JP4010561B2 - 親水性化された歯科印像化合物 - Google Patents

Description

本発明は、特殊な添加物によって親水性化された歯科印像化合物に関する。
付加−架橋又は縮合−架橋シリコン類を主剤とした、あるいはポリエーテルシリコン類とポリエーテル類とを主剤とした歯科印像化合物にあっては、このようなペーストの流動挙動が劣るために、その結果、親水性が充分ではなく、印像の採得鮮鋭度が満足のいくものではないという問題点がある。この問題点は、例えばDE-A-38 38 587号、第２頁第19〜23行、あるいはEP-A-0 480 238号、第２頁第１〜26行に記載されている。
この印像化合物の親水性を高める種々の添加物が、この問題点を解決するための文献において記載されてきた。この技術の状況の調査は、例えばEP-A-0 480 238号、第２頁第20〜38行に記載されている。例えば国際出願WO 87/03001号又はEP-B-0 231 420号に記載されているようなポリエーテルシロキサン類は、特に効果的な添加物であることが証明されてきた。
このような添加物はいずれも、明らかに印像化合物の親水性を改良することが示されているが、これらはまた、以下に挙げられている一連の問題点をも示す。
−膨潤により引き起こされる寸法不安定性の結果を伴った増加された吸水性（DE-A-43 06 997号、第２頁第44行以下）。
−シリコン印像化合物の場合における気泡の発生（EP-A-0 480 238号、第２頁第27〜38行、及び、DE-A-43 06 997号、第２頁第44〜56行）。
−悪い安定性（EP-B-0 231 420号、第５頁第13〜27行）。
−硬化の遅れ（DE-A-43 06 997号、第２頁第53行以下）。
−消毒後の親水性の喪失（DE-A-43 06 997号、第２頁第37行以下；又、
Journal of Prosthodontics、第３巻、No. 1, 1994年、第31〜34頁）。
−加水分解に対するポリエーテルシロキサン類の悪い安定性（DE-C-43 20 920号、第５頁第32〜36行）。これによって、成形化合物の有効寿命にわたっての親水性化の長期効果が確実に保証されない。
しかしながら、歯科印像化合物の親水性化に特に適した上述のポリエーテルシロキサン類には大きな欠点がある。これらを用いて親水性化された歯科印像化合物は、消毒液に対して充分に安定ではない。処理の間に生成される印像体は、通常の方法においては少なくとも２回消毒され、これにより、望ましくない親水性の喪失が起こる。
本発明の目的は、消毒液に対して改良された耐候性を有した歯科印像体を製造することが可能な、有用な親水性化された歯科印像化合物を提供することである。
この目的は、親水性化剤として、化合物の全重量に対し、ポリエーテルカルボシラン（polyether carbosilane）を０．１〜１０重量％含有する歯科印像化合物によって達成される。
親水性化剤として特に好ましいものは、下記の一般式を有するポリエーテルカルボシラン類である。

上式にて、
Ｑは、Ｒ₃Ｓｉ−又は

この分子におけるＲは全て同じものであっても異なるものであっても良く、
脂肪族Ｃ₁〜Ｃ₁₈炭化水素基、環状脂肪族Ｃ₆〜Ｃ₁₂炭化水素基又は、芳香族Ｃ₆〜Ｃ₁₂炭化水素基を表し、これらは任意にハロゲン原子によって置換されても良く、Ｒ’はＣ₁〜Ｃ₁₄のアルキレン基であり、Ｒ”は、ａ≠０の場合にはＲで、ａ＝０の場合にはＲ又はＲ₃ＳｉＲ’で、しかも、ａ＝０〜２であり；
Ｐは、Ｃ₂〜Ｃ₁₈のアルキレン基、好ましくはＣ₂〜Ｃ₁₄のアルキレン基又はＳ−Ｒ”’を表し、この際、ＳはＣ₂〜Ｃ₁₈のアルキレン基を表し、Ｒ”’は下記のリストからの官能基を表し、

ｖ＝１〜１２である；
Ｔは、Ｈと同じであるか、あるいはＣ₁〜Ｃ₄のアルキル基又はＣ₁〜Ｃ₄のアシル基を表し；
ｘは、１〜２００の数を表し、しかも、
ｎは、１〜６、好ましくは１〜４の平均数を表す。
このポリエーテル部分は、ホモポリマーであっても良いが、統計的、交互又はブロック・コポリマーであっても良い。
下記の一般式を有するポリエーテルカルボシラン類もまた、親水性化剤として特に好ましい。

上式にて、
Ｑ’は、−ＳｉＲ₂−Ｘ−ＳｉＲ₂−を表し；
Ｘは、二価の炭化水素基、即ち、Ｃ₁〜Ｃ₁₈のアルキレン基、Ｃ₆〜Ｃ₂₀のアリーレン基、Ｃ₅〜Ｃ₁₅のシクロアルキレン基及びＣ₅〜Ｃ₁₅のポリシクロアルキレン基を表し、これらは任意に酸素含有基を有していても良く、
しかも、他の全ての記号は、前記一般式（I）と同じものを意味する。
下記の一般式を有するポリエーテルカルボシラン類もまた、親水性化剤として特に好ましい。

上式にて、全ての記号は、前記一般式（I）と同じものを意味する。
下記の一般式を有するポリエーテルカルボシラン類もまた、親水性化剤として特に好まい。

上式にて、
Ｐ’は、

この際、ｋは１〜８である；
を表し、
他の全ての記号は、前記一般式（I）と同じものを意味する。
最後に、下記の一般式を有するポリエーテルカルボシラン類もまた、親水性化剤として特に好ましい。

上式にて、
Ｑ”は、オリゴマー性又はポリマー性のカルボシランを表し、この際、少なくとも１つのシリコン原子、しかし好ましくは２０〜７０％のシリコン原子は、基−Ｐ−（ＯＣ_nＨ_2n）_xＯＴ）によって置換されており、ｏは≧１で、他の全ての記号は、前記一般式（I）と同じものを意味する。
既に述べたように、これまでの歯科印像化合物から製造された印像体は、消毒液に対して充分な安定性を示さない。この印像体の消毒は一般的には少なくとも２回行われ、その結果、親水性の喪失が起こり、印像体がキャストされた際に、水性プラスター懸濁液の悪い流動挙動が顕著になる。エッジ角度の測定は、流動挙動の尺度として使用することができる。親水性の喪失は、エッジ角度の増加を伴う。エッジ角度とは、基質の表面に対して水滴の端部が形成する角度のことである（Walter Noll, Chemistry and Technology of Silicone, Academic Press, 1968年、特に第447〜452頁）。本発明の親水性化剤は、５５°未満、好ましくは４５°未満の１０秒エッジ角度となるに充分な量で、歯科印像化合物中に存在すべきである。
例えばポリエーテルシロキサン類を用いて親水性化されたシリコシ化合物の親水性の減少は、恐らく、この親水性化剤が消毒液中に溶出されるという事実によるものである。
ポリエーテルシロキサン類を用いたシリコン化合物の親水性化は、既に述べた国際出願WO 87/03001号及びEP-B-0 231 420号において記載されている。適したポリエーテルシロキサンは、例えば下記の構造式を有する。

