JP3965526B2 - イミド化合物の製造法 - Google Patents

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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、医・農薬等生理活性物質及び機能性ポリマー等の重要な中間体であるイミド化合物の製造法に関する。
【0002】
【従来の技術】
イミド化合物は、医・農薬中間体として使用される他、染料、塗料、接着剤、洗剤等への添加剤として使用される重要中間体である。
例えば、特開昭51-1459号公報にはペプチド合成における活性エステル化剤として、特開昭63-66118号公報にはパップ剤の粘着性を増加させる添加剤として、特開昭54-4942号公報には熱硬化性ポリマーの原料として、特開平5-185725号公報には感熱記録材料としての用途が開示されている。
【0003】
従来、イミド化合物の製造法として環状のカルボン酸無水物から合成する方法が知られており、例えば、J. Org. Chem., 24, 7 (1959)、J. Org. Chem., 54, 4243 (1989)、Chem. Lett., 6, 879 (1983) 等では、無水コハク酸等とアミン化合物の反応によりコハク酸イミド誘導体が得られている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
上記の方法は、一般的に無溶媒で200℃以上で反応させたり、DMF等の高沸点溶媒中で還流反応させる等高い反応温度を必要としている。
【0005】
【課題を解決するための手段】
本発明者は、イミド化合物の製造法について鋭意検討を重ねた結果、カルボン酸無水物から温和な条件でイミド化合物が得られることを見出し、本発明を完成するに至った。
即ち、本発明は、式(1)
【0006】
【化10】
Figure 0003965526
【0007】
〔式中、X及びYは、独立に置換されていてもよいC1〜C6アルキル基(該置換基としてはC1〜C6アルキル基、C1〜C6アルコキシ基、フェニル基、ハロゲン原子を意味する。)、置換されていてもよいC2〜C6アルケニル基(該置換基としてはC1〜C6アルキル基、C1〜C6アルコキシ基、フェニル基、ハロゲン原子を意味する。)、置換されていてもよいフェニル基(該置換基としてはC1〜C6アルキル基、C1〜C6アルコキシ基、フェニル基、ニトロ基、シアノ 基、ハロゲン原子を意味する。)を意味し、又はX及びYは一緒になってC4〜C8の環やベンゼン環を形成してもよい。
【0008】
【化11】
Figure 0003965526
【0009】
は単結合又は二重結合を意味し、nは0〜3の整数を意味する。〕
で表わされるカルボン酸無水物を、
式(2)
【0010】
【化12】
Figure 0003965526
【0011】
〔式中、Rは、置換されていてもよいC1〜C6アルキル基(該置換基としてはC1〜C6アルキル基、C1〜C6アルコキシ基、フェニル基、ヒドロキシル基、ハロゲン原子を意味する。)、置換されていてもよいC2〜C6アルケニル基(該置換基としてはC1〜C6アルキル基、C1〜C6アルコキシ基、フェニル基、ハロゲン原子を意味する。)、置換されていてもよいフェニル基(該置換基としてはC1〜C6アルキル基、C1〜C6アルコキシ基、フェニル基、ニトロ基、シアノ基、ハロゲン原子を意味する。)、置換されていてもよいベンジル基(該置換基としてはC1〜C6アルキル基、C1〜C6アルコキシ基、フェニル基、ニトロ基、シアノ基、ハロゲン原子を意味する。)、ヒドロキシル基を意味する。〕
で表わされるアミン化合物と、ジシラザン化合物及びルイス酸触媒の存在下反応させることを特徴とする
式(3)
【0012】
【化13】
Figure 0003965526
【0013】
〔式中、X、Y、R、n及び
【0014】
【化14】
Figure 0003965526
【0015】
は前記に同じ。〕
で表わされるイミド化合物の製造法、
式(4)
【0016】
【化15】
Figure 0003965526
【0017】
〔式中、X、Y、R、n及び
【0018】
【化16】
