JP3949724B2 - サーマル・グリースを集積回路に塗布する方法 - Google Patents

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Description

発明の背景
1.発明の分野
本発明は集積回路パッケージに関する。
2.関連技術の説明
集積回路は一般に、プリント回路板に装着されたパッケージの中に収容される。集積回路は熱を発生させるのでこの熱をパッケージから取り除かなければならない。集積回路からの熱の除去を容易にするため、いくつかのパッケージにはヒート・スラグやヒート・シンクが組み込まれている。ヒート・シンクは集積回路に結合され、ダイとパッケージの環境との間の直接的な伝熱経路を形成する。製造公差のために、集積回路とヒート・シンクの間にエア・ギャップまたはエア・ポケットが生じることがある。空気は、熱伝導のよくない物質である。そのため一般に、サーマル・グリースの層を集積回路の上に塗布して、集積回路とヒート・シンクの間の熱インピーダンスを比較的低いものにする。
パッケージの熱インピーダンスをできるだけ少なくするためにはサーマル・グリースの塗布を制御することが望ましい。サーマル・グリースの量が多すぎると、パッケージの熱インピーダンスおよび集積回路の接合温度が大きくなり過ぎてしまう。サーマル・グリースの量が不十分であるとエア・ギャップやエア・ポケットが残ることがあり、パッケージの熱インピーダンスがやはり増大する。したがって、制御されたサーマル・グリース層を有する集積回路パッケージの提供が望まれる。
発明の概要
本発明は集積回路パッケージである。このパッケージは、基板に装着された集積回路を含む。集積回路は、基板に取り付けられたカバー・プレートによって封止される。カバー・プレートは、小さな空間によって集積回路から隔てられている。カバー・プレートは、集積回路とカバー・プレートの間の空間にサーマル・グリースを注入することを可能にする1対のポートを有する。パッケージは、カバー・プレートと基板の間の集積回路の周囲に延びるシールを有する。シールは、サーマル・グリースを制御し、これを集積回路に直かに隣接した領域に封じ込める。
【図面の簡単な説明】
本発明の目的および利点は、当業者が、以下の詳細な説明および添付図面を検討することによっていっそう容易に明白となろう。
第1図は、本発明の集積回路パッケージの断面図である。
第2図は、前記パッケージに注入されたサーマル・グリースを示す第1図と同様の断面図である。
[発明の詳細な説明]
参照符号によってより詳細に図面を参照する。第1図に、本発明の集積回路パッケージ10を示す。パッケージ10は集積回路12を収容する。集積回路12をマイクロプロセッサとすることができる。集積回路を図示し、これについて説明しているが、このパッケージには、任意の電気デバイスを収容することができることを理解されたい。
集積回路12は基板14に装着される。基板14を、表面パッド、内部ルーティング、および集積回路12を外部のプリント回路板に結合するビア(図示せず)を有するプリント回路板とすることができる。集積回路12が、「C4」または「フリップ・チップ」パッケージングと一般に呼ばれるプロセスで回路12を基板14に結合するはんだバンプ(図示せず)を有していてもよい。
集積回路12は、基板14に取り付けられたカバー・プレート16によって封止される。カバー・プレート16は複数のボルト18で基板14に取り付けることができる。ボルト18は、プレート16のクリアランス・ホール20を貫通し、ナット22で固定される。集積回路12で発生した熱をパッケージ10の環境に伝達するためカバー・プレート16は一般に、銅などの熱伝導性の金属材料から作られる。したがってカバー・プレート16は、パッケージ10の保護カバーとしての機能、およびヒート・シンクとしての機能の両方を有する。
カバー・プレート16は、空間26によって集積回路12の上面から隔てられたプラテン面24を有する。カバー・プレート16はさらに、プラテン面24に隣接して位置する環状の溝28を有する。パッケージ10は、環状溝28の内部に位置するシール30を有する。シール30は集積回路12を封止し、回路12に隣接した熱領域32を画定する。好ましい実施形態ではシール30が、カバー・プレート16によって変形されたOリングである。カバー・プレート16はさらに入口ポート34および出口ポート36を有する。
第2図に示すようにサーマル・グリース38がパッケージ10の開放領域32に注入される。サーマル・グリース38は、カバー・プレート16と集積回路12の間の空間26がグリース38で満たされるまで領域32にポンプ注入される。出口ポート36があることによって熱領域32の中の空気がパッケージの外に流れ出ることができ、そのために、集積回路12とカバー・プレート16の間にはエア・ポケットが形成されない。シール30が、サーマル・グリース38の流動を制御し、そのためにカバー・プレート16と集積回路12の間の空間26がグリース38で完全に満たされる。
したがって本発明は、集積回路12とヒート・シンク16の間に位置するサーマル・グリース層の厚さを制御する手段を提供する。パッケージを図示しこれについて説明してきたが、基板およびカバーを、サーマル・グリース層を集積回路の上に均一に塗布するためのツールとして使用し、その後、別のパッケージに組み立ててもよい。例えばサーマル・グリースを塗布した後にカバー・プレート16を取り外し、グリースでカバーされた集積回路12を取り出して、当技術分野で周知のセラミックまたはプラスチック成形パッケージなどのパッケージに組み立てることができる。サーマル・グリースについて説明してきたが、グリースを、パッケージ10の熱領域32に注入することができる熱伝導性のエポキシ材料または他の熱伝導性材料としてもよいことを理解されたい。
ある例示的な実施形態を説明し添付図面に示したが、当業者であればその他のさまざまな修正を実施できるのであるから、実施形態が、単に例示のためのものであって、幅広い発明を限定するものではないこと、および、図示し説明した特定の構造および配置に本発明が限定されないことを理解されたい。

Claims (2)

  1. サーマル・グリースを集積回路に塗布する方法において、
    a)集積回路を基抜の上へ置く段階、
    b)前記基板上の前記集積回路の周囲であって、該基板上直接シールを置く段階、
    c)前記集積回路をカバー・プレートで封止し、前記集積回路と、前記プレートと、前記シールとで空間を形成させる段階、および
    d)前記カバー・プレートの入口ポートから前記空間にサーマル・グリースを注入し、そのサーマル・グリースが前記集積回路と、前記カパー・プレートと、前記シールとに接触する段階
    を含む方法。
  2. 請求項1に記載の方法において、
    前記空間に注入されたサーマル・グリースは、さらに、前記集積回路の上面及び側面にも接触することを特徴とする方法。
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Families Citing this family (41)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6037659A (en) * 1997-04-28 2000-03-14 Hewlett-Packard Company Composite thermal interface pad
US6043984A (en) 1998-07-06 2000-03-28 Intel Corporation Electrical assembly that includes a heat sink which is attached to a substrate by a clip
US6331446B1 (en) 1999-03-03 2001-12-18 Intel Corporation Process for underfilling a controlled collapse chip connection (C4) integrated circuit package with an underfill material that is heated to a partial gel state
JP3196762B2 (ja) * 1999-04-20 2001-08-06 日本電気株式会社 半導体チップ冷却構造
JP4673949B2 (ja) * 1999-11-12 2011-04-20 富士通株式会社 半導体ユニットおよびその製造方法
US6292362B1 (en) * 1999-12-22 2001-09-18 Dell Usa, L.P. Self-contained flowable thermal interface material module
US6700209B1 (en) 1999-12-29 2004-03-02 Intel Corporation Partial underfill for flip-chip electronic packages
US6570764B2 (en) * 1999-12-29 2003-05-27 Intel Corporation Low thermal resistance interface for attachment of thermal materials to a processor die
US6888722B2 (en) * 1999-12-30 2005-05-03 Intel Corporation Thermal design for minimizing interface in a multi-site thermal contact condition
US7369411B2 (en) * 2000-02-25 2008-05-06 Thermagon, Inc. Thermal interface assembly and method for forming a thermal interface between a microelectronic component package and heat sink
JP3690729B2 (ja) * 2000-09-11 2005-08-31 インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーション 電気回路装置及びコンピュータ
US6617682B1 (en) * 2000-09-28 2003-09-09 Intel Corporation Structure for reducing die corner and edge stresses in microelectronic packages
GB0203670D0 (en) * 2002-02-15 2002-04-03 Bookham Technology Ltd An artificial environment module
US6767765B2 (en) * 2002-03-27 2004-07-27 Intel Corporation Methods and apparatus for disposing a thermal interface material between a heat source and a heat dissipation device
US6881265B2 (en) * 2002-04-12 2005-04-19 International Business Machines Corporation Grease rework applicator
US6967843B2 (en) * 2003-02-11 2005-11-22 Hewlett-Packard Development Company, L.P. System and method for dissipating heat from an electronic board
US7012326B1 (en) 2003-08-25 2006-03-14 Xilinx, Inc. Lid and method of employing a lid on an integrated circuit
US20050224953A1 (en) * 2004-03-19 2005-10-13 Lee Michael K L Heat spreader lid cavity filled with cured molding compound
JP4234635B2 (ja) * 2004-04-28 2009-03-04 株式会社東芝 電子機器
US7554190B2 (en) * 2004-12-03 2009-06-30 Chris Macris Liquid metal thermal interface material system
US7382620B2 (en) * 2005-10-13 2008-06-03 International Business Machines Corporation Method and apparatus for optimizing heat transfer with electronic components
US7388284B1 (en) 2005-10-14 2008-06-17 Xilinx, Inc. Integrated circuit package and method of attaching a lid to a substrate of an integrated circuit
JP4710735B2 (ja) * 2006-06-22 2011-06-29 株式会社デンソー 電子装置の製造方法
KR100810491B1 (ko) * 2007-03-02 2008-03-07 삼성전기주식회사 전자소자 패키지 및 그 제조방법
US7535714B1 (en) * 2007-10-31 2009-05-19 International Business Machines Corporation Apparatus and method providing metallic thermal interface between metal capped module and heat sink
US8806742B2 (en) 2009-09-02 2014-08-19 International Business Machines Corporation Method of making an electronic package
US8362609B1 (en) 2009-10-27 2013-01-29 Xilinx, Inc. Integrated circuit package and method of forming an integrated circuit package
US8810028B1 (en) 2010-06-30 2014-08-19 Xilinx, Inc. Integrated circuit packaging devices and methods
JP5348121B2 (ja) * 2010-12-21 2013-11-20 株式会社デンソー 電子装置
JP5875467B2 (ja) * 2012-06-04 2016-03-02 三菱電機株式会社 電力用半導体装置
GB2504343A (en) * 2012-07-27 2014-01-29 Ibm Manufacturing an semiconductor chip underfill using air vent
US10506719B2 (en) 2013-01-15 2019-12-10 Blackberry Limited Thermal dissipater apparatus for use with electronic devices
CN104716113B (zh) * 2013-12-13 2017-10-10 华为技术有限公司 散热器及散热系统
US20150184053A1 (en) * 2013-12-27 2015-07-02 Shankar Krishnan Gasketted thermal interface
US10098220B2 (en) * 2015-12-24 2018-10-09 Intel Corporation Electronic device heat transfer system and related methods
US10687447B2 (en) * 2016-10-14 2020-06-16 Laird Technologies, Inc. Methods of applying thermal interface materials to board level shields
CN107331787B (zh) * 2017-06-26 2019-06-21 京东方科技集团股份有限公司 封装盖板、有机发光显示器及其制备方法
JP7077764B2 (ja) 2018-05-17 2022-05-31 株式会社オートネットワーク技術研究所 回路装置
US10912224B2 (en) * 2018-05-30 2021-02-02 Amazon Technologies, Inc. Thermally conductive vibration isolating connector
US11054193B2 (en) 2018-05-30 2021-07-06 Amazon Technologies, Inc. Vehicle with vibration isolated electronics
TWM579819U (zh) * 2019-03-04 2019-06-21 華碩電腦股份有限公司 散熱結構

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3993123A (en) * 1975-10-28 1976-11-23 International Business Machines Corporation Gas encapsulated cooling module
US4034469A (en) * 1976-09-03 1977-07-12 Ibm Corporation Method of making conduction-cooled circuit package
US4092697A (en) * 1976-12-06 1978-05-30 International Business Machines Corporation Heat transfer mechanism for integrated circuit package
US4226281A (en) * 1979-06-11 1980-10-07 International Business Machines Corporation Thermal conduction module
US4235283A (en) * 1979-12-17 1980-11-25 International Business Machines Corporation Multi-stud thermal conduction module
US4531146A (en) * 1983-07-14 1985-07-23 Cutchaw John M Apparatus for cooling high-density integrated circuit packages
US4514752A (en) * 1984-04-10 1985-04-30 International Business Machines Corporation Displacement compensating module
US4639829A (en) * 1984-06-29 1987-01-27 International Business Machines Corporation Thermal conduction disc-chip cooling enhancement means
JPS63219143A (ja) * 1987-03-07 1988-09-12 Tanaka Electron Ind Co Ltd 回路基板のダムリング取付構造
US5184211A (en) * 1988-03-01 1993-02-02 Digital Equipment Corporation Apparatus for packaging and cooling integrated circuit chips
US4933747A (en) * 1989-03-27 1990-06-12 Motorola Inc. Interconnect and cooling system for a semiconductor device
US5323292A (en) * 1992-10-06 1994-06-21 Hewlett-Packard Company Integrated multi-chip module having a conformal chip/heat exchanger interface

Also Published As

Publication number Publication date
JP2000513148A (ja) 2000-10-03
WO1997050124A1 (en) 1997-12-31
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CN1149669C (zh) 2004-05-12
KR100310585B1 (ko) 2001-11-17
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US6016006A (en) 2000-01-18
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KR20000022209A (ko) 2000-04-25

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