これらの化合物の場合には、−Ｓｉ−Ｏ−鎖は、シリコン印像化合物との相容性を付与する一方、ポリエーテル部分は親水性化及び、これによる化合物の良好な流動性能の原因となる。本発明における適したポリエーテルカルボシラン類の一つは、例えば下記の構造式を有する。

このようなポリエーテルカルボシラン類の構造のために、シリコン化合物との相容性が、ポリエーテルシロキサン類の場合よりも悪くなることが予想された。なぜならば、酸素橋かけが存在しないからである。それゆえ、本発明において使用されるべきポリエーテルカルボシラン類は、これまでに知られているポリエーテルシロキサン類よりも、消毒液中に容易に多量に溶出可能であり、しかも、それによって、印象体が消毒された際に、親水性の更に顕著な喪失が予測されるに違いないと考える必要があった。しかしながら、驚きべきことに、この場合にはそうではなかった。本発明のポリエーテルカルボシラン類を用いて親水性化された歯科印像化合物から製造された印像体は、ポリエーテルシロキサン類にて親水性化されたシリコン化合物を用いて製造されてきた印像体よりも、親水性の保持に関して、非常に好ましく挙動することが示された。
又、本発明の歯科印像化合物は、それらが安定であるという利点も有している。EP-B-0 231 420号の第５頁第17〜27行には、親水性化されたシリコン類の安定性が水分によって悪くなることが記載されている。従って、親水性シリコンの安定性を保証するために、この化合物の中に、吸着又は水を吸着する充填剤を導入しなければならない。これは、本発明による親水性化された歯科印像化合物には必要ではない。これらは、このような充填剤を添加しなくても安定である。
更に、本発明の歯科印像化合物を用いて製造されたプラスター模型が滑らかな表面を有しているという利点もある。従来技術（例えば、EP-B-0 268 347号の第２頁第７〜41行、又はDE-C-29 26 405号の第２頁第46行〜第３頁第10行、又はDE-A-43 06 997号の第２頁第44〜56行）には、付加−架橋されたシリコン類の場合に、気泡の生成という問題点があり、その結果、硬化した印像体をキャストすることによって得られたプラスター模型が、好ましくないスポンジ状の表面となることが記載されている。これを避けるために、細かく分散された白金又はパラジウムを、水素吸収剤として添加しなければならない。本発明の歯科印像化合物では、このようなことは必要ではない。本発明の歯科印像化合物から印像体をキャスティングすることによって製造されたプラスター模型は、水素吸収剤が存在しなくても滑らかな表面を有している。
本発明の歯科印像化合物の主薬は、公知の付加−架橋又は縮合−架橋シリコン類、ポリエーテルシリコン類又はポリエーテル類によって形成される。これらの材料は、従来技術において詳細に記載されており、ここでは詳細にこれらについて議論する必要はない。付加−又は縮合−架橋シリコン類は、例えばUS-A-3 897 376号、EP-B-0 231 420号に記載されており、又、US-A-4 035 453号にも第２頁にこれらが述べられており、EP-A-0 480 238号（特に第２頁第３〜26行参照）及びEP-B-0 268 347号にも記載されている。これらの特許明細書の開示も、参考文献によりここに含まれるべきものである。ポリエーテルシリコン類は、とりわけ、例えばDE-A-37 41 575号及びDE-A-38 38 587号において記載されており、これらの開示もまた同様にここに含まれるべきものである。最後に、ポリエーテル類は、とりわけ、DE-B-17 45 810号及びDE-A-43 06 997号に記載されており、これらの開示もまた同様にここに含まれるべきものである。
既に先に述べたように、本発明の歯科成形材料は、親水性化剤として、化合物の全重量に対し、ポリエーテルカルボシランを０．１〜１０重量％含有する。この化合物は、好ましくは０．５〜５重量％、特に１〜４重量％のポリエーテルカルボシランを含有する。
前記の一般式（I）において、Ｒは、好ましくは脂肪族Ｃ₁〜Ｃ₆炭化水素基、特にメチル又はエチル基、環状脂肪族Ｃ₆〜Ｃ₈炭化水素基又は、芳香族Ｃ₆〜Ｃ₈炭化水素基、特にフェニル基を表す。
Ｒ’は、好ましくはＣ₁〜Ｃ₆アルキレン基、特にメチレン又はエチレン基を表す。
もしＰがＳ−Ｒ”’と同じものでないならば、その時はＰは、Ｃ₂〜Ｃ₈、特にＣ₂〜Ｃ₆のアルキレン基が好ましい。もしＰがＳ−Ｒ”’と同じものであるならば、その時はＳは、Ｃ₂〜Ｃ₈、特にＣ₂〜Ｃ₈のアルキレン基が好ましく、Ｒ”’は、Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）又はＮＨ−Ｃ（＝Ｏ）基を示す。
Ｔは、好ましくはＨ、メチル又はエチル基、又はアセチル基を示す。
ａは、好ましくは０で、ｘは、好ましくは１〜５０の数を表し、ｎは２〜２．５の植を示す。
特に好ましいポリエーテルカルボシラン類は、以下に挙げた化合物である。

上式にて、ｙは以下の関係を満たす。
１≦ｙ≦２０又は好ましくは１≦ｙ≦１０
これらの化合物は、その構造及び製造に関して、DE-C-43 20 920号及びGB-A-15 20 421号にそれぞれ記載されている。EP-A-0 367 381号には、イオン性を有した同様の化合物が記載されている。上記の特許明細書の開示もまた、参考文献によりここに含められるべきものである。
この引用された特許文献には、水性媒質における界面活性剤として、あるいは泡調節剤として、親水性基を有したこのようなポリエーテルカルボシラン類の使用が開示されている。しかし、歯科用化合物における親水性化剤としてのそれらの使用に関する参考文献は全く存在しない。
これらの化合物の製造は、式Ｚ−（ＯＣ_nＨ_2n）_xＯＴ〔この際、ＺはＣ₂〜Ｃ₁₈のアルケニル基、好ましくはＣ₂〜Ｃ₁₄のアルケニル基、又はＣ₂〜Ｃ₈、特にＣ₂〜Ｃ₆のアルケニル基である〕で表される不飽和基を有する適したポリエーテル類と、式Ｑ−Ｈを有する対応するＳｉ−Ｈ−含有オルガノシランとのハイドロシリル化を経た、一般的な方法に従って行われ、使用するのに好ましい触媒は、細かく分散された遷移金属、又は遷移金属化合物、好ましくは白金、パラジウム又はロジウムを主剤とするものから成る。親水性化剤としてカルボシラン界面活性剤が添加された成型化合物の貯蔵安定性が悪い影響を受けないようにするために、反応後にカルボシラン界面活性剤から触媒を分離することが好ましい。この触媒の分離は、例えばシリカゲル、ケイソウ土等の上での吸着によって行うことができる。
ＰがＳ−Ｒ”’と等しい時には、特に好ましい化合物は下記のものである。

