JP4002959B2 - Substrate dome rotation mechanism - Google Patents

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Description

本発明は、真空装置に搭載される基板ドームの回転機構に関するものである。   The present invention relates to a rotating mechanism for a substrate dome mounted on a vacuum apparatus.

真空蒸着法とは、真空槽内部をあらかじめ高真空領域まで排気した状態で蒸着材料を蒸発させ、基板表面に蒸着材料を堆積させる成膜方法をいう。成膜の効率をあげるためには複数の基板を同時に蒸着することが求められるが、真空槽内部における蒸着材料の蒸発分布は一様ではないため、基板ドームと呼ばれるドーム形状の保持具に複数の基板を搭載し、かつドームを回転することで各基板の膜厚分布を一様に保つことが一般的に行なわれている。本発明は、ドームの中心を回転軸として駆動源に接続される回転駆動型基板ドームの回転機構に関するものである。   The vacuum vapor deposition method is a film forming method in which a vapor deposition material is evaporated in a state where the inside of the vacuum chamber is evacuated to a high vacuum region in advance and the vapor deposition material is deposited on the substrate surface. In order to increase the efficiency of film formation, it is required to deposit a plurality of substrates at the same time. However, since the evaporation distribution of the deposition material in the vacuum chamber is not uniform, a plurality of dome-shaped holders called substrate domes are attached to a plurality of substrates. In general, it is common to keep the thickness distribution of each substrate uniform by mounting the substrate and rotating the dome. The present invention relates to a rotation mechanism of a rotation drive type substrate dome connected to a drive source with the center of the dome as a rotation axis.

図5に回転駆動型基板ドームを搭載した真空装置の一例として光学薄膜用真空蒸着装置の概略構成図を示す。   FIG. 5 shows a schematic configuration diagram of an optical thin film vacuum deposition apparatus as an example of a vacuum apparatus equipped with a rotationally driven substrate dome.

真空槽本体40には基板11、基板11を搭載する基板ドーム12、基板ドーム回転機構42、基板11を加熱するための基板加熱用ヒーター47、蒸着材料43、蒸着材料を充填する坩堝44、蒸着材料43を蒸発温度まで加熱する電子銃45、蒸着完了時に閉じ蒸着材料を遮蔽するシャッター46などが配置される。   The vacuum chamber body 40 includes a substrate 11, a substrate dome 12 for mounting the substrate 11, a substrate dome rotating mechanism 42, a substrate heating heater 47 for heating the substrate 11, a vapor deposition material 43, a crucible 44 for filling the vapor deposition material, and vapor deposition. An electron gun 45 that heats the material 43 to the evaporation temperature, a shutter 46 that closes when the vapor deposition is completed, and shields the vapor deposition material are disposed.

同図に示す装置により蒸着を行なう場合は、まず基板ドーム12に基板11を設置し、蒸着材料43を坩堝44に入れる。真空槽40内を図示しない排気系によって高真空状態としてから、基板ドーム回転機構42により基板ドーム12を回転させ、基板加熱用ヒーター47用いて基板11を加熱する。真空度及び基板温度が目標値に到達した時点で電子銃45から電子ビームを蒸着材料43へ照射し、蒸着材料43を蒸発温度まで昇温させる。シャッター46を開くと蒸着材料43は真空槽40内を飛散し、基板11上に堆積することで薄膜を形成する。膜厚が目標値に到達した時点でシャッター46を閉じ、電子銃45や基板加熱用ヒーター47などを停止させ、冷却後真空槽内に大気を導入した後薄膜が形成された基板11を取り出せばよい。
上記の真空蒸着装置は、例えば特許文献1などに開示される。
In the case of performing vapor deposition using the apparatus shown in FIG. After the inside of the vacuum chamber 40 is in a high vacuum state by an exhaust system (not shown), the substrate dome 12 is rotated by the substrate dome rotating mechanism 42, and the substrate 11 is heated using the substrate heating heater 47. When the degree of vacuum and the substrate temperature reach the target values, the electron gun 45 irradiates the vapor deposition material 43 with an electron beam, and raises the vapor deposition material 43 to the evaporation temperature. When the shutter 46 is opened, the vapor deposition material 43 scatters in the vacuum chamber 40 and deposits on the substrate 11 to form a thin film. When the film thickness reaches the target value, the shutter 46 is closed, the electron gun 45, the substrate heating heater 47, etc. are stopped. After cooling, the atmosphere is introduced into the vacuum chamber, and then the substrate 11 on which the thin film is formed is taken out. Good.
Said vacuum evaporation apparatus is disclosed by patent document 1, etc., for example.

図5及び図6を参照に、従来の基板ドーム回転機構を説明する。
基板ドーム回転機構42は、ドーム側歯車2、ドーム側歯車2に固定される回転軸6、ドーム側歯車2に接合して荷重方向の負荷を受けるスラストベアリング機構51、回転軸6に接合して円周方向の負荷をうけるラジアルベアリング機構52、スラストベアリング機構51及びラジアルベアリング機構52を支える軸受53、ボルト55によりドーム側歯車2に固定されるドームキャッチャー10とにより構成され、ドーム側歯車2が駆動源41に接続する駆動源側歯車15からの伝達を受けて回転することにより、回転機構42が回転する構造となっている。
A conventional substrate dome rotation mechanism will be described with reference to FIGS.
The substrate dome rotation mechanism 42 is joined to the dome side gear 2, the rotation shaft 6 fixed to the dome side gear 2, the thrust bearing mechanism 51 joined to the dome side gear 2 and receiving a load in the load direction, and the rotation shaft 6. A radial bearing mechanism 52 that receives a load in the circumferential direction, a thrust bearing mechanism 51, a bearing 53 that supports the radial bearing mechanism 52, and a dome catcher 10 that is fixed to the dome side gear 2 by a bolt 55. The rotation mechanism 42 rotates by receiving the transmission from the drive source side gear 15 connected to the drive source 41 and rotating.

