽(1)において、貯留された現像液をポンプ(71)及び循環流路(96)から成る撹拌手段によって一層均一な濃度となる様に混合する。 Further, in the feed storage tank (1), and mixed so as to become more uniform concentration by agitation means comprising a pooled developer from the pump (71) and the circulation passage (96).
【0037】 [0037]
上記の様に、本発明の供給装置においては、使用済現像液のアルカリ濃度および樹脂濃度を第1の濃度計(5)によって測定する際、液温を一定温度に設定し、そして、第1の濃度計(5)として、測定した超音波伝播速度および電磁導電率と、予め作成された特定の関係(マトリックス)とに基づいてアルカリ濃度および樹脂濃度の両方を同時に検出する多成分濃度計を使用するため、一層正確に使用済現像液のアルカリ濃度および樹脂濃度を検出することが出来、これにより、供給貯槽(1)内の現像液の樹脂濃度を許容濃度以下に確実に管理でき、アルカリ濃度を高精度に調節できる。 As described above, in the supply device of the present invention, when measuring the alkali concentration and the resin concentration of the used developer with a first densitometer (5), to set the liquid temperature at a constant temperature, and, first as densitometer (5), and the measured ultrasonic wave propagation velocity and electromagnetic conductivity, multicomponent concentration meter for detecting simultaneously both the alkali concentration and the resin concentration on the basis of the specific relation that is created in advance (matrix) of for use, it is possible to detect the alkali concentration and the resin concentration of more accurately spent developer, thereby reliably manage than the allowable concentration of the resin concentration of the developing solution supply tank (1) in an alkali You can adjust the concentration with high accuracy.
【0038】 [0038]
また、本発明の供給装置においては、供給貯槽(1)に付設された恒温槽(72)(第2の温度調節手段)により、現像液の温度を一定に保持すると共に、第2の濃度計(8)により、循環する現像液、すなわち、供給貯槽(1)内の現像液のアルカリ濃度および樹脂濃度を測定する。 Further, the supply device of the present invention, the thermostat is attached to the feed storage tank (1) (72) (second temperature adjusting means) holds the temperature of the developer constant, the second densitometer (8), the developer circulating, i.e., to measure the alkali concentration and the resin concentration of the developing solution supply tank (1). その結果、樹脂濃度が許容値を越えている場合には、純水製造装置(6)(希釈水供給機構)により、流路(95)を通じ、供給貯槽(1)へ希釈水を供給する。 As a result, when the resin concentration exceeds the permissible value, the water purifying system (6) (dilution water supply mechanism), through the flow channel (95), for supplying dilution water to the feed storage tank (1). また、第2の濃度計(8)で測定されたアルカリ濃度が目標値よりも低下している場合には、上記の操作と同様に、原液供給機構(3)により、原液貯槽(31)の高濃度の現像液原液を供給貯槽(1)へ供給し、アルカリ濃度が許容値よりも高い場合には、純水製造装置(6)により、供給貯槽(1)へ希釈水を供給する。 Further, when the alkali concentration measured in the second concentration meter (8) is lower than the target value, as in the above operation, the solution feed mechanism (3), the stock solution storage tank (31) the high-density liquid developer stock solution was fed to the feed storage tank (1), when the alkali concentration is higher than the allowable value, the pure water production device (6), for supplying dilution water to the feed storage tank (1).