上式にて、ｙは以下の関係を満たす。
１≦ｙ≦２０又は好ましくは１≦ｙ≦１０
Ｐ＝Ｓ−Ｒ”’である前記一般構造（I）を有する化合物は、文献において公知の知識と本質的に同じようにして製造される。第１段階においては、不飽和化合物Ｚ−Ｒ”’−（ＯＣ_nＨ_2n）_xＯＴの製造が行われ、この化合物は、上記の方法と同様にして、構造（I）を有する化合物への化合物Ｑ−Ｈを用いたヒドロシリル化により変化される。二官能基Ｒ”’の導入は、以下に記載される。
Ｒ”’＝ −ＮＨＣ（Ｏ）−又は−ＯＣ（Ｏ）−に対しては、式Ｈ−（ＯＣ_nＨ_2n）_xＯＴを有するポリエーテルから出発して、標準的な方法（M. Matzner, R. P. Kurkjy, R. J. Cotter, Chem. Rev. 64（1964年）第645頁）を用いたホスゲン化により、式Ｃｌ−Ｃ（Ｏ）−（ＯＣ_nＨ_2n）_xＯＴを有する反応性のクロル蟻酸エステルが製造される。これは、簡単な反応にて、アリルアルコールを用いて、式Ｈ₂Ｃ＝ＣＨＣＨ₂−Ｏ−Ｃ（Ｏ）−（ＯＣ_nＨ_2n）_xＯＴを有する炭酸モノアリルモノ（ポリエーテル）エステルに変換でき（U. Petersen in Houben-Weyl第Ｅ４巻、第66頁）、あるいは、アリルアミンを用いて、式Ｈ₂Ｃ＝ＣＨＣＨ₂−ＮＨ−Ｃ（Ｏ）−（ＯＣ_nＨ_2n）_xＯＴを有するＮ−アリルカルバミン酸（ポリエーテル）エステルに変換することができる（U. Petersen in Houben-Weyl第Ｅ４巻、第144頁）。原則的に、適したものは、他の全ての不飽和アルコールＺＯＨ、あるいは、式ＺＮＨ₂を有する他の全ての不飽和アミンであり、構造Ｚ−Ｒ”’−（ＯＣ_nＨ_2n）_xＯＴは生成物として得られる。ここで得られたアルケニル化合物は、ヒドロシリル化反応（I, Ojima in S. Patai, Z. Rappoport "The Chemistry of Organic Silicon Compounds", Wiley 1989年）における構造（I）の製造と同様の方法にて、式Ｑ−Ｈを有した対応するＳｉ−Ｈ含有オルガノシランと反応し、使用される触媒は、細かく分散された遷移金属、又は遷移金属化合物、好ましくは白金、パラジウム又はロジウムを主剤とするものから成る。反応後、（Ｓ−Ｒ”’と同じでないＰを有した構造（I）の製造と同様に）カルボシラン界面活性剤から触媒を分離することが好ましい。
Ｒ”’＝ −ＮＨＣ（Ｏ）Ｃ（Ｏ）−又は−ＯＣ（Ｏ）Ｃ（Ｏ）−に対しては、式Ｈ−（ＯＣ_nＨ_2n）_xＯＴを有するポリエーテルから出発して、標準的な方法（例えばS. J. Rhoads, R. E. Michel, JACS, 85巻（1963年）第585頁参照）を用いた塩化オキサリルとの反応により、式Ｃｌ−Ｃ（Ｏ）Ｃ（Ｏ）−（ＯＣ_nＨ_2n）_xＯＴを有する反応性のクロルグリオキシル酸エステルが製造される。これは、簡単な反応にて、アリルアルコールを用いて、式Ｈ₂Ｃ＝ＣＨＣＨ₂−Ｏ−Ｃ（Ｏ）Ｃ（Ｏ）−（ＯＣ_nＨ_2n）_xＯＴを有するシュウ酸モノアリルモノ（ポリエーテル）エステルに変換でき、あるいは、アリルアミンを用いて、式Ｈ₂Ｃ＝ＣＨＣＨ₂−ＮＨ−Ｃ（Ｏ）Ｃ（Ｏ）−（ＯＣ_nＨ_2n）_xＯＴを有するＮ−アリルモノ（ポリエーテル）エステルモノアミドに変換することが可能である（A. Jackson, Speciality Chemicals, 14/5（1994年）第300頁）。原則として、適したものは、他の全ての不飽和アルコールＺＯＨ、あるいは、式ＺＮＨ₂を有する他の全ての不飽和アミンであり、構造Ｚ−Ｒ”’−（ＯＣ_nＨ_2n）_xＯＴは生成物として得られる。この得られたアルケニル化合物は、ヒドロシリル化反応にて、式Ｑ−Ｈを有した対応するＳｉ−Ｈ−含有オルガノシランと反応し、対応するカルボシラン界面活性剤を与える。触媒及び後処理については、先に記載したものを適用する。
Ｒ”’＝ −ＮＨＣ（Ｏ）（ＣＨ₂）_n-1−、−ＯＣ（Ｏ）（ＣＨ₂）_n-1−又は−ＯＣＨ₂ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ₂ＯＣ（Ｏ）（ＣＨ₂）_n-1−に対しては、式Ｈ−（ＯＣ_nＨ_2n）_x+1−ＯＴを有するポリエーテルから出発して、式ＨＯＣ（Ｏ）（ＣＨ₂）_n-1−（ＯＣ_nＨ_2n）_x−ＯＴを有する酸機能化されたポリエーテルが、硝酸を用いた酸化（H. Henecka in Houben-Weyl第８巻、第409頁）によって生成する。ここで製造された酸は、例えばチオニルクロリドによって、式ＣｌＣ（Ｏ）（ＣＨ₂）_n-1−（ＯＣ_nＨ_2n）_x−ＯＴを有する酸クロリドに変換され（H. Henecka, Houben-Weyl第８巻、第463頁、R, Sustmann, H.-G. Korth, Houben-Weyl、第Ｅ５／１巻、第593頁）、これは、アリルアルコールによって、式Ｈ₂Ｃ＝ＣＨＣＨ₂−Ｏ−Ｃ（Ｏ）（ＣＨ₂）_n-1−（ＯＣ_nＨ_2n）_x−ＯＴを有するアリルエステルに変換されるか（H. Henecka in Houben-Weyl第８巻、第543頁）、あるいは、アリルアミンを用いて、式Ｈ₂Ｃ＝ＣＨＣＨ₂−ＮＨ−Ｃ（Ｏ）（ＣＨ₂）_n-1−（ＯＣ_nＨ_2n）_x−ＯＴを有するＮ−アリルアミドに変換される（H. Henecka, P. Kurtz in Houben-Weyl第８巻、第655頁）。原則的に、適したものは、他の全ての不飽和アルコールＺＯＨ、あるいは、式ＮＨ₂を有する他の全ての不飽和アミンであり、構造Ｚ−Ｒ”’−（ＯＣ_nＨ_2n）_x−ＯＴは生成物として得られる。式ＨＯＣ（Ｏ）（ＣＨ₂）_n-1−（ＯＣ_nＨ_2n）_x−ＯＴを有する酸機能化されたポリエーテルとアリルグリシジルエーテルとの開環反応は、式Ｈ₂Ｃ＝ＣＨＣＨ₂−ＯＣＨ₂ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ₂）−ＯＣ（Ｏ）（ＣＨ₂）_n-1−（ＯＣ_nＨ_2n）_x−ＯＴを有する化合物をもたらす（H. Henecka in Houben-Weyl第８巻、第531頁）。
この得られたアルケニル化合物は、ヒドロシリル化反応にて、式Ｑ−Ｈを有した対応するＳｉ−Ｈ−含有オルガノシランと反応し、対応するカルボシラン界面活性剤を与える。触媒及び後処理については、先に記載したものを適用する。
Ｒ”’＝ −ＯＣ（Ｏ）（ＣＨ₂）_vＣ（Ｏ）−、−ＮＨＣ（Ｏ）（ＣＨ₂）_vＣ（Ｏ）−、又は−ＯＣＨ₂ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ₂ＯＣ（Ｏ）（ＣＨ₂）_vＣ（Ｏ）−に対しては、式Ｈ−（ＯＣ_nＨ_2n）_x+1−ＯＴを有するポリエーテルから出発して、式ＣｌＣ（Ｏ）（ＣＨ₂）_vＣ（Ｏ）−（ＯＣ_nＨ_2n）_x−ＯＴを有する反応性化合物が、標準的な方法を用いて、式ＣｌＣ（Ｏ）（ＣＨ₂）_vＣ（Ｏ）Ｃｌを有する二官能の酸クロリドとの等モル反応によって得られる。式Ｈ₂Ｃ＝ＣＨＣＨ₂−Ｏ−Ｃ（Ｏ）（ＣＨ₂）_vＣ（Ｏ）−（ＯＣ_nＨ_2n）_x−ＯＴを有するエステル類は、アリルアルコールを用いた引き続き行われるエステル化を経て生成する（H. Henecka in Houben-Weyl第８巻、第543頁）。又、アリルアミンとの反応は、式Ｈ₂Ｃ＝ＣＨＣＨ₂ＮＨ−Ｃ（Ｏ）（ＣＨ₂）_vＣ（Ｏ）−（ＯＣ_nＨ_2n）_x−ＯＴを有するＮ−アリルアミド類をもたらす（H. Henecka, P. Kurtz in Houben-Weyl, 第８巻、第655頁）。原則的に、適したものは、他の全ての不飽和アルコールＺＯＨ、あるいは、式ＺＮＨ₂を有する他の全ての不飽和アミンであり、構造Ｚ−Ｒ”’−（ＯＣ_nＨ_2n）_x−ＯＴは生成物として得られる。（酸クロリドＣｌＣ（Ｏ）（ＣＨ₂）_vＣ（Ｏ）−（ＯＣ_nＨ_2n）_x−ＯＴの加水分解によって得ることができる）フリーな酸と、アリルグリシジルエーテルとの反応は、式Ｈ₂Ｃ＝ＣＨＣＨ₂−Ｏ−ＣＨ₂ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ₂ＯＣ（Ｏ）（ＣＨ₂）_vＣ（Ｏ）−（ＯＣ_nＨ_2n）_x−ＯＴを有する化合物をもたらす（H. Henecka in Houben-Weyl第８巻、第531頁）。この得られたアルケニル化合物は、ヒドロシリル化反応にて、式Ｑ−Ｈを有した対応するＳｉ−Ｈ−含有オルガノシランと反応し、対応するカルボシラン界面活性剤を与える。触媒及び後処理については、先に記載したものを適用する。
前記の一般構造式（II）において、Ｒは、好ましくは脂肪族Ｃ₁〜Ｃ₆炭化水素基、特にメチル又はエチル基、環状脂肪族Ｃ₆〜Ｃ₈炭化水素基又は、芳香族Ｃ₆〜Ｃ₈炭化水素基、特にフェニル基を表す。
Ｘは好ましくは、Ｃ₂〜Ｃ₁₀、特にＣ₄〜Ｃ₈アルキレン基、Ｃ₆〜Ｃ₁₅アリーレン、特にｐ−フェニレン、環状脂肪族Ｃ₅〜Ｃ₁₀、特にＣ₅〜Ｃ₇シクロアルキレン基、又は、ポリシクロ脂肪族Ｃ₈〜Ｃ₁₂アルキレン基、特にトリシクロ〔５．２．１．０^2.6）デシ−３（４），８（９）−イレンを表す。
Ｐは好ましくはＣ₂〜Ｃ₈、特にＣ₂〜Ｃ₆アルキレン基である。
Ｔは好ましくはＨ、メチル基又はエチル基、又はアセチル基を表す。
ｘは好ましくは１〜５０の数を表し、ｎは好ましくは２〜２．５の値を示す。
特に好ましいポリエーテルカルボシラン類は、以下に挙げた化合物である。

