JP4009859B2 - ガラス微粒子堆積体の製造方法 - Google Patents
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Description
また、特許文献2に開示されているガラス微粒子堆積体の製造方法によると、ガラス微粒子堆積を行う反応炉に、上下にガラス微粒子堆積体の収納部を設けて、前記収納部に不活性ガスを流し込むことが開示されている。
ガラス微粒子堆積体中に異物が混入すると、透明ガラス化して得られる光ファイバ用母材中に気泡が発生したり、線引き時のファイバ外径変動や、スクリーニング試験時の断線が発生することがある。
本実施形態に係るクリーンガスCGとしては、例えば清浄空気(CA)等を用いることができるが、特に好ましくは、清浄空気、N2等である。その他、He、Ar等を用いても良い。
図1に示す収容部10は、Niで構成された長さ700mmの反応容器13と、この反応容器13にそれぞれ連通する上部延長部16Uおよび下部延長部16Lを有している。上部延長部16Uおよび下部延長部16Lには、クリーンガス導入管29,30を介してクリーンガス発生器27,28からのクリーンガスCGが導入可能となっている。上部延長部16Uの上部に設けられている上蓋21には、支持棒17を挿入する穴22が設けられている。また、反応容器13には、3個のガラス微粒子合成用のバーナー11A,11B,11Cが設けられている。
目標のガラス重量10kgに達した時点でガラス微粒子の堆積を停止し、最終的に得られたガラス微粒子堆積体20を高温加熱して透明ガラス化させ、その後常法によりファイバ化する。
上部クリーンガス投入口31と排気口26までの距離、下部クリーンガス投入口32と排気口26までの距離、およびクリーンガス投入量を変化させ、その他は実施例1と同様にしてガラス微粒子堆積体20を作製し、ファイバ化する。このときの諸条件および光ファイバの外径変動発生頻度を表1に示す。なお、比較例2では、反応容器13にクリーンガス投入口31、32を設けてある。また、外径変動頻度とは、線引きした光ファイバ(ガラス部分)の目標値(例えば125μm)に対して0.2μm以上大きくなった箇所および0.2μm以上小さくなった箇所の数(異物の混入が原因と考えられる)を光ファイバ長で割ったものである。
また、図2(B)に示すグラフでは、上部、下部のCG導入部圧力を50Paで固定した場合のCG導入部と排気口との距離と外径変動発生頻度の関係を示してある。このグラフからわかるように、CG導入部と排気口との距離を1m以上とすることで、外径変動発生頻度を低減できる。
11 ガラス微粒子合成用バーナー
12 排気管
18 出発ロッド
20 ガラス微粒子堆積体
26 排気口
31 上部クリーンガス投入口(クリーンガス導入部)
32 下部クリーンガス投入口(クリーンガス導入部)
CG クリーンガス
Claims (3)
- 出発ロッドを収容し、排気口が設けられた収容部内において、ガラス微粒子合成用バーナーで火炎を形成してガラス微粒子を生成し、前記出発ロッドと前記バーナーとを相対的に往復移動および回転させながら、前記出発ロッドの外周に前記ガラス微粒子を堆積させるガラス微粒子堆積体の製造方法において、
前記収容部にクリーンガスを加熱せずに導入し、クリーンガス導入部から前記排気口までの収容部内圧力勾配が5Pa/m以上85Pa/m以下とすることを特徴とするガラス微粒子堆積体の製造方法。 - 前記クリーンガス導入部から前記排気口までの距離を1.0m以上とすることを特徴とする請求項1に記載したガラス微粒子堆積体の製造方法。
- 前記クリーンガスのクリーン度が0.3μm以上の大きさのダストが1000個/CF以下であることを特徴とする請求項1または2に記載したガラス微粒子堆積体の製造方法。
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