JP3986189B2 - 半導体装置の製造方法 - Google Patents

半導体装置の製造方法 Download PDF

Info

Publication number
JP3986189B2
JP3986189B2 JP34125898A JP34125898A JP3986189B2 JP 3986189 B2 JP3986189 B2 JP 3986189B2 JP 34125898 A JP34125898 A JP 34125898A JP 34125898 A JP34125898 A JP 34125898A JP 3986189 B2 JP3986189 B2 JP 3986189B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
lead frame
lead
sealing body
resin sealing
preventing member
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP34125898A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2000174189A (ja
Inventor
昭夫 三上
彰郎 星
匠 曽場
泰弘 小山
健 白戸
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Renesas Technology Corp
Original Assignee
Renesas Technology Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Renesas Technology Corp filed Critical Renesas Technology Corp
Priority to JP34125898A priority Critical patent/JP3986189B2/ja
Publication of JP2000174189A publication Critical patent/JP2000174189A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3986189B2 publication Critical patent/JP3986189B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/4805Shape
    • H01L2224/4809Loop shape
    • H01L2224/48095Kinked
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/481Disposition
    • H01L2224/48151Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/48221Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/48245Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic
    • H01L2224/48247Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic connecting the wire to a bond pad of the item
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/484Connecting portions
    • H01L2224/48463Connecting portions the connecting portion on the bonding area of the semiconductor or solid-state body being a ball bond
    • H01L2224/48465Connecting portions the connecting portion on the bonding area of the semiconductor or solid-state body being a ball bond the other connecting portion not on the bonding area being a wedge bond, i.e. ball-to-wedge, regular stitch
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/73Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L2224/10, H01L2224/18, H01L2224/26, H01L2224/34, H01L2224/42, H01L2224/50, H01L2224/63, H01L2224/71
    • H01L2224/732Location after the connecting process
    • H01L2224/73251Location after the connecting process on different surfaces
    • H01L2224/73265Layer and wire connectors
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/91Methods for connecting semiconductor or solid state bodies including different methods provided for in two or more of groups H01L2224/80 - H01L2224/90
    • H01L2224/92Specific sequence of method steps
    • H01L2224/922Connecting different surfaces of the semiconductor or solid-state body with connectors of different types
    • H01L2224/9222Sequential connecting processes
    • H01L2224/92242Sequential connecting processes the first connecting process involving a layer connector
    • H01L2224/92247Sequential connecting processes the first connecting process involving a layer connector the second connecting process involving a wire connector

Landscapes

  • Injection Moulding Of Plastics Or The Like (AREA)
  • Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)
  • Encapsulation Of And Coatings For Semiconductor Or Solid State Devices (AREA)
  • Moulds For Moulding Plastics Or The Like (AREA)

