JP4014375B2 - 半導体レーザーの素子構造および製造方法 - Google Patents
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【発明の属する技術分野】
本発明は、CD−ROM(読み出し専用コンパクトディスク記憶媒体)、CD−R(書き込み可能コンパクトディスク記憶媒体)、CD−RW(書き替え可能コンパクトディスク記憶媒体)等の光ディスク装置に使用され、高出力時においても基本横モードで安定に発振するリッジストライプ型半導体レーザーの素子構造と製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来のリッジストライプ型半導体レーザーの基本構造をUSP5,297,158に開示された製造方法に基づいて説明する。
図2は横モード制御機構を持ったAlGaAs(アルミニウムガリウム砒素)実屈折率型リッジストライプ半導体レーザー素子の基本構造を上記で開示されている従来技術に従って製造した場合の構造図面である。図中1はn型GaAs基板であり、下側にn側電極41を設けてある。このn−GaAs基板1上には、n型GaAsバッファー層2、n型AlGaAs第1クラッド層3、AlGaAs第1ガイド層4、AlGaAs活性層5、AlGaAs第2ガイド層6、p型AlGaAs第1クラッド層7、p型GaAsエッチング停止(ES)層8、p型AlGaAs第2クラッド層9、p型GaAsキャップ層10が順に積層されており、ダブルヘテロ構造を形成している。ストライプ形状に加工された上記p型AlGaAs第2クラッド層9の両側面に、n型AlGaAs電流防止層21を設け、自己整合的に電流狭窄と光導波作用をなすようにしている。上記p型GaAsキャップ層10およびn型AlGaAs電流防止層21の上側全面には、p型GaAsコンタクト層31を設け、さらにその上に、p側電極42を設置している。
【0003】
図2に示された構成では、電流狭窄をn型AlGaAs電流阻止層21によるpnpn接合で行い、さらに、ストライプ形状を有するp型AlGaAs第2クラッド層9の両側面をn型AlGaAs電流阻止層21で挟むことによる屈折率分布を用いて、横モード制御を行っている。
図2に示す半導体レーザー素子の製造方法を、その製造過程をプロセス順に並べた図12から図20に基づいて簡単に説明する。図の全てはリッジストライプ方向に対する垂直断面図である。
【0004】
まず、n型GaAs基板1上に、n型GaAsバッファー層2からp型GaAsキャップ層10の9層を順次結晶成長させる(図12)。図13以降は、図12のp型AlGaAs第1クラッド層7から上の部分を拡大したもので、以下この部分拡大図面に基づいて説明する。p型GaAsキャップ層10上にフォトレジスト11を用いてストライプ状マスクを形成する(図14)。次に、硫酸系エッチング液を用いて、p型GaAsキャップ層10と、p型AlGaAs第2クラッド層9の厚さ方向の途中までをウェットエッチングした後(図15)、フッ酸系エッチング液を用いてp型AlGaAs第2クラッド層9をp型GaAs層エッチング停止層8までエッチングする。フッ酸系エッチング液はAlを多く含む(Al組成比の高い)p型AlGaAs第2クラッド層9を浸蝕し、Alを含まないGaAsに対しては浸蝕を起こさないため、エッチングされたp型AlGaAs第2クラッド層は図16に示すような下部ストライプ幅W1を有するメサ形状となる。表面のストライプ状フォトレジスト膜11を除去した後(図17)、n型AlGaAs電流阻止層21を結晶成長させる(図18)。次に、フォトリソグラフィー法とウェットエッチング法を用いて、p型GaAsキャップ層10の上に成長したn型AlGaAs電流阻止層21を除去し、p型GaAsキャップ層10の頭を露出させた後(図19)、表面のフォトレジストを除去し、p型GaAsコンタクト層31を結晶成長させる(図20)。
【0005】