上式にて、ｙは以下の関係：
１≦ｙ≦２０又は好ましくは１≦ｙ≦１０を満たし、
ｚは以下の関係：
２≦ｚ≦８又は好ましくは２≦ｚ≦６を満たし、しかも
ｔは以下の関係：
０．１・ｙ≦ｔ≦ｙ又は好ましくは０．１５・ｙ≦ｔ≦０．５５・ｙを満たす。
前記一般構造（II）を有する化合物を製造するための方法は、まず最初に、ビス−オルガノシリル−変性された中間構造−ＳｉＲ₂ＸＳｉＲ₂−が、例えば、塩素官能化シランＨＳｉＲ₂Ｃｌとジーグリニャール化合物ＣｌＭｇＸＭｇＣｌとからのカップリング反応によって（K. Nutzel in Houben-Weyl, 13/2a巻、第101頁、S. Pawlenko in Houben-Weyl, 13/5巻、第85頁）、あるいは、オルガノ−Ｈシラン、例えばＲ₂ＳｉＨＣｌを用いたアルカジエンのビス−ヒドロシリル化によって（I. Ojima in S. Patai, Z. Rappoport "The Chemistry of Organic Silicon Compounds", Wiley 1989年、又はS. Pawlenko in Houben-Weyl, 13/5巻、第85頁）得られることである。この基Ｑ’＝−ＳｉＲ₂ＸＳｉＲ₂−は、すでにＳｉ−Ｈ−末端化されているか、あるいは、ＬｉＡｌＨ₄を用いたＳｉ−Ｃｌ基の水素添加によって更なる反応のために引き続いて官能基化され、式Ｈ−ＳｉＲ₂ＸＳｉＲ₂−Ｈを有する化合物を与える。この化合物は、（構造（I）の製造及び後処理と同様の）ヒドロシリル化反応にて、式Ｚ−（ＯＣ_nＨ_2n）_x−ＯＴを有する不飽和ポリエーテル基と結合し、前記式においてＺは先に定義されたものである。
もしＰがＳ−Ｒ”’と同じものであるならば、この基の導入は、構造（I）の場合において記載される方法と同様にして起こる。
前記の一般構造式（III）において、Ｒは、好ましくは脂肪族Ｃ₁〜Ｃ₆炭化水素基、特にメチル又はエチル基、環状脂肪族Ｃ₆〜Ｃ₈炭化水素基又は、芳香族Ｃ₆〜Ｃ₈炭化水素基、特にフェニル基を表す。
Ｒ’は好ましくは、Ｃ₁〜Ｃ₆アルキレン基、特にメチレン基又はエチレン基を表す。
Ｐは好ましくはＣ₂〜Ｃ₈、特にＣ₂〜Ｃ₆アルキレン基である。
ａは好ましくは０であり、ｘは好ましくは１〜５０の数を表し、ｎは好ましくは２〜２．５の値を示す。
特に好ましいポリエーテルカルボシラン類は、以下に挙げた化合物である。