【0039】 [0039]
本発明の供給装置においては、上記の様に、一旦濃度調節された供給貯槽(1)の現像液の液温を一定温度に設定し、そして、第1の濃度計(5)と同様の多成分濃度計である第2の濃度計(8)によって再びアルカリ濃度および樹脂濃度を高精度に測定し、現像液のアルカリ濃度および樹脂濃度を微調整する。 In the supply device of the present invention, as described above, once setting the liquid temperature of the developing solution concentration regulated supply tank (1) at a constant temperature, and the first concentration meter (5) as well as multi the alkali concentration and the resin concentration again by the second densitometer is a component concentration meter (8) is measured with high accuracy, to finely adjust the alkali concentration and the resin concentration of the developing solution. しかも、その際、特定の演算機能を有する制御装置により、目標濃度に漸次近づける上記の漸近法に基づいて現像液原液または希釈水の供給量を制御する。 Moreover, this time, the controller having a particular arithmetic function and controls the supply amount of the developer stock or dilution water on the basis of the above asymptotic method to approach gradually to the target concentration. 従って、供給貯槽(1)内の現像液の樹脂濃度を許容濃度以下に一層確実に管理でき、アルカリ濃度をより一層高精度に調節できる。 Therefore, more reliably manage the resin concentration of the developing solution supply tank (1) within the permissible concentration or less, adjust the alkali concentration even more accurately. その結果、本発明の供給装置によれば、一層高い精度で濃度調節された高品位の現像液を現像装置(99)へ供給することが出来る。 As a result, according to the feeding apparatus of the present invention, it is possible to supply high-quality developer is adjusted concentration at a higher accuracy to the developing device (99).
【0040】 [0040]
因に、本発明の供給装置において、濃度計として使用した多成分濃度計の検出精度を確認するため、使用済現像液として回収されたTMAHの水溶液TMAH濃度を流路(91)において連続的に測定したところ、図2のグラフに示す通り、2.376(平均値)±0.005重量%であり、TMAH濃度を高精度に検出できた。 In this connection, in the supply device of the present invention, in order to confirm the accuracy of detection of the multi-component concentration meter was used as a densitometer, the aqueous TMAH concentration of TMAH recovered as spent developer continuously in the flow path (91) It was measured, as shown in the graph of FIG. 2, 2.376 (average value) is ± 0.005 wt%, could be detected TMAH concentration with high accuracy. なお、管理目標値として設定した溶解樹脂濃度は1000ppmであった。 Incidentally, dissolved resin concentration set as the management target value was 1000 ppm. そして、本発明の供給装置においては、供給貯槽(1)において、最終的な現像液のTMAH濃度を2.380±0.005重量%、樹脂濃度を1000±150ppmに調節することが出来た。 Then, in the feed device of the present invention, in the feed storage tank (1), a TMAH concentration of the final developer 2.380 ± 0.005 wt%, it was possible to adjust the resin concentration to 1000 ± 150 ppm.
【0041】 [0041]
【発明の効果】 【Effect of the invention】
以上説明した様に、本発明に係る現像液の供給装置によれば、特定の多成分濃度計を使用し、超音波伝播速度と電磁導電率を直接測定することにより現像液の各成分の濃度を高精度に検出できるため、一層高い精度で濃度調節された高品位の現像液を現像プロセスへ供給できる。 As described above, according to the feeder of the developer according to the present invention, the concentration of each component of the developing solution by using certain multicomponent densitometer to measure the ultrasonic wave propagation velocity and electromagnetic conductivity directly the order can be detected with high accuracy, it can provide high-quality developer is adjusted concentration at a higher accuracy to the development process.
【図面の簡単な説明】 BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS
【図1】本発明に係る現像液の供給装置の主な構成要素を示すフロー図である。 1 is a flow diagram showing the main components of the supply device of the developer according to the present invention.
【図2】多成分濃度計の検出精度をリアルタイムで確認したグラフである。 Figure 2 is a graph confirming the accuracy of detecting multicomponent densitometer in real time.