次に、n−GaAs基板1の下面を研磨し、これまでの工程で形成した積層構造を有するウエハ全体の厚さを120μm程度にした後、このコンタクト層31の上にp側電極42を形成する一方、n型GaAs基板1の下にn側電極41を形成して、半導体レーザー素子の基本部分を完成する(図2)。
【0006】
この構造形態では、フッ酸系のエッチング液を用い、Alを多く含んだ(Al組成比の高い)クラッド層をウェットエッチングし、リッジストライプを形成することを特徴としている。Al組成比の低い層はフッ酸系のエッチング液ではエッチングされないため、エッチング時間を調節することにより、GaAsエッチング停止層の上に所望のリッジストライプ幅を持つメサ形状のクラッド層を形成することができる。レーザー光の水平方向、垂直方向の放射特性は、このメサ形状の下部ストライプ幅W1に強い相関があるため、放射特性の揃った素子を安定的に製造するためには、この形態は非常に有用な構造である。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、図2に示す構造の半導体レーザー素子の製造方法には、以下のような欠点があった。硫酸系エッチング液を用いて、p型GaAsキャップ層10と、p型AlGaAs第2クラッド層9の厚さ方向の途中までをエッチングした後、フッ酸系エッチング液でウェットエッチングしてメサ形状を形成する際にp型AlGaAs第2クラッド層の側面からサイドエッチが進行し、メサ形状の上部幅W2とp型GaAsキャップ層の下部幅W3の間に明確な段差が生じる。丁度p型GaAsキャップ層10の両端部が、p型AlGaAs第2クラッド層に対して、家屋のひさし様の形状として残ることになり、次にn型AlGaAs電流阻止層21を結晶成長する際に、p型GaAsキャップ層10のひさし状両端部の直下から成長したn型AlGaAsと、p型GaAsエッチング停止層8の表面から成長し始めたn型AlGaAsが途中で連結し、メサ部の横に空洞22が形成される場合がある。この空洞22はレーザーを最終的に素子化した際にレーザー光の吸収を引き起こし、微分効率の低下と駆動動作電流の増大を引き起こすことが分かっている。さらに、今まで述べてきた製造方法では空洞22の形状をコントロールすることは困難であり、同一基板内での特性バラツキが生じて歩留の低下する原因となっていた。
【0008】
【課題を解決するための手段】
空洞22の発生を無くす、もしくは大幅に縮小するために、本発明では、半導体基板上に、第1導電型クラッド層、活性層、第2導電型第1(下部)クラッド層、エッチング停止層、第2導電型第2(上部)クラッド層および第2導電型キャップ層を積層した後、該第2導電型キャップ層と第2導電型第2クラッド層を共振器方向にストライプ状に加工し,前記ストライプ部を前記第2導電型第2クラッド層よりバンドギャップの広い電流阻止層で挟み、かつ該ストライプ部と頂部で接する第2導電型コンタクト層を形成した半導体レーザー素子において、以下の手段を講じている。
【0009】
本発明では、ストライプ状に加工した第2導電型第2クラッド層の中央部をくびれた形状とし、電流阻止層を結晶成長する際に生じる空洞22の形成を抑える構造とした。
また、本発明では、第2導電型第2クラッド層の上部幅W2と第2導電型キャップ層の下部幅W3をほぼ等しくすることで、キャップ層とクラッド層との間に段差を無くし、空洞22の形成を抑える構造とした。
また、本発明では、第2導電型第2クラッド層には構成原子としてAlを含有し、第2導電型キャップ層およびエッチング停止層にはAlを含まない化合物を使用することにより、ストライプ部を形成する際に、フッ酸系のエッチング液を使用し、エッチング停止層の上に所望のリッジストライプ幅を持つクラッド層を形成することを可能とした。
【0010】
また、本発明では、前記第2導電型第2クラッド層を、少なくとも結晶成長プロセスの途中からAl組成比が連続的に小さくなるように設計し、成長させることにした。フッ酸系のエッチング液では、化合物中のAl組成比の大小によってエッチング速度が大きく変わるため、第2導電型第2クラッド層の上部Al組成比を下部Al組成比に比較して、小さくすることにより、フッ酸系のエッチング液を使用したときに、上部のサイドエッチ量をコントロールすることを可能にした。