基板ドーム12はボルト56によりドームキャッチャー10に固定されることで回転機構42に接続され、ドーム側歯車2と共に所定の回転数で回転をする。ドーム側歯車2には回転軸6、ドームキャッチャー10、及び基板ドーム12が取付けられるため、縦方向のスラスト荷重がかかることになる。このスラスト方向の荷重を受けるためにスラストベアリング機構51が配置される。また、回転時の横方向の荷重を受けるためにラジアルベアリング機構52が配置される。図7aに、スラストベアリング機構51の概略図を示す。スラストベアリング機構は、スチールボール20、潤滑材21、複数のスチールボール20及び潤滑材21を収容する環状溝22により構成される。図7bはスチールボール20概略断面図であり、図7cは潤滑材21の概略断面図である。スチールボール20は例えば鉄等により構成され、潤滑材21は例えば二硫化タングステン等により構成されるが、その材質は適宜選択すればよい。以上、例示のためにスラストベアリング機構51を説明したが、ラジアルベアリング機構52においても構成部品は同様である。軸受53はスラストベアリング機構51及びラジアルベアリング機構52の受けとしての役割を果たし、ドーム側歯車2や基板ドーム12等を真空槽40内部に回転自在に支持している。軸受53は、ベース50の上方から嵌めこまれ、基板ドーム12と逆の方向からボルト54により固定される。   The substrate dome 12 is connected to the rotation mechanism 42 by being fixed to the dome catcher 10 with a bolt 56, and rotates at a predetermined rotational speed together with the dome side gear 2. Since the rotating shaft 6, the dome catcher 10 and the substrate dome 12 are attached to the dome side gear 2, a vertical thrust load is applied. A thrust bearing mechanism 51 is arranged to receive the load in the thrust direction. Further, a radial bearing mechanism 52 is arranged to receive a lateral load during rotation. FIG. 7 a shows a schematic view of the thrust bearing mechanism 51. The thrust bearing mechanism includes a steel ball 20, a lubricant 21, a plurality of steel balls 20, and an annular groove 22 that accommodates the lubricant 21. FIG. 7 b is a schematic sectional view of the steel ball 20, and FIG. 7 c is a schematic sectional view of the lubricant 21. The steel ball 20 is made of, for example, iron, and the lubricant 21 is made of, for example, tungsten disulfide. However, the material may be selected as appropriate. The thrust bearing mechanism 51 has been described above for illustration, but the components in the radial bearing mechanism 52 are the same. The bearing 53 serves as a receiver for the thrust bearing mechanism 51 and the radial bearing mechanism 52, and rotatably supports the dome side gear 2, the substrate dome 12, and the like inside the vacuum chamber 40. The bearing 53 is fitted from above the base 50 and is fixed by a bolt 54 from the opposite direction to the substrate dome 12.

例えば、メンテナンス等で図に示す回転機構42を分解する場合には、まず、ドームキャッチャー10から基板ドーム12を下方に取外した後、回転機構42の上方に配置される図示しない膜厚モニタ機構やヒーター等の周辺機構を取外し、軸受53とベース50とを取外し、回転機構42を一体としてベース50の上方から取外していた。組立する場合には、周辺機構の取付け前に回転機構42をベース50の上方から取付け、ベース50の下方に基板ドーム12を取り付けていた。
特開2001-73136号公報
For example, when disassembling the rotating mechanism 42 shown in the figure for maintenance or the like, first, after removing the substrate dome 12 downward from the dome catcher 10, a film thickness monitoring mechanism (not shown) disposed above the rotating mechanism 42, The peripheral mechanism such as the heater was removed, the bearing 53 and the base 50 were removed, and the rotating mechanism 42 was integrally removed from above the base 50. When assembling, the rotating mechanism 42 was attached from above the base 50 before the peripheral mechanism was attached, and the substrate dome 12 was attached below the base 50.
JP 2001-73136 A

図8は、図7に示すスラストベアリング機構51が回転により消耗した際の様子を示す。潤滑材21は、スチールボール20及び環状溝22の表面に潤滑膜を形成しスチールボール20を滑らかに回転させるという効果を有するため、スチールボール20の回転により潤滑材21が消耗すると、異音発生の原因やベアリング寿命を早める原因となってしまう。また、回転により潤滑材21が消耗すると、消耗した潤滑剤21が粉塵60となって環状溝22に溜まってしまうという問題が発生する。粉塵60には、潤滑材21のみならずスチールボール20の磨耗による鉄くずも含まれ、このような粉塵60が環状溝22に溜まるとスチールボール20が円滑に回転しなくなり回転の支障となってしまう。ラジアルベアリング機構52においても同様の問題が発生するため、ベアリング機構には定期的な潤滑材の交換や回転部の清掃等のメンテナンス作業が必要とされる。しかし従来の回転機構は、周辺機構を取外さなくてはベアリングを取外すことができないという不都合があった。これは、基板ドーム上方の限られた空間に、膜厚モニタ機構やヒーター等、基板ドームに近接配置の必要がある機構が複数配置されるためであり、メンテナンス用の空間が確保できないためである。   FIG. 8 shows a state when the thrust bearing mechanism 51 shown in FIG. 7 is consumed by rotation. Since the lubricant 21 has an effect of forming a lubricant film on the surfaces of the steel ball 20 and the annular groove 22 and smoothly rotating the steel ball 20, if the lubricant 21 is consumed by the rotation of the steel ball 20, abnormal noise is generated. Cause the bearing life and shorten the bearing life. Further, when the lubricant 21 is consumed by the rotation, there is a problem that the consumed lubricant 21 becomes dust 60 and accumulates in the annular groove 22. The dust 60 includes not only the lubricant 21 but also iron scraps due to the wear of the steel balls 20. When such dust 60 accumulates in the annular groove 22, the steel balls 20 do not rotate smoothly, which hinders rotation. End up. Since the same problem also occurs in the radial bearing mechanism 52, the bearing mechanism requires maintenance work such as periodic replacement of the lubricant and cleaning of the rotating part. However, the conventional rotating mechanism has a disadvantage that the bearing cannot be removed without removing the peripheral mechanism. This is because a plurality of mechanisms such as a film thickness monitoring mechanism and a heater that need to be arranged close to the substrate dome are arranged in a limited space above the substrate dome, and a space for maintenance cannot be secured. .

