JP3993296B2 - 吸着固定装置 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、吸気作用によって被固定物を載置台の上面に吸着固定するための吸着固定装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
例えば集積回路を印設したシリコンウエハに研磨加工や切断加工等の機械加工を施したり、精密な測定をする場合等において、シリコンウエハを固定する方式として、吸気作用によってシリコンウエハを吸着固定するチャックテーブルとして吸着固定装置が一般に用いられている。この種の吸着固定装置は、上方が開放した凹部を備えた基台と、該基台の該凹部に嵌合して配設されたセラミック等の多孔質部材からなる載置台とを具備し、該載置台の上面に被固定物であるシリコンウエハを載置し、載置台の下面と基台との間に形成される吸引室と連通する吸引手段によって吸引することにより、シリコンウエハを載置台の上面に吸引固定する。しかるに、多孔質部材によって構成された載置台は多方向に通気性を有するので、載置台の外径より被固定物であるシリコンウエハの外径が小さいと、載置台におけるシリコンウエハの外側では大量の空気を吸引することになり、吸引手段の吸引効率が悪化する。一方、吸着部の外径より被吸着物であるシリコンウエハの外径が大きいと、シリコンウエハの外周縁が載置台より外側に位置付けられることになり加工時に平坦精度が悪化してしまう。
【0003】
上記問題を解決するのもとして特開昭61ー182838号公報に記載された吸着固定装置が知られている。この公報に開示された吸着固定装置は、上方が開放した凹部を備え該凹部に同心円状に設けられた隔壁によって複数個の吸引室が形成された基台と、該基台の凹部に嵌合して配設され同心円状に形成された多孔質のセラミック部材からなる複数個の吸着部と該各吸着部の間に設けられた非通気性の材料からなる複数個の環状の仕切り部とによって構成された載置台とを具備し、上記各吸引室と夫々連通する吸引手段によって各吸引室を各々吸引するようにしたものである。
特開昭61ー182838号公報に記載された吸着固定装置によれば、載置台の外径より被固定物であるシリコンウエハの外径が小さい場合でも、吸引手段の吸引効率が悪化することはないが、次のような問題がある。即ち、被固定物であるシリコンウエハを載置台上に吸着固定して研磨加工する場合、シリコンウエハは研磨工具による押圧力と吸着力とによって載置台に強力に押し付けられた状態で加工される。しかるに、載置台は吸着部と仕切り部とが同心円状に交互に形成され、環状の仕切り部が表出した構成となっているため、吸着部と仕切り部との材質の相違または僅かな段差に起因して、被吸着物シリコンウエハのサイズが大きい場合には、研磨されたシリコンウエハの表面に上記仕切り部の形状、即ち同心円状の模様(所謂転写)が形成される。この模様は目視できるばかりでなく、模様部分の段差が数μmに及ぶことがあり、平面精度としても必ずしも満足し得るものではない。
【0004】
上述した特開昭61ー182838号公報に記載された吸着固定装置の問題を解決するものとして、載置台を、同心円状に形成された通気性を有する複数個の吸着部と各吸着部の間に設けられた非通気性の材料からなる複数個の環状の仕切り部とからなる区画部材と、該区画部材の上に重ねて配設された通気性を有する表面部材とによって構成し、上記区画部材の各吸着部に対応した吸引室に夫々吸引手段を接続した吸着固定装置が提案され、特開平3ー32537号公報に開示されている。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
而して、特開平3ー32537号公報に開示された吸着固定装置は、上記載置台を構成する表面部材の上面が均一な平面であるため、該表面部材上に被固定物を吸引固定し、この被固定物に研磨加工を施しても上述したような同心円状の模様は生じない。しかしながら、特開平3ー32537号公報に開示された吸着固定装置は、上記表面部材が多孔質部材であり多方向に通気性を有するため、小径の被固定物を吸着固定する際には、空気が漏れて吸引固定力が低下するという問題があるとともに、載置台として区画部材と表面部材との二つの部材を要するため、構造が複雑となり製作コストが増大するという問題がある。
【0006】
本発明は上記事実に鑑みてなされたものであり、その主たる技術課題は、サイズの大きい被固定物に研磨加工を施しても上述したような同心円状の模様が生じることはなく、しかも構造が簡単で吸引固定力が低下しない吸着固定装置を提供することにある。
【0007】
【課題を解決するための手段】
上記主たる技術課題を解決するため、本発明によれば、上方が開放した凹部を備え該凹部に同心円状に設けられた隔壁によって複数個の吸引室が形成された基台と、該基台の該凹部に嵌合して配設された通気性を有する載置台と、該各吸引室と夫々連通する吸引手段とを具備し、該載置台上に被固定物を載置して吸引固定する吸着固定装置において、