【0011】
さらに、本発明では、前記電流阻止層を有機金属化学気相堆積法(MOCVD法)を用いて形成することにより、ストライプ状にした前記第2導電型第2クラッド層および第2導電型キャップ層の側面に前記電流阻止層を回り込むように成長させることにより、さらに空洞22の形成を抑える構造とした。
【0012】
【発明の実施の形態】
本発明の実施形態について、図面を参照しながら詳細に説明する。
図1は本発明による実屈折率型リッジストライプ半導体レーザー素子の構造図面であり、図3から図11までは、図1に示す半導体レーザー素子の製造方法を、その製造過程をプロセス順に並べた模式図面であって、全て図1のリッジストライプ方向に対する垂直断面図である。
【0013】
まず、面方位(100)のn型GaAs基板1上に、結晶成長装置を用いて、n型GaAsバッファー層2(厚さ0.5μm)、n型Al0.5Ga0.5As第1クラッド層3(2.5μm)、Al0.3Ga0.7Asガイド層4と6で上下を挟んだAl0.1Ga0.9Asの活性層5(0.05μm)、p型Al0.5Ga0.5As第1クラッド層7(0.2μm)、p型GaAsエッチング停止層8(5nm)、p型第2クラッド層9(1.5μm)、p型GaAsキャップ層10(0.7μm)を、順次結晶成長させて積層する(図3)。p型第2クラッド層9は少なくとも結晶成長プロセスの途中からAl組成比が小さくなるように設計し、成長させることを特徴としており、本実施例ではp型Al0.5Ga0.5As第2Al高組成クラッド層9a(1μm)を積層した後、Al組成比が成長するに従い0.5から0.3まで減少するように成長させたp型AlGaAs第2Al低組成化クラッド層9b(0.5μm)を積層するシーケンスで行った。
【0014】
図4以降は、図3のp型AlGaAs第1クラッド層7から上の部分を拡大したもので、以下この部分拡大図面に基づいて説明する。
第1の結晶成長終了後、p型GaAsキャップ層10の表面にフォトレジスト膜11を約0.2μmの厚さに塗布し、写真蝕刻法によって幅6μmのストライプ状に形成した後(図5)、GaAsとAlGaAsとの間でエッチング選択性のない硫酸系エッチング液を用いて、ストライプ状レジスト膜11が被覆していない部分のp型GaAsキャップ層10と、p型AlGaAs第2Al低組成化クラッド層9bの全てと、p型AlGaAs第2Al高組成クラッド層9aの途中までをウェットエッチングする(図6)。次に、フッ酸系エッチング液を使って、p型第2クラッド層9をエッチングする。(図7)。図中p型GaAsキャップ層10とp型GaAsエッチング停止層8はAlを含んでいないため、フッ酸系エッチング液ではエッチングされない。フッ酸系エッチング液によるエッチング時間を管理することにより、p型AlGaAs第2Al高組成クラッド層9aの下部ストライプ幅W1を制御することが可能である。
【0015】
p型AlGaAs第2Al高組成クラッド層9aのAl組成比は0.5で下部から上部まで一定にしてあり、その側面形状は、従来法を説明した図16でできるp型AlGaAs第2クラッド層9のメサ部途中までと同じ傾斜を持つ。p型AlGaAs第2Al低組成化クラッド層9bは上部に近づくほどAl組成比を連続的に下げ、最終的にはp型AlGaAs第2Al低組成化クラッド層9bの組成比はAl0.3程度としているため、フッ酸系エッチング液でのサイドエッチング量が上部と下部で異なることになり、図7に示すような、中央部でくびれた形状を持つクラッド部を形成し、p型AlGaAs第2Al低組成化クラッド層9bの上部幅W2とp型GaAsキャップ層10の下部幅W3を同程度とすることが可能である。この結果リッジストライプ形状のサイド部には大きな段差や家屋のひさし様の部位が無くなる。
【0016】