上式にて、ｙは以下の関係を満たす。
１≦ｙ≦３０ 又は 好ましくは ２≦ｙ≦２０
前記一般構造（III）を有する化合物は、（構造（I）の製造及び処理と同様の）式Ｑ−Ｈを有するＳｉ−Ｈ−含有オルガノシラン類とのヒドロシリル化反応にて、式Ｚ−（ＯＣ_nＨ_2n）_x−ＯＺ（この式にＺは先に定義されたものである）を有する不飽和ポリエーテル類から出発して、結合される。この線状不飽和化合物Ｚ−（ＯＣ_nＨ_2n）_x−ＯＺの製造については、例えばDE-A 37 41 575号に記載されている。
もしＰがＳ−Ｒ”’と同じものであるならば、この基の導入は、構造（I）の場合において記載される方法と同様にして起こる。
前記の一般構造式（IV）において、Ｑは、好ましくはＲ₃Ｓｉ−を表す。Ｒは、好ましくは脂肪族Ｃ₁〜Ｃ₆炭化水素基、特にメチル又はエチル基、環状脂肪族Ｃ₆〜Ｃ₈炭化水素基又は、芳香族Ｃ₆〜Ｃ₈炭化水素基、特にフェニル基を表す。
Ｐ’は好ましくは、２，２−ビス−アルキレン−アセチル基（−〔（ＣＨ₂）_k〕₂ＣＨＣ（Ｏ）−）でＣ₁〜Ｃ₅（ｋ＝１〜５）、特にＣ₁〜Ｃ₃のアルキレン基（ｋ＝１〜３）を有するもの、２−アルキレン−２−アルキル−アセチル基（−〔（ＣＨ₂）_k〕ＣＨＲＣ（Ｏ）−）でＣ₁〜Ｃ₅（ｋ＝１〜５）、特にＣ₁〜Ｃ₃のアルキレン基（ｋ＝１〜３）及びアルキル基Ｒ＝Ｃ₂〜Ｃ₁₄を有するもの、あるいは、２−アルキレン−アセチル基（−〔（ＣＨ₂）_k〕₂ＣＨＣ（Ｏ）−）でＣ₁〜Ｃ₅（ｋ＝１〜５）、特にＣ₁〜Ｃ₃のアルキレン基（ｋ＝１〜３）を有するもののいずれかである。
Ｔは好ましくはＨ、メチル又はエチル基又はアセチル基を表す。
ｘは好ましくは１〜５０の数を表し、ｎは好ましくは２〜２．５の値を示す。
特に好ましいポリエーテルカルボシラン類は、以下に挙げた化合物である。

上式にて、ｙは以下の関係を満たす。
１≦ｙ≦２０又は好ましくは１≦ｙ≦１０
前記一般構造（IV）の化合物は、マロン酸ジアルキルエステルから出発して、強塩基を用いたこのエステルの脱プロトン化と、このようにして得られたカルバニオンと、式Ｑ−（ＣＨ₂）_kＣｌ又はＲ−Ｃｌを有する化合物とのアルキル化によって製造される。Ｐ’＝（−（ＣＨ₂）_k）₂ＣＨＣ（Ｏ）−又は−（ＣＨ₂）_kＣＨＲＣ（Ｏ）−を有する２回アルキル化された化合物の場合には、この方法が２回行われる。このようにして得られたアルキル化されたマロン酸エステル誘導体は、酸性媒体中にて、アルカリ的にケン化され、熱的に脱カルボキシル化されるか、あるいは、同時にケン化及び脱カルボキシル化される（S. Pawlenko in Houben-Weyl 13/5巻、1980年、第21, 75頁；L. H. Sommer, J. R. Gold, M. Goldberg, M. S. Marans, 71(1949年)第1507頁, H. Henecka in Houben-Weyl第８巻、第600頁）。このようにして得られた式ＱＰ’−ＯＨを有するフリーなモノカルボン酸類は、式Ｈ−（ＯＣ_nＨ_2n）_x−ＯＴを有するポリエーテルとの移動エステル化によってエステル化される（H. Henecka in Houben-Weyl第８巻、第522頁）。
この他の方法は、強塩基の影響下でのＲＣｌ及びＺＣｌ（例えばアリルクロリド）を用いたマロン酸ジアルキルエステルのアルキル化による、式Ｚ_2-jＲ_jＣ（ＣＯＯＲ）₂（ｊ＝０又は１）のアルキル化マロン酸エステルの製造である。ケン化及び脱カルボキシル化の後、この置換されたカルボン酸は、式Ｈ（ＯＣ_nＨ_2n）_xＯＴを有する上述のポリエーテルとエステル化できる（H. Henecka in Houben-Weyl第８巻、第522頁）。このようにして得られた生成物は、この際、（構造（I）の製造及び処理と同様の）ヒドロシリル化反応によって、Ｓｉ−Ｈ−含有オルガノシランＱ−Ｈと結合して、前記構造（V）を有するカルボシラン界面活性剤を与える。
前記の一般構造式（V）において、Ｑ”は、オリゴマー性又はポリマー性のカルボシランを表し、この際、好ましくは２０〜７０％のシリコン原子が、基−〔Ｐ−（ＯＣ_nＨ_2n）_x−ＯＴ〕によって置換されている。そうでなければ、これらのＳｉ原子は、好ましくはメチル、エチル又はフェニル基を有する。このカルボシラン鎖は、好ましくはシリコン原子の横にあるＬ基から成り、Ｌは好ましくはアルキレン基Ｃ₁〜Ｃ₃又はｐ−フェニレン基である。この鎖は、末端基としてメチル、エチル、プロピル又はフェニル基を有する。
Ｐは好ましくは、Ｃ₂〜Ｃ₈、特にＣ₂〜Ｃ₆アルキレン基である。
Ｔは好ましくはＨ、メチル又はエチル基又はアセチル基を表す。
ｘは１〜２００の数、好ましくは１〜５０の数を表し、ｎは１〜６の平均数、好ましくは２〜２．５の値である。
特に好ましいポリエーテルカルボシラン類は、以下に挙げた化合物である。

