JP3952506B2 - アノード電極およびその作成法 - Google Patents

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本発明は、水の電解,電気メッキ,電解合成,金属の電解採取などの工業用、またはセンサー,エネルギー変換などの電子デバイスに用いられるアノード電極およびその作成法に関する。
従来、水の電解,電気メッキ,電解合成,金属の電解採取などの工業用酸素発生アノード反応(H2O → O2 + 4e- + 4H+)の電極材料、またはセンサー,エネルギー変換などの電子デバイス用の酸素発生触媒、すなわちアノード電極として、一般に酸化ルテニウム(RuO2)が用いられている(非特許文献1)。
J. Phys. Chem., 1983, 87, 2629
しかし、酸化ルテニウム(RuO2)は不安定であって、酸化ルテニウム(RuO4)に酸化されやすいため、アノード電極に酸化ルテニウム(RuO2)を用いた場合には電極の有効寿命が短くなるという問題があった。
そこで、本発明は上記問題点に鑑み、安定で有効寿命の長いアノード電極およびその作成法を提供することをその目的とする。
本発明者は上記課題を解決するために鋭意検討した結果、酸素発生アノード反応に対して、酸化ルテニウム(RuO2)に比べ、より安定な酸化イリジウム(IrO2)を電極材料として使用することを思いついた。また、本発明者は、酸化イリジウム(IrO2)のコロイドとその粉末で酸素発生に対する触媒活性を比較した結果、コロイドの方が粉末より触媒活性が約40倍高いことを見出した。さらに、これを電極材料に応用する方法について検討し、酸化イリジウム(IrO2)のコロイドをクエン酸で保護し、クエン酸の遊離カルボキシル基をアンカーとして、酸化イリジウム(IrO2)のコロイドをインジウム錫酸化物(ITO)電極の表面に化学結合で吸着させることで、酸化イリジウム(IrO2)のコロイド粒子をインジウム錫酸化物(ITO)電極の表面に固定化することができることを見出し、本発明に想到した。
本発明の請求項1記載のアノード電極の作成法は、酸化イリジウム(IrO 2 )の粒子の周囲を有機酸が取り囲んでいる酸化イリジウム(IrO2)のコロイド水溶液に金属酸化物電極を浸漬することにより酸化イリジウム(IrO2)のコロイド粒子を金属酸化物電極の表面に固定化することを特徴とする。
本発明の請求項2記載のアノード電極の作成法は、酸化イリジウム(IrO 2 )の粒子の周囲をカルボキシル基またはスルホン酸基を有する高分子電解質が取り囲んでいる酸化イリジウム(IrO2)のコロイド水溶液に金属酸化物電極を浸漬することにより酸化イリジウム(IrO2)のコロイド粒子を金属酸化物電極の表面に固定化することを特徴とする。
本発明の請求項3記載のアノード電極の作成法は、酸化イリジウム(IrO 2 )の粒子の周囲を有機酸が取り囲んでいる酸化イリジウム(IrO2)のコロイド水溶液を金属酸化物電極上にキャストすることにより酸化イリジウム(IrO2)のコロイド粒子を金属酸化物電極の表面に固定化することを特徴とする。
本発明の請求項4記載のアノード電極の作成法は、酸化イリジウム(IrO 2 )の粒子の周囲をカルボキシル基またはスルホン酸基を有する高分子電解質が取り囲んでいる酸化イリジウム(IrO2)のコロイド水溶液を金属酸化物電極上にキャストすることにより酸化イリジウム(IrO2)のコロイド粒子を金属酸化物電極の表面に固定化することを特徴とする。
本発明の請求項5記載のアノード電極は、請求項1〜4のいずれか1項記載のアノード電極の作成法により作成されたことを特徴とする。
本発明の構成によれば、有機酸または高分子電解質で保護された酸化イリジウム(IrO2)のコロイド水溶液に金属酸化物電極を浸漬すること、あるいは、コロイド水溶液を金属酸化物電極上にキャストすることにより酸化イリジウム(IrO2)のコロイド粒子を金属酸化物電極の表面に固定化し、高活性かつ安定で有効寿命の長いアノード電極を得ることができる。
以下、本発明のアノード電極およびその作成法について、詳細に説明する。
本発明における有機酸とは、例えば、カルボキシル基を1個有するギ酸,酢酸,プロピオン酸,酪酸、カルボキシル基と水酸基を有する乳酸,リンゴ酸,酒石酸,クエン酸、このほか、スルホン酸基(スルホ基)を有するものを挙げることができるが、これらに限定されない。また、高分子電解質としては、ポリビニルスルホン酸,ポリメタクリル酸,アルギン酸などが挙げられるが、これらに限定されない。
本発明のアノード電極の作成法について説明すると、まず、有機酸または高分子電解質で保護した酸化イリジウム(IrO2)のコロイドを合成する。このコロイドの構造の一例を図1に示すが、酸化イリジウム(IrO2)の粒子の周囲を有機酸または高分子電解質が取り囲んでいる。
そして、この酸化イリジウム(IrO2)のコロイド水溶液に金属酸化物電極を浸漬することにより酸化イリジウム(IrO2)のコロイド粒子を金属酸化物電極の表面に固定化する。あるいは、この酸化イリジウム(IrO2)のコロイド水溶液を金属酸化物電極上にキャストすることにより酸化イリジウム(IrO2)のコロイド粒子を金属酸化物電極の表面に固定化する。なお、金属酸化物電極としては、インジウム錫酸化物(ITO)電極が好適に用いられるが、このほかの金属酸化物電極を用いてもよい。
ここでは、金属酸化物電極の表面の水酸基と、コロイド粒子のカルボキシル基またはスルホン酸基との間でエステル結合が形成され、コロイド粒子が金属酸化物電極の表面に化学的に吸着する。なお、酸性条件下でエステル結合形成が促進されるため、吸着速度および吸着量を増大させるために酸性条件下でこの反応を行なわせるのが好ましい。
以上の操作によって得られたアノード電極の例を図1に示す。この図1は、ガラス基板(1)上に蒸着されたインジウム錫酸化物(ITO)層(2)表面に酸化イリジウム(IrO2)コロイド層が形成された様子を示している。
このように、本実施例のアノード電極の作成法は、有機酸または高分子電解質で保護された酸化イリジウム(IrO2)のコロイド水溶液に金属酸化物電極を浸漬すること、あるいは、コロイド水溶液を金属酸化物電極上にキャストすることにより酸化イリジウム(IrO2)のコロイド粒子を金属酸化物電極の表面に固定化するものであり、この方法によれば、高活性かつ安定で有効寿命の長いアノード電極を得ることができる。
以下、本発明について具体的な実施例によって説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。
有機酸に保護されたIrO2コロイドは以下のように調製した。クエン酸を用いた場合の実施例を示す。1.2×10-5 molのK2IrCl6(ヘキサクロロイリジウム(IV)酸カリウム)と、保護剤として約3倍当量のクエン酸を溶かした水
溶液10mlを作成した。0.25M のNaOHを加えてpHを7.5に調整した後、95℃で30分間還流した。pHが7.5に安定するまでこの操作を数回繰り返した。pHが安定した後酸素下で2時間還流を行った。過剰の保護剤を陰イオン交換樹脂(DOWEX 2X8-100)で取り除き、20 mlに希釈してIrO2コロイドを作成した。
上記のように作成したIrO2コロイド水溶液中にITO電極を浸漬、または、IrO2コロイド水溶液をITO電極上にキャストした後、風乾により溶媒を除去することにより、IrO2コロイド修飾電極を作成した。
このように、酸化イリジウム(IrO2)のコロイドをクエン酸で保護し、クエン酸の遊離カルボキシル基をアンカーとして、酸化イリジウム(IrO2)のコロイド粒子をインジウム錫酸化物(ITO)電極の表面に化学結合で吸着させることで、酸化イリジウム(IrO2)のコロイド粒子をインジウム錫酸化物(ITO)電極の表面に固定化することができることが確認された。
図2は電極のIrO2コロイド溶液への浸漬時間を変えてたときのサイクリックボルタモグラムである。浸漬時間の経過にともない、1.0V以上で水の酸化に基づくアノード電流が立ち上がり、触媒活性の増大が示された。
IrO2コロイド修飾電極を用いて、1.3 V vs Ag/AgClで水の電気化学的酸化を行ったときの電流‐時間曲線を図3に示す。水の酸化に基づく定常的なアノード電流(2.75 mA cm-2)が観察され、1時間の電解でもその電流値はほとんど減少しないことが示された。またこれは無修飾のITO電極のアノード電流値(0.5 A cm-2)と比べ5500倍大きかった。
このように、IrO2コロイド修飾電極の高安定性かつ高活性が確認された。
実施例1の保護剤としてのクエン酸の代わりに高分子電解質であるポリビニルスルホン酸を約9倍当量用いた以外は全て同じ要領でIrO2コロイドを作成し、同じ要領でIrO2コロイド修飾電極を作成した。この修飾電極を用いたサイクリックボルタモグラムは図4に示す。このように、IrO2コロイド修飾電極の高安定性かつ高活性が確認された。
本発明のアノード電極の一実施例を示す断面図である。 本発明の実施例1で作成したアノード電極のサイクリックボルタモグラムである。 本発明の実施例1で作成したアノード電極を用いて1.3 V vs Ag/AgClで水の電気化学的酸化を行ったときの電流‐時間曲線を示すグラフである。 本発明の実施例3で作成したアノード電極のサイクリックボルタモグラムである。