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体装置の製造技術、特に、樹脂封止体の成形技術に関し、例えば、樹脂封止パッケージを備えているダイオードの製造に利用して有効な技術に関する。
【0002】
【従来の技術】
樹脂封止パッケージを備えているダイオード(以下、ダイオードという。)の樹脂封止体をトランスファ成形装置によって成形するに際しては、樹脂をせき止めるためのダムバー(タイバーとも称される。)が使用されない場合がある。すなわち、ダイオードの樹脂封止体を成形するためのトランスファ成形装置は互いに型合わせされる上型および下型からなる成形型を備えており、上型および下型の合わせ面には樹脂封止体を成形するためのキャビティーが没設されている。また、上型または下型のいずれか一方の合わせ面にはランナを介してポットに連通されたゲートが、キャビティーに成形材料としての液状樹脂(以下、レジンという。)を注入し得るように没設されている。そして、上型と下型との合わせ面間にリードフレームがダイオードが作り込まれた半導体ペレットを取り囲むように配されて挟み込まれた後に、レジンがランナおよびゲートを通じてキャビティーに充填されることにより、リードフレームに樹脂封止体が成形される。
【0003】
トランスファ成形装置によってリードフレームに樹脂封止体が成形される際に、リードフレームと上型および下型との合わせ面間からレジンがキャビティーの周囲に漏洩するため、樹脂封止体の外周に樹脂バリ(以下、バリという。)が発生する。
【0004】
このバリが樹脂封止体の外周に残ったままでは、外観不良になるばかりでなく、後のアウタリードの外装処理工程(Lead Finishing process)においてメッキ被膜が被着しない等の障害が発生する。このため、このバリはバリ取り工程(Deburring process)によって除去されるのが、一般的である。従来、バリは樹脂封止体の成形後に、打ち抜き金型装置や、ショットブラスト装置等によって除去されている。
【0005】
なお、樹脂封止パッケージの樹脂封止体成形工程、バリ取り工程、外装処理工程およびリード切断成形工程を述べてある例としては、日経BP社1993年5月31日発行「実践講座VLSIパッケージング技術(下)」第31頁〜第50頁がある。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、従来のバリ取り方法によってはバリを100%除去することができない。
【0007】
なお、板厚の厚いリードフレームが使用される半導体装置の製造方法においては、リードフレームの抜き落とし部分を一度抜いた後にそのまま戻すプッシュバック方法が使用される場合がある。しかし、ダイオードの製造方法に使用されるリードフレームの板厚は0.2mm以下と薄いことにより、プッシュバック方法を使用しても脱落してしまうため、プッシュバック方法を適用することができない。
【0008】
本発明の目的は、板厚が薄い場合であってもプッシュバック方法を適用することができる半導体装置の製造技術を提供することにある。
【0009】
本発明の前記ならびにその他の目的と新規な特徴は、本明細書の記述および添付図面から明らかになるであろう。
【0010】
【課題を解決するための手段】
本願において開示される発明のうち代表的なものの概要を説明すれば、次の通りである。
【0011】
すなわち、リードフレームの打ち抜きプレスに際して、リードフレームの一部が四辺形の漏洩防止部材として一対の対辺と樹脂封止体側となる一辺とが剪断されるとともに残りの一辺を起点に折り曲げられて切り起こされた後に、この切り起こし部分が切り起こし孔に嵌め込まれて形成され、
その後、このリードフレームに対する樹脂封止体の成形に際して、成形型のキャビティーからの樹脂の漏洩が前記漏洩防止部材によって阻止されることを特徴とする。
【0012】
前記した手段によれば、リードフレームに対する樹脂封止体の成形に際して、成形型のキャビティーの隙間に漏洩防止部材の内側端辺が位置された状態になるため、キャビティーからの樹脂の漏洩は漏洩防止部材によって防止される。したがって、樹脂封止体成形時の樹脂の漏洩によるバリの発生を未然に防止することができる。
【0013】
【発明の実施の形態】
以下、図面に即して本発明の一実施形態を説明する。
【0014】
本実施形態において、本発明に係る半導体装置の製造方法は、樹脂封止パッケージを備えているダイオード(以下、ダイオードという。)を製造するのに使用されている。以下、本発明の一実施形態であるダイオードの製造方法を説明する。この説明により、本発明の一実施形態であるダイオードの構成が共に明らかにされる。
【0015】
本実施形態において、本発明に係るダイオードの製造方法には、図1に示されている多連リードフレーム1が使用されている。この多連リードフレーム1は銅系(銅またはその合金)材料または鉄系(鉄またはその合金)からなる薄板が用いられて、プレス加工により一体成形されている。本実施形態において、多連リードフレーム1の板厚は、約0.1mmに設定されている。多連リードフレーム1には複数の単位リードフレーム2が横方向に一列に並設されている。但し、図示および説明は一単位について行われる。
【0016】
単位リードフレーム2は位置決め孔3aが開設されている外枠3を一対備えており、両外枠3、3は所定の間隔で平行になるように配されて一連にそれぞれ延設されている。隣り合う単位リードフレーム2、2間には一対のセクション枠4、4が両外枠3、3間に互いに平行に配されて一体的に架設されており、これら外枠3、3、セクション枠4、4によって形成された略正方形の枠体(フレーム)5内に単位リードフレーム2が構成されている。