潤滑材から発生する粉塵は、回転部に留まって回転の支障となるばかりでなく、真空槽内に舞い落ちて成膜の支障となるという問題もあった。図8を参照すると、環状溝22に溜まった粉塵60の一部は下方にこぼれ落ちてしまっている。図6を参照すると、スラストベアリング機構51及びラジアルベアリング機構52の直下には基板ドームが配置されるため、こぼれ落ちた粉塵60の一部は基板ドームに舞い落ちてしまっていた。基板ドームに粉塵が舞い落ちると、成膜の際に蒸発材料と共に粉塵が成膜基板に付着してしまい、膜質の悪化に繋がってしまっていた。   Dust generated from the lubricant not only stays in the rotating part and hinders rotation, but also has a problem of falling into the vacuum chamber and hindering film formation. Referring to FIG. 8, a part of the dust 60 accumulated in the annular groove 22 has fallen down. Referring to FIG. 6, since the substrate dome is disposed immediately below the thrust bearing mechanism 51 and the radial bearing mechanism 52, a part of the dust 60 that has fallen down has fallen down to the substrate dome. When the dust falls on the substrate dome, the dust adheres to the deposition substrate together with the evaporation material during the film formation, leading to deterioration of the film quality.

また、従来の回転機構では、ベアリングの上方に基板加熱ヒーターが配置されていたため、加熱により潤滑材の消耗を早めてしまっていたという問題もあった。   Further, in the conventional rotating mechanism, since the substrate heater is disposed above the bearing, there is a problem that the consumption of the lubricant is accelerated by heating.

更に、従来機構では、ドーム側歯車と基板ドームとの固定をボルト締めにより行なっているが、ボルト締めでは基板ドームの正確な位置出しができなという問題もあった。ドーム側歯車の中心と基板ドームの中心が一致しないと、回転の際に基板ドーム自体が左右に振れて回転してしまう。この状態で成膜を行なうと、蒸着材料が基板ドームに搭載されている基板に均一に付着しなくなり、膜厚分布の悪化に繋がってしまっていた。   Further, in the conventional mechanism, the dome side gear and the substrate dome are fixed by bolting, but there is a problem that the substrate dome cannot be accurately positioned by bolting. If the center of the dome side gear and the center of the substrate dome do not coincide with each other, the substrate dome itself swings left and right during rotation. When film formation is performed in this state, the vapor deposition material does not uniformly adhere to the substrate mounted on the substrate dome, leading to deterioration of the film thickness distribution.

加えて、従来の回転機構ではその高さに関しても課題があった。基板ドーム回転機構の上方には、膜厚を計測するための膜厚モニタ機構が配置されることが一般的であるが、モニタが蒸発源に対して影にならないように、基板ドームの回転機構の高さをできる限り薄くする必要があった。   In addition, the conventional rotating mechanism has a problem with respect to its height. Generally, a film thickness monitor mechanism for measuring the film thickness is disposed above the substrate dome rotation mechanism. However, the substrate dome rotation mechanism prevents the monitor from being shaded by the evaporation source. It was necessary to make the height of as thin as possible.

本発明の第1の側面は、真空槽、真空槽内部に固定されるベース、ベースに取り付けられる回転機構、及び、成膜基板が搭載され回転機構によって水平に回転される基板ドームからなる真空装置であって、回転機構をベースから真空槽底面方向に着脱可能な構成とした真空装置である。ここで、回転機構が少なくとも、ドーム基板の回転中心と同じ回転中心を持つように配置され、回転機構外部に設けられた駆動源からの動力により水平に回転されるドーム側歯車、ベースに対してドーム側歯車を支持するための支持手段、及び、基板ドームを該ドーム側歯車に取り付けるための保持手段からなり、ドーム側歯車の外径が該ベースの内径よりも小さくなるようにした。さらに、支持手段がベースの下端に取り付けられる構成とした。具体的には、支持手段が、少なくとも、ドーム側歯車と同心円状に該ドーム側歯車に固定される回転軸、及び、ドーム側歯車と同心円状に配置され、ベースに取り付けられる軸受からなり、軸受がベースの下端に取り付けられる構成とした。またさらに、支持手段が、ドーム側歯車と同心円状に配置され、軸受に支持されドーム側歯車を支持するスラストベアリング、及び、ドーム側歯車と同心円状に配置され、回転軸と接触するラジアルベアリングからなる構成とした。   A first aspect of the present invention is a vacuum apparatus comprising a vacuum chamber, a base fixed inside the vacuum chamber, a rotating mechanism attached to the base, and a substrate dome mounted with a film formation substrate and rotated horizontally by the rotating mechanism. In this vacuum device, the rotation mechanism is detachable from the base toward the bottom of the vacuum chamber. Here, the rotation mechanism is arranged so as to have at least the same rotation center as the rotation center of the dome substrate and is rotated horizontally by the power from the drive source provided outside the rotation mechanism. It comprises support means for supporting the dome side gear and holding means for attaching the substrate dome to the dome side gear so that the outer diameter of the dome side gear is smaller than the inner diameter of the base. Further, the support means is attached to the lower end of the base. Specifically, the support means comprises at least a rotating shaft fixed to the dome side gear concentrically with the dome side gear, and a bearing mounted concentrically with the dome side gear and attached to the base. Is configured to be attached to the lower end of the base. Furthermore, the support means is arranged concentrically with the dome side gear, supported by the bearing to support the dome side gear, and the radial bearing arranged concentrically with the dome side gear and in contact with the rotating shaft. It became the composition which becomes.