該載置台は、特定の溶剤によって溶ける材料からなる複数の第1の線材と該特定の溶剤によって溶けない材料からなる複数の第2の線材が線芯を揃えて一体成形され、該第1の線材が該特定の溶剤によって溶かされて線芯方向に通気孔を形成する、
ことを特徴とする吸着固定装置が提供される。
【0011】
【発明の実施の形態】
以下、本発明に従って構成された吸着固定装置の実施形態について、添付図面を参照して詳細に説明する。
【0012】
図1には本発明に従って構成された吸着固定装置の要部を分離した斜視図が示されており、図2には図1の吸着固定装置の断面図が示されている。
図示の実施形態における吸着固定装置は、円板状の基台2と円板状の載置台4とを具備している。基台2は適宜の金属材によって構成され、その上面には上方が開放された円形状の凹部21が形成されている。基台2に設けられた凹部21の周壁22には、基台2の上面から所定量(例えば20mm)下方に達する環状の段部221が形成されている。また、基台2に設けられた凹部21の底壁23には、同心円状に形成された複数個の環状の隔壁231、232、233、234が凹部21内に突出して設けられている。この複数個の隔壁231、232、233、234は、同一高さに形成されており、その上端が周壁22に形成された段部221の高さ位置と同一高さになるように構成されている。なお、図示の実施形態においては、上記隔壁231の外径が略3インチ、隔壁232の外径が略4インチ、隔壁233の外径が略5インチ、隔壁234の外径が略6インチ、そして上記段部221外径が略8インチに構成されている。このように構成された基台2には、凹部21が複数個の隔壁231、232、233、234によって区画された複数個の吸引室241、242、243、244、245が形成される。また、基台2の凹部21を形成する底壁23には、上記吸引室241、242、243、244、245に夫々連通する吸気孔251、252、253、254、255が設けられている。この吸気孔251、252、253、254、255には、図示しない吸引源に接続された吸引手段を構成する吸引パイプ261、262、263、264、265が夫々接続されており、該各吸引パイプ261、262、263、264、265には夫々開閉弁271、272、273、274、275が配設されている。
【0013】
上記基台2の凹部21に嵌合して配設される載置台4は、上下方向に通気性を有する円板状部材によって形成されており、図示の実施形態においては、その外径が略8インチ、厚さが20mmに構成されている。従って、載置台4は上記基台2に設けられた凹部21の段部221および隔壁231、232、233、234の上端上に載置され、その上面が基台2の上面と面一に構成される。
【0014】
次に、上下方向に通気性を有する載置台4の各実施形態について、図3乃至6を参照して説明する。
図3に示す実施形態における載置台4は、例えば直径が80μm程度のガラス線材41を線芯を揃えて束ね、これを1200〜1300°Cの温度で焼結して一体成形し、この焼結体を所定の厚さに切断してA部に拡大して示すように、各ガラス線材41によって囲まれる領域が線芯方向に連通する通気孔410として形成されたものである。なお、線材はガラス線材以外にセラミック等の被金属材またはステンレス鋼等の金属材を用いることができる。
【0015】
図4に示す実施形態における載置台4は、例えば外径が80μm程度で内径が50μm程度の中空のガラス線材42を線芯を揃えて束ね、各ガラス線材42によって囲まれる領域に水ガラスを充填し、これを1200〜1300°Cの温度で焼結して一体成形し、この焼結体を所定の厚さに切断してB部に拡大して示すように、各ガラス線材42の中空部が上下に連通する通気孔420として形成されたものである。
【0016】
図5に示す実施形態における載置台4は、図5の(a)においてC部に拡大して示すように、例えば、内側層431が外径50μm程度で外側層432が外径80μm程度の2層構造をした複数の線材43によって形成される。2層構造をした線材43は、内側層431が特定の溶剤(例えばフッ化水素酸)によって溶けるケイ酸塩ガラスによって形成されており、外側層432が上記特定の溶剤によって溶けない例えばリン酸塩系ガラスによって形成されている。このように構成された2層構造をした複数の線材43を線芯を揃えて束ね、各線材43によって囲まれる領域に上記特定の溶剤によって溶けない水ガラスを充填し、これを1200〜1300°Cの温度で焼結して一体成形し、この焼結体を所定の厚さに切断して図5の(a)に示すように円板状に形成する。次に、図5の(a)に示す円板状の焼結体を上記特定の溶剤中に浸漬して、上記内側層431を溶かすことによって、図5の(b)においてD部に拡大して示すように通気孔430を形成する。
【0017】