表面のストライプ状フォトレジスト膜11を除去した後(図8)、n型AlGaAs電流阻止層21をp型Al0.5Ga0.5As第2Al高組成クラッド層9aおよびp型AlGaAs第2Al低組成化クラッド層9bの側面を確実に覆うように、MOCVD法を用いて、1.5μm結晶成長する(図9)。n型AlGaAs電流阻止層21のAl組成比を0.7の高組成比とし、電流狭窄をpnpn構造によって行う一方、実屈折率分布構造を用いて横モード制御を行っている。リッジストライブ部側面の中央部がくびれた形状となっていても、MOCVD法のような気相成長法を用いれば、連続した膜で側面を覆うことが可能である。
【0017】
次に、フォトリソグラフィー法とウェットエッチング法を用い、p型GaAsキャップ層10の上に成長したn型AlGaAs電流阻止層21を除去し、p型GaAsキャップ層10の頭を露出させた後(図10)、表面のフォトレジストを除去し、p型GaAsコンタクト層31を約40μm結晶成長する(図11)。
【0018】
次に、n−GaAs基板1の下面を研磨し、これまでの工程で形成した積層構造を有するウエハ全体の厚さを120μm程度にした後、このコンタクト層31の上にp側電極42を形成する一方、n型GaAs基板1の下にn側電極41を形成する。共振器長が800μmになるようにウエハをへき開した後、光出射端面にAl2O3保護膜を形成して低反射率(約5%)にする一方、後端面には、Al2O3/a−Siの多層膜を形成して高反射率(約95%)にして、本発明の半導体レーザー素子の製造方法を活用した実屈折率型リッジストライプ半導体レーザー素子が完成する(図1)。
上記実施形態の半導体レーザー素子の特性については、発振波長780nm閾値電流35mA、光出力180mWまでキンクフリーであった。
【0019】
本発明による実施形態の半導体レーザーと、従来技術として図2および図12から20で説明した従来構造の半導体レーザーの駆動電流対光出力特性を図21に示す。閾値電流値はほぼ35mAとともに同じであるが、駆動電流対光出力の傾きから読み取られる微分効率は、従来構造では0.93−0.97 W/Aであったのに対して、本発明による第1実施の形態の半導体レーザーでは、1.04−1.07 W/Aと向上しており、本発明の半導体レーザーで光出力特性が改善されていることが分かる。
【0020】
なお、本発明の説明においては、実施例でGaAs基板上にAlGaAs系材料を成長させた場合について述べたが、それ以外にクラッド層にGaとAlを含む材料、AlGaInP系材料、AlGaInAs系材料に対しても同じ技術を用いて適用することが可能である。
【0021】
【発明の効果】
本発明では、第2導電型第2クラッド層の中央部をくびれた形状とすることで、電流阻止層を結晶成長させる際に生じる空洞22の形成を抑える構造とした。また、本発明では、第2導電型第2クラッド層の上部幅W2と前記第2導電型キャップ層の下部幅W3をほぼ等しくすることで、キャップ層とクラッド層との間に段差を無くし、空洞22の形成を抑える構造とした。
【0022】
また、本発明では、第2導電型第2クラッド層には構成原子としてAlを含有し、第2導電型キャップ層にはAlを含まない化合物を使用することにより、ストライプ部を形成する際に、フッ酸系のエッチング液を使用し、エッチング停止層の上に所望のリッジストライプ幅を持つクラッド層を形成することを可能とした。
また、本発明では、前記第2導電型第2クラッド層を、少なくとも結晶成長プロセスの途中からAl混晶比が連続的に小さくなるように設計し、成長させることにした。フッ酸系のエッチング液では、化合物中のAl組成比の大小によってエッチング速度が大きく変わるため、第2導電型第2クラッド層の上部のAl組成比を、下部のAl組成比に比較して小さくすることにより、フッ酸系のエッチング液を使用したときに生じるサイドエッチ量をコントロールすることが可能となった。
【0023】