【0017】
一方の外枠3には長方形の平板形状に形成された第一アウタリード6が他方の外枠3の方向に突設されており、第一アウタリード6の先端には第一アウタリード6の幅よりも小幅の長方形の平板形状に形成された第一インナリード7が他方の外枠3の方向に突設されている。他方の外枠3には長方形の平板形状に形成された第二アウタリード8が第一インナリード7の方向に突設されており、第二アウタリード8の先端には第一インナリード7の幅よりも小幅の長方形の平板形状に形成された第二インナリード9が第一インナリード7の方向に突設されている。第二アウタリード8には長方形の肉抜き孔8aが開設されている。
【0018】
第一インナリード7は枠体5の面よりも多連リードフレーム1の厚さよりも若干小さい高さだけ一方の厚さ方向(以下、上方とする。)にクランク形状に屈曲されており、第一インナリード7の上面は枠体5の上面と平行になっている。また、第二インナリード9も第一インナリード7と同様に屈曲されており、第二インナリード9の上面は第一インナリード7と同一面になっている。
【0019】
本実施形態において、両アウタリード6、8には後述する樹脂封止体成形時にレジンの流れをせき止めるためのダムバーが架設されていない。その代わりに、両アウタリード6、8の両脇には後述する樹脂封止体成形時にレジンの漏洩を防止するための長方形板形状の漏洩防止部材10、10がそれぞれ嵌め込まれている。
【0020】
すなわち、図1に示されているように、漏洩防止部材10はセクション枠4と第一アウタリード6および第二アウタリード8の側面辺との間隔に等しい長さの短辺と、両外枠3と3との間隔に等しい長辺とを有する長方形で、多連リードフレーム1の厚さと等しい厚さを有する板形状に形成されている。漏洩防止部材10の両短辺は剪断線10a、10aによって両外枠3、3から切り離されており、漏洩防止部材10の一方の長辺は剪断線10bによって第一アウタリード6および第二アウタリード8の側面辺から切り離されている。しかし、漏洩防止部材10の他方の長辺は折り線痕10cによってセクション枠4に連結されている。漏洩防止部材10は折り線痕10cにおいて単位リードフレーム2に一体になっているため、板厚が約0.1mmと薄くても、脱落することはない。
【0021】
図2(a)に示されているように、多連リードフレーム1のプレス加工に際して、漏洩防止部材10は両外枠3、3、第一アウタリード6および第二アウタリード8に一体となった状態に打抜かれる。次いで、図2(b)に示されているように、漏洩防止部材10の第一アウタリード6と第二アウタリード8との間の両脇の部分が両外枠3、3にそれぞれ接する対辺と、この対辺間の辺における両アウタリード6、8と接する部分とが剪断されるとともに、セクション枠4と接する一辺を起点に折り曲げられて切り起こされる。続いて、この切り起こし部分が切り起こし孔10dにプッシュバックされることによって嵌め込まれる。以上により、漏洩防止部材10が図1に示されているように製造された状態になる。漏洩防止部材10の第1アウタリード6と第二アウタリード8との間には樹脂封止体成形時にレジンの漏洩を防止する部分(以下、内側端辺という。)10eが形成されている。
【0022】
なお、第一インナリード7および第二インナリード9の屈曲加工は、図2(b)に示されているように漏洩防止部材10の切り起こし加工またはプッシュバック加工と同時に実施することができる。
【0023】
以上のように構成されて準備された多連リードフレーム1には、各単位リードフレーム2毎にペレット・ボンディング作業、続いて、ワイヤ・ボンディング作業が実施され、これら作業により、図3に示されている組立品11が製造されることになる。これらのボンディング作業は多連リードフレームが横方向にピッチ送りされることにより、各単位リードフレーム毎に順次実施される。
【0024】
まず、ペレットボンディング作業により、前工程においてダイオード素子を含む回路(図示せず)を作り込まれたダイオード回路構造体としての半導体ペレット(以下、ペレットという。)13が、各単位リードフレーム2における第一インナリード7上の略中央部に配されて、銀ペーストや半田等の導電性を有する材料が用いられて形成されるボンディング層12を介して固着される。
【0025】
次いで、第一インナリード7に固定的にボンディングされたペレット13のボンディングパッド13aと第二インナリード9との間には、銅系材料(銅または銅合金)を使用されて形成されているワイヤ14が超音波熱圧着式ワイヤボンディング装置が使用されることにより、その両端部をそれぞれボンディングされて橋絡される。
【0026】
ここで、ペレット13の下面およびペレット13のボンディングパッド13aにカソード電極およびアノード電極の一方がそれぞれ形成されていると、以上のボンディング作業により、ペレット13に作り込まれたダイオード回路はボンディングパッド13a、ワイヤ14、第二インナリード9およびペレット13の下面、ボンディング層12、第一インナリード7を経由して第二アウタリード8おび第一アウタリード6に電気的に引き出される状態になる。
【0027】
その後、多連リードフレームにペレットおよびワイヤ・ボンディングされた後の組立品11には、各単位リードフレーム毎に樹脂封止する樹脂封止体群が、図4に示されているトランスファ成形装置を使用されて単位リードフレーム群について同時成形される。
【0028】
