JP3907722B2 - ２−ヒドロキシピリジン類および／または２（１ｈ）−ピリドン類の製造法 - Google Patents

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、医薬および農薬の製造中間体として有用な２−ヒドロキシピリジン類および／または２（１Ｈ）−ピリドン類の製造法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
医薬および農薬の製造中間体として有用な２−ヒドロキシピリジン類および／または２（１Ｈ）−ピリドン類の一般的な製造法として、置換ピリジン類より誘導する方法と２−ヒドロキシピリジン環あるいは２（１Ｈ）−ピリドン環を合成する方法が挙げられる。
【０００３】
置換ピリジン類より誘導する方法としては、２−クロロピリジン類を三級アルコール中アルカリで処理することにより２−ヒドロキシピリジン類あるいは２（１Ｈ）−ピリドン類を得る方法（独国特許３，８１４，３５８）、または、２−クロロピリジン類より得られる２−メトキシピリジン類をナトリウム トリメチルシランチオラートにより２−ヒドロキシピリジン類へと変換するヘテロサイクルズ（Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌｅｓ，１９９３年，３２３頁）記載の方法が挙げられる。これらの方法において原料となる２−クロロピリジン類はピリジン類をテトラヘドロン レターズ（Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔｅｒｓ，１９７１年，２８０７頁）記載の方法により酸化して得られるピリジン Ｎ−オキシド類を、ケミストリー オブ ヘテロサイクリック コンパウンズ（Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ ｏｆ Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌｉｃ Ｃｏｍｐｏｕｎｄｓ，１４巻，補巻２，１９７４年）記載の方法により塩素化して得られる。従って、２−ヒドロキシピリジン類あるいは２（１Ｈ）−ピリドン類はピリジン類より３工程を経て製造されるため、工程全体としては低収率であり、また、塩素化に用いるオキシ塩化リンの廃液処理が必須である。
【０００４】
２−アミノピリジン類を酸性条件下亜硝酸ナトリウムで処理した後に加水分解することにより２−ヒドロキシピリジン類あるいは２（１Ｈ）−ピリドン類へと導く方法が知られているが［ジャーナル オブ ヘテロサイクリック ケミストリー（Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌｉｃ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，１９９５年，２５９頁）］、その原料となる２−アミノピリジン類は例えばジャーナル オブ ロシアン フィジカル ケミカル ソサイエティー（Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｒｕｓｓｉａｎ Ｐｈｙｓｉｃａｌ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｓｏｃｉｅｔｙ，１９１５年，８３５頁）記載のピリジン類のアミノ化により合成されるため、工程全体としては低収率である。
【０００５】
ピリジン−２−カルボン酸 Ｎ−オキシド類を無水酢酸により酸無水物とした後、アルカリ加水分解するスイス国特許６４４，８４７、および、特開昭６０−６１，５６７記載の方法が挙げられるが、原料となるピリジン−２−カルボン酸類は例えば２−メチルピリジン類を過マンガン酸塩などの酸化剤により酸化することにより製造されるため［ジャーナル オブ オーガニック ケミストリー（Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，１９４６年，１４巻，１４頁）］、工程全体としては低収率であり、また、酸化剤の廃棄処理が問題となる。さらに、硫酸銅存在下１５０℃から７００℃で加熱することにより３−メチルピリジン類の２位に水酸基を導入する方法がテトラヘドロン レターズ（Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔｅｒｓ，１９７７年， ２１９３頁）、および、ポーランド国特許１０２，２４６に記載されているが、実用的な反応ではない。
【０００６】
また、２−ベンジルオキシピリジンをエタノール中パラジウム炭素を触媒として用いナトリウムエトキシドで処理することにより２−ヒドロキシピリジンあるいは２（１Ｈ）−ピリドンを製造する方法［ジャーナル オブ インディアン ケミストリー セクション Ｂ（Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｉｎｄｉａｎ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ．，Ｓｅｃｔｉｏｎ Ｂ，１９８４年，２９５頁）］が知られているが低収率でありより効率の良い製造法が求められている。
【０００７】
２−ヒドロキシピリジン環あるいは２（１Ｈ）−ピリドン環を合成する方法としては、２−ペンテノン酸メチルとビス（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）メトキシメタンを反応させた後にナトリウムメチラートおよびアンモニアにより処理することにより２−ヒドロキシ−５−メチルピリジンあるいは５−メチル−２（１Ｈ）−ピリドンを製造する方法（欧州特許５９２，８９６）、５−オキソヘキサン酸メチルをパラジウム存在下にアンモニアおよび水素と反応させることにより２−ヒドロキシピリジンあるいは２（１Ｈ）−ピリドン類を製造する方法（欧州特許１２３，３６２）、２，４−ペンタジエナミドをテトラクロロパラジウム（II）酸リチウムで処理することにより２−ヒドロキシピリジンあるいは２（１Ｈ）−ピリドン類を製造する方法（特開昭５１−１４３，６７２、および、ケミストリー アンド インダストリー，１９７５年，７４５頁）、および、２，４−ヘキサジエン酸にクロロ炭酸エチルおよびアジ化ナトリウムを作用させることにより得られる１，３−ペンタジエニルイソシアネートを加熱し２−ヒドロキシ−６−メチルピリジンあるいは６−メチル−２（１Ｈ）−ピリドンを製造するキミカ セラピューティカ（Ｃｈｉｍｉｃａ Ｔｈｅｒａｐｅｕｔｉｃａ，１９７０年，５巻，６号，４１６頁）記載の方法が挙げられるが、いずれも低収率であり実用に耐える製造法ではない。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、医薬および農薬の製造中間体として有用な２−ヒドロキシピリジン類あるいは２（１Ｈ）−ピリドン類の製造法を提供することを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、上記の目的を達成するために種々の検討を行った結果、２−ヒドロキシピリジン類および／または２（１Ｈ）−ピリドン類を、特定の方法で得られた２−アラルキルオキシピリジン類から高収率かつ簡便に製造しうることを見いだし、本発明を完成するに至った。
【００１０】
すなわち本発明は、下記の一般式（ＩＶ）
【化８】