図6に示す実施形態における載置台4は、図6の(a)においてE部に拡大して示すように、例えば直径が80μm程度の特定の溶剤(例えばフッ化水素酸)によって溶けるケイ酸塩ガラスによって形成された第1のガラス線材441と、直径が80μm程度の上記特定の溶剤によって溶けない例えばリン酸塩系ガラスによって形成された第2のガラス線材442を混合して線芯を揃えて束ね、第1のガラス線材441と第2のガラス線材442によって囲まれる領域に上記特定の溶剤によって溶けない水ガラスを充填し、これを1200〜1300°Cの温度で焼結して一体成形し、この焼結体を所定の厚さに切断して図6の(a)に示すように円板状に形成する。このように第1のガラス線材441と第2のガラス線材442を一体成形した円板状の焼結体を上記特定の溶剤中に浸漬して、上記第1のガラス線材441を溶かすことによって、図6の(b)においてF部に拡大して示すように通気孔440を形成する。なお、上記特定の溶剤によって溶けない第2の線材442としては、セラミック等を用いることができる。
【0018】
上記のように構成された載置台4は、図2に示すように基台2に設けられた凹部21に嵌合される。そして載置台4の上面に被固定物を載置し、吸引室241、242、243、244、245内の空気を吸引することにより、被固定物が載置台4の上面に固定される。なお、被固定物を載置台4の上面に載置する際には、被固定物の中心が載置台4の中心に合致するようにロボット等によって位置付けられる。従って、図示の実施形態においては、被固定物が3インチのシリコンウエハの場合は環状の隔壁231上の領域に載置される。同様に、被固定物が4インチのシリコンウエハの場合は環状の隔壁232上の領域に、被固定物が5インチのシリコンウエハの場合は環状の隔壁233上の領域に、被固定物が6インチのシリコンウエハの場合は環状の隔壁234上の領域に、そして被固定物が8インチのシリコンウエハの場合は載置台4の全領域に載置される。載置台4上に3インチのシリコンウエハが載置された場合は、開閉弁271が開かれて他の開閉弁が閉じられる。載置台4上に4インチのシリコンウエハが載置された場合は、開閉弁271および272が開かれて他の開閉弁が閉じられる。同様にして、載置台4上に5インチのシリコンウエハが載置された場合は開閉弁271、272および273が開かれて開閉弁275および275が閉じられ、載置台4上に6インチのシリコンウエハが載置された場合は開閉弁271、272、273および274が開かれて開閉弁275が閉じられ、そして載置台4上に8インチのシリコンウエハが載置された場合は全ての開閉弁271と272、273、274および275が開かれれる。このように、載置台4上に載置されるシリコンウエハのサイズに対応した吸気室だけが吸引され、しかも、載置台4には上下に連通する通気孔だけが形成されているので、載置台4上に載置されたシリコンウエハのサイズに対応した領域以外から空気を吸引することはなく、吸引効率が良好となる。また、載置台4は被固定物のサイズに対応した仕切り部を有せず全体が均一に構成されているので、被固定物であるシリコンウエハを研磨加工した場合にも平面精度が極めて良好となる。しかも、載置台4は一つの部材でよく、従って、構造が簡単で比較的安価に製作することができる。なお、上述した図示の吸着固定装置において、載置台4と各吸引室241、242、243、244、245とによって形成される空間に多孔質部材を嵌入して、載置台4を補強しても良い。
【0019】
【発明の効果】
本発明による吸着固定装置は以上のように構成されているので、次の作用効果を奏する。
【0020】
即ち、本発明によれば、載置台上に載置される被固定物のサイズに対応した吸気室だけが吸引され、しかも、載置台には上下に連通する通気孔だけが形成されているので、載置台上に載置された被固定物のサイズに対応した領域以外から空気を吸引することはなく、吸引効率が良好となる。また、載置台は被固定物のサイズに対応した仕切り部を有せず全体が均一に構成されているので、被固定物を研磨加工した場合にも平面精度が極めて良好となる。しかも、載置台は細い線材を線芯を揃えて一体成形するため、通気孔が蜜に形成され、被固定物を均一に吸引固定することができる。また、載置台は一つの部材でよく、従って、構造が簡単で比較的安価に製作することができる吸着固定装置が得られる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に従って構成された吸着固定装置の要部を分離して示す斜視図。
【図2】図1に示す吸着固定装置の断面図
【図3】図1に示す吸着固定装置を構成する載置台の第1の実施形態を一部を拡大して示す平面図。
【図4】図1に示す吸着固定装置を構成する載置台の第2の実施形態を一部を拡大して示す平面図。
【図5】図1に示す吸着固定装置を構成する載置台の第3の実施形態を一部を拡大して示す平面図。
【図6】図1に示す吸着固定装置を構成する載置台の第4の実施形態を一部を拡大して示す平面図。
【符号の説明】
2:基台
21:基台の凹部
22:凹部の周壁
221:周壁の段部
23:凹部の底壁
231、232、233、234:凹部の隔壁