図4に示されているトランスファ成形装置20はシリンダ装置(図示せず)によって互いに型締めされる一対の上型21と下型22とを備えており、上型21の下型22との合わせ面には長方形の平盤形状の上型キャビティー凹部23aが下型22の合わせ面と協働してキャビティー23を形成するように没設されている。下型22の合わせ面にはポット24が開設されており、ポット24にはシリンダ装置(図示せず)により進退されるプランジャ25が成形材料としての樹脂から成るタブレット(図示せず)が投入され、このタブレットが溶融されて成る液状樹脂(レジン)を送給し得るようになっている。
【0029】
上型21の合わせ面にはカル26がポット24との対向位置に配されて没設されており、一端をカル26に接続されたランナ27が没設されている。ランナ27の他端は上側キャビティー凹部23aに接続されており、その接続部にはゲート28がレジンをキャビティー23内に注入し得るように形成されている。また、下型22の合わせ面には外枠3の位置決め孔3aと嵌合する位置決め凸部29が突設されている。
【0030】
トランスファ成形に際して、ワークとしてのペレット・ワイヤボンディング後の組立品11は下型22に置かれる。この際、外枠3の位置決め孔3aが位置決め凸部29に嵌合され、各単位リードフレーム2におけるペレット13が各キャビティー23内に収容される。この状態において、第一アウタリード6および第二アウタリード8の下面は下型22の上面に接した状態になっており、第一インナリード7および第二インナリード9の下面は下型22の上面から浮いた状態になっている。
【0031】
次いで、上型21と下型22とが型締めされる。この状態において、図4(b)に示されているように、漏洩防止部材10の内側端辺10eは上型キャビティー凹部23a、すなわち、キャビティー23の外周辺と可及的に一致した状態になる。つまり、漏洩防止部材10とキャビティー23との相関関係は漏洩防止部材10の内側端辺10eとキャビティー23の外周辺とが可及的に一致する状態になるように設定されている。
【0032】
続いて、ポット24からプランジャ25によって成形材料としてのレジン30がランナ27およびゲート28を通じて各キャビティー23に注入されてそれぞれ充填される。
【0033】
キャビティー23内に注入されたレジン30はその充填に伴って、上型21と下型22との合わせ面間においてキャビティー23の外部に漏洩する。しかし、キャビティー23は第一アウタリード6、第二アウタリード8および両脇の漏洩防止部材10によって包囲されているため、レジン30はキャビティー23から外部へ流出することはない。つまり、キャビティー23の第一アウタリード6および第二アウタリード8の両脇は漏洩防止部材10によって埋められているため、キャビティー23の外周にバリが形成されることはない。
【0034】
多連リードフレーム1の加工公差によって漏洩防止部材10の内側端辺10eとキャビティー23の外周縁との間に誤差が形成されていたとしても、その誤差は極僅かになるように各部の寸法が設定されているため、万一、バリが形成されたとしてもその突出量は極僅かで支障にならない程度になる。
【0035】
注入後、レジンが熱硬化されて樹脂封止体15が成形されると、上型21および下型22は型開きされるとともに、エジェクタ・ピン(図示せず)によって樹脂封止体15が離型される。つまり、多連リードフレーム1の各単位リードフレーム2に樹脂封止体15がそれぞれ成形された図5に示されている樹脂封止体成形後の成形品16がトランスファ成形装置20から脱装される。
【0036】
以上のようにして各単位リードフレーム2毎に樹脂封止体15が樹脂成形されてトランスファ成形装置20から離型されると、図5に示されている成形品16が製造されたことになる。この成形品16の樹脂封止体15の内部にはペレット13、第一インナリード7、第二インナリード9およびワイヤ14が樹脂封止された状態になっている。この状態において、樹脂封止体15の漏洩防止部材10の内側端辺10eと接していた部分にはバリが形成されていない。形成されていたとしてもバリはきわめて微細であるため、樹脂封止体15に殆ど一体化されており、しかも、微細であるため、外観上もバリと認識され得ない程度のものになっている。
【0037】
図5に示されているように、樹脂封止体成形後の成形品16においては、漏洩防止部材10が第一アウタリード6と第二アウタリード8の両脇に嵌め込まれた状態になっている。この漏洩防止部材10はダイオードの製品としての障害になるため、除去する必要がある。そこで、第一アウタリード6および第二アウタリード8の両脇に嵌め込まれた漏洩防止部材10は、図6に示されている漏洩防止部材取外し装置40によって外される。
【0038】
図6に示されているように、漏洩防止部材取外し装置40は上側取付板41および下側取付板51を備えており、上側取付板41はシリンダ装置(図示せず)によって上下動されることにより、機台上に固設されている下側取付板51に対して接近および離反するように構成されている。両取付板41および51には上側ホルダ42および下側ホルダ52がそれぞれ固定的に取り付けられている。上側ホルダ42および下側ホルダ52には上側押さえ43および下側押さえ53が互いに心合わせされてそれぞれ保持されている。上側押さえ43はガイド44およびスプリング45によって独立懸架されている。下側押さえ53の中央部には樹脂封止体15を下から支持する支持台54が突設されている。
【0039】
