JP3926202B2 - 検出装置 - Google Patents

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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、センサ等の検出装置に関し、詳しくは、センサ本体部と検出用の回路素子との配置技術に関するするものである。
【0002】
【従来の技術】
機器の小型化,機能向上に伴い、機器内部に組み込まれる各種検出装置(センサ)には検出精度の向上とともに小型化,軽量化,低消費電力化等の性能が要求されるようになっている。
例えば、ビデオカメラ等には手ぶれによる角度変化を検出するための角速度センサが組み込まれており、このセンサ出力に基づいて手ぶれ補正等の制御が行なわれている。このようなビデオカメラは年々小型化される傾向にあり、又、検出精度が使い勝手に大きく影響するため、センサには高い性能が要求される。
【0003】
また、傾斜センサや回転角センサ等を小型化して家庭用ゲーム機向けのジョイスティックやゲームパッド等に組み込むことで、これまで大型の遊戯施設でしか楽しめなかった体感型ゲーム等を個人で楽しむことができるようになる。
さらに、このような携帯機器やゲーム機器以外についても機器の小型化,高性能化に対する要求は強い。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、通常、このような検出装置では、センサ本体部と検出されたセンサ信号を処理する回路素子とは別体として構成されているため、センサ本体部と回路素子との間に長い引き回し配線が必要となる。このため、検出部で検出された電気信号は引き回し配線内を通る際に外部ノイズ等の外乱を受ける他、引き回し配線自体の寄生容量が生じるため、検出精度が損なわれる可能性を有していた。
【0005】
また、上述のような高感度,低消費電力等の性能要求を満たすものとして、静電容量の変化を利用した静電容量式のセンサが開発されているが、小型の静電容量センサでは、その容量値は1pFにも満たず、容量変化は0.02〜0.03pF程度と極めて小さくなる。そのため、上述のような外部ノイズ等の外乱は検出精度に大きな影響を与える虞があった。
本発明は、上述の課題に鑑み創案されたもので、容易に小型化でき検出精度を高めることができるようにした、検出装置を提供することを目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、本発明の検出装置は、絶縁性の基板の一面側に設けられた検出部と、上記基板の他面側に設けられ上記検出部で検出された信号を処理する回路素子と、上記基板を厚さ方向に貫通して設けられ上記検出部と上記回路素子とを接続するスルーホール電極を有した配線部とを備え、上記基板が多層配線基板からなり、上記基板の一面と他面との間に接地電位に設定されるグランド層が設けられ、上記回路素子が半導体のサブストレートの一面中央部に回路部を形成した集積回路のベアチップからなり、該ベアチップが上記回路部を上記基板の他面と対向するように上記基板の他面側にバンプによって接続され、上記グランド層が上記検出部と上記回路素子との間に設けられ、上記サブストレートが上記グランド層と導通されるとともに、上記回路部の一面側に上記グランド層が配置され、上記回路部の他面側とその周囲とが上記接地電位に設定されるサブストレートにより囲まれてなることを特徴としている。
【0007】
本構成によれば、基板を介して検出部と回路素子とを一体化することができるため、センサの構造が簡素化され製造コストを低減することができる。また、配線部は基板を厚さ方向に貫通するように設けられているため、配線部の長さが短くなり、検出部で検出された電気信号を略最短距離で回路素子に入力することができる。これにより、信号を回路素子に送出する際に外部ノイズ等の影響を極力排除でき、検出精度を飛躍的に高めることができる。さらに、配線部が短くなることで、配線部自身の寄生容量が小さくなり、更に検出精度を高めることができる
【0008】
また、上記基板を多層配線基板にて構成し、上記基板の一面と他面との間に、接地電位に接地されるグランド層を設けたので、回路素子は基板一面側の外部ノイズ、検出部は基板の他面側の外部ノイズの影響をカットすることができる。
さらに、上記グランド層と上記基板の他面との間に電源層を設け、グランド層を上記基板の一面よりも電源層寄りに近接して配設することによりグランド層と電源層とが近接した配置とな、グランド層と電源層との間にバイパスコンデンサを挿入したのと同様の機能を持たせることが可能となり、電源ラインとグランドライン間に一般的に取り付けられる外付け部品としてのノイズ吸収用のバイパスコンデンサを省略することができる。
【0009】
また、上記回路素子を、半導体のサブストレートの一面に回路部が形成された集積回路のベアチップにて構成し、このベアチップを上記基板の他面側に搭載することにより、回路素子のサイズを飛躍的に小さくすることができ、検出装置を小型、軽量とすることができる。この場合、上記ベアチップを、その回路部が上記基板の他面と対向するように、基板の他面側にバンプによって接続させる。このようにベアチップを基板とバンプ接続した場合、ベアチップをワイヤーボンディングするものと比べて、小型化が可能となるとともに、ワイヤーの寄生容量による影響が生じることがなく、また、ワイヤーに外部ノイズが誘導されるおそれもない。
【0010】
さらに、上記回路部が基板の他面側と対向するように搭載したベアチップにおいて、上記半導体の上記サブストレートを上記基板のグランド層と導通させることにより、ベアチップの回路部の周囲が接地電位とされるため、回路部に対するシールド効果が増し、回路部外部からの外部ノイズの影響を充分にカットすることができる。したがって、検出部が僅かな静電容量の変化を検出する静電容量式センサであったとしても、ノイズの影響を受けにくく、精度の高い検出が可能となる。
【0011】
また、上記基板に、上記回路素子と電気的に接続する複数の外部接続電極を設けてもよく、このようにすれば、検出装置を実装基板に容易に実装して使用することが可能となり、検出装置をあたかも一種の電気部品のように取り扱うことが可能となる。
なお、上記検出部を、上記基板の上記一面上に設けられた検出電極と、上記検出電極に対向配置されるとともに上記検出電極に対して変位可能に設けられた対向電極とを有し、上記検出電極と上記対向電極との間の静電容量を検出する静電容量式センサとして構成してもよい。
【0012】
また、上記検出部を、上記基板の上記一面上に設けられた一対の櫛歯状の検出電極の間の静電容量を検出する静電容量式センサとして構成してもよい。
また、上記検出部を、上記基板の上記一面側に設けられた弾性部材と、上記弾性部材に形成された歪抵抗体とを有し、上記歪抵抗体の抵抗値を検出する歪抵抗式センサとして構成してもよい。
また、上記検出部を、上記基板の上記一面側に設けられたコイルのインダクタンスを検出する磁気式センサとして構成してもよい。
【0013】
【発明の実施の形態】
以下、図面により、本発明の実施の形態について説明する。