さらに、本発明では、前記電流阻止層を有機金属化学気相堆積法(MOCVD法)を用いて形成することにより、ストライプ状にした前記第2導電型第2クラッド層および第2導電型キャップ層の側面に前記電流阻止層を回り込むように成長させることにより、さらに空洞22の形成を抑える構造とした。
以上の構造変化の結果、従来構造でn型AlGaAs電流阻止層21を結晶成長した際に発生していた空洞22の発生を抑えることができた。この結果、レーザー光の吸収が減り、従来の素子に比較し微分効率が向上し、高出力駆動時の動作電流を低減することを可能にした。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の実施例に基づく実屈折率型リッジストライプ半導体レーザー素子の構造を示す模式図面である。
【図2】 従来の製造方法で作製された実屈折率型リッジストライプ半導体レーザー素子の構造の一例を示す模式図面である。
【図3】 図1に示した、本発明の実施例に基づく実屈折率型リッジストライプ半導体レーザー素子の製造過程のうちの1つの工程を模式的に示す、リッジストライプ方向に対する垂直断面図である。
【図4】 図1に示した、本発明の実施例に基づく実屈折率型リッジストライプ半導体レーザー素子の製造過程のうちの1つの工程を模式的に示す、リッジストライプ方向に対する垂直断面図である。
【図5】 図1に示した、本発明の実施例に基づく実屈折率型リッジストライプ半導体レーザー素子の製造過程のうちの1つの工程を模式的に示す、リッジストライプ方向に対する垂直断面図である。
【図6】 図1に示した、本発明の実施例に基づく実屈折率型リッジストライプ半導体レーザー素子の製造過程のうちの1つの工程を模式的に示す、リッジストライプ方向に対する垂直断面図である。
【図7】 図1に示した、本発明の実施例に基づく実屈折率型リッジストライプ半導体レーザー素子の製造過程のうちの1つの工程を模式的に示す、リッジストライプ方向に対する垂直断面図である。
【図8】 図1に示した、本発明の実施例に基づく実屈折率型リッジストライプ半導体レーザー素子の製造過程のうちの1つの工程を模式的に示す、リッジストライプ方向に対する垂直断面図である。
【図9】 図1に示した、本発明の実施例に基づく実屈折率型リッジストライプ半導体レーザー素子の製造過程のうちの1つの工程を模式的に示す、リッジストライプ方向に対する垂直断面図である。
【図10】 図1に示した、本発明の実施例に基づく実屈折率型リッジストライプ半導体レーザー素子の製造過程のうちの1つの工程を模式的に示す、リッジストライプ方向に対する垂直断面図である。
【図11】 図1に示した、本発明の実施例に基づく実屈折率型リッジストライプ半導体レーザー素子の製造過程のうちの1つの工程を模式的に示す、リッジストライプ方向に対する垂直断面図である。
【図12】 図2に示した、従来の製造方法で作製された実屈折率型リッジストライプ半導体レーザー素子の製造過程のうちの1つの工程を模式的に示す、リッジストライプ方向に対する垂直断面図である。
【図13】 図2に示した、従来の製造方法で作製された実屈折率型リッジストライプ半導体レーザー素子の製造過程のうちの1つの工程を模式的に示す、リッジストライプ方向に対する垂直断面図である。
【図14】 図2に示した、従来の製造方法で作製された実屈折率型リッジストライプ半導体レーザー素子の製造過程のうちの1つの工程を模式的に示す、リッジストライプ方向に対する垂直断面図である。
【図15】 図2に示した、従来の製造方法で作製された実屈折率型リッジストライプ半導体レーザー素子の製造過程のうちの1つの工程を模式的に示す、リッジストライプ方向に対する垂直断面図である。
【図16】 図2に示した、従来の製造方法で作製された実屈折率型リッジストライプ半導体レーザー素子の製造過程のうちの1つの工程を模式的に示す、リッジストライプ方向に対する垂直断面図である。
【図17】 図2に示した、従来の製造方法で作製された実屈折率型リッジストライプ半導体レーザー素子の製造過程のうちの1つの工程を模式的に示す、リッジストライプ方向に対する垂直断面図である。