上側ホルダ42の下面にはパンチ46が漏洩防止部材10に対応するように配されて垂直下向きに固設されており、下側ホルダ52にはダイ55が形成されている。パンチ46とダイ55とは協働して漏洩防止部材10の折り線痕10cの部分を図7に示されているように長方形に剪断するように構成されている。パンチ46およびダイ55における打抜き部分以外の場所は剪断力を発生せずに、漏洩防止部材10を切り起こし孔10dから抜き落とすように構成されている。
【0040】
漏洩防止部材10の取り外しに際して、図6に示されているように、単位リードフレーム2の外枠3およびセクション枠4が下側押さえ53に対向されるとともに、樹脂封止体15が支持台54に支持される。
【0041】
続いて、シリンダ装置により上側取付板41が下降され、上側押さえ43が外枠3およびセクション枠4を下側押さえ53にスプリング45の付勢力により押さえ付ける。
【0042】
上側取付板41がさらに下降されて行くと、パンチ46が下降されて行く。このとき、上側押さえ43はスプリング45が圧縮変形されるため、押さえ力を強める。パンチ46の下降に伴って、漏洩防止部材10の折り線痕10cの部分はパンチ46とダイ55とによって剪断されるため、漏洩防止部材10はパンチ46の押し力によってダイ55の内部に突き落とされる。
【0043】
パンチ46によって切り起こし孔10dから漏洩防止部材10が抜き落とされると、上側取付板41が上昇されて元の待機位置に戻される。その後に、ワークとしての成形品16が一ピッチ送られて次の樹脂封止体15が下側押さえ53にセットされる。以降、前記作動が繰り返されて、成形品16から漏洩防止部材10が外されて行く。
【0044】
以上のようにして漏洩防止部材10を除去された成形品16は、半田メッキ工程に送られて図7に示されているように半田メッキ被膜17を被着される。半田メッキ被膜被着工程において、第一アウタリード6および第二アウタリード8は外枠3、3に連結された状態になっているため、半田メッキ被膜17は図7に示されているように露出面全体に被着されることになる。すなわち、図7(c)に示されているように、半田メッキ被膜17は第一アウタリード6および第二アウタリード8の両側面にも被着された状態になる。
【0045】
半田メッキ被膜が被着された図7に示されている半田メッキ品18は、その後、リード切断工程において、第一アウタリード6および第二アウタリード8を切断される。以上のようにして、図8に示されているダイオード19が製造されたことになる。
【0046】
図8に示されているように、ダイオード19の樹脂封止体15は平面視が長方形の略直方体に形成されており、樹脂封止体15の下面の両短辺側端部には第一アウタリード6の下面および第二アウタリード8の下面がそれぞれ長方形に露出されている。この第一アウタリード6の下面および第二アウタリード8の下面には半田メッキ被膜17が被着されている。ちなみに、このダイオード19は樹脂封止体15の下面側を下向きにしてプリント配線基板に表面実装される。この際、第一アウタリード6および第二アウタリード8の下面の半田メッキ被膜17がプリント配線基板のランドに半田付けされる。
【0047】
そして、ダイオード19の樹脂封止体15は第一アウタリード6と第二アウタリード8との間の両脇に嵌め込まれた漏洩防止部材10によってレジン30の漏洩を防止されて成形された成形品であり、漏洩防止部材10は半田メッキ被膜被着工程以前に取り除かれているため、このダイオード19の第一アウタリード6の両側面および第二アウタリード8の両側面にも半田メッキ被膜17が被着された状態になっている。
【0048】
ところで、前述したトランスファ成形工程において、組立品11とキャビティー23との位置がずれると、図9(a)に示されているように、漏洩防止部材10の内側端辺10eが樹脂封止体15に食い込んだ状態になってしまう。このように漏洩防止部材10の内側端辺10eが樹脂封止体15に食い込んだ状態になると、漏洩防止部材10を樹脂封止体15から外すことが困難になる。
【0049】
しかし、本実施形態においては、漏洩防止部材10は樹脂封止体15の下面に配置された状態になっているため、図9(b)に示されているように、漏洩防止部材10は下方に突き落とすことにより樹脂封止体15から容易に除去することができる。すなわち、漏洩防止部材10の内側端辺10eは樹脂封止体15に干渉することなく下方に平行移動するため、内側端辺10eによって樹脂封止体15を損傷させることなく、漏洩防止部材10を外すことができる。
【0050】
前記実施形態によれば、次の効果が得られる。
1) リードフレームのプレス打ち抜きに際して、リードフレームの一部を切り起こした後にこれを漏洩防止部材として切り起こし孔にプッシュバックさせて嵌め込んでおくことにより、このリードフレームに対する樹脂封止体の成形に際してキャビティーからのレジンのキャビティー外への漏洩を漏洩防止部材によって阻止することができるため、レジンのキャビティー外への漏洩による樹脂封止体に対するバリの発生を防止することができる。
【0051】
2) 樹脂封止体の外周にバリが発生するのを防止することにより、バリ取り工程を省略することができるため、生産コストを低減することができるばかりでなく、バリの不測の脱落によるアウタリードへの打痕等の当該バリ取り工程で派生する二次障害を未然に回避することができる。
【0052】
3) 漏洩防止部材を折り線痕においてリードフレームに連結した状態で、切り起こし孔にプッシュバックすることにより、板厚が薄い場合であっても、プッシュバック法を使用することができる。
【0053】