まず、第1実施形態について説明すると、図1〜図7は本発明の第1実施形態としてのセンサ構造を示すもので、図1はその全体構成を示す模式的な概略断面図、図2はその分解斜視図、図3〜図7はいずれもその要部構成を示す基板の平面断面図である。
【0014】
本実施形態に係るセンサ(検出装置)100は、図1に示すように、基板10の上面11S側に電気信号を検出するための検出部200を備え、基板10の下面13R側に検出部200から検出された電気信号を処理する回路素子300を備えて構成されている。本実施形態では、検出部200は静電容量式の傾斜センサとして構成され、回路素子300としてはIC(集積回路)のベアチップが用いられている。
【0015】
検出部200は、センサ100の傾斜を容量変化として検出する静電容量式の傾斜センサであり、図2に示すように、基板10の上面11S上に形成された四つの検出電極11aと、これらの検出電極11aに対向する金属板(対向電極)30と、この金属板30にひねり変形を加えるための錘40とを備えて構成されている。
基板10の上面11Sの中央部には四つの検出電極11aが碁盤目状に形成され、上面11Sの外周部には四つの検出電極11aを囲むように四角枠状の電極11bが形成されている。そして、この電極11b上には矩形枠状をなした金属製の導電性スペーサ20が配され、このスペーサ20上に薄い金属板30が積重されている。この金属板30と検出電極11aとの間隔はスペーサ20の厚みによって一定に保持され、金属板30と四つの検出電極11aとにより四つの容量可変式の信号検出用のコンデンサが形成されている。
【0016】
金属板30は、この金属板30の外周部として構成される枠状の支持部30aと、この支持部30aにより第1の軸部30c回りに揺動可能に支持された中間部30bと、この中間部30bにより上記の第1の軸部30cと直交する第2の軸部30e回りに揺動可能に支持された導電性の搭載部30dとからなり、搭載部30dは軸部30c,30eのひねり変形により二軸回りに揺動可能に構成されている。
【0017】
具体的には、支持部30aはスペーサ20と重なるように配置され、その対向する一対の辺の内周中央に、内側に向かう一対の第1の軸部30cが設けられている。この一対の第1の軸部30cの他端は、支持部30aの内周に沿うように設けられた枠状の中間部30bにつながっており、中間部30bは傾斜により一対の第1の軸部30cがひねり変形することによりその軸線回りに揺動できるようになっている。
【0018】
また、中間部30bの内周には一対の第1の軸部30cに直交する位置に互いに対向する一対の第2の軸部30eが設けられている。この一対の第2の軸部30eの他端は、その外周が中間部30bの内周に沿うように設けられた矩形の搭載部30dにつながっており、この搭載部30dは第2の軸部30eがひねり変形することによりその軸線回りに揺動できるようになっている。
なお、軸部30c,30eの軸方向はそれぞれ碁盤目状に配置された検出電極11aの行方向又は列方向に一致するように構成されており、搭載部30dの揺動を感度良く検出できるようになっている。
【0019】
このような金属板30は、例えば、ステンレスプレート等の薄い金属の単板に、支持部30aと中間部30bとの間、及び中間部30bと搭載部30dとの間に平面視コ字形の溝孔を設けることで形成することができる。これにより、加工が容易となり製造精度を高めることができる。
錘40は搭載部30d上に接着されて搭載されており、この錘40の底面にはスペーサ20の厚みに金属板30の厚みを加えた厚さと同程度の高さに形成された突起部40bが基板上面11Sに向けて突設されている。そして、この突起部40bは、突起部40bの突設位置に対応して形成された搭載部30d中央部の穴30fを通って四つの検出電極11aの中央部に当接している。これにより、錘40は傾斜センサ100の傾斜に応じて上記当接位置を中心として揺動し、軸部30c,軸部30eのどちらか又は両方の軸回りに所定の大きさのモーメントを発生させるようになっている。
【0020】
このようなモーメントは軸部30e,軸部30cのどちらか一方又は両方の軸をひねり変形し、搭載部30dはこのモーメントと軸部30c,30eのひねりに対する弾性力とが釣り合う角度で停止する。
なお、この錘40はその底部40aが本体部である頭部(上部)よりも細く形成され、錘40の重心位置が高くなるように構成されている。このため、センサ100の僅かな傾斜に対しても上記軸線方向に大きなモーメントを作用させることができ、センサ100を軽量化しながら傾斜感度を高めることができるようになっている。
【0021】
また、基板10の上面11S上には、上面11Sの外周部に沿うように配された矩形枠状のパッキン50を介して金属製のカバー60が設けられている。このカバー60は円筒型の頭部60bとその周辺部に広がるフランジ部60aとからなり、そのフランジ部60aで支持部30aを押し付けて固定するとともに、フランジ部60aは適宜の手段により接地されており、防塵,防滴,センサ100周辺の帯電物による容量ドリフト,ノイズ及び取り扱い上の不注意等からセンサ100を保護するようになっている。なお、カバー60の内面には、絶縁コート(図示せず)が施されており、これにより、金属製のカバー60と金属板30とが導通しないようになっている。
【0022】
また、カバー60の形状は搭載部30dの中心を通る軸に対して対称に構成されており、搭載部30dと検出電極11aとの間の静電容量に余計なオフセットが発生することを防止できるようになっている。
ところで、基板10はセラミックス又はエポキシ樹脂等からなる絶縁性の板材11〜14の積層体として構成された多層配線基板であり、各板材11〜13の上面11S〜13S及び板材13,板材14の下面13R,14Rはそれぞれ検出電極層,グランド層,電源層,チップ実装面,接続電極面として構成されている。
【0023】
基板10の上面(即ち、板材11の上面)としての検出電極層11Sには、図3に示すように、その中央部に四つの検出電極11aが例えば、Ag(銀)のパターン印刷により碁盤目状に形成されている。また、検出電極層11Sの外周部には、金属板30と導通される電極11bが矩形枠状に形成されている。
【0024】
また、検出電極11a及び電極11bはそれぞれ検出電極層11Sからチップ実装面13Rまで貫通するスルーホール電極H1,H2によってチップ実装面13R上の端子13a,13bに接続されている(図3〜6参照)。このスルーホール電極H1,H2はレーザー加工やプレス加工等の方法で形成した細孔の内側にスクリーン印刷法により銀ペーストを充填して、これを焼成させることにより導電部を形成したもので、各電極11a,11bはこのスルーホール電極H1,H2を介して端子13a,13bまで略最短距離で接続され、静電的な外乱の影響をほとんど受けることなく検出信号や駆動信号等の電気信号を回路素子300と入出力できるようになっている。
【0025】
グランド層12Sは、金属板30からの駆動信号が検出電極11aを介さずに回路素子300に侵入するのを防ぐとともに、基板10の外部(検出部200においては基板10の下面側、回路素子300においては基板10の上面側)から入るノイズをカットするノイズシールドとして機能し、図4に示すように、スルーホール電極H1,H2部分と板材12の外周縁部とを除く略全面がAg等の金属面(導電面)12fとして構成されている。また、この金属面12fは、図4に示すグランド層12Sから図6に示すチップ実装面13Rまで貫通する複数のスルーホール電極H3によってチップ実装面13R上の金属面(導電面)13fと導通して、端子13dと接続されるとともに、基板10の側面に形成された取り出し電極142を介して接地されるようになっている(図6参照)。なお、スルーホール電極H3を複数としているのは、グランドパターンとしての金属面12fを均一なグランド電位とするためである。
【0026】
また、金属板30と検出電極11aとにより構成される信号検出用コンデンサとの容量結合を抑えるために、グランド層12Sと検出電極層11Sとは十分離間されており、例えば板材11には厚さ0.4mm程度のものが用いられている。なお、この板材11の厚さは0.3mm以上とすることが好ましく、これにより、検出部200との容量結合を効果的に防止することができる。
電源層13Sはグランド層12Sとともにバイパスコンデンサとして機能し、図5に示すように、スルーホール電極H1〜H3部分と板材13の外周縁部を除く略全面がAg等の金属面(導電面)13gとして構成されている。また、この金属面13gは電源層13Sからチップ実装面13Rまで貫通するスルーホール電極H4によってチップ実装面13R上の端子13cと接続されているとともに(図6参照)、基板10の側面に形成された取り出し電極141を介して電源電位に設定されるようになっている。
【0027】
また、グランド層12Sが基板10の上面(検出電極層)11Sよりも電源層13S寄りとなって、電源層13Sとグランド層12Sとは近接して配置されており、例えば、板材12には厚さ0.1mm程度の薄材が用いられている。これにより、グランド層12Sと電源層13Sとによりバイパスコンデンサが形成され、別途コンデンサを設ける必要がないため、センサ100の構造を更に簡素化できるようになっている。なお、この板材12の厚さは0.2mm以下とすることが好ましく、これにより、上述のようなバイパスコンデンサの機能を十分発揮することができる。
【0028】
さらに、グランド層12Sよりもノイズの影響を受けやすい電源層13Sと回路素子300との容量結合を抑えるために、金属面13gでは、回路素子300の搭載位置に対応する中央部分の金属パターンが抜かれて空白部13Fとされている。
チップ実装面13Rには、図6に示すように、検出部200と回路素子300とをつなぐ信号線用として、スルーホール電極H1,H2と端子(パッド)13a,13bとをそれぞれ接続する短い引き回し配線が形成されるとともに、回路素子300から図示しない外部装置への出力用として、端子(パッド)133〜136と取り出し電極143〜146とをそれぞれ接続する引き回し配線が形成されている。また、外部ノイズをカットするために、スルーホール電極H1〜H4部分とこれらの引き回し配線以外の領域には接地されるAg等の金属面13fが形成されている。
【0029】
また、上記電源層13Sとグランド層12Sとにより構成されるバイパスコンデンサとの容量結合を抑えるために、電源層13Sとチップ実装面13Rとは十分離間されており、例えば板材13には厚さ0.2mm程度の厚材が用いられている。なお、この板材13の厚さは0.15mm以上とすることが好ましく、これにより、回路素子300と検出部200或いは回路素子300と上記バイパスコンデンサとの容量結合を効果的に防止することができる。
【0030】
接続電極面14Rには、図7に示すように、六つの外部接続電極14a〜14fが形成され、それぞれ基板10の側面に設けられた取り出し電極141〜146に接続されている。そして、接続電極面14Rを外部の実装回路基板PCBに半田付け等で実装することで、検出装置100が外部接続電極14a〜14fを介して図示しない外部装置に接続されるようになっている。そして、外部接続電極14bを介してグランド層12S(グランドパターンたる金属面12f)が接地されるとともに、外部接続電極14aを介して外部装置から電源層13S(金属面13g)に電源が供給されて、外部接続電極14c〜14fを介して回路素子300の処理結果が外部装置に出力されるようになっている。
【0031】
なお、板材14には、回路素子300を収納するための貫通孔からなる収納凹部14gが中央部に形成されており、接続電極面14Rを実装回路基板に表面実装できるように、すなわち、回路素子300が接続電極面14Rから突出しないように、板材14の板厚が設定されている。
【0032】
回路素子300は、基板10裏面側のチップ実装面13Rに搭載されており、チップ実装面13R内の信号検出用の端子13a,13b、電源用の端子13c、グランド用の端子13d及び信号出力用の端子133〜136と回路素子300の複数のアルミニウム製の端子300aとがそれぞれ金バンプ310で接続されている。そして、駆動用の端子13bを介して金属板30に駆動信号が加えられ、この金属板30と対向配置された検出電極11aにより検出された電圧等の電気信号が検出用の端子13aを介して回路素子300に入力され、該電気信号により信号検出用コンデンサの容量変化を求めている。
【0033】
この金属板30と検出電極11aとで構成される信号検出用コンデンサは4つあり、これら4つのコンデンサの容量変化に基づいて傾斜センサ100の傾斜方向及び傾斜量を算出するようになっている。また、この算出結果は信号出力用の端子133〜136及び外部接続電極14c〜14fを介して外部装置に出力されるようになっている。
なお、接合性を向上させるために、パッド13a〜13d,133〜136及び端子300aには金メッキが施されていることが望ましい。
【0034】
ここで、本実施形態において、回路素子300は集積回路のベアチップにて構成されている。このベアチップは、シリコン等の半導体からなるサブストレート(半導体基材)300bの一面の中央部に熱拡散法やイオン注入法等の手法により拡散層と呼ばれる回路部300cが形成されたものである。そして、回路部(拡散層)300cを含むベアチップ(回路素子)300の一面(図1においては上面)は、ほぼ全域がSiO2(酸化ケイ素)等の絶縁膜(図示せず)によって覆われており、この絶縁膜上に複数の端子300aと一端がそれぞれ導通する複数のAl(アルミニウム)パターン(図示せず)が形成されている。なお、回路部300c上に位置する上記絶縁膜には、所定の位置に複数の微小な貫通孔(スルーホール)が設けられており、この貫通孔を介して回路部300cの所定箇所が上記Alパターンと導通されている。
【0035】
また、グランド用の端子(パッド)13dとバンプ接続される端子300aに導通するAlパターンは、サブストレート300b上に位置する上記絶縁膜の図示しない微小孔を介してサブストレート300bと接続されている。これにより、サブストレート300bは、Alパターン,グランド用の端子300a,金バンプ310,パッド13d,スルーホール電極H3等を介して基板10のグランドパターンである金属面12f(グランド層)と導通状態となっている。したがって、回路部300cは、下面と周囲が接地されるサブストレート300bによって囲まれ、上面側にはグランド層12Sが存在するため、ほぼ完全にシールドされた構造をとることとなり、外部からのノイズの影響をほとんど受けることはない。
【0036】
また、補強のために、回路素子(ベアチップ)300とチップ実装面13Rとをエポキシ樹脂等の絶縁性樹脂320により接着し一体化させている。具体的には、回路素子300の搭載面となるチップ実装面12Rを上にしてパッドに囲まれた部分に液状のエポキシ樹脂320をディスペンサ等で塗布し、回路素子300の回路部300c形成面側が基板10と対向するようにチップ実装面13R上に位置決めし載置する。この際、エポキシ樹脂320は流動性により押し広げられ金バンプ310の周囲まで達する。そして、超音波を回路素子300の背面側から当ててパッド13a〜13d,133〜136と回路素子300の端子300aとを金バンプ310により超音波接合する。その後、加熱によりエポキシ樹脂320を加熱硬化させて回路素子300がチップ実装面13Rに一体に接合されている。
【0037】
なお、この樹脂320は端子300aの周囲まで覆うように設けられ、接合部や端子300aを腐食等から保護するようになっている。また、回路素子300全体を樹脂320で覆ってもよいが、サブストレート300bが接地されるため、その必要はない。
【0038】
本発明の第1実施形態としてのセンサ100は、上述のように構成されているので、センサ100を傾けると、錘40が突起部40bの基板10との当接位置を中心として揺動し、その傾斜方向及び傾斜量に応じて、搭載部30dに対し軸部30c又は軸部30e回りのモーメントを作用させる。そして、軸部30c,30eのひねり変形に対する弾性力とこのモーメントとが釣り合う角度で搭載部30dが停止する。
【0039】
これにより、搭載部30dと各検出電極11aとにより構成される信号検出用コンデンサの静電容量が変化し、その容量変化が、スルーホール電極H1,H2及び端子13a,13bを介して検出電極11aの略真下に実装された回路素子300に電気信号として入力される。そして、回路素子300による処理結果は、接続電極面14Rの外部接続電極14c等を介して外部装置へ出力される。
【0040】
したがって、本実施形態のセンサ100によれば、基板10の上面11S側に検出部200を設け、基板裏面13R側に回路素子300を実装しているため、基板10を介して検出部200と回路素子300とが一体化され、センサ構造を簡素化して製造コストを低減できる。また、検出部200は、基板10を厚み方向に貫通するスルーホール電極H1,H2を介して回路素子300に接続されているため、検出部200で検出された信号を略最短距離で回路素子300に入力することができ、信号送出の際の外部ノイズ及び内部信号のクロストーク等の影響を極力排除して検出精度を飛躍的に高めることができる。
【0041】
この際、回路素子300が基板10を挟んで検出電極11aと対向する位置に実装されているため、スルーホール電極H1,H2から端子13a,13bまでの引き回し配線を短くすることができ、検出精度を最大限高めることができる。また、引き回し配線が短くなることで、引き回し配線自身の寄生容量も小さくなり、更に検出精度を高めることができる。
【0042】
また、基板10内にグランド層12Sを設け、スルーホール電極H3を介して接地しているため、検出部200は基板10裏面側、回路素子300は基板10表面側の外部ノイズの影響をカットすることができる。この際、板材11に0.3mm以上の厚材を用いて検出電極11aとグランド層12Sとを0.3mm以上に離間しているため、グランド層12Sと検出電極層11Sとが十分離間され、信号検出用コンデンサとの容量結合を防止して検出精度を高めることができる。
【0043】
さらに、板材12に0.2mm以下の薄材を用いてグランド層12Sと電源層13Sとを0.2mm以下に近接して配置しているため、グランド層12Sと電源層13Sとの間でバイパスコンデンサが構成され、別途コンデンサを設ける必要がない。このため、更にセンサ100を簡素化することができる。
また、板材13に0.15mm以上の厚材を用いて電源層13Sとチップ実装面13Rとを0.15mm以上に離間してため、回路素子300と上記バイパスコンデンサ(電源層13S)との容量結合を防止することができる。
【0044】
また、本発明の第1実施形態としてのセンサ(検出装置)100は、回路素子300として、集積回路のベアチップを用いているため、センサ100を小型、軽量とすることができる。そして、このベアチップ300は、回路部(拡散部)300cが基板10の下面(他面)と対向するように、基板10とバンプ接続されているため、ワイヤーボンディングする際に問題となるワイヤーの寄生容量の影響がなく、より検出精度を高めることができる。また、補強及び保護のために使用される絶縁性の樹脂は基板10とベアチップとの接合面と端子の周囲にさえあれば足りるため、絶縁性樹脂の使用量を少なくでき、薄型化を図ることができる。
【0045】
さらに、ベアチップのサブストレート300bをグランドパターンである金属面12fと導通させて接地されるようにしているため、回路部300cは接地されるベアチップのサブストレート300bと基板10のグランド層12Sとの間に位置することとなるので、ほぼ完全にシールドされて、外部ノイズの影響を究極的に受けにくくすることができる。
【0046】
また、基板10の下面に外部接続電極14a〜14fを設けていることから、検出装置(センサ)100を電気部品のように容易に扱うことができ、外部の実装回路基板PCBに容易に実装することができる。
また、本実施形態の傾斜センサ100では、検出電極11aを碁盤目状に四つ配置し、搭載部30dをこの碁盤の目の方向と一致するように配置された二軸30c,30eの回りに揺動可能に構成しているため、傾斜センサ100の傾斜方向を二次元的に捉えることができる。
【0047】
また、搭載部30dに搭載された錘40の底部40aに検出電極層11Sに当接する突起部40bが設けられているため、搭載部30dはこの当接位置を中心として軸30c,30eのひねり変形によりスムーズに揺動できる。また、この突起部40bにより搭載部30dの下向きの変位が防止されるため、重力等により検出信号に余計なオフセットが生じない。さらに、センサ100を極端に傾けることがない限り錘40の重さが軸部30c,30eに直接かかることはないため、軸部30c,30eの幅を細くしても永久変形しにくくなっている。このため、軸部30c,30eの幅を細くして軸線方向のモーメントに対するひねり変形量を大きくすることで、傾斜に対する感度を更に高めることができる。
【0048】
次に、本発明の第2実施形態について図8,図9を用いて説明する。なお、図1〜図7を用いて説明した上記第1実施形態と同様の部位については同じ符号を付し、その説明を一部省略する。
図8に示すように、本実施形態に係るセンサ(検出装置)101は、基板10の上面側の検出電極層11S上に検出部201としての回転角センサを備え、基板10の裏面側のチップ実装面13Rに回転角センサ201で検出された電気信号を処理する回路素子(ベアチップ)300を備えて構成されている。
【0049】
回転角センサ201は、絶縁性の円柱部材(バー)70の回転角を容量変化として検出する静電容量式のセンサであり、基板上面11S上に形成された検出電極11a′と、バー70と一体に回転可能な金属板(対向電極)71とを備えて構成されている。
基板10は、上記第1実施形態と同様に、板材11〜14の積層体として構成され、各板材11〜13の上面11S〜13S及び板材13,14の下面13R,14Rはそれぞれ検出電極層,グランド層,電源層,チップ実装面,接続電極面として構成されている。なお、グランド層12S,電源層13S,チップ実装面13R,接続電極面14Rについては、上記第1実施形態と同様であるため、説明を省略する。
【0050】
検出電極層11S上には、図9に示すように、中央部に楕円形の検出電極11a′が形成されており、検出電極11a′の中央部には絶縁性の突起部11dが設けられている。検出電極11a′は検出電極層11Sからチップ実装面13Rまで貫通するスルーホール電極H1によってチップ実装面13R上の信号検出用の端子13aに接続されている。なお、検出電極11a′は、小さな静電容量変化を精度良く検出するために、例えば、Ag(銀)等のパターン印刷により形成されている。
【0051】
また、検出電極層11S上には、内面が絶縁コートされた金属製のカバー61が接着により固定され、回転角センサ201を周辺の帯電物による容量ドリフトや外部ノイズ等から保護するようになっている。また、カバー61の中央部には円形の穴が設けられており、バー70の底部を嵌装し、バー70を直立に保持している。
【0052】
金属板71は、図9に示すように、検出電極11a′と略同一の楕円形状を有するステンレスプレート等の薄い金属板であり、下面側を突起部11dによって支持され、検出電極11a′に対して平行に配置されている。この金属板71と検出電極11a′との間隔は突起部11dの高さによって一定に保持され、金属板71と検出電極11a′によって信号検出用コンデンサが構成されている。また、金属板71はバー70の底面に一体に取り付けられ、バー70の回転に伴って一体に回転するようになっている。そして、バー70の回転により検出電極11a′との間のコンデンサ容量が変化し、例えば、金属板71と検出電極11a′との長軸同士が重なる位置で最大容量となり、長軸と短軸とが重なる位置で最小容量となるように構成されている。
【0053】
また、金属板71の上面にはバー70に巻回された金属製のコイルバネからなるバネ部材72が取り付けられており、このバネ部材72の上端はカバー61の内側面に取り付けられている。これにより、金属板71は検出電極11a′に平行な水平面内で一定の範囲で回転が許容されるようになっている。また、このバネ部材72には予圧が印加されており、バネ部材72の付勢力によって金属板71が突起部11d上に安定的に保持されるようになっている。
【0054】
さらに、このバネ部材72の上端はカバー61内側面に形成された金属リードL1によって、検出電極層11Sからチップ実装面13Rまで貫通するスルーホール電極H2に導通しており、バネ部材72,金属リードL1,スルーホール電極H2を介して金属板71に駆動信号が印加されるようになっている。なお、この金属リードL1は、例えば、Ag(銀)のパターン印刷により絶縁コートされるカバー61内側面に形成されている。
【0055】
なお、図9に示すように、金属板71及び検出電極11a′は、中心位置がバー70と同一軸心線上に配置された楕円形の電極として構成され、金属板71が検出電極11a′に平行な水平面内で回転した際に、その回転量に応じて信号検出用コンデンサの容量が増減し、その容量変化を演算することで金属板71の回転量が検出されるようになっている。
【0056】
ベアチップからなる回路素子300は、上記第1実施形態と同様に、検出電極11a′の略真下に実装されており、チップ実装面13R内の信号検出用の端子13a,13b、電源用の端子13c、グランド用の端子13d及び信号出力用の端子133〜136と回路素子300の複数のアルミニウム製の端子300aとがそれぞれ金バンプ310で接続されている。そして、信号検出用の端子13aから入力された検出電極11a′の電圧等の電気信号から信号検出用コンデンサの容量変化を求め、この容量変化に基づいて回転角センサ201の回転量を算出するようになっている。また、この算出結果は信号出力用の端子133〜136及び外部接続電極14c〜14fを介して外部装置に出力されるようになっている。
【0057】
なお、回路素子300の構造や回路素子300の基板10への取り付け方法等は上記第1実施形態と同様に構成されているため説明を省略する。
本発明の第2実施形態としてのセンサ101は、上述のように構成されているので、図示しないハンドルによってバー70を軸回りに回転すると、その回転量に応じて信号検出用コンデンサの容量が増減し、その容量変化は、スルーホール電極H1を介して、検出電極11a′の略真下に実装された回路素子300に入力される。そして、回路素子300による処理結果は、接続電極面14Rの外部接続電極14c〜14fを介して外部装置へ出力される。
【0058】
したがって、本実施形態のセンサ101によれば、上記第1実施形態と同様に、容量変化の信号を略最短経路で回路素子300に入力することができるため、外部ノイズの影響を極力抑えることができ、検出精度を最大限高めることができる。
【0059】
次に、本発明の第3実施形態について図10を用いて説明する。なお、図1〜図7を用いて説明した上記第1実施形態と同様の部位については同じ符号を付し、その説明を一部省略する。
図10に示すように、本実施形態に係るセンサ(検出装置)102は、圧力センサとして構成される検出部202を基板10の検出電極層11S上に備え、基板裏面のチップ実装面13Rに圧力センサ202で検出された電気信号を処理する回路素子300を備えて構成されている。
【0060】
基板10は、上記第1実施形態と同様に、板材11〜14の積層体として構成され、各板材11〜13の上面11S〜13S及び板材13,14の下面13R,14Rはそれぞれ検出電極層,グランド層,電源層,チップ実装面,接続電極面として構成されている。なお、グランド層12S,電源層13S,チップ実装面13R,接続電極面14Rについては、上記第1実施形態と同様であるため、説明を省略する。
【0061】
検出電極層11Sの中央部には、板材11を貫通しない程度の深さの凹部Gが形成されており、この凹部Gの底面には、例えば、円形の検出電極11a′′がAg(銀)等のパターン印刷により形成されている。そして、検出電極11a′′はこの凹部G底面からチップ実装面13Rまで貫通するスルーホール電極H1によってチップ実装面13R上の信号検出用の端子13aに接続されている。
【0062】
また、検出電極層11S上には、金属板(対向電極)32が接着により取り付けられており、検出電極層11Sからチップ実装面13Rまで貫通するスルーホール電極H2を介して端子13bに接続されている。また、この金属板32には薄板が用いられており、流体圧により検出電極11a′′に接近/離間する方向に弾性変形し、金属板32と検出電極11a′′とからなる信号検出用コンデンサの静電容量が増減するようになっている。
【0063】
また、金属板32上にはカバー62が接着により固定されている。このカバー62の中央部には流体の流入口としての開口部62aが形成されており、この開口部62aを介してカバー62内へ気体や液体が流入しうるようになっている。なお、開口部62aにゴムホース等を接続してセンサ102が設置位置と離れた位置の流体圧を測定することも可能である。
【0064】
ベアチップからなる回路素子300は、上記第1実施形態と同様に、検出電極11a′′の略真下に実装されており、チップ実装面13R内の信号検出用の端子13a,13b、電源用の端子13c、グランド用の端子13d及び信号出力用の端子133〜136と回路素子300の複数のアルミニウム製の端子300aとがそれぞれ金バンプ310で接続されている。そして、信号検出用の端子13aから入力された検出電極11a′′の電圧等の電気信号から信号検出用コンデンサの容量変化を求め、この容量変化に基づいて金属板32上面にかかる流体圧を算出するようになっている。また、この算出結果は信号出力用の端子133〜136及び外部接続電極14c〜14fを介して外部装置に出力されるようになっている。
【0065】
なお、回路素子300の構造や回路素子300の基板10への取り付け方法等は上記第1実施形態と同様に構成されているため説明を省略する。
本発明の第3実施形態としてのセンサ102は、上述のように構成されているので、開口部62aから流体が流入すると、この流体圧により金属板32が弾性変形し、コンデンサ容量が変化する。この容量変化の信号はスルーホール電極H1を介して、検出電極11a′′の略真下に実装された回路素子300に入力され、回路素子300による処理結果が接続電極面14Rの外部接続電極14c〜14fを介して外部装置へ出力される。
【0066】
したがって、本実施形態のセンサ102によれば、上記第1実施形態と同様に、容量変化の信号を略最短経路で回路素子300に入力することができるため、外部ノイズの影響を極力抑えることができ、検出精度を最大限高めることができる。
【0067】
次に、本発明の第4実施形態について図11,図12を用いて説明する。なお、図1〜図7を用いて説明した上記第1実施形態と同様の部位については同じ符号を付し、その説明を一部省略する。
図11に示すように、本実施形態に係るセンサ(検出装置)103は、タッチセンサとしての検出部203を基板10の検出電極層11S上に備え、基板裏面のチップ実装面13Rにタッチセンサ203で検出された電気信号を処理する回路素子300を備えて構成されている。
【0068】
基板10は、上記第1実施形態と同様に、板材11〜14の積層体として構成され、各板材11〜13の上面11S〜13S及び板材13,14の下面13R,14Rはそれぞれ検出電極層,グランド層,電源層,チップ実装面,接続電極面として構成されている。なお、グランド層12S,電源層13S,チップ実装面13R,接続電極面14Rについては、上記第1実施形態と同様であるため、説明を省略する。
タッチセンサ203は、誘電率変化を容量変化として検出する静電容量式のセンサであり、図12に示すように、互いに噛み合うように形成された一対の櫛歯状の検出電極T1,T2を備えて構成されている。
【0069】
検出電極T1,T2は検出電極層11S上にAg(銀)等のパターン印刷によって形成されており、指等の接近によって生じた検出電極T1,T2間の誘電率変化を容量変化として検出するようになっている。そして、一方の検出電極T1は検出電極層11Sからチップ実装面13Rまで貫通するスルーホール電極H1によってチップ実装面13R上の端子13aに接続され、他方の検出電極T2は検出電極層11Sからチップ実装面13Rまで貫通するスルーホール電極H2を介して端子13bに接続されている。
【0070】
また、検出電極層11Sには絶縁保護層80が形成されており、検出電極T1,T2の損傷から保護するようになっている。また、この保護層80には、例えば、ガラス薄膜が用いられており、指等が十分に接近することにより検出電極T1,T2間の容量を大きく変化させるようになっている。
【0071】
ベアチップからなる回路素子300は、上記第1実施形態と同様に、検出電極T1,T2の略真下に実装されており、チップ実装面13R内の信号検出用の端子13a,13b、電源用の端子13c、グランド用の端子13d及び信号出力用の端子133〜136と回路素子300の複数のアルミニウム製の端子300aとがそれぞれ金バンプ310で接続されている。そして、信号検出用の端子13a,13bのいずれか一方(例えば端子13b)を、駆動信号を送出するための出力用端子とし、いずれか他方の入力端子(例えば端子13a)から回路素子300に入力された電圧等の電気信号から検出電極T1,T2間の容量変化を求め、この容量変化に基づいて指等の接近を検出するようになっている。この検出結果は信号出力用の端子133〜136及び外部接続電極14c〜14fを介して外部装置に出力されるようになっている。
【0072】
なお、回路素子300の構造や回路素子300の基板10への取り付け方法等は上記第1実施形態と同様に構成されているため説明を省略する。
本発明の第4実施形態としてのセンサ103は、上述のように構成されているので、検出電極T1,T2に指等が近づくと、検出電極T1,T2間の誘電率が大きく変化し、コンデンサ容量が変化する。この容量変化の信号はスルーホール電極H1を介して、検出電極T1,T2の略真下に実装された回路素子300に入力され、回路素子300による処理結果が接続電極面14Rの外部接続電極14c〜14fを介して外部装置へ出力される。
【0073】
したがって、本実施形態のセンサ103によれば、上記第1実施形態と同様に、容量変化の信号を略最短経路で回路素子300に入力することができるため、外部ノイズの影響を極力抑えることができ、検出精度を最大限高めることができる。
【0074】
次に、本発明の第5実施形態について図13を用いて説明する。なお、図1〜図7を用いて説明した上記第1実施形態と同様の部位については同じ符号を付し、その説明を一部省略する。
図13に示すように、本実施形態に係るセンサ(検出装置)104は、荷重センサとしての検出部204を基板10の検出電極層11S上に備え、基板裏面のチップ実装面13Rに荷重センサ204で検出された電気信号を処理する回路素子300を備えて構成されている。
【0075】
基板10は、上記第1実施形態と同様に、板材11〜14の積層体として構成され、各板材11〜13の上面(一面)11S〜13S及び板材13,14の下面(他面)13R,14Rはそれぞれ検出電極層,グランド層,電源層,チップ実装面,接続電極面として構成されている。なお、グランド層12S,電源層13S,チップ実装面13R,接続電極面14Rについては、上記第1実施形態と同様であるため、説明を省略する。
【0076】
荷重センサ204は、弾性歪を抵抗変化として検出する歪抵抗式のセンサであり、弾性変形可能なステンレスプレート等からなる板バネ(弾性部材)33と、この板バネ33上に設けられた歪抵抗体33aとを備えて概略構成されている。検出電極層11S上には板バネ33が取り付けられており、この板バネ33上には歪抵抗体33aとの絶縁を確実にとるためのポリイミド樹脂等からなる絶縁膜(図示せず)が形成されており、この絶縁膜上に図13の左右方向に延びる帯状をした歪抵抗体33aがスクリーン印刷等により形成されている。なお、板バネ33は適宜の手段により接地されている。
【0077】
この歪抵抗体33aにはカーボン等の歪み抵抗材料が用いられている。
また、検出電極層11S中央部には、歪抵抗体33aの形成部位に対応する位置に、板材11を貫通しない程度の深さの凹部G′が形成されており、板バネ33はこの凹部G′において上下方向に弾性変形しうるようになっている。
また、歪抵抗体33aの両端部は、絶縁膜上に形成された図示していない一対の導電パターンに接続されており、これら導電パターンは、それぞれ検出電極層11Sからチップ実装面13Rまで貫通するスルーホール電極H1,H2によってチップ実装面13Rの端子13a,13bに接続されており、歪抵抗体33a両端の電気抵抗を検出できるようになっている。
【0078】
ベアチップからなる回路素子300は、上記第1実施形態と同様に、凹部G′の略真下(真反対側)に実装されており、チップ実装面13R内の信号検出用の端子13a,13b、電源用の端子13c、グランド用の端子13d及び信号出力用の端子133〜136と回路素子300の複数のアルミニウム製の端子300aとがそれぞれ金バンプ310で接続されている。そして、信号検出用の端子13a,13bから検出された歪抵抗体33a両端部の抵抗値に基づいて、板バネ33にかかる弾性力を算出するようになっている。また、この算出結果は信号出力用の端子133〜136及び外部接続電極14c〜14fを介して外部装置に出力されるようになっている。
【0079】
なお、回路素子300の構造や回路素子300の基板10への取り付け方法等は上記第1実施形態と同様に構成されているため説明を省略する。
本発明の第5実施形態としてのセンサ104は、上述のように構成されているので、カンチレバーによりセンサ104に応力Fがかかると、板バネ33は弾性変形し、歪抵抗体33aを歪ませる。これにより、歪抵抗体33aが伸張し、歪抵抗体33aの両端間の抵抗値が高くなる。この抵抗変化は、スルーホール電極H1,H2を介して凹部G′の略真下に実装された回路素子300に入力され、回路素子300による処理結果は、接続電極面14Rの外部接続電極14c〜14fを介して外部装置へ出力される。
【0080】
したがって、本実施形態のセンサ104によれば、上記第1実施形態と同様に、抵抗変化の信号を略最短経路で回路素子300に入力することができるため、外部ノイズの影響を極力抑えることができ、検出精度を最大限高めることができる。
【0081】
次に、本発明の第6実施形態について図14を用いて説明する。なお、図1〜図7を用いて説明した上記第1実施形態と同様の部位については同じ符号を付し、その説明を一部省略する。
図14に示すように、本実施形態に係るセンサ(検出装置)105は、傾斜センサとしての検出部205を基板10の検出電極層11S上に備え、基板裏面のチップ実装面13Rに傾斜センサ205で検出された電気信号を処理する回路素子300を備えて構成されている。
【0082】
基板10は、上記第1実施形態と同様に、板材11〜14の積層体として構成され、各板材11〜13の上面(一面)11S〜13S、板材13の下面(他面)13R及び板材14の側面14Eはそれぞれ検出電極層,グランド層,電源層,チップ実装面,接続電極面として構成されている。なお、グランド層12S,電源層13S,チップ実装面13Rについては、上記第1実施形態と同様であるため、説明を省略する。
傾斜センサ205は、センサ105の傾斜量をコイルのインダクタンス変化として検出する磁気式のセンサであり、図14に示すように、ボビン92に巻回されたコイル91と、ボビン92内を転がり可能に嵌装された球体90とを備えて構成されている。
【0083】
合成樹脂からなるボビン92は検出電極層11S上に一体に取り付けられており、外周面にコイル91が巻回されている。また、ボビン92は軸心部分が中空となっており、この中空部92aにはフェライト等の透磁率の大きな軟磁性体からなる球体90が転がり可能に嵌装されている。
また、検出電極層11S上にはボビン92の中空部92aと連続する筒部63aを有するハウジング63が取り付けられている。そして、センサ105が傾斜すると、球体90はその傾斜角度に応じた速度で中空部92a側から筒部63a側へ、又は、筒部63a側から中空部92a側へ自由に転がりながら移動し、これによりコイル91のインダクタンスを変化させるようになっている。
【0084】
コイル91の上端部及び下端部はそれぞれハウジング63内側面に形成された金属リードL1′,L2′により、検出電極層11Sからチップ実装面13Rまで貫通するスルーホール電極H1,H2に導通しており、球体90がコイル91内を移動すると、コイル91のインダクタンスが変化し、この変化を検出できるようになっている。
【0085】
ベアチップからなる回路素子300は、ボビン92の略真下(真反対側)に実装されており、チップ実装面13R内の信号検出用の端子13a,13b、電源用の端子13c、グランド用の端子13d及び信号出力用の端子133〜136と回路素子300の複数のアルミニウム製の端子300aとがそれぞれ金バンプ310で接続されている。そして、コイル91両端部は、金属リードL1′,L2′,スルーホール電極H1,H2を介して回路素子300に略最短経路で接続されるようになっている。そして、回路素子300にて検出されたインダクタンスの大きさ及びその変化の方向に基づいて球体90の移動方向及び移動速度を求め、センサ105の傾斜方向や傾斜角度を算出するようになっている。
【0086】
なお、本実施形態のセンサ105では、基板10を横に倒した状態で実装回路基板PCBに実装するため、外部接続電極14Eは板材14の実装回路基板PCB側の側面に形成されており、回路素子300での処理結果はこの接続電極面14Eを介して外部装置へ出力されるようになっている。
また、回路素子300の構造や回路素子300の基板10への取り付け方法等は上記第1実施形態と同様に構成されているため説明を省略する。
【0087】
本発明の第6実施形態としてのセンサ105は、上述のように構成されているので、センサ105が右側(図14中r1側)に傾くと、球体90はその傾斜角度に応じた速度で中空部92a側から筒部63a側へ転がりながら移動する。これにより、コイル91のインダクタンスが低下する。逆に、センサ105が左側(図14中r2側)に傾くと、球体90はその傾斜角度に応じた速度で筒部63a側から中空部92a側に転がりながら移動する。これにより、コイル91のインダクタンスが増大する。
【0088】
そして、検出された電気信号は金属リードL1′,L2′及びスルーホール電極H1,H2を介してボビン92の略真下に実装された回路素子300に入力される。そして、回路素子300による処理結果は、外部接続電極14Eを介して外部装置へ出力される。
したがって、本実施形態のセンサ105によれば、上記第1実施形態と同様に、インダクタンス変化の信号を略最短経路で回路素子300に入力することができるため、外部ノイズの影響を極力抑えることができ、検出精度を最大限高めることができる。
【0089】
なお、本発明は上述の実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で種々変形して実施することができる。