本発明の第2の側面は、真空槽、真空槽内部に固定されるベース、ベースに取り付けられる回転機構、及び、成膜基板が搭載され回転機構によって水平に回転される基板ドームからなる真空装置であって、回転機構が少なくとも、ドーム基板の回転中心と同じ回転中心を持つように配置され、回転機構外部に設けられた駆動源からの動力により水平に回転されるドーム側歯車、ベースに対してドーム側歯車を支持するための支持手段、及び、基板ドームをドーム側歯車に取り付けるための保持手段からなり、支持手段が、ドーム側歯車と同心円状に配置され軸受に支持されドーム側歯車を支持するスラストベアリング、及び、ドーム側歯車と同心円状に配置され回転軸と接触するラジアルベアリングからなる真空装置である。   According to a second aspect of the present invention, there is provided a vacuum apparatus comprising a vacuum chamber, a base fixed inside the vacuum chamber, a rotation mechanism attached to the base, and a substrate dome mounted with a film formation substrate and horizontally rotated by the rotation mechanism. The rotation mechanism is arranged so as to have at least the same rotation center as the rotation center of the dome substrate, and is rotated horizontally by the power from the drive source provided outside the rotation mechanism. Support means for supporting the dome side gear, and holding means for attaching the substrate dome to the dome side gear, the support means being arranged concentrically with the dome side gear and supported by the bearing, It is a vacuum device comprising a thrust bearing to be supported, and a radial bearing that is arranged concentrically with the dome side gear and contacts the rotating shaft.

さらに、上記第1の側面及び第2の側面において、スラストベアリングとラジアルベアリングとが略同一平面上に配置される構成とした。また、スラストベアリングが切る面の高さ方向の幅とラジアルベアリングが切る面の高さ方向の幅とが重なる部分を持つように配置される構成とした。   Further, in the first side face and the second side face, the thrust bearing and the radial bearing are arranged on substantially the same plane. In addition, the configuration is such that the width in the height direction of the surface cut by the thrust bearing and the width in the height direction of the surface cut by the radial bearing have a portion overlapping.

本発明の第3の側面は、真空槽、真空槽内部に固定されるベース、ベースに取り付けられる回転機構、成膜基板が搭載され回転機構によって水平に回転される基板ドーム、並びに、回転機構が環状溝に収容した複数のボール及び潤滑油により構成されるベアリングからなる真空装置であって、基板ドームの上方に基板ドームの少なくとも一部分を覆う粉塵受けを配置した真空装置である。ここで、成膜基板加熱用のドームヒーターを粉塵受けとした。さらに、成膜基板加熱用のドームヒーターがベースに固定される構成とした。また、回転機構は、さらに、ドーム側歯車と同心円状にドーム側歯車に固定される回転軸、及び、ドーム側歯車と同心円状に配置され、ベースに取り付けられる軸受からなり、回転軸が外周方向に伸びる突起部を有し、粉塵受けを突起部に設けられた溝で構成した。   A third aspect of the present invention includes a vacuum chamber, a base fixed inside the vacuum chamber, a rotation mechanism attached to the base, a substrate dome mounted with a film formation substrate and rotated horizontally by the rotation mechanism, and a rotation mechanism. A vacuum device comprising a plurality of balls and bearings made of lubricating oil housed in an annular groove, wherein a dust receiver is disposed above the substrate dome and covers at least a part of the substrate dome. Here, the dome heater for heating the deposition substrate was used as a dust receiver. Further, a dome heater for heating the deposition substrate is fixed to the base. The rotation mechanism further includes a rotation shaft fixed to the dome side gear concentrically with the dome side gear, and a bearing disposed concentrically with the dome side gear and attached to the base. And the dust receiver was constituted by a groove provided in the protrusion.

さらにまた、上記第1から第3の側面において、保持手段の少なくとも1箇所に皿ビスを用いる構成とした。   Furthermore, in the first to third aspects, a countersunk screw is used in at least one place of the holding means.

本発明の第4の側面は、真空槽、成膜基板が搭載される基板ドーム、基板ドームの直上に配置され基板ドームを回転させる回転機構、及び、真空槽の天板に配置され少なくとも回転機構を真空槽の内部に取り付けるベースからなる真空装置の組立分解方法であって、少なくとも回転機構を真空槽底面側に着脱する方法である。さらに、回転機構と基板ドームと固定する固定具をさらに有する真空装置において、固定具と回転機構間、又は、固定具と基板ドーム間の少なくとも一方を皿ビスで固定し、基板ドームの位置出しを行なうようにした。   According to a fourth aspect of the present invention, there is provided a vacuum chamber, a substrate dome on which the film formation substrate is mounted, a rotation mechanism that is disposed immediately above the substrate dome and rotates the substrate dome, and at least a rotation mechanism that is disposed on the top plate of the vacuum chamber. Is a method of assembling and disassembling a vacuum apparatus comprising a base attached to the inside of the vacuum chamber, and is a method of attaching and detaching at least the rotating mechanism to the bottom surface of the vacuum chamber. Further, in the vacuum apparatus further having a fixing device for fixing the rotating mechanism and the substrate dome, at least one of the fixing device and the rotating mechanism or between the fixing device and the substrate dome is fixed with a countersunk screw, and the substrate dome is positioned. I tried to do it.

本発明の第5の側面は、真空槽、成膜材料を充填する蒸発源、成膜基板が搭載され該成膜材料に対向配置される基板ドーム、基板ドームの直上に配置され基板ドームを回転させる回転機構、及び、真空槽の天板に配置され回転機構又は回転機構及び基板ドームを真空槽の内部に取り付けるベースからなる真空装置における基板ドームを回転させた状態で成膜基板に成膜材料を堆積させる成膜方法であって、回転機構と該基板ドームの間に設けられた粉塵受けにより回転機構から発生する粉塵を受ける成膜方法である。   According to a fifth aspect of the present invention, there is provided a vacuum chamber, an evaporation source filled with a film forming material, a substrate dome mounted with a film forming substrate and disposed opposite to the film forming material, and disposed immediately above the substrate dome to rotate the substrate dome. A film forming material on a film forming substrate in a state where the substrate dome is rotated in a vacuum device comprising a rotating mechanism and a base disposed on the top plate of the vacuum chamber and the rotating mechanism or a base for mounting the rotating mechanism and the substrate dome inside the vacuum chamber. Is a film forming method for receiving dust generated from the rotating mechanism by a dust receiver provided between the rotating mechanism and the substrate dome.