上式にて、ｙは以下の関係を満たす
１≦ｙ≦２０又は好ましくは１≦ｙ≦１０
及び、ｐは２又は３と等しく、
ｏは、好ましくは３〜１０００であり、ｇは特に以下の関係を満たす。
４・ｏ≧ｇ≧０．４２・ｏ
Ｒは、この場合、好ましくはメチル、エチル又はフェニル基である。
このカルボシラン鎖は、交互、統計的又はブロック共重合体ユニットから成ることができる。
このようなカルボシラン界面活性剤についての合成経路は、ヒドロシリル化反応における、２つの不飽和基を有するオルガノシランとの、２つのＳｉＨ基を有するオルガノ水素シラン類の反応であり、この際、少なくとも１種の前記オルガノシラン類は、例えばリチウムアラナートを用いた水素添加によって還元されることが可能なハロゲン基のような、Ｓｉ−Ｈユニットに変換されることができ、しかもヒドロシリル化反応に否定的に影響を及ぼさない基を有していなければならない。このような二官能オルガノ水素シラン類の具体例は、ジフェニルシラン又はフェニルメチルシラン、メチルブロモシラン又はフェニルクロロシランである。このような不飽和シラン類の具体例は、ジビニルジメチルシラン、ジアリルジメチルシラン、ジビニルジフェニルシラン、ジアリルジフェニルシラン、ジビニルメチルクロロシラン又はジビニルメチルブロモシラン、ジアリルメチルクロロシラン又はジアリルメチルブロモシランである。このヒドロシリル化生成物はポリマー性物質であり、その分子量は、−官能不飽和シラン類、例えば、ビニルトリメチルシラン、あるいは、Ｓｉ−Ｈ化合物、例えばトリフェニルシラン又はトリエチルシランを添加することによって決定することができる（S. Pawlenko in Houben-Weyl, 第13/5巻、第328頁）。
ＬｉＡｌＨ₄を用いてＳｉ−Ｈ基が得られるようにＳｉハロゲン基を引き続いて水素添加した後、式Ｚ−（ＯＣ_nＨ_2n）_x−ＯＴ（Ｚは先に規定したものである）を有する不飽和ポリエーテルを用いて、（構造（I）の製造と同様に）白金触媒下でヒドロシリル化を行い、カルボシラン界面活性剤を得る。
前記一般構造（V）を有するカルボシラン界面活性剤を製造するためのもう一つの可能性は、式（ＣＨ₂）₃ＳｉＨＲを有するシラシクロブタン類（silacyclo-butanes）の公知の方法による製造から成る（N. S. Nametkine, V. M. Vdovine, J. Polym. Sci. C（1963年）第1043頁, R. Damrauer, Organometal. Chem. Rev. A, 8（1972年）第67頁）。
これらのシラシクロブタン類は、式Ｚ−（ＯＣ_nＨ_2n）_x−ＯＴ（Ｚは先に規定したものである）を有する不飽和ポリエーテル類を用いて、例えば上記の文献に記載される方法に従って、白金触媒下でヒドロシリル化することができ、その後、任意に、ポリエーテル基を有しないシラシクロブタン類を添加し、開環手法にて重合され、前記一般構造（V）を有するカルボシラン界面活性剤が得られる。
このようなヒドロシリル化により形成された式（ＣＨ₂）₃ＳｉＲ−Ｐ−（ＯＣ_nＨ_2n）_x−ＯＴを有するシラシクロブタン類は、例えば米国特許第3 046 291号に記載される方法と同様にして、熱的に重合可能である。又、この重合は、遷移金属触媒、好ましくは白金を主剤とするものの存在下においても起こり得る（例えば、D. R. Weyenberg, L. E. Nelson, Joumal of Organic Chemistry, 30巻（1965年）第2618頁又は米国特許第3 445 495号参照）。又、ＫＯＨやリチウムアルキル類のようなアニオン性化合物による重合の促進も考えられる（例えばC. X. Liao, W. P. Weber, Polymer Bulletin, 28巻，（1992年）第281頁）。この重合は、溶媒を用いて、あるいは溶媒を用いずに生じ得る。
もう一つの方法は、開環及び、それに引き続いた、式Ｚ−（ＯＣ_nＨ_2n）_x−ＯＴ（Ｚは先に規定したものである）を有するポリエーテル類を用いたＳｉＨ−含有ポリカルボシラン類のヒドロシリル化を伴った公知の方法による、ＳｉＨ−を有するシラシクロブタン類の重合から成る（C. X. Liao, W. P. Weber, Macromol. 26(4)巻，（1993年）第563頁）。
原則的には、ＳｉＨ−含有ポリ−又はオリゴカルボシラン類もまた、鎖切断剤としてＣｌＳｉＭｅ₃又はＣｌＳｉＭｅ₂Ｈを用いた、Ｃｌ₂ＳｉＭｅＨとのジ−グリニャール化合物の反応によって製造することができる。その後、上記と同様に、不飽和ポリエーテル類と前記生成物とのヒドロシリル化が起こる。
ヒドロシリル化による上述の製造方法の全てにおいて、白金触媒は、既に記載した方法によって製造後に除去されることが好ましい。
以下の実施例は、本発明を説明するために役立つものである。本発明は、これらの実施例に限定されるものではない。
実施例
エッジ角度の測定は、Ｇ１／Ｇ４０（Kruss）接触角度測定システムを用いて行う。Ｇ１エッジ角度測定装置は、固体の表面上での液滴断面の正確な再製を可能とする。Ｇ４０測定システムは、ビームスプリッターを有するビデオ管を含んでいるので、ゴニオメーター接眼レンズ（液の大きさ）及びビデオカメラ（デジタルイメージ評価）を通しての液滴の同時観察が可能になっている。
この測定は、２３℃、５０％の相対湿度にて、平らな位置にある液滴について行う。化合物の混合を開始してから３０分後、常に同じ大きさである、２３℃で飽和された硫酸カルシウム二水和物溶液の一滴を、２枚のガラス板の間で滑らかな表面となるように硬化されたエラストマー上に位置させ、ただちに測定を開始する。評価のためには、１０秒値が使用された。
これら実施例では、親水性化剤の問題となるＨＬＢ値が与えられている。このＨＬＢ値は、化合物の水−及び油脂−親和性の程度を表すものである（Ullmann's Encyclopedia of Industrial Chemistry，第A25巻、第784頁以下（1994年）参照）。本発明による親水性化剤のＨＬＢ値は一般には大体５と１５の間にある。
製造例１
平均分子量が４５０であるモノメチルモノアリル−末端化したポリエチレングリコール９．０ｇを、２８ｍｌのトルエン中４．７ｇトリエチルシラン溶液に添加した。白金触媒を添加し、未反応生成物の¹Ｈ−ＮＭＲスペクトルによってアリル基がもはや存在しなくなるまで、反応混合物を１００℃にて攪拌した。シリガゲル上で濾過し、減圧下で揮発成分を除去した後、４．０ｇの化合物１が得られ、そのＮＭＲスペクトルは、以下の構造式と一致する（ｎ＝約７〜１０）：