【図18】 図2に示した、従来の製造方法で作製された実屈折率型リッジストライプ半導体レーザー素子の製造過程のうちの1つの工程を模式的に示す、リッジストライプ方向に対する垂直断面図である。
【図19】 図2に示した、従来の製造方法で作製された実屈折率型リッジストライプ半導体レーザー素子の製造過程のうちの1つの工程を模式的に示す、リッジストライプ方向に対する垂直断面図である。
【図20】 図2に示した、従来の製造方法で作製された実屈折率型リッジストライプ半導体レーザー素子の製造過程のうちの1つの工程を模式的に示す、リッジストライプ方向に対する垂直断面図である。
【図21】 本発明の実施例に基づく実屈折率型リッジストライプ半導体レーザー素子と、従来技術で作製された実屈折率型リッジストライプ半導体レーザー素子の駆動電流対光出力特性の比較データを示すグラフである。
【符号の説明】
1.n型GaAs基板
2.n型GaAsバッファー層
3.n型A1GaAs第1クラッド層
4.AlGaAs第1ガイド層
5.AlGaAs活性層
6.AlGaAs第2ガイド層
7.p型AlGaAs第1クラッド層
8.p型GaAsエッチング停止層
9.p型AlGaAs第2クラッド層
9a.p型AlGaAs第2Al高組成クラッド層
9b.p型AlGaAs第2Al低組成化クラッド層
10.p型GaAsキャップ層
11.フォトレジスト
W1.p型AlGaAs第2クラッド層下部幅
W2.p型AlGaAs第2クラッド層上部幅
W3.p型GaAsキャップ層下部幅
Wc.p型AlGaAs第2クラッド層くびれ部幅(組成比変更の境界)
21.n型AlGaAs電流阻止層
22.空洞
31.p−GaAsコンタクト層
41.n側電極
42.p側電極
Claims (3)
- GaAs基板上に、第1導電型クラッド層、活性層、第2導電型第1(下部)クラッド層、エッチング停止層、第2導電型第2(上部)クラッド層および第2導電型キャップ層を積層した後、該第2導電型キャップ層と第2導電型第2クラッド層を共振器方向にストライプ状に加工し、前記ストライプ部を前記第2導電型第2クラッド層よりバンドギャップの広い電流阻止層で挟み、かつ該ストライプ部と頂部で接する第2導電型コンタクト層を形成した半導体レーザー素子において、少なくとも前記第2導電型クラッド層は構成原子としてAlを含むGaAs化合物であり、前記第2導電型キャップ層およびエッチング停止層はAlを含まないGaAs化合物であって、前記第2導電型クラッド層には少なくとも成長プロセスの途中からAl組成比が小さくなるよう成長された低組成化クラッド層を有し、フォトリソグラフ法によって、前記第2導電型キャップ層のすべてと前記第2導電型第2クラッド層の途中までを両層に選択性のないエッチング液を用いてエッチングし、続いて、高いAl組成比を有する残りの第2導電型第2クラッド層を選択的にエッチングするエッチング液を用いてエッチングすることにより、前記第2導電型第2クラッド層および第2導電型キャップ層をストライプ状に加工して、前記第2導電型キャップ層と第2導電型第2クラッド層よりなる前記ストライプ部の垂直断面において、第2導電型第2クラッド層の上部幅と第2導電型キャップ層の下部幅がほぼ一致するとともに、上記第2導電型第2クラッド層が、中央部でくびれた形状を有することを特徴とする半導体レーザー素子。
- 前記第2導電型第2クラッド層および前記第2導電型キャップ層をストライプ状に加工する際には、第2導電型キャップ層と第2導電型第2クラッド層の両層に選択性のないエッチング液を用いて、第2導電型クラッド層のうち成長プロセスの途中からAl組成比が小さくなるよう成長された低組成化クラッド層の全てをエッチングすることを特徴とする請求項1に記載の半導体レーザー素子。
- 前記電流阻止層を有機金属化学気相堆積法(MOCVD法)を用いて形成することを特徴とする請求項1に記載の半導体レーザー素子。
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