本発明により、限られたスペースでも効率良く回転機構の組立分解を行なうことが可能になるため、メンテナンス性及び作業性を向上させることが可能となる。また、基板ドームの芯振れ防止、ベアリングから発生する粉塵による汚染防止、及び回転機構の薄型化を図ることにより成膜精度の向上にも貢献することができる。   According to the present invention, it is possible to efficiently assemble and disassemble the rotating mechanism even in a limited space, so that it is possible to improve maintainability and workability. Further, it is possible to contribute to the improvement of film forming accuracy by preventing the substrate dome from running out, preventing contamination by dust generated from the bearing, and reducing the thickness of the rotating mechanism.

図1乃至図4を参照に本発明に係る基板ドーム回転機構の実施例を説明するが、従来と同様の部分には同一符号を付して説明を省略する。図1乃至図4に示す回転機構は、例えば図5に示される様な真空装置に搭載されるが、真空成膜に関する動作は従来と同様であるため説明を省略する。   An embodiment of the substrate dome rotation mechanism according to the present invention will be described with reference to FIGS. 1 to 4. The rotation mechanism shown in FIGS. 1 to 4 is mounted on a vacuum apparatus as shown in FIG. 5, for example, but the operation related to vacuum film formation is the same as the conventional one, and the description thereof is omitted.

図1に、ドーム側歯車2、回転軸6、ドームキャッチャー10、スラストベアリング機構3、ラジアルベアリング機構4、軸受5により構成される回転機構14、回転機構14を固定するベース1、回転機構14を駆動する駆動源側歯車15、基板ドーム12、基板ドーム12に搭載される成膜基板11、基板加熱用のヒータードーム13の概略断面図を示す。図2は、図1に示す回転機構を上方から見た概略平面図である。   FIG. 1 shows a dome side gear 2, a rotating shaft 6, a dome catcher 10, a thrust bearing mechanism 3, a radial bearing mechanism 4, a rotating mechanism 14 constituted by a bearing 5, a base 1 for fixing the rotating mechanism 14, and a rotating mechanism 14. A schematic sectional view of a driving source side gear 15 to be driven, a substrate dome 12, a film forming substrate 11 mounted on the substrate dome 12, and a heater dome 13 for heating the substrate is shown. FIG. 2 is a schematic plan view of the rotating mechanism shown in FIG. 1 as viewed from above.

図1乃至図2に示す回転機構14は、真空槽に固定配置されるベース1の内径をドーム側歯車2の外径よりも大きく設計し、軸受5をベース1に対して基板ドーム12の方向から嵌めこみ、ベース1と軸受5とを基板ドーム12の方向からボルト7により固定することを特徴とする。軸受5がスラストベアリング機構3及びラジアルベアリング機構4を固定し、ドーム側歯車2及び回転軸6を回転自在に支持することにより、ボルト7を外せば回転機構14を全て下方に取外すことが可能となる。これにより、周辺機構を取外すことなく回転機構14の組立分解を行なうことができ、メンテナンス時等の作業性を著しく向上させることが可能となった。実施例では、内径がドーム側歯車2の外径よりも大きい円盤形状のベース1を用いているが、ベース1は、ドーム側歯車2を嵌めこむスペースを有すればどのような形状であっても構わない。   The rotating mechanism 14 shown in FIGS. 1 and 2 is designed so that the inner diameter of the base 1 fixedly arranged in the vacuum chamber is larger than the outer diameter of the dome side gear 2, and the bearing 5 is directed to the base dome 12 with respect to the base 1. The base 1 and the bearing 5 are fixed by bolts 7 from the direction of the substrate dome 12. The bearing 5 fixes the thrust bearing mechanism 3 and the radial bearing mechanism 4 and supports the dome side gear 2 and the rotating shaft 6 so that the rotating mechanism 14 can be removed downwards by removing the bolt 7. Become. As a result, the rotating mechanism 14 can be assembled and disassembled without removing the peripheral mechanism, and the workability during maintenance and the like can be significantly improved. In the embodiment, the disk-shaped base 1 having an inner diameter larger than the outer diameter of the dome side gear 2 is used, but the base 1 has any shape as long as it has a space for fitting the dome side gear 2. It doesn't matter.

図3に、スラストベアリング機構3及びラジアルベアリング機構4の概略図を示す。スラストベアリング機構3及びラジアルベアリング機構4は同一平面内に同心円状に配置され、環状溝22に収容されるスチールボール20と潤滑材21とにより構成される。潤滑材21を使用することにより回転が円滑に行なわれるようになるが、例えばラジアルベアリング機構4のように負荷があまり大きくないベアリング機構であれば潤滑材21は用いなくても構わない。実施例で、スラストベアリング機構3とラジアルベアリング機構4とを同一平面内に配置することにより、回転機構14の高さを縮め、回転機構14の上方に配置される膜厚モニタ機構と成膜基板との距離を近づけることが可能となる。また、この薄型化に伴い、例えばドームキャッチャー10を低背化すること等により、回転機構14の総重量を軽くすることができ、回転機構14を下方に外す、又は、下方から取り付ける際の労力軽減や安全性向上を図ることができる。   FIG. 3 shows a schematic diagram of the thrust bearing mechanism 3 and the radial bearing mechanism 4. The thrust bearing mechanism 3 and the radial bearing mechanism 4 are concentrically arranged in the same plane, and are constituted by a steel ball 20 and a lubricant 21 accommodated in the annular groove 22. Although the rotation is smoothly performed by using the lubricant 21, the lubricant 21 may not be used as long as the bearing mechanism is not so large as in the radial bearing mechanism 4, for example. In the embodiment, by arranging the thrust bearing mechanism 3 and the radial bearing mechanism 4 in the same plane, the height of the rotating mechanism 14 is reduced, and the film thickness monitoring mechanism and the film formation substrate disposed above the rotating mechanism 14. It is possible to reduce the distance between Further, along with this reduction in thickness, the total weight of the rotating mechanism 14 can be reduced by reducing the height of the dome catcher 10, for example, and labor when removing the rotating mechanism 14 downward or attaching from below. Reduction and safety improvement can be aimed at.