このＨＬＢ値は約１４である。
適用例１
２３℃にて２０００ｍＰａ．ｓの粘度を有するビニル末端停止されたポリジメチルシロキサン２８．２部、２３℃にて６０ｍＰａ．ｓの粘度を有するＳｉＨ基含有ポリジメチルシロキサン２．５部、２３℃にて５０ｍＰａ．ｓの粘度を有するポリジメチルシロキサン９．７部、シラン化された発熱性ケイ酸８．１部、微細な石英粉末４９．１部、無機着色顔料０．３部及び製造例１からの親水性化剤２．３部を混練機内に入れ、混合することによって均質なベースペーストを得た。
触媒ペーストは、２３℃にて２０００ｍＰａ．ｓの粘度を有するビニル末端停止されたポリジメチルシロキサン２０．６部、シラン化された発熱性ケイ酸７．５部、微細な石英粉末５３．１部、２３℃にて５０ｍＰａ．ｓの粘度を有するポリジメチルシロキサン１３．３部、２３℃にて５０ｍＰａ．ｓの粘度を有するポリジメチルシロキサン中に、白金とジビニルテトラメチルジシロキサンとの錯体１．３部の溶液３．４部、及び製造例１からの親水性化剤２．３部を混合することによって製造される。
濡れエッジ角度の測定
ベースペースト５０ｇと触媒ペースト１０ｇを充分に混合する。数分後、ゴム弾性化合物が得られる。製造して３０分後に、エッジ角度は４２°として測定された。その後、この試験片を、一般的に市販されている消毒浸漬液（Impresept, ESPE）中で１０分間消毒した。試験片を取り出し、簡単に冷たい流水で濯ぎ、２３℃、５０％相対湿度の空気中で２時間放置して乾燥させる。そして、エッジ角度を再び測定すると５４°として測定される。
比較のために、対応する化合物は、一般的に市販されている２種類のポリエーテルシロキサン界面活性剤"Silwet" L-77及び"Tegopren" 5878を用いて親水性化される。同一条件の下で、消毒前と消毒後にエッジ角度を測定する。その結果は、以下の表にまとめられている。
市販されていて利用可能な親水性化されたシリコン歯科印像化合物"Reprosil"（EP-B-0 231 420による化合物）もまた、比較の目的のために試験された。その結果も同様に以下の表に記載されている。
また別の消毒処理を実際に、たとえば規則的に行う場合には、本発明の化合物と公知の化合物との間の相対的なエッジ角度の増加についての差は更に大きなものとなる。
工業的応用試験
ベースペースト５０ｇと触媒ペースト１０ｇを、互いに３０秒以内に充分に混合する。ＡＤＡ１９による寸法試験片を、混合した化合物を用いて成型する。数分後には、ゴム弾性成型体である試験片が得られる。この成型体は、水溶性プラスター懸濁液（１００ｇのジオストーン／２３ｇの水）との混合を開始してから３０分後にキャストされる。このプラスターが硬化した後に得られる成型体は、満足のいく表面を有している。
寸法安定性
寸法安定性はＡＤＡ１９によれば−０．１％として測定される。
貯蔵安定性の測定
ベースペーストと触媒ペーストを、互いに分離した状態で７０℃にて１４日間の間、貯蔵する。この時間の後、両方のペーストを２３℃まで冷却する。このエージング試験からのベースペースト５０ｇと触媒ペースト１０ｇを互いに充分に混合する。硬化パターンは、サイクロビスコグラフで測定される。この硬化パターンは、新しく製造された、非熟成ペーストのものとは異なっていない。

製造例２
EP-A-0 367 381号（実施例１、第４頁）における製造指示と同様にして、ビス（トリメチルシリルメチル）メチルシランが製造された。これは、GB-A 1 520 421号における実施例１と同様にして、ヒドロシリル化反応にて、平均分子量が３５０であるメチルアリル−末端化ポリエチレングリコールと反応させた。製造例１と同様にして処理した後には、化合物２が得られ、そのＮＭＲスペクトルは、以下の構造式と一致した（ｎ＝約５〜８）：

この物質のＨＬＢ値は約１１である。
ビス（トリメチルシリルメチル）メチルシランの製造の場合には、副生成物として以下の構造を有するジシランが生成する。

この物質は、例えば蒸留などの処理により分離されることが好ましい。しかしながら、この物質が少ない割合でしか生成しない場合には、製造過程中にそのままにされても良く、ヒドロシリル化により以下の構造が生成する。

これはまた、親水性化効果を有したカルボシラン界面活性剤である。ジシラン構造を有したカルボシラン界面活性剤を製造することの可能性は、この実施例に限定されるものではない。
適用例２
適用例１と同様にして、ベースペーストと触媒ペーストを混練し、触媒の中にもベースペーストの中にも共に、製造例２からの親水性化剤をそれぞれ１部だけしか添加しない。適用例１と同様にして測定された１０秒エッジ角度は、３５（±３）°である。その後、試験片を、一般的に市販されている消毒浸漬液（Impresept, ESPE）中で１時間消毒した。試験片を取り出し、簡単に冷たい流水で濯ぎ、２３℃、５０％相対湿度の空気中で２時間放置して乾燥させる。そして、エッジ角度を再び測定する。１０秒エッジ角度は再び３５（±３）°である。
適用例１と同様の工業的適用試験の場合には、気泡を有さず、満足のいく表面を有したプラスター模型が、プラスター懸濁液を用いた成型体のキャスティングの後に得られる。ＡＤＡ１９による寸法安定性は−０．２％として測定される。適用例１と同様にして、貯蔵安定性を試験したところ、７０℃での１４日間貯蔵後に、非熟成ペーストと比較して、貯蔵された硬化パターンにおける変化はなかった。
製造例３