4) ダイオードの第一アウタリードの両側面および第二アウタリードの両側面にも半田メッキ被膜を被着させることにより、ダイオードのプリント配線基板への半田付けに際して、半田を第一アウタリードの両側面および第二アウタリードの両側面まで吸い上げることができるため、良好な半田付け状態を形成することができる。
【0054】
以上本発明者によってなされた発明を実施形態に基づき具体的に説明したが、本発明は前記実施形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能であることはいうまでもない。
【0055】
例えば、ダイオードを製造するのに使用するに限らず、図10に示されているように、半導体集積回路装置(以下、ICという。)等を製造する場合にも使用することができる。
【0056】
図10はICの製造方法に使用されるリードフレームを示している。本実施形態が前記実施形態と異なる点は、漏洩防止部材10が隣合うアウタリード8A、8A間に嵌め込まれている点である。
【0057】
リードフレームの板厚は0.1mm程度に限らない。0.2mm以上のリードフレームにも適用することができるが、0.2mm以上になると、通常のプッシュバック法も使用可能であるので、0.2mm以下の場合に最も有効となる。
【0058】
以上の説明では主として本発明者によってなされた発明をその背景となった利用分野であるダイオードおよびICの製造技術に適用した場合について説明したが、それに限定されるものではなく、樹脂封止パッケージを備えているトランジスタ等の樹脂封止パッケージを備えている半導体装置の製造技術全般に適用することができる。特に、本発明は、リードフレームの板厚が0.2mm以下の場合に優れた効果を発揮する。
【0059】
【発明の効果】
本願において開示される発明のうち代表的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、次の通りである。
【0060】
リードフレームのプレス打ち抜きに際して、リードフレームの一部を切り起こした後にこれを漏洩防止部材として切り起こし孔にプッシュバックさせて嵌め込んでおくことにより、このリードフレームに対する樹脂封止体の成形に際してキャビティーからのレジンのキャビティー外への漏洩を漏洩防止部材によって阻止することができるため、レジンのキャビティー外への漏洩による樹脂封止体に対するバリの発生を防止することができる。
【0061】
樹脂封止体の外周にバリが発生するのを防止することにより、バリ取り工程を省略することができるため、生産コストを低減することができるばかりでなく、バリの不測の脱落によるアウタリードへの打痕等の当該バリ取り工程で派生する二次障害を未然に回避することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施形態であるダイオードの製造方法に使用されるリードフレームを示しており、(a)は一部省略平面図、(b)は(a)のb−b線に沿う正面断面図、(c)は(a)のc−c線に沿う側面断面図である。
【図2】(a)、(b)は漏洩防止部材の嵌め込み方法の一実施形態を示す各一部切断斜視図である。
【図3】ペレットおよびワイヤボンディング後の組立品を示しており、(a)は一部省略平面図、(b)は(a)のb−b線に沿う正面断面図、(c)は(a)のc−c線に沿う側面断面図である。
【図4】樹脂封止体の成形工程を示しており、(a)は側面断面図、(b)は(a)のb−b線に沿う正面断面図である。
【図5】樹脂封止体成形後の組立品を示しており、(a)は一部省略一部切断平面図、(b)は(a)のb−b線に沿う正面断面図、(c)は(a)のc−c線に沿う側面断面図である。
【図6】漏洩防止部材取外し工程を示す正面断面図であり、左半分は取り外し前を示しており、右半分は取り外し後を示している。
【図7】半田メッキ被膜形成品を示しており、(a)は一部省略平面図、(b)は(a)のb−b線に沿う正面断面図、(c)は(a)のc−c線に沿う側面断面図である。
【図8】本発明の一実施形態であるダイオードを示しており、(a)は斜視図、(b)は一部切断平面図、(c)は底面図、(d)は一部切断正面図、(e)は側面断面図である。
【図9】(a)は漏洩防止部材が樹脂封止体に食い込んだ場合を示す正面断面図、(b)はその漏洩防止部材の取り外し作用を示す一部省略正面断面図である。
【図10】本発明の一実施形態であるICの製造方法に使用されるリードフレームを示しており、(a)は一部省略平面図、(b)は(a)のb−b線に沿う断面端面図、(c)は(a)のc−c線に沿う断面端面図である。
【符号の説明】
1…多連リードフレーム、2…単位リードフレーム、3…外枠、4…セクション枠、5…枠体(フレーム)、6…第一アウタリード、7…第一インナリード、8…第二アウタリード、9…第二インナリード、10…漏洩防止部材、10a、10b…剪断線、10c…折り線痕、10d…切り起こし孔、10e…内側端辺、11…ペレット・ワイヤボンディング後の組立品、12…ボンディング層、13…ペレット、14…ボンディングワイヤ、15…樹脂封止体、16…成形品、17…半田メッキ被膜、18…半田メッキ品、19…ダイオード(半導体装置)、20…トランスファ成形装置、21…上型、22…下型、23…キャビティー、24…ポット、25…プランジャ、26…カル、27…ランナ、28…ゲート、29…位置決め凸部、30…レジン、40…漏洩防止部材取外し装置、41…上側取付板、42…上側ホルダ、43…上側押さえ、44…ガイド、45…スプリング、46…パンチ、51…下側取付板、52…下側ホルダ、53…下側押さえ、54…支持台、55…ダイ。