ベアリング機構に使用されるスチールボール20及び潤滑材21は回転により磨耗して粉塵が発生するため、実施例では回転機構14の直下にヒータードーム13を配置した。ヒータードーム13はベース1に固定すればよい。これにより、粉塵が発生しても回転機構14の外周方向から基板ドームに舞い落ちることなく、ヒータードーム13が受け止めるため、成膜時の基板11へのゴミの付着を防ぐことが可能となる。また、ヒータードーム13が回転機構の直上にあると、ヒータードーム13が潤滑材を加熱して消耗を早めてしまうという問題があるが、ヒータードーム13が回転機構14の直下に配置されることで潤滑材21の寿命を延長させるという効果も奏する。実施例では成膜に必要な基板加熱用のヒータードーム13を粉塵対策用の受け板と兼用しているため、構成部品を追加することなく粉塵対策を行なうことが可能となるが、粉塵対策用の受け板を別に配置しても構わない。   Since the steel ball 20 and the lubricant 21 used in the bearing mechanism are worn by rotation and generate dust, the heater dome 13 is disposed directly below the rotation mechanism 14 in the embodiment. The heater dome 13 may be fixed to the base 1. Thus, even if dust is generated, the heater dome 13 receives the dust without falling down from the outer peripheral direction of the rotating mechanism 14 to the substrate dome, and thus it is possible to prevent dust from adhering to the substrate 11 during film formation. In addition, when the heater dome 13 is directly above the rotation mechanism, there is a problem that the heater dome 13 heats the lubricant and accelerates wear. However, the heater dome 13 is disposed immediately below the rotation mechanism 14. There is also an effect of extending the life of the lubricant 21. In the embodiment, since the heater dome 13 for heating the substrate necessary for film formation is also used as a receiving plate for dust countermeasures, it is possible to take dust countermeasures without adding components, but for dust countermeasures. The receiving plate may be arranged separately.

図4に図1に破線円で囲んだ部分60の詳細図を示す。軸受5には、ドーム側歯車2が上方に抜けることを防止するためのストッパー30が設けられるが、実施例ではストッパー30に溝31を設け、スチールボール20及び潤滑材21から発生する粉塵を受ける構造とした。これにより基板11の汚染を更に防止することが可能となる。   FIG. 4 shows a detailed view of a portion 60 surrounded by a broken-line circle in FIG. The bearing 5 is provided with a stopper 30 for preventing the dome side gear 2 from falling upward. In the embodiment, a groove 31 is provided in the stopper 30 to receive dust generated from the steel ball 20 and the lubricant 21. The structure. As a result, contamination of the substrate 11 can be further prevented.

以下、図1乃至図4に示す回転機構の組立動作を説明する。
まず、ドーム側歯車2に回転軸6及びドームキャッチャー10を固定し、軸受5上にスラストベアリング機構3及びラジアルベアリング機構4を組立て、スラストベアリング機構3にドーム側歯車2を、ラジアルベアリング機構4に回転軸6を接合させた状態で軸受5をボルト7によりベース1に固定する。このとき、ドーム側歯車2とドームキャッチャー10との固定には皿ビス8を使用する。次に、基板11を搭載した基板ドーム12をドームキャッチャー10に取付け、皿ビス9で固定し、芯だしを行なう。駆動源のモーターによりドーム側歯車2を所定の回転数で回転をさせる。ドーム側歯車2とドームキャッチャー10との接続、及びドームキャッチャー10と基板ドーム12との接続に皿ビス8,9を使用することにより、ドーム側歯車2の中心と基板ドーム12の中心とを正確に合わせ、基板ドーム12を芯振れなく回転させることが可能となる。実施例で皿ビス8,9を使用することにより、メンテナンス時の作業者による個人差を解消し、芯振れを解消して、成膜時における膜厚分布の悪化を防止することが可能となった。
The assembly operation of the rotating mechanism shown in FIGS. 1 to 4 will be described below.
First, the rotating shaft 6 and the dome catcher 10 are fixed to the dome side gear 2, the thrust bearing mechanism 3 and the radial bearing mechanism 4 are assembled on the bearing 5, the dome side gear 2 is attached to the thrust bearing mechanism 3, and the radial bearing mechanism 4 is attached. The bearing 5 is fixed to the base 1 with bolts 7 in a state where the rotary shaft 6 is joined. At this time, a countersunk screw 8 is used to fix the dome side gear 2 and the dome catcher 10. Next, the substrate dome 12 on which the substrate 11 is mounted is attached to the dome catcher 10, fixed with the countersunk screw 9, and centered. The dome side gear 2 is rotated at a predetermined rotational speed by the motor of the driving source. By using countersunk screws 8 and 9 to connect the dome side gear 2 and the dome catcher 10 and to connect the dome catcher 10 and the substrate dome 12, the center of the dome side gear 2 and the center of the substrate dome 12 can be accurately determined. Accordingly, the substrate dome 12 can be rotated without centering. By using the countersunk screws 8 and 9 in the embodiment, it is possible to eliminate individual differences due to the operator during maintenance, to eliminate the runout, and to prevent deterioration of the film thickness distribution during film formation. It was.

分解時はドームキャッチャー10と基板ドーム12との固定を外し、軸受5のボルト7を取外すことで回転機構14一体を下方に取外すことができる。他の構成部品、特に回転機構上方の図示されていない周辺機構を取り外すことなく回転機構14を分解できるため、メンテナンス時の作業性を著しく向上させることが可能となる。   At the time of disassembly, the dome catcher 10 and the substrate dome 12 are unfixed, and the bolt 7 of the bearing 5 is removed, so that the rotating mechanism 14 can be removed downward. Since the rotating mechanism 14 can be disassembled without removing other components, particularly peripheral mechanisms (not shown) above the rotating mechanism, workability during maintenance can be significantly improved.