１，６−ヘキサジエン８２．１ｇ（１．０Ｍ）を、Ｐｔ触媒を用いて１００ｍｌの芳香族溶剤中で反応させ、ジメチルクロロシラン２０８．２ｇ（２．２０Ｍ）を用いて７０℃でヒドロシリル化する。この反応混合物を、Ａｌ₂Ｏ₃上にてカラム分離し、容積が半分となるまで濃縮し、ＴＨＦ中でＬｉＡｌＨ₄溶液１８．５ｇ（０．５Ｍ）を用いて水素添加する。加水分解処理の後、溶剤を有機相から蒸留除去する。透明な無色の油状物が後に残る。上記シランの収量：１４５．８ｇ−７２％

このようにして得られたシラン３０ｇ（０．１５Ｍ）を、５０ｍｌのトルエン中で、ポリエチレングリコールメチルアリルエーテル８６．５ｇ（０．２２Ｍ）と反応させ、白金触媒を用いてヒドロシリル化する。この生成物を、Ａｌ₂Ｏ₃カラムを用いて精製し、溶剤を除去する。得られたポリエーテルカルボシランの収量：９８ｇ−９０％
製造例４
ポリエチレングリコール（Ｍ_w＝４００ｇ／モル）を指示書（M. Galin, A. Mathis, Macromol. 15（1981年）第677頁）に従ってアリル化する。

このようにして得られたＰＥＧ−４００ジアリルエーテル３０ｇ（０．０６３Ｍ）を、白金触媒下にて芳香族溶剤中で、ビス（トリメチルシリルメチル）メチルシラン３２．７ｇ（０．１５Ｍ）を用いてヒドロシリル化する。この反応は１００℃にて８０時間続けられる。得られたポリエーテルカルボシランの収量：４７ｇ−８１％

Claims (9)

1. 親水性化剤としてポリエーテルカルボシランを、化合物の全体重量に対して０．１〜１０重量％の割合で含有し、前記ポリエーテルカルボシランが、下記の一般式：
   

   

   〔上式にて、
   Ｑは、Ｒ₃Ｓｉ−又は
   

   

   この分子におけるＲは全て同じものであっても異なるものであっても良く、
   脂肪族Ｃ₁〜Ｃ₁₈炭化水素基、環状脂肪族Ｃ₆〜Ｃ₁₂炭化水素基又は、芳香族Ｃ₆〜Ｃ₁₂炭化水素基を表し、これらは任意にハロゲン原子によって置換されても良く、Ｒ′はＣ₁〜Ｃ₁₄のアルキレン基であり、Ｒ″は、ａ≠０の場合にはＲで、ａ＝０の場合にはＲ又はＲ₃ＳｉＲ’で、しかも、ａ＝０〜２であり；
   Ｐは、Ｃ₂〜Ｃ₁₈のアルキレン基又は
   Ｓ−Ｒ″′を表し、この際、ＳはＣ₂〜Ｃ₁₈のアルキレン基を表し、Ｒ″′は下記のリストからの官能基を表し、
   

   

   ｖ＝１〜１２である；
   Ｔは、Ｈと同じであるか、あるいはＣ₁〜Ｃ₄のアルキル基又はＣ₁〜Ｃ₄のアシル基を表し；
   ｘは、１〜２００の数を表し、しかも、
   ｎは、１〜６の平均数を表す〕、又は
   

   

   〔上式にて、
   Ｑ’は、−ＳｉＲ₂−Ｘ−ＳｉＲ₂−を表し；
   Ｘは、Ｃ₁〜Ｃ₁₈のアルキレン基、Ｃ₆〜Ｃ₂₀のア
   リーレン基、Ｃ₅〜Ｃ₁₅のシクロアルキレン基及びＣ₅〜Ｃ₁₅のポリシクロアルキレン基を表し、これらは任意に酸素含有基を有していても良く、
   しかも、他の全ての記号は前述と同じものを意味する〕、又は、
   

   

   〔上式にて、全ての記号は前述と同じものを意味する〕、又は
   

   

   〔上式にて、
   Ｐ’は、
   

   

   この際、ｋは１〜８である；
   を表し、
   他の全ての記号は前述と同じものを意味する〕、又は
   

   

   〔上式にて、
   Ｑ″は、オリゴマー性又はポリマー性のカルボシランを表し、この際、少なくとも１つのシリコン原子は、
   基−Ｐ−（ＯＣ_nＨ_2n）_xＯＴ）によって置換されており、ｏは≧１で、
   他の全ての記号は前述と同じものを意味する〕
   を有するものであることを特徴とする歯科印像化合物。
2. 前記ポリエーテルカルボシランが、下記の化合物：
   

   

   

   

   上式にて、ｙは以下の関係を満たす
   １≦ｙ≦２０
   から選ばれたものであることを特徴とする請求項１記載の歯科印像化合物。
3. 前記ポリエーテルカルボシランが、下記の化合物：
   

   

   

   上式にて、ｙは以下の関係：
   １≦ｙ≦２０を満たし、
   ｚは以下の関係：
   ２≦ｚ≦８を満たし、しかも
   ｔは以下の関係：
   ０．１・ｙ≦ｔ≦ｙ
   を満たす
   から選ばれたものであることを特徴とする請求項１記載の歯科印像化合物。
4. 前記ポリエーテルカルボシランが、下記の化合物：
   

   

   上式にて、ｙは以下の関係を満たす
   １≦ｙ≦３０
   から選ばれたものであることを特徴とする請求項１記載の歯科印像化合物。
5. 前記ポリエーテルカルボシランが、下記の化合物：
   

   

   上式にて、ｙは以下の関係を満たす
   １≦ｙ≦２０
   から選ばれたものであることを特徴とする請求項１記載の歯科印像化合物。
6. 前記ポリエーテルカルボシランが、下記の化合物：
   

   

   上式にて、ｙは以下の関係を満たす
   １≦ｙ≦２０
   及び、ｐは２又は３と等しく、
   ｏは、３〜１０００であり、ｇは特に以下の関係を満たす
   ４・ｏ≧ｇ≧０．４２・ｏ、及び
   Ｒはメチル、エチル又はフェニル基である
   から選ばれたものであることを特徴とする請求項１記載の歯科印像化合物。
7. 前記歯科印像化合物の主剤が、付加−又は縮合−架橋シリコン類、ポリエーテルシリコン類又はポリエーテル類から形成されることを特徴とする請求項１〜６記載の歯科印像化合物。
8. 歯科印像化合物の親水性化のための、請求項１記載の一般式（Ｉ）〜（Ｖ）を有したポリエーテルカルボシランの使用方法。
9. 請求項１記載の一般式（Ｉ）〜（Ｖ）を有したポリエーテルカルボシランを用いて親水性化された歯科印像化合物が使用されることを特徴とする歯科成型物の製造方法。