JP3994964B2 - 半導体封止用エポキシ樹脂組成物及び半導体装置 - Google Patents
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Description
各実施例及び比較例につき、下記表1に示す組成となるように各成分を配合し、ブレンダーで30分間混合し均一化した後、80℃に加熱したニーダーで混練溶融させて押し出し、冷却後、粉砕機で粉砕して、粒状のエポキシ樹脂組成物を得た。
・o−クレゾールノボラック型エポキシ樹脂:住友化学(株)製、品番「ESCN 195XL」、エポキシ当量195
・フェノールノボラック樹脂:荒川化学(株)製、品番「タマノール752」、水酸基当量104
・溶融シリカ:電気化学工業株式会社製の品番「FB820」と(株)アドマテックス製の品番「SO−25R」とを、前者対後者の重量比率が9:1となるように混合したもの。
・γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン:信越化学工業(株)製、品番「KBM403」
・エポキシ/ポリエーテル基含有ポロシロキサン:東レダウコーニング(株)製、品番「SF8421」
・カーボンブラック:三菱化学社製、品番「40B」
・硬化促進剤:トリフェニルホスフィン、北興化学工業(株)製、品番「TPP」
・カルナバワックス:大日化学社製、品番「F1−100」
・ブロム化エポキシ樹脂:住友化学(株)製、品番「ESB400T」、エポキシ当量400
・三酸化アンチモン:東湖産業社製、品番「NT−3」
・水酸化マグネシウム(合成品):協和化学工業(株)製、品番「キスマ8N」、平均粒径1.7μm
・水酸化マグネシウム(天然品表面処理なし):神島化学工業(株)製、品番「WH−25(未処理品)」平均粒径6.7μm
・水酸化マグネシウム(天然品表面処理あり):神島化学工業(株)製、品番「WH−25(脂肪酸処理せず)」の、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシランによるカップリング剤処理品
・水酸化マグネシウム(天然品表面処理あり、予め樹脂と混合):神島化学工業(株)製、品番「WH−25(脂肪酸処理せず)」の、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシランによるカップリング剤処理品。組成物調製時にエポキシ樹脂と100〜120℃で加熱混合した後に、上記の条件で他の成分と混合したもの。
1.耐酸性試験
各実施例及び比較例の半導体封止用エポキシ樹脂組成物を用い、金型温度175℃、注入圧力70kgf/cm2(6.9MPa)、成形時間90秒の条件でトランスファ成形を行い、評価用のパッケージ(16DIP)を作製した。
各実施例及び比較例の半導体封止用エポキシ樹脂組成物を用い、上記耐酸性試験と同様のサンプルを作製し、飽和型、2atm、121℃、1000時間の条件で試験を行った。
各実施例及び比較例における半導体封止用エポキシ樹脂組成物にて評価用のパッケージの成形時と同一条件でトランスファ成形を行い、厚み0.8mmの評価用テストピースを作製した。そしてこの評価用テストピースに対して、UL94規格に従った炎性試験を行った。
Claims (4)
- エポキシ樹脂、硬化剤及び無機充填材を含有する半導体封止用エポキシ樹脂組成物において、難燃剤としてシランカップリング剤にて表面処理が施された天然水酸化マグネシウムを含有することを特徴とする半導体封止用エポキシ樹脂組成物。
- 上記天然水酸化マグネシウムが、平均粒径が15μm以下であることを特徴とする請求項1に記載の半導体封止用エポキシ樹脂組成物。
- エポキシ樹脂と天然水酸化マグネシウムとを予め混合した後、他の成分と混合することにより調製されたものであることを特徴とする請求項1又は2に記載の半導体封止用エポキシ樹脂組成物。
- 請求項1から3のいずれかに記載の半導体封止用エポキシ樹脂組成物にて封止されていることを特徴とする半導体装置。
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