Figure 0003965526
【0019】
は前記に同じ。〕
で表わされるアミド酸を、ジシラザン化合物及びルイス酸触媒の存在反応させることを特徴とする
式(3)
【0020】
【化17】
Figure 0003965526
【0021】
〔式中、X、Y、R、n及び
【0022】
【化18】
Figure 0003965526
【0023】
は前記に同じ。〕
で表わされるイミド化合物の製造法に関するものである。
【0024】
【発明の実施の形態】
以下、更に詳細に本発明を説明する。
先ず、置換基X、Y及びRについて説明する。
1〜C6アルキル基としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基,i−プロピル基、n−ブチル基、i−ブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、n−アミル基、i−アミル基、ネオペンチル基、n−ヘキシル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。
【0025】
1〜C6アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基,i−プロポキシ基、n−ブトキシ基、i−ブトキシ基、sec−ブトキシ基、tert−ブトキシ基、n−アミロキシ基、i−アミロキシ基、ネオペンチルオキシ基、n−ヘキシルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基等が挙げられる。
2〜C6アルケニル基としては、ビニル基、イソプロペニル基、アリル基、メタリル基、1−ブテニル基、3−ヘキセニル基、1−シクロペンテニル基、1−シクロヘキセニル基、メトキシビニル基、エトキシビニル基等が挙げられる。
【0026】
4〜C8の環としては、シクロブタン環、シクロペンタン環、シクロヘキサン環、シクロヘプタン環、シクロオクタン環等が挙げられる。
ハロゲン原子としては、弗素原子、塩素原子、臭素原子、沃素原子等が挙げられる。
次に、イミド化合物の製造法について説明する。
【0027】
式(1)のカルボン酸無水物の具体例としては、コハク酸無水物、マレイン酸無水物、フタル酸無水物、グルタル酸無水物等が挙げられる。
式(2)のアミン化合物の具体例としては、イソプロピルアミン、ブチルアミン、ペンチルアミン、ヘキシルアミン、アリルアミン、アニリン、ベンジルアミン、α−メチルベンジルアミン、α−フェネチルアミン、2−フェニルエチルアミン、3−フェニルプロピルアミン、グリシノール、バリノール等が挙げられる。
【0028】
式(2)のアミン化合物の使用量は、式(1)のカルボン酸無水物に対して0.1〜10倍モルの範囲、好ましくは0.5〜5倍モルの範囲、より好ましくは等モル倍が良い。
又、式(4)のアミド酸としては、コハク酸無水物、マレイン酸無水物、フタル酸無水物、グルタル酸無水物等のカルボン酸無水物と、イソプロピルアミン、ブチルアミン、ペンチルアミン、ヘキシルアミン、アリルアミン、アニリン、ベンジルアミン、α−メチルベンジルアミン、α−フェネチルアミン、2−フェニルエチルアミン、3−フェニルプロピルアミン、グリシノール、バリノール等のアミン化合物から合成されるアミド酸が挙げられる。
【0029】
アミド酸は無溶媒又は適当な溶媒中で式(1)のカルボン酸無水物と式(2)のアミン化合物を反応させることにより容易に合成することができる。
反応溶媒としては、反応に関与しないものであれば特に制限はなく、例えば、アセトニトリル、プロピオニトリル、ブチロニトリル等のニトリル類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、クロルベンゼン、o−ジクロルベンゼン等の芳香族炭化水素類、n−ヘキサン、シクロヘキサン、n−オクタン、n−デカン等の脂肪族炭化水素類、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、t−ブチルメチルエーテル、ジメトキシエタン等のエーテル類、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドン等のアミド類、1,3−ジメチルイミダゾリジノン、テトラメチル尿素等の尿素類等が挙げられ、好ましくは、テトラヒドロフラン、ベンゼン、ジクロロメタン等が挙げられる。
【0030】
以下、式(1)のカルボン酸無水物と式(2)のアミン化合物から式(3)のイミド化合物を得る反応条件及び操作法と式(4)のアミド酸からの式(3)のイミド化合物を得る反応条件及び操作法は、ほぼ同一であるのでまとめて説明する。
ジシラザン化合物としては、ヘキサメチルジシラザン、ジ−n−プロピルテトラメチルジシラザン、ジ−n−ブチルテトラメチルジシラザン、ジ−i−ブチルテトラメチルジシラザン、ジ−n−ヘキシルテトラメチルジシラザン、ジ−n−オクチルテトラメチルジシラザン等が挙げられ、好ましくはヘキサメチルジシラザンが挙げられる。
【0031】
ジシラザン化合物の使用量は、式(1)のカルボン酸無水物又は式(4)のアミド酸に対して、0.1〜10倍モルの範囲、好ましくは0.5〜5倍モルの範囲が良い。
ルイス酸としては、塩化亜鉛、臭化亜鉛、沃化亜鉛、塩化アルミ、臭化アルミ、塩化第一鉄、臭化第一鉄、塩化第二鉄、臭化第二鉄、塩化第一銅、臭化第一銅、沃化第一銅、塩化第二銅、臭化第二銅、沃化第二銅、塩化第一錫、臭化第一錫、沃化化第一錫、塩化第二錫、臭化第二錫、沃化化第二錫等が挙げられ、好ましくは塩化亜鉛、臭化亜鉛、沃化化亜鉛、塩化第一錫、塩化第二錫が挙げられる。
【0032】
ルイス酸の使用量は、式(1)のカルボン酸無水物又は式(4)のアミド酸に対して、0.01〜5当量の範囲、好ましくは、0.1〜2当量の範囲が良い。反応溶媒としては、反応に関与しないものであれば特に制限はなく、例えば、アセトニトリル、プロピオニトリル、ブチロニトリル等のニトリル類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、クロルベンゼン、o−ジクロルベンゼン等の芳香族炭化水素類、n−ヘキサン、シクロヘキサン、n−オクタン、n−デカン等の脂肪族炭化水素類、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、t−ブチルメチルエーテル、ジメトキシエタン等のエーテル類、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドン等のアミド類、1,3−ジメチルイミダゾリジノン、テトラメチル尿素等の尿素類等が挙げられ、好ましくは、テトラヒドロフラン、ベンゼン、ジクロロメタン等が挙げられる。
【0033】
これらの溶媒は、単独又は組み合わせて使用することも出来る。
反応温度は、特に制限はなく、通常0℃から使用する溶媒の沸点まで可能であるが、好ましくは20℃から100℃の範囲で行うのが良い。
反応時間は、通常0.1〜1000時間である。
反応終了後は、反応液に水を加えて適当な溶媒により目的物を抽出し、溶媒を減圧濃縮して粗製物を得るか、或いは適当な溶媒から目的物を固体として析出させて粗製物を得ることができる。
【0034】
更に、再結晶又はシリカゲルカラムクロマトグラフィー等の常法による精製を行なうことにより純粋なイミド化合物を得ることができる。
【0035】
【実施例】
以下、実施例を挙げて更に本発明を詳しく説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
実施例1
アルゴン雰囲気下、ベンゼン3ml中に、無水コハク酸26mg(0.26ミリモル)を加え、しばらく攪拌後、ベンジルアミン29μl(0.26ミリモル)を滴下し、そのまま室温で1時間攪拌した。
【0036】
次に、塩化亜鉛36mg(0.52ミリモル)を加え、更にベンゼン2mlを加え加熱した。
還流が開始したら、1,1,1,3,3,3−ヘキサメチルジシラザン0.11ml(0.53ミリモル)を加え、4時間還流した。
反応は薄層クロマトグラフィーで追跡し、アミド酸のテーリングが消失したところを終点とした。
【0037】
反応終了後、白色沈殿を取り除き、溶媒を減圧下濃縮し粗製のN−ベンジルコハク酸イミドを得た。
この粗製物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒;n−ヘキサン/酢酸エチル=6/4)で精製したところ、N−ベンジルコハク酸イミドの収量は37mg(収率73%)であった。
【0038】
融点107.5〜108.5℃
実施例2
無水マレイン酸26mg(0.26ミリモル)とベンジルアミン29μl(0.26ミリモル)、塩化亜鉛36mg(0.26ミリモル)、1,1,1,3,3,3−ヘキサメチルジシラザン0.11ml(0.53ミリモル)から合成する他は、実施例1と同様に反応及び後処理を行ない粗製のN−ベンジルマレインイミドを得た。
【0039】
この粗製物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒;n−ヘキサン/酢酸エチル=9/1)で精製したところ、N−ベンジルマレインイミドの収量は46mg(収率93%)であった。
融点69.5〜71.2℃
実施例3
無水フタル酸27mg(0.18ミリモル)とベンジルアミン20μl(0.18ミリモル)、塩化亜鉛25mg(0.18ミリモル)、1,1,1,3,3,3−ヘキサメチルジシラザン0.08ml(0.36ミリモル)から合成する他は、実施例1と同様に反応及び後処理を行ない粗製のN−ベンジルフタル酸イミドを得た。
【0040】
この粗製物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒;n−ヘキサン/酢酸エチル=9/1)で精製したところ、N−ベンジルフタル酸イミドの収量は39mg(収率89%)であった。
融点120.5〜121.5℃
実施例4
無水マレイン酸30mg(0.31ミリモル)と(S)−α−メチルベンジルアミン40μl(0.31ミリモル)、塩化亜鉛42mg(0.31ミリモル)、1,1,1,3,3,3−ヘキサメチルジシラザン0.13ml(0.62ミリモル)から合成する他は、実施例1と同様に反応及び後処理を行ない粗製のN−(S)−α−メチルベンジルマレインイミドを得た。
【0041】
この粗製物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒;n−ヘキサン/酢酸エチル=9/1)で精製したところ、油状のN−(S)−α−メチルベンジルマレインイミドの収量は54mg(収率86%)であった。
実施例5
無水マレイン酸28mg(0.29ミリモル)とイソプロピルアミン25μl(0.29ミリモル)、塩化亜鉛40mg(0.29ミリモル)、1,1,1,3,3,3−ヘキサメチルジシラザン0.12ml(0.58ミリモル)から合成する他は、実施例1と同様に反応及び後処理を行ない粗製のN−イソプロピルマレインイミドを得た。
【0042】
この粗製物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒;n−ヘキサン/酢酸エチル=9/1)で精製したところ、油状のN−イソプロピルマレインイミドの収量は28mg(収率69%)であった。
実施例6
無水マレイン酸32mg(0.33ミリモル)とアリルアミン25μl(0.33ミリモル)、塩化亜鉛45mg(0.33ミリモル)、1,1,1,3,3,3−ヘキサメチルジシラザン0.14ml(0.66ミリモル)から合成する他は、実施例1と同様に反応及び後処理を行ない粗製のN−アリルマレインイミドを得た。
【0043】
この粗製物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒;n−ヘキサン/酢酸エチル=85/15)で精製したところ、N−アリルマレインイミドの収量は33mg(収率73%)であった。
融点42.5〜43.5℃
実施例7
無水グルタル酸26mg(0.23ミリモル)とベンジルアミン25μl(0.23ミリモル)、塩化亜鉛31mg(0.23ミリモル)、1,1,1,3,3,3−ヘキサメチルジシラザン0.10ml(0.46ミリモル)から合成する他は、実施例1と同様に反応及び後処理を行ない粗製のN−ベンジルグルタルイミドを得た。
【0044】
この粗製物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒;n−ヘキサン/酢酸エチル=6/4)で精製したところ、N−ベンジルグルタルイミドの収量は32mg(収率69%)であった。
融点49.0〜50.0℃
実施例8
アルゴン雰囲気下、ベンゼン5ml中に、N−ベンジルスクシンアミド酸50mg(0.24ミリモル)を加え、しばらく攪拌後、塩化亜鉛33mg(0.24ミリモル)をすばやく加え加熱し、還流が開始したら、1,1,1,3,3,3−ヘキサメチルジシラザン77μl(0.48ミリモル)を加え、2時間還流した。
【0045】
反応は薄層クロマトグラフィーで追跡し、アミド酸のテーリングが消失したところを終点とした。
反応終了後、白色沈殿を取り除き、溶媒を減圧下濃縮し粗製のN−ベンジルコハク酸イミドを得た。
この粗製物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒;n−ヘキサン/酢酸エチル=7/3)で精製したところ、N−ベンジルコハク酸イミドの収量は43mg(収率94%)であった。
実施例9〜11
実施例8の塩化亜鉛、1,1,1,3,3,3−ヘキサメチルジシラザン(HMDS)の当量数及び還流時間を変化させた他は、実施例8と同様に反応、後処理及び精製を行ないN−ベンジルコハク酸イミドを得た。結果を表1に示す。
【0046】
【表1】
Figure 0003965526
実施例12〜16
実施例8の塩化亜鉛を他のルイス酸に代え、還流時間を変化させた他は、実施例8と同様に反応、後処理及び精製を行ないN−ベンジルコハク酸イミドを得た。結果を表2に示す。
【0047】
【表2】
Figure 0003965526
実施例17
N−ベンジルマレインアミド酸55mg(0.26ミリモル)、塩化亜鉛36mg(0.26ミリモル)、1,1,1,3,3,3−ヘキサメチルジシラザン0.11ml(0.53ミリモル)から合成する他は、実施例8と同様に反応及び後処理を行ない粗製のN−ベンジルマレインイミドを得た。 この粗製物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒;n−ヘキサン/酢酸エチル=9/1)で精製したところ、N−ベンジルマレインイミドの収量は45mg(収率90%)であった。
実施例18
N−ベンジルグルタルアミド酸53mg(0.24ミリモル)、塩化亜鉛33mg(0.24ミリモル)、1,1,1,3,3,3−ヘキサメチルジシラザン0.10ml(0.48ミリモル)から合成する他は、実施例8と同様に反応及び後処理を行ない粗製のN−ベンジルグルタル酸イミドを得た。
【0048】
この粗製物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒;n−ヘキサン/酢酸エチル=6/4)で精製したところ、N−ベンジルグルタル酸イミドの収量は36mg(収率75%)であった。
参考例1
アルゴン雰囲気下、テトラヒドロフラン30ml中に、無水コハク酸3.0g(30ミリモル)を加え、しばらく攪拌後、ベンジルアミン3.3ml(30ミリモル)を滴下し、そのまま室温で15分間攪拌した。
【0049】
反応終了後、白色沈殿を濾過し、ヘキサン5mlで5回洗浄し乾燥した。
この粗製物を酢酸エチルと少量のメタノールから再結晶を行ったところ、白色のN−ベンジルコハク酸アミド酸の収量は5.7g(収率90%)であった。
融点142.0〜143.5℃
参考例2
無水マレイン酸1.0g(10ミリモル)とベンジルアミン1.1ml(10ミリモル)から合成する他は、参考例1と同様に反応及び後処理を行なったところ、白色のN−ベンジルマレインアミド酸の収量は1.8g(収率88%)であった。
【0050】
融点137.0〜139.0℃
参考例3
無水グルタル酸1.0g(8.6ミリモル)とベンジルアミン0.9ml(8.6ミリモル)から合成する他は、参考例1と同様に反応及び後処理を行なったところ、黄色のN−ベンジルグルタルアミド酸の収量は1.7g(収率88%)であった。
【0051】
融点101.5〜102.5℃
【0052】
【発明の効果】
本発明により、式(1)のカルボン酸無水物と式(2)のアミン化合物から穏和な条件で式(3)のイミド化合物を製造することができ、更に式(4)のアミド酸からも穏和な条件で式(3)のイミド化合物の製造することができる。

Claims (4)

  1. 式(1)
    Figure 0003965526
    〔式中、X及びYは、独立に置換されていてもよいC1〜C6アルキル基(該置換基としてはC1〜C6アルキル基、C1〜C6アルコキシ基、フェニル基、ハロゲン原子を意味する。)、置換されていてもよいC2〜C6アルケニル基(該置換基としてはC1〜C6アルキル基、C1〜C6アルコキシ基、フェニル基、ハロゲン原子を意味する。)、置換されていてもよいフェニル基(該置換基としてはC1〜C6アルキル基、C1〜C6アルコキシ基、フェニル基、ニトロ基、シアノ 基、ハロゲン原子を意味する。)を意味し、又はX及びYは一緒になってC4〜C8の環やベンゼン環を形成してもよい。
    Figure 0003965526
    は単結合又は二重結合を意味し、nは0〜3の整数を意味する。〕で表わされるカルボン酸無水物を、式(2)
    Figure 0003965526
    〔式中、Rは、置換されていてもよいC1〜C6アルキル基(該置換基としてはC1〜C6アルキル基、C1〜C6アルコキシ基、フェニル基、ヒドロキシル基、ハロゲン原子を意味する。)、置換されていてもよいC2〜C6アルケニル基(該置換基としてはC1〜C6アルキル基、C1〜C6アルコキシ基、フェニル基、ハロゲン原子を意味する。)、置換されていてもよいフェニル基(該置換基としてはC1〜C6アルキル基、C1〜C6アルコキシ基、フェニル基、ニトロ基、シアノ基、ハロゲン原子を意味する。)、置換されていてもよいベンジル基(該置換基としてはC1〜C6アルキル基、C1〜C6アルコキシ基、フェニル基、ニトロ基、シアノ基、ハロゲン原子を意味する。)、ヒドロキシル基を意味する。〕で表わされるアミン化合物と、ジシラザン化合物及びルイス酸触媒の存在下反応させることを特徴とする式(3)
    Figure 0003965526
    〔式中、X、Y、R、n及び
    Figure 0003965526
    は前記に同じ。〕で表わされるイミド化合物の製造法。
  2. 式(4)
    Figure 0003965526
    〔式中、X及びYは、独立に置換されていてもよいC1〜C6アルキル基(該置換基としてはC1〜C6アルキル基、C1〜C6アルコキシ基、フェニル基、ハロゲン原子を意味する。)、置換されていてもよいC2〜C6アルケニル基(該置換基としてはC1〜C6アルキル基、C1〜C6アルコキシ基、フェニル基、ハロゲン原子を意味する。)、置換されていてもよいフェニル基(該置換基としては C1〜C6アルキル基、C1〜C6アルコキシ基、フェニル基、ニトロ基、シアノ基、ハロゲン原子を意味する。)を意味し、又はX及びYは一緒になってC4〜C8の環やベンゼン環を形成してもよい。Rは、置換されていてもよいC1〜C6アルキル基(該置換基としてはC1〜C6アルキル基、C1〜C6アルコキシ基、フェニル基、ヒドロキシル基、ハロゲン原子を意味する。)、置換されていてもよいC2〜C6アルケニル基(該置換基としてはC1〜C6アルキル基、C1〜C6アルコキシ基、フェニル基、ハロゲン原子を意味する。)、置換されていてもよいフェニル基(該置換基としてはC1〜C6アルキル基、C1〜C6アルコキシ基、フェニル基、ニトロ基、シアノ基、ハロゲン原子を意味する。)、置換されていてもよいベンジル基(該置換基としてはC1〜C6アルキル基、C1〜C6アルコキシ基、フェニル基、ニトロ基、シアノ基、ハロゲン原子を意味する。)、ヒドロキシル基を意味し、
    Figure 0003965526
    は単結合又は二重結合を意味し、nは0〜3の整数を意味する。〕で表わされるアミド酸を、ジシラザン化合物及びルイス酸触媒の存在下反応させることを特徴とする式(3)
    Figure 0003965526
    〔式中、X、Y、R、n及び
    Figure 0003965526
    は前記に同じ。〕で表わされるイミド化合物の製造法。
  3. ジシラザン化合物が1,1,1,3,3,3−ヘキサメチルジシラザンである請求項1〜2記載の製造法。
  4. ルイス酸が、ハロゲン化亜鉛又はハロゲン化錫である請求項1〜2記載の製造法。
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