上記実施例では蒸着法を用いた成膜について説明したが、本発明装置および方法を実施可能な成膜方法は蒸着法に限られるものではなく、スパッタリング法、イオンプレーティング法等多数あげられる。   In the above embodiment, the film formation using the vapor deposition method has been described. However, the film formation method capable of implementing the apparatus and the method of the present invention is not limited to the vapor deposition method, and there are many methods such as a sputtering method and an ion plating method.

本発明の回転機構概略断面図Schematic sectional view of the rotation mechanism of the present invention 本発明の回転機構概略平面図Schematic plan view of the rotation mechanism of the present invention ベアリング機構概略図Schematic diagram of bearing mechanism ストッパー概略図Stopper schematic 光学薄膜製造装置の構成概略図Schematic configuration of optical thin film manufacturing equipment 従来の回転機構概略図Schematic diagram of conventional rotating mechanism スラストベアリング機構概略図Schematic diagram of thrust bearing mechanism 消耗後のスラストベアリング機構概略図Schematic diagram of thrust bearing mechanism after wear

符号の説明Explanation of symbols

1 ベース
2 ドーム側歯車
3 スラストベアリング機構
4 ラジアルベアリング機構
5 軸受
6 回転軸
7 ボルト
8 皿ビス
9 皿ビス
10 ドームキャッチャー
11 成膜基板
12 基板ドーム
13 ヒータードーム
14 回転機構
15 駆動源側歯車
20 スチールボール
21 潤滑材
30 ストッパー
31 溝
40 真空槽
41 駆動源
42 回転機構
43 蒸着材料
44 坩堝
45 電子銃
46 シャッター
47 基板加熱ヒーター
50 ベース
51 スラストベアリング機構
52 ラジアルベアリング機構
53 軸受
54 ボルト
55 ボルト
56 ボルト
60 粉塵
1 base
2 Dome side gear
3 Thrust bearing mechanism
4 Radial bearing mechanism
5 Bearing
6 Rotating axis
7 volts
8 countersunk screws
9 countersunk screws
10 Dome catcher
11 Deposition substrate
12 PCB dome
13 Heater dome
14 Rotating mechanism
15 Drive source side gear
20 steel balls
21 Lubricant
30 Stopper
31 groove
40 vacuum chamber
41 Drive source
42 Rotating mechanism
43 Vapor deposition materials
44 Crucible
45 electron gun
46 Shutter
47 Substrate heater
50 base
51 Thrust bearing mechanism
52 Radial bearing mechanism
53 Bearing
54 volts
55 volts
56 volts
60 dust

Claims (16)