Claims (5)

  1. 酸化イリジウム(IrO 2 )の粒子の周囲を有機酸が取り囲んでいる酸化イリジウム(IrO2)のコロイド水溶液に金属酸化物電極を浸漬することにより酸化イリジウム(IrO2)のコロイド粒子を金属酸化物電極の表面に固定化することを特徴とするアノード電極の作成法。
  2. 酸化イリジウム(IrO 2 )の粒子の周囲をカルボキシル基またはスルホン酸基を有する高分子電解質が取り囲んでいる酸化イリジウム(IrO2)のコロイド水溶液に金属酸化物電極を浸漬することにより酸化イリジウム(IrO2)のコロイド粒子を金属酸化物電極の表面に固定化することを特徴とするアノード電極の作成法。
  3. 酸化イリジウム(IrO 2 )の粒子の周囲を有機酸が取り囲んでいる酸化イリジウム(IrO2)のコロイド水溶液を金属酸化物電極上にキャストすることにより酸化イリジウム(IrO2)のコロイド粒子を金属酸化物電極の表面に固定化することを特徴とするアノード電極の作成法。
  4. 酸化イリジウム(IrO 2 )の粒子の周囲をカルボキシル基またはスルホン酸基を有する高分子電解質が取り囲んでいる酸化イリジウム(IrO2)のコロイド水溶液を金属酸化物電極上にキャストすることにより酸化イリジウム(IrO2)のコロイド粒子を金属酸化物電極の表面に固定化することを特徴とするアノード電極の作成法。
  5. 請求項1〜4のいずれか1項記載のアノード電極の作成法により作成されたことを特徴とするアノード電極。
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