Claims (7)

  1. リードフレームの打ち抜きプレスに際して、リードフレームの一部が四辺形の漏洩防止部材として一対の対辺と樹脂封止体側となる一辺とが剪断されるとともに、残りの一辺を全幅においてリードフレームに連結した状態で、この一辺を起点に折り曲げられて切り起こされた後に、この切り起こし部分が切り起こし孔に嵌め込まれて形成され、
    その後、このリードフレームに対する樹脂封止体の成形に際して、成形型のキャビティーからの樹脂の漏洩が前記漏洩防止部材によって阻止されることを特徴とする半導体装置の製造方法。
  2. プレス打ち抜きプレスによってリードフレームの一部が四辺形の漏洩防止部材として一対の対辺と樹脂封止体側になる一辺とが剪断されるとともに、残りの一辺を全幅においてリードフレームに連結した状態で、この一辺を起点に折り曲げられて切り起こされた後に、この切り起こし部分が切り起こし孔に嵌め込まれて形成されたリードフレームに対する樹脂封止体の成形に際して、成形型のキャビティーからの樹脂の漏洩が前記漏洩防止部材によって阻止されることを特徴とする半導体装置の製造方法。
  3. 前記漏洩防止部材が前記リードフレームのアウタリードの両脇に配置されることを特徴とする請求項1または2に記載の半導体装置の製造方法。
  4. 前記リードフレームの厚さが0.2mm以下であることを特徴とする請求項1、2または3に記載の半導体装置の製造方法。
  5. 前記樹脂封止体の成形後に前記漏洩防止部材がアウタリード間から外された後に、前記リードフレームにメッキ被膜が被着されることを特徴とする請求項1、2、3または4に記載の半導体装置の製造方法。
  6. 前記樹脂封止体の成形後に前記折り曲げ辺が前記リードフレームから切り抜かれることにより、前記漏洩防止部材が外されることを特徴とする請求項1、2、3、4または5に記載の半導体装置の製造方法。
  7. 前記リードフレームに前記メッキ被膜が被着された後に、アウタリードが前記リードフレームから切り離されることを特徴とする請求項5または6に記載の半導体装置の製造方法。
JP34125898A 1998-12-01 1998-12-01 半導体装置の製造方法 Expired - Fee Related JP3986189B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP34125898A JP3986189B2 (ja) 1998-12-01 1998-12-01 半導体装置の製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP34125898A JP3986189B2 (ja) 1998-12-01 1998-12-01 半導体装置の製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2000174189A JP2000174189A (ja) 2000-06-23
JP3986189B2 true JP3986189B2 (ja) 2007-10-03