真空槽、該真空槽内部に固定されるベース、該ベースに取り付けられる回転機構、及び、成膜基板が搭載され該回転機構によって水平に回転される基板ドームからなる真空装置であって、
該回転機構を該ベースから該真空槽底面方向に着脱可能な構成としたことを特徴とする真空装置。
A vacuum apparatus comprising a vacuum chamber, a base fixed inside the vacuum chamber, a rotation mechanism attached to the base, and a substrate dome mounted with a film formation substrate and rotated horizontally by the rotation mechanism,
A vacuum apparatus characterized in that the rotating mechanism is configured to be detachable from the base toward the bottom of the vacuum chamber.
請求項1記載の真空装置であって、
該回転機構が少なくとも、
基板ドームの回転中心と同じ回転中心を持つように配置され、該回転機構外部に設けられた駆動源からの動力により水平に回転されるドーム側歯車、
該ベースに対して該ドーム側歯車を支持するための支持手段、及び、
該基板ドームを該ドーム側歯車に取り付けるための保持手段からなり、
該ドーム側歯車の外径が該ベースの内径よりも小さいことを特徴とする真空装置。
The vacuum apparatus according to claim 1,
The rotation mechanism is at least
The substrate is arranged to have the same rotation center as the rotation center of the dome, the dome side gear which is rotated horizontally by power from a drive source provided on the rotating mechanism outside,
Support means for supporting the dome side gear with respect to the base; and
Comprising holding means for attaching the substrate dome to the dome side gear;
A vacuum apparatus, wherein an outer diameter of the dome side gear is smaller than an inner diameter of the base.
請求項2記載の真空装置であって、
該支持手段が該ベースの下端に取り付けられることを特徴とする真空装置。
The vacuum apparatus according to claim 2,
A vacuum apparatus, wherein the support means is attached to the lower end of the base.
請求項2又は請求項3記載の真空装置であって、
該支持手段が、少なくとも、
該ドーム側歯車と同心円状に該ドーム側歯車に固定される回転軸、及び、
該ドーム側歯車と同心円状に配置され、該ベースに取り付けられる軸受からなり、
該軸受が該ベースの下端に取り付けられることを特徴とする真空装置。
A vacuum apparatus according to claim 2 or claim 3,
The support means is at least
A rotating shaft fixed to the dome side gear concentrically with the dome side gear, and
It is arranged concentrically with the dome side gear, and comprises a bearing attached to the base,
A vacuum apparatus, wherein the bearing is attached to a lower end of the base.
請求項4記載の真空装置であって、
該支持手段が、さらに、
該ドーム側歯車と同心円状に配置され、該軸受に支持され該ドーム側歯車を支持するスラストベアリング、及び、
該ドーム側歯車と同心円状に配置され、該回転軸に設置されるラジアルベアリングからなることを特徴とする真空装置。
The vacuum apparatus according to claim 4,
The support means further comprises:
A thrust bearing arranged concentrically with the dome side gear, supported by the bearing and supporting the dome side gear; and
A vacuum apparatus comprising a radial bearing arranged concentrically with the dome side gear and installed on the rotating shaft.
請求項1記載の真空装置において、
該回転機構が少なくとも、
基板ドームの回転中心と同じ回転中心を持つように配置され、該回転機構外部に設けられた駆動源からの動力により水平に回転されるドーム側歯車、
該ベースに対して該ドーム側歯車を支持するための支持手段、及び、
該基板ドームを該ドーム側歯車に取り付けるための保持手段からなり、
該支持手段が、
該ドーム側歯車と同心円状に配置され、該軸受に支持され該ドーム側歯車を支持するスラストベアリング、及び、該ドーム側歯車と同心円状に配置され、該回転軸に設置されるラジアルベアリングからなることを特徴とする真空装置。
The vacuum apparatus according to claim 1, wherein
The rotation mechanism is at least
The substrate is arranged to have the same rotation center as the rotation center of the dome, the dome side gear which is rotated horizontally by power from a drive source provided on the rotating mechanism outside,
Support means for supporting the dome side gear with respect to the base; and
Comprising holding means for attaching the substrate dome to the dome side gear;
The support means is
The thrust bearing is concentrically arranged with the dome side gear, is supported by the bearing and supports the dome side gear, and the radial bearing is concentrically arranged with the dome side gear and is installed on the rotating shaft. A vacuum apparatus characterized by that.
請求項5又は請求項6記載の真空装置であって、
該スラストベアリングと該ラジアルベアリングとが略同一平面上に配置されたことを特徴とする真空装置。
The vacuum apparatus according to claim 5 or 6,
A vacuum apparatus, wherein the thrust bearing and the radial bearing are arranged on substantially the same plane.
請求項5又は請求項6記載の真空装置であって、
該スラストベアリングが切る面の高さ方向の幅と該ラジアルベアリングが切る面の高さ方向の幅とが重なる部分を持つように配置されたことを特徴とする真空装置。
The vacuum apparatus according to claim 5 or 6,
A vacuum apparatus, characterized in that the thrust bearing has a portion in which a width in a height direction of a surface to be cut and a width in a height direction of a surface to be cut by the radial bearing have an overlapping portion.
請求項1記載の真空装置であって、さらに、該回転機構の環状溝に収容した複数のボール及び潤滑油により構成されるベアリングからなり、
該基板ドームの上方に該基板ドームの少なくとも一部分を覆う粉塵受けを配置したことを特徴とする真空装置。
The vacuum device according to claim 1, further comprising a bearing composed of a plurality of balls and lubricating oil accommodated in an annular groove of the rotating mechanism,
A vacuum apparatus, wherein a dust receiver covering at least a part of the substrate dome is disposed above the substrate dome.
請求項9記載の真空装置であって、
該粉塵受けは該成膜基板加熱用のドームヒーターであることを特徴とする真空装置。
The vacuum apparatus according to claim 9, wherein
The vacuum apparatus, wherein the dust receiver is a dome heater for heating the film formation substrate.
請求項10記載の真空装置であって、
該成膜基板加熱用のドームヒーターが該ベースに固定されたことを特徴とする真空装置。
The vacuum apparatus according to claim 10,
A vacuum apparatus, wherein the deposition substrate heating dome heater is fixed to the base.
請求項9から請求項11いずれか一項に記載の真空装置であって、
該回転機構は、さらに、
該ドーム側歯車と同心円状に該ドーム側歯車に固定される回転軸、及び、
該ドーム側歯車と同心円状に配置され、該ベースに取り付けられる軸受からなり、
該回転軸が外周方向に伸びる突起部を有し、
該粉塵受けは該突起部に設けられた溝であることを特徴とする真空装置。
A vacuum apparatus according to any one of claims 9 to 11,
The rotating mechanism further includes:
A rotating shaft fixed to the dome side gear concentrically with the dome side gear, and
It is arranged concentrically with the dome side gear, and comprises a bearing attached to the base,
The rotating shaft has a protrusion extending in the outer circumferential direction;
The vacuum apparatus, wherein the dust receiver is a groove provided in the protrusion.
請求項3から請求項12いずれか一項に記載の真空装置であって、
該保持手段の少なくとも1箇所に皿ビスを用いたことを特徴とする真空装置。
A vacuum apparatus according to any one of claims 3 to 12,
A vacuum apparatus characterized in that a countersunk screw is used in at least one place of the holding means.
真空槽、成膜基板が搭載される基板ドーム、該基板ドームの直上に配置され該基板ドームを回転させる回転機構、及び、該真空槽の天板に配置され少なくとも該回転機構を該真空槽の内部に取り付けるベースからなる真空装置の組立分解方法であって、
該回転機構を該真空槽底面側に着脱することを特徴とする組立分解方法。
A vacuum chamber, a substrate dome on which the deposition substrate is mounted, a rotation mechanism that is disposed immediately above the substrate dome and rotates the substrate dome, and at least the rotation mechanism that is disposed on the top plate of the vacuum chamber. A method for assembling and disassembling a vacuum device comprising a base mounted inside,
An assembling / disassembling method, wherein the rotating mechanism is attached to and detached from the bottom surface of the vacuum chamber.
請求項14記載の組立分解方法であって、
該回転機構と該基板ドームと固定する固定具をさらに有する真空装置において、
該固定具と該回転機構間、又は、該固定具と該基板ドーム間の少なくとも一方を皿ビスで固定し、該基板ドームの位置出しを行なうことを特徴とする組立分解方法。
The assembly and disassembly method according to claim 14,
In a vacuum apparatus further comprising a fixture for fixing the rotating mechanism and the substrate dome,
An assembling and disassembling method, wherein at least one of the fixing tool and the rotating mechanism or between the fixing tool and the substrate dome is fixed with a countersunk screw, and the substrate dome is positioned.
請求項14記載の組立分解方法によって組み立てられた真空装置において、前記基板ドームを回転させた状態で前記成膜基板に蒸着源からの成膜材料を堆積させる成膜方法であって、
前記回転機構と該基板ドームの間に設けられた粉塵受けにより該回転機構から発生する粉塵を受けることを特徴とする成膜方法。
The vacuum apparatus assembled by the assembling / disassembling method according to claim 14, wherein the film forming material is deposited on the film forming substrate while the substrate dome is rotated.
A film forming method, wherein dust generated from the rotating mechanism is received by a dust receiver provided between the rotating mechanism and the substrate dome.
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