【符号の説明】 DESCRIPTION OF SYMBOLS
1 :供給貯槽2 :回収液供給機構21:回収液貯槽23:恒温槽(温度調節手段) 1: feed storage tank 2: recovery liquid supply mechanism 21: recovered solution storage tank 23: a thermostat (temperature adjusting means)
3 :原液供給機構31:原液貯槽32:ポンプ4 :混合器5 :濃度計(第1の濃度計) 3: solution feed mechanism 31: stock solution storage tank 32: Pump 4: mixer 5: densitometer (first densitometer)
6 :純水製造装置(希釈水供給機構) 6: pure water production system (diluting water supply mechanism)
72:恒温槽(第2の温度調節手段) 72: constant temperature bath (second temperature adjusting means)
8 :第2の濃度計91:流路92:循環流路93:流路94:流路95:流路96:循環流路97:流路99:現像装置 8: a second densitometer 91: passage 92: circulating passage 93: flow path 94: the passage 95: flow path 96: circulating passage 97: flow path 99: the developing device

Claims (3)

  1. アルカリ水溶液から成る現像液を現像プロセスに供給する現像液の供給装置であって、供給すべき現像液を貯留する供給貯槽と、回収した使用済現像液の温度を一定に調節する温度調節手段を備え且つ使用済現像液を前記供給貯槽に送液する回収液供給機構と、新たな現像液原液を前記供給貯槽に送液する原液供給機構と、前記回収液供給機構によって送液される一定温度の使用済現像液のアルカリ濃度および樹脂濃度を検出する濃度計とが備えられ、前記濃度計は、現像液における超音波伝播速度および現像液の電磁導電率を計測し、予め作成された所定温度および所定濃度における超音波伝播速度と電磁導電率との関係に基づき、アルカリ濃度および樹脂濃度を検出する多成分濃度計であり、そして、前記濃度計による検出濃度に基づき A developer supply device for supplying a developing solution comprising an alkali aqueous solution in the developing process, a supply tank for storing the liquid developer to be supplied, the temperature adjusting means for adjusting the temperature of the recovered spent developer constant and the used developer and the recovery liquid supply mechanism for feeding said supply reservoir, a solution feed mechanism for feeding a new developer stock solution to the supply reservoir, a constant temperature is fed by the recovering solution supplying mechanism comprising provided a densitometer for detecting the alkali concentration and the resin concentration of the used developer of the densitometer, the electromagnetic conductivity of ultrasonic wave propagation velocity and the developer in the developer is measured, a predetermined temperature that is created in advance and based on the relationship between ultrasonic wave propagation velocity and electromagnetic conductivity at a given concentration, a multi-component concentration meter for detecting the alkali concentration and the resin concentration and, based on the detected concentration by the concentration meter 前記原液供給機構による現像液原液の送液を制御可能になされていることを特徴とする現像液の供給装置。 Developer supply apparatus, characterized by being adapted to controllably feed liquid developer stock by the stock feed mechanism.
  2. 希釈水を供給貯槽に供給する希釈水供給機構と、前記供給貯槽の現像液の温度を一定に調節する第2の温度調節手段と、前記供給貯槽の一定温度の現像液のアルカリ濃度および樹脂濃度を検出する第2の濃度計とが備えられ、前記第2の濃度計は、上記の濃度計と同様の多成分濃度計であり、そして、前記第2の濃度計による検出濃度に基づき、原液供給機構による現像液原液の送液ならびに前記希釈水供給機構による希釈水の送液を制御可能になされている請求項1に記載の現像液の供給装置。 And diluting water supply mechanism for supplying dilution water to the feed storage tank, and a second temperature adjusting means for adjusting the temperature of the developer of the supply reservoir constant, the alkali concentration and the resin concentration of the developing solution at a constant temperature of the supply reservoir provided with a second concentration meter for detecting said second densitometer is a multi-component concentration meter similar to the above densitometers and, based on the detected concentration by the second densitometer stock developer supply device according to claim 1 that is adapted to controllably feeding fluid dilution water by liquid feed and the dilution water supply mechanism of the developer stock solution by the supply mechanism.
  3. 第2の温度調節手段には、現像液の温度を検出する温度センサーが備えられ、かつ、第2の濃度計には、供給貯槽におけるアルカリ濃度および樹脂濃度を検出するにあたり、前記第2の温度調節手段の温度センサーによって検出された現像液の温度に基づいて補正演算する機能が備えられている請求項2に記載の現像液の供給装置。 The second temperature adjusting means, provided with a temperature sensor for detecting the temperature of the developing solution, and, in the second densitometer, upon detecting the alkali concentration and the resin concentration in the feed tank, the second temperature developer supply device according to claim 2, it functions to correct operation is provided on the basis of the detected temperature of the developer by the temperature sensor of the adjustment means.
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