Family

ID=18344654

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP34125898A Expired - Fee Related JP3986189B2 (ja) 1998-12-01 1998-12-01 半導体装置の製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3986189B2 (ja)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4999492B2 (ja) * 2007-02-28 2012-08-15 パナソニック株式会社 半導体装置用リードフレームの製造方法およびそれを用いた半導体装置
JP7010059B2 (ja) * 2018-02-27 2022-01-26 株式会社デンソー 樹脂成形品、成形金型、及び樹脂成形品の製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
JP2000174189A (ja) 2000-06-23

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7410834B2 (en) Method of manufacturing a semiconductor device
JP4669166B2 (ja) 半導体装置
US6897093B2 (en) Method of manufacturing a resin molded or encapsulation for small outline non-leaded (SON) or quad flat non-leaded (QFN) package
KR100390094B1 (ko) 반도체장치 및 그 제조방법
KR20030039314A (ko) 리드 프레임, 수지 밀봉 금형 및 그들을 이용한 반도체장치의 제조 방법
JP2008140788A (ja) 半導体装置
JP3986189B2 (ja) 半導体装置の製造方法
US4592131A (en) Method for manufacturing resin-sealed semiconductor device
JP2003197663A (ja) 半導体装置及びその製造方法、回路基板並びに電子機器
JP2631520B2 (ja) 樹脂封止パッケージの成形方法
JP3025093B2 (ja) 半導体装置およびその実装構造体
JPH088375A (ja) 半導体装置およびその製造に使用されるリードフレーム並びに金型
JP2886250B2 (ja) 半導体装置
JP6494465B2 (ja) 半導体装置の製造方法
JP3617574B2 (ja) 多連多列リードフレームおよびそれを用いる半導体装置の製造方法
JP3501935B2 (ja) 半導体装置の製造方法
JPH02129954A (ja) 半導体装置の製造方法
JP3599566B2 (ja) 半導体装置の製造方法
JPH09129661A (ja) 成形装置および成形方法
JP2011049604A (ja) 半導体装置の製造方法
JPH07130777A (ja) 半導体装置の製造方法およびそれに使用されるリードフレーム
JPH09312371A (ja) 半導体装置およびその製造方法並びにそれに使用されるリードフレーム
JPH098201A (ja) 半導体装置の製造方法およびそれに使用されるリードフレーム
JP2004158594A (ja) 樹脂封止金型およびそれを用いた半導体装置の製造方法
JP2012146824A (ja) 半導体装置の製造方法および半導体装置

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Effective date: 20040331

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20040331

A977 Report on retrieval

Effective date: 20050401

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20060704

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20060829

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20070710

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Effective date: 20070710

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

R150 Certificate of patent (=grant) or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Year of fee payment: 3

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100720

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Year of fee payment: 4

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110720

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110720

Year of fee payment: 4

S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313115

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110720

Year of fee payment: 4

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees