JP3957187B2 - 可変光減衰器 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、電圧印加で容易に光の減衰を行える可変光減衰器に関する。
【0002】
【従来の技術】
DWDM(Dense Wavelength Division Multiplexing:狭帯域波長分割多重)システム等では、例えばEDFA(Er Doped Fiber Amplifier:Erドープ光ファイバアンプ)を利用して光ファイバ中を伝搬する光信号を増幅するとともに、光ファイバ中を伝搬する信号光を任意の光強度に減衰させる技術も必要である。
【0003】
信号光を減衰させる可変光減衰器として、リブ型導波路を用いたものが実用化されている(非特許文献1参照)。これは、SOI(Silicon on Insulator)基板の上に形成されたリブ型導波路の一部に、リブを挟むようにp形不純物が導入されたp形半導体領域とn形不純物が導入されたn形半導体領域とを設け、PIN構造としたものである。この可変光減衰器では、リブの一部に設けられたPIN構造に、順方向電流を流すことで自由キャリアを発生させ、リブを導波する信号光を減衰させようとしたものである。
【0004】
図3は、上述した従来よりある可変光減衰器の構成を示す平面図(a)及び断面図(b)である。この可変光減衰器は、例えば石英などの絶縁基板からなる下部クラッド301の上に形成されたシリコン層302にリッジを形成してコア303とし、コア303の一部の両脇のクラッド層304に、p形不純物導入部305,n形不純物導入部306を形成したものである。なお、p形不純物導入部305,n形不純物導入部306には、各々金属パッド307,308が接続されている。
【0005】
コア303は、クラッド層304より厚く形成されており、コア303の有効屈折率がクラッド層304の有効屈折率より相対的に大きなものとなっている。この有効屈折率の差により、コア303に光を閉じ込めることが可能となり、コア303が導波路として機能する。コア303は、例えば、幅4μm高さ4μm程度に形成され、クラッド層304は厚さ2μm程度に形成されている。なお、コア303のクラッド層304上の部分は、高さ2μmである。このようなリブ型の導波路を導波する光は、コア303の部分に最大強度を持ち、クラッド層304に数μm程度広がった状態で伝搬していく。
【0006】
このようなリブ型の導波路構造の可変光減衰器では、金属パッド307から金属パッド308に電流が流れる方向に電圧を印加することで、p形不純物導入部305とn形不純物導入部306に挟まれた領域を通過する光を減衰させることができる。上述したように電圧を印加することで、コア303に対し、p形不純物導入部305からは正孔が侵入し、n形不純物導入部306からは電子が侵入し、これらキャリアがコア303を伝搬する光を吸収することによって、コア303を伝搬する光を減衰させる。
【0007】
コア303に侵入するキャリアは、上記電圧の大きさに応じた量となり、印加する電圧を可変することにより、減衰量を可変することができる。
ここで、不純物が導入されている部分は、電圧が印加されていなくても光を吸収する。従って、p形不純物導入部305とn形不純物導入部306は、コア303より所定距離離して形成することになる。
【0008】
一方、近年では、より集積度を向上させた光集積回路を作製するために、断面方向の寸法を0.2〜0.5μmと非常に小さくしたシリコン細線をコアとした導波路が開発されている。これは、下部クラッド上のシリコン層にコアとクラッド層とを形成するのではなく、例えば、図4の斜視図に示すように、酸化シリコンや窒化シリコンなどの絶縁体からなる下部クラッド401の上に、シリコンの細線からなるコア402を形成し、コア402を酸化シリコンや窒化シリコンなどの絶縁体からなる上部クラッド403で覆ったものである。
【0009】
また、図5に示すように、コア402を、2つの上部クラッド503,504で覆った構造の導波路もある。図5の導波路では、上部クラッド503が、上部クラッド504よりコア402に対する屈折率の差が小さくなるように構成されている。図5の導波路は、例えば、スポットサイズを変換するためなどに用いられる。
何れの導波路も、シリコン細線をコアに用いることで、前述したリブ型の導波路を用いる場合よりも、より小さな光集積回路を構成することが可能となる。
【0010】
【特許文献1】
特開平6−289230号公報
【非特許文献1】
"Proceedings of the SPIE" The International Society for Optical Engineering. vol4293,p1-9(2001)
【0011】
【発明が解決しようとする課題】
ところが、上述したシリコン細線による導波路では、シリコン細線による導波路は、コアと同じ材料からなるクラッド層がない代わりに、シリコン細線からなるコアとこれを覆うシリコン酸化物などのクラッドから構成されているため、キャリアを注入するための不純物導入領域を、コア周囲のクラッドに形成することができない。従って、前述した不純物導入部を利用した光減衰器を構成することが困難であるという問題があった。
【0012】
ここで、コアの両側に接するように不純物を導入したシリコン層を配置することで、可変光減衰器とするためのキャリアを注入する層を設けることは可能である。しかしながらこの場合、不純物が導入された領域とコアとは屈折率差がほとんど無いため、導波路の中の光強度の大きな領域に不純物が導入された領域が配置されることになる。このように、導波路の中の光強度の大きな領域に不純物が導入された領域が存在すると、電圧が印加されていなくても、この領域で光が吸収されて減衰してしまう。これでは、例えば信号光を減衰させずに伝搬させることができない。
【0013】
本発明は、以上のような問題点を解消するためになされたものであり、シリコン細線をコアとしてこれを絶縁物などのクラッドで覆った導波路で、電気制御により任意の光減衰量を与えられる可変光減衰器を提供することを目的とする。
【0014】
【課題を解決するための手段】
本発明に係る可変光減衰器は、下部クラッド層と、この下部クラッド層上に形成されたシリコンからなるコアと、このコアの一部に接するn形キャリア供給部と、このn形キャリア供給部にコアを介して対向してコアに接するp形キャリア供給部と、コア,n形キャリア供給部,及びp形キャリア供給部を覆うように下部クラッド層上に形成された上部クラッド層と、n形キャリア供給部及びp形キャリア供給部に各々形成された電極とを少なくとも備え、n形キャリア供給部及びp形キャリア供給部は、シリコンよりも屈折率が小さい半導体材料から構成され、かつ前記コアに対してクラッドとして機能するものである。
【0015】
この光減衰器では、n形キャリア供給部及びp形キャリア供給部が形成された領域において、シリコンより屈折率の小さいn形キャリア供給部及びp形キャリア供給部がコアに対してクラッドとして機能する。また、p形キャリア供給部,コア,n形キャリア供給部とでPIN構造が形成され、これらの間に電圧を印加してコアに自由キャリアを注入し、コアのキャリア濃度を高くすることで、伝搬する光を減衰させることができる。
【0016】
上記可変光減衰器において、n形キャリア供給部及びp形キャリア供給部の少なくとも一方は、例えば、有機半導体から構成されていればよく、また、化合物半導体から構成されていてもよい。
【0017】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態について図を参照して説明する。
図1は、本発明の実施の形態における可変光減衰器の構成例を示す斜視図(a)及び平面図(b)である。この可変光減衰器の構成について説明すると、まず、酸化シリコンや窒化シリコンなどの絶縁材料からなる下部クラッド層101の上に、例えば、幅0.2μm高さ0.2μmのシリコン細線からなるコア102を備えている。この構造は、例えば、SOI基板の埋め込み絶縁層上のシリコン(SOI)層を、公知のフォトリソグラフィまたは電子線リソグラフィなどの一般的なリソグラフィ技術とエッチング技術とにより微細加工することで形成できる。SOI基板の埋め込み絶縁層が下部クラッド層101となり、SOI層を加工したパターンがコア102となる。
【0018】
加えて、本実施の形態では、導波路の一部に、コア102に接して下部クラッド層101の上に形成されたn形キャリア供給部103とp形キャリア供給部104とを備えている。n形キャリア供給部103とp形キャリア供給部104とは、コア102を挟んで対向配置されている。n形キャリア供給部103,及びp形キャリア供給部104は、例えば、有機半導体や化合物半導体などの、シリコンより屈折率の小さい半導体材料から構成し、n形キャリア供給部103にはn形不純物を導入し、p形キャリア供給部104にはp形不純物を導入したものである。
【0019】
これらコア102,n形キャリア供給部103,及びp形キャリア供給部104は、上部クラッド層105に覆われている。n形キャリア供給部103及びp形キャリア供給部104が形成されていない領域では、コア102の両側面及び上面が、上部クラッド層105に覆われている。また、n形キャリア供給部103及びp形キャリア供給部104には、一部が上部クラッド層105の上に露出している電極106,107が各々接続している。なお、図1(b)では、電極106,107を省略している。
【0020】
このような構成を有する可変光減衰器において、n形キャリア供給部103,p形キャリア供給部104が形成されている領域では、コア102より屈折率の小さい、n形キャリア供給部103及びp形キャリア供給部104は、コア102に対してクラッドとして機能する。言い換えると、n形キャリア供給部103及びp形キャリア供給部104は、導波路の中の光強度の大きな領域とはならず、この領域で光が吸収されて減衰することが抑制される。
【0021】
図1の可変光減衰器では、電極106,107に電圧を印加することで、n形キャリア供給部103及びp形キャリア供給部104からキャリアがコア102に注入され、コア102からなる導波路を導波(伝搬)する信号光の強度を減衰させることができる。また、電極106,107に印加する電圧の大きさを変化させることで、n形キャリア供給部103及びp形キャリア供給部104からコア102に注入されるキャリアの量も変化するので、上述した光減衰を可変とすることが可能となる。
【0022】
ここで、例えば、n形キャリア供給部103は、銅フタロシアニンから構成し、p形キャリア供給部104は、チオフェンオリゴマーから構成すればよい。また、アントラセン,テトラセン,ペンタセンなどの有機半導体を用いるようにしてもよい。また、GaAsやInPなどの化合物半導体を用いるようにしてもよい。また、一方のキャリア供給部に有機半導体を用い、他方のキャリア供給部に化合物半導体を用いるようにしてもよい。
【0023】
なお、本実施の形態における可変光減衰器の構成は、図5に示した、シリコン細線が2つの上部クラッドに覆われた光導波路であっても、適用できることはいうまでもない。例えば、図2に示すように、酸化シリコンや窒化シリコンなどの絶縁材料からなる下部クラッド層201の上に、例えば、幅0.2μm高さ0.2μmのシリコン細線からなるコア202を備え、導波路の一部に、コア202に接して下部クラッド層201の上に形成されたn形キャリア供給部203とp形キャリア供給部204とを備え、これらの上部に形成された中間クラッド層205とこれらを覆う上部クラッド層206とを備えるようにしてもよい。
【0024】
中間クラッド層205の屈折率は、コア202より小さく、上部クラッド層206より大きい。また、n形キャリア供給部203及びp形キャリア供給部204は、屈折率がシリコンより小さく中間クラッド層205と同程度の、例えば、有機半導体や化合物半導体などの半導体材料から構成する。n形キャリア供給部203にはn形不純物を導入し、p形キャリア供給部204にはp形不純物を導入する。
【0025】
また、n形キャリア供給部203とp形キャリア供給部204とは、コア202を挟んで対向配置されている。n形キャリア供給部203及びp形キャリア供給部204が形成されている領域では、コア202の上部には中間クラッド層205が配置され、コア202の両側部には、中間クラッド層205と同程度の屈折率としたn形キャリア供給部203及びp形キャリア供給部204が配置されている。
【0026】
また、n形キャリア供給部203及びp形キャリア供給部204が形成されていない領域では、コア202の上部及び両側部には、中間クラッド層205が配置されている。
従って、図2の可変光減衰器においては、コア202の全域にわたって、コア202は、コア202すなわちシリコンより屈折率の低い材料で覆われている。
【0027】
このように、図2の可変光減衰器においても、コア202の全域にわたって、導波する光の強度が大きな領域となるコア202の中に、光吸収を起こす不純物が導入された領域はなく、定常状態で光の減衰が起こることがない。
言い換えると、n形キャリア供給部203及びp形キャリア供給部204は、導波路の中の光強度の大きな領域とはならず、この領域で光が吸収されて減衰することが抑制される。
【0028】
これらの結果、図2の光減衰器においても、n形キャリア供給部203及びp形キャリア供給部204に接続している電極207,208に電圧を印加することで、n形キャリア供給部203及びp形キャリア供給部204からキャリアがコア202に注入され、コア202からなる導波路を導波する信号光の強度を減衰させることができる。また、電極207,208に印加する電圧の大きさを変化させることで、n形キャリア供給部203及びp形キャリア供給部204からコア202に注入されるキャリアの量も変化するので、上述した光減衰を可変とすることが可能となる。
【0029】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明では、n形キャリア供給部及びp形キャリア供給部をシリコンからなるコアを介して互いに対向して形成するとともに、シリコンよりも屈折率が小さい半導体材料から構成し、これらの領域において、n形キャリア供給部及びp形キャリア供給部がコアに対してクラッドとして機能するようにした。この結果、n形キャリア供給部及びp形キャリア供給部が形成された領域において、導波路を伝搬する光を減衰することが可能となり、一方、n形キャリア供給部及びp形キャリア供給部で光が吸収されて減衰することが抑制される。従って、本発明によれば、シリコン細線をコアとしてこれを絶縁物などのクラッドで覆った導波路で、電気制御により任意の光減衰量を与えられる可変光減衰器を提供することができるという優れた効果が得られる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の実施の形態における可変光減衰器の構成例を示す斜視図(a)及び平面図(b)である。
【図2】 本発明の他の実施の形態における可変光減衰器の構成例を示す斜視図(a)及び平面図(b)である。
【図3】 従来よりある可変光減衰器の構成例を示す平面図(a)及び断面図(b)である。
【図4】 シリコン細線による導波路の構成を示す斜視図である。
【図5】 シリコン細線による導波路の構成を示す斜視図である。
【符号の説明】
101…下部クラッド層、102…コア、103…n形キャリア供給部、104…p形キャリア供給部、105…上部クラッド層、106,107…電極。
Claims (3)
- 下部クラッド層と、
この下部クラッド層上に形成されたシリコンからなるコアと、
このコアの一部に接するn形キャリア供給部と、
このn形キャリア供給部に前記コアを介して対向して前記コアに接するp形キャリア供給部と、
前記コア,n形キャリア供給部,及びp形キャリア供給部を覆うように前記下部クラッド層上に形成された上部クラッド層と、
前記n形キャリア供給部及び前記p形キャリア供給部に各々形成された電極と
を少なくとも備え、
前記n形キャリア供給部及び前記p形キャリア供給部は、シリコンよりも屈折率が小さい半導体材料から構成され、かつ前記コアに対してクラッドとして機能する
ことを特徴とする可変光減衰器。 - 請求項1記載の可変光減衰器において、
前記n形キャリア供給部及び前記p形キャリア供給部の少なくとも一方は、有機半導体から構成されたものであることを特徴とする可変光減衰器。 - 請求項1記載の可変光減衰器において、
前記n形キャリア供給部及び前記p形キャリア供給部の少なくとも一方は、化合物半導体から構成されたものであることを特徴とする可変光減衰器。
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