241、242、243、244、245:吸引室
4:載置台
41:ガラス線材
410:通気孔
42:中空のガラス線材
420:通気孔
43:2層構造のガラス線材
430:通気孔
441:第1のガラス線材
442:第2のガラス線材
440:通気孔
Claims (1)
- 上方が開放した凹部を備え該凹部に同心円状に設けられた隔壁によって複数個の吸引室が形成された基台と、該基台の該凹部に嵌合して配設された通気性を有する載置台と、該各吸引室と夫々連通する吸引手段とを具備し、該載置台上に被固定物を載置して吸引固定する吸着固定装置において、
該載置台は、特定の溶剤によって溶ける材料からなる複数の第1の線材と該特定の溶剤によって溶けない材料からなる複数の第2の線材が線芯を揃えて一体成形され、該第1の線材が該特定の溶剤によって溶かされて線芯方向に通気孔を形成する、
ことを特徴とする吸着固定装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8075798A JP3993296B2 (ja) | 1998-03-27 | 1998-03-27 | 吸着固定装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8075798A JP3993296B2 (ja) | 1998-03-27 | 1998-03-27 | 吸着固定装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH11284056A JPH11284056A (ja) | 1999-10-15 |
JP3993296B2 true JP3993296B2 (ja) | 2007-10-17 |
Family
ID=13727294
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP8075798A Expired - Lifetime JP3993296B2 (ja) | 1998-03-27 | 1998-03-27 | 吸着固定装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3993296B2 (ja) |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4655406B2 (ja) * | 2001-05-11 | 2011-03-23 | 株式会社東京精密 | 面発光式吸着テーブル |
JP3980898B2 (ja) * | 2002-02-05 | 2007-09-26 | 株式会社ディスコ | 研磨装置 |
FR2923948B1 (fr) * | 2007-11-19 | 2011-02-11 | Centre Nat Etd Spatiales | Dispositif et procede d'alignement de plaquettes sur un support plan. |
JP6255259B2 (ja) | 2014-01-30 | 2017-12-27 | 株式会社ディスコ | 搬送機構 |
JP2016009752A (ja) * | 2014-06-24 | 2016-01-18 | 株式会社吉岡精工 | 面発光チャックテーブル |
JP7118030B2 (ja) * | 2019-05-21 | 2022-08-15 | 三菱電機株式会社 | 真空チャックおよび半導体装置の製造方法 |
CN111473039A (zh) * | 2020-03-04 | 2020-07-31 | 上海精测半导体技术有限公司 | 柔性面板整平装置以及方法 |
-
1998
- 1998-03-27 JP JP8075798A patent/JP3993296B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH11284056A (ja) | 1999-10-15 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
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|
A977 | Report on retrieval |
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|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
A521 | Written amendment |
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R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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