例えば、上記第2実施形態において、金属板71及び検出電極11a′の形状は楕円形に限定されず、長方形等の長軸と短軸を有する形状でもよい。この際、電極形状を変えることにより、回転角と出力電圧には任意の関数を設定できる。また、検出電極層11Sに二つの検出電極11a′,11a′を配置するとともに、金属板71を検出電極11a′に対して若干傾けて配置してもよい。この場合、金属板71と上記二つの検出電極11a′,11a′の容量変化を算出することで、バー70の回転量のみならず回転方向を検出することができる。
【0090】
また、上記第3実施形態のセンサ102は、ハウジング62を取り外すことで、静電容量式の荷重センサとして用いることができる。
さらに、上記第6実施形態では、外部接続電極14Eは実装回路基板PCB側の側面にのみ形成されているが、センサ105を実装回路基板PCBに実装する際の向きの自由度をもたせるために、外部接続電極を他面側にも設けてもよい。
【0091】
【発明の効果】
以上、詳述したように本発明によれば、基板を介して検出部と回路素子とを一体化することができるため、センサの構造が簡素化され製造コストを低減することができる。また、配線部は基板を厚さ方向に貫通するように設けられているため、配線部の長さが短くなり、検出部で検出された電気信号を略最短距離で回路素子に入力することができる。これにより、信号を回路素子に送出する際に外部ノイズ等の影響を極力排除でき、検出精度を飛躍的に高めることができる。さらに、配線部が短くなることで、配線部自身の寄生容量が小さくなり、更に検出精度を高めることができる。
また、上記回路素子を、半導体のサブストレートの一面に回路部が形成された集積回路のベアチップにて構成し、このベアチップを上記基板の他面側に搭載することにより、回路素子のサイズを飛躍的に小さくすることができ、検出装置を小型、軽量とすることができる。この場合、上記ベアチップを、その回路部が上記基板の他面と対向するように、基板の他面側にバンプによって接続させる。このようにベアチップを基板とバンプ接続した場合、ベアチップをワイヤーボンディングするものと比べて、小型化が可能となるとともに、ワイヤーの寄生容量による影響が生じることがなく、また、ワイヤーに外部ノイズが誘導されるおそれもない。
さらに、上記回路部が基板の他面側と対向するように搭載したベアチップにおいて、上記半導体の上記サブストレートを上記基板のグランド層と導通させることにより、ベアチップの回路部の周囲が接地電位とされるため、回路部に対するシールド効果が増し、回路部外部からの外部ノイズの影響を充分にカットすることができる。したがって、検出部が僅かな静電容量の変化を検出する静電容量式センサであったとしても、ノイズの影響を受けにくく、精度の高い検出が可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の第1実施形態に係るセンサ(検出装置)の全体構成を示す概略断面図である。
【図2】 本発明の第1実施形態に係るセンサの全体構成を示す分解斜視図である。
【図3】 本発明の第1実施形態に係るセンサの基板の構造を説明するための平面断面図(板材11の平面図)である。
【図4】 本発明の第1実施形態に係るセンサの基板の構造を説明するための平面断面図(板材12の平面図)である。
【図5】 本発明の第1実施形態に係るセンサの基板の構造を説明するための平面断面図(板材13の平面図)である。
【図6】 本発明の第1実施形態に係るセンサの基板の構造を説明するための平面断面図(板材13の背面図)である。
【図7】 本発明の第1実施形態に係るセンサの基板の構造を説明するための平面断面図(板材14の背面図)である。
【図8】 本発明の第2実施形態に係るセンサの全体構成を示す概略断面図である。
【図9】 本発明の第2実施形態に係るセンサの要部構成を示す上面視図である。
【図10】 本発明の第3実施形態に係るセンサの全体構成を示す概略断面図である。
【図11】 本発明の第4実施形態に係るセンサの全体構成を示す概略断面図である。
【図12】 本発明の第4実施形態に係るセンサの要部構成を示す上面視図である。
【図13】 本発明の第5実施形態に係るセンサの全体構成を示す概略断面図である。
【図14】 本発明の第6実施形態に係るセンサの全体構成を示す概略断面図である。
【符号の説明】
10 基板(多層配線基板)
11a,11a′,11a′′ 検出電極
12f 金属面(グランドパターン)
12S グランド層
13S 電源層
14a〜14f 外部接続電極
30 金属板(対向電極)
32 金属板(対向電極)
33 板バネ(弾性部材)
33a 歪抵抗体
71 金属板(対向電極)
91 コイル
200,201,202,203,204,205 検出部
300 回路素子(ベアチップ)
300b サブストレート
300c 回路部(拡散層)
310 金バンプ(バンプ)
H1〜H4 スルーホール電極
T1,T2 検出電極

Claims (7)

  1. 絶縁性の基板の一面側に設けられた検出部と、上記基板の他面側に設けられ上記検出部で検出された信号を処理する回路素子と、上記基板を厚さ方向に貫通して設けられ上記検出部と上記回路素子とを接続するスルーホール電極を有した配線部とを備え、
    上記基板が多層配線基板からなり、上記基板の一面と他面との間に接地電位に設定されるグランド層が設けられ、上記回路素子が半導体のサブストレートの一面中央部に回路部を形成した集積回路のベアチップからなり、該ベアチップが上記回路部を上記基板の他面と対向するように上記基板の他面側にバンプによって接続され、上記グランド層が上記検出部と上記回路素子との間に設けられ、上記サブストレートが上記グランド層と導通されるとともに、上記回路部の一面側に上記グランド層が配置され、上記回路部の他面側とその周囲とが上記接地電位に設定されるサブストレートにより囲まれてなることを特徴とする、検出装置。
  2. 上記グランド層と上記基板の他面との間に、電源層が設けられ、上記グランド層が上記基板の上記一面よりも上記電源層寄りに近接して配設されたことを特徴とする、請求項1記載の検出装置。
  3. 上記基板には、上記回路素子と電気的に接続する複数の外部接続電極が設けられたことを特徴とする、請求項1または2に記載の検出装置。
  4. 上記検出部が、上記基板の上記一面上に設けられた検出電極と、上記検出電極に対向配置されるとともに上記検出電極に対して変位可能に設けられた対向電極とを有し、上記検出電極と上記対向電極との間の静電容量を検出する静電容量式センサとして構成されたことを特徴とする、請求項1〜3のいずれかの項に記載の検出装置。
  5. 上記検出部が、上記基板の上記一面上に設けられた一対の櫛歯状の検出電極の間の静電容量を検出する静電容量式センサとして構成されたことを特徴とする、請求項1〜3のいずれかの項に記載の検出装置。
  6. 上記検出部が、上記基板の上記一面側に設けられた弾性部材と、上記弾性部材に形成された歪抵抗体とを有し、上記歪抵抗体の抵抗値を検出する歪抵抗式センサとして構成されたことを特徴とする、請求項1〜3のいずれかの項に記載の検出装置。
  7. 上記検出部が、上記基板の上記一面側に設けられたコイルのインダクタンスを検出する磁気式センサとして構成されたことを特徴とする、請求項1〜3のいずれかの項に記載の検出装置。
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