（式中、Ｒ^２は、低級アルキル基、シクロアルキル基、置換されてもよいアリール基、または、置換されてもよいアラルキル基を表し、Ｘはメチル基または水素原子を表す。）
で示される２−スルホニルピリジンにアラルキルアルコールの塩を作用させることにより得られた、下記の一般式（Ｉ）
【００１１】
【化９】

【００１２】
（式中、Ｒ^１は置換されてもよいアラルキル基を表し、Ｘは前記定義のとおりである。）
で示される２−アラルキルオキシピリジン類を、接触水素化分解反応に用いられる触媒存在下、水素を添加して水素化分解反応に付すことを特徴とする、下記の一般式（ＩＩ）
【００１３】
【化１０】

【００１４】
（式中、Ｘは前記定義のとおりである。）
で示される２−ヒドロキシピリジン類および／または下記の一般式（ＩＩＩ）
【化１１】

（式中、Ｘは前記定義のとおりである。）
で示される２（１Ｈ）−ピリドン類の製造法に関する。好適には、一般式（ＩＶ）で示される２−スルホニルピリジンを、下記の一般式（Ｖ）
【化１２】

（式中、Ｒ ^２ は前記定義のとおりである。）
で示されるスルホニルシアニドと、下記の一般式（ＶＩ）
【化１３】

（式中、Ｒ ^３ はアシロキシ基、低級アルキルチオ基、アリールチオ基、または、トリ低級アルキルシロキシ基を表し、Ｘは前記定義のとおりである。）
で示されるジエンとの反応により製造することを特徴とする製造法である。
【００１５】
【発明の実施の形態】
【００１６】
上記一般式中、アラルキル基としては、ベンジル基、フェネチル基などが挙げられ、これらはメチル基、エチル基などの低級アルキル基、メトキシ基、プロポキシ基などの低級アルコキシ基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子などのハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基などにより適宜置換されてもよい。
【００１７】
本発明の２−ヒドロキシピリジン類および／またはその互変異性体である２（１Ｈ）−ピリドン類の製造法は下記のスキームで示される。
【００１８】
【化１４】

【００１９】
（式中、 Ｒ¹およびＸは上記と同じである。）
【００２０】
触媒としては接触水素化分解反応に用いられる触媒であればよいが、例えば、パラジウム−炭素、パラジウムブラック、パラジウム−硫酸バリウムなどのパラジウム触媒、酸化プラチナなどのプラチナ触媒、または、ラネーニッケルなどのニッケル触媒などの遷移金属触媒が挙げられる。
【００２１】
反応に際して、溶媒を用いることができる。溶媒としては反応に関与しないものであればいかなるものでも用いうるが、例えば、ヘキサン、オクタンなどの炭化水素、シクロヘキサン、シクロオクタンなど脂環式炭化水素、ジエチルエーテル、テトラヒドロフランなどのエーテル類、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素、メタノール、プロパノールなどの低級アルコール、または、酢酸メチル、酪酸エチルなどのエステルが挙げられる。
【００２２】
反応は、水素を連続的にもしくは逐次的に添加することにより行われる。通常、水素圧が常圧から２０気圧の範囲で行われ、好ましくは常圧から２気圧で行われる。
【００２３】
反応は、一般に、２０℃から１００℃で行われ、より好ましくは、２０℃から４０℃で行われる。
【００２４】
本発明の製造法において原料となる一般式（I）で表される２−アラルキルオキシピリジン類はジャーナル オブ ケミカル ソサイエティー パーキン トランスアクション II（Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｓｏｃｉｅｔｙ Ｐｅｒｋｉｎ Ｔｒａｎｓａｃｔｉｏｎ II，１９８８年，１０号，２７９１頁）記載の方法、あるいは下記の方法により製造することができる（参考例６、７参照）。
【００２５】
【化１５】

【００２６】
（式中、Ｒ²は、低級アルキル基、シクロアルキル基、置換されてもよいアリール基、または、置換されてもよいアラルキル基を表し、また、 Ｒ¹、Ｘは上記と同じである。）
【００２７】
上記一般式中、低級アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基などが挙げられ、シクロアルキル基としては、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロオクチル基などが挙げられる。また、アリール基としてはフェニル基、ナフチル基などが挙げられ、これらはメチル基、エチル基などの低級アルキル基、メトキシ基、プロポキシ基などの低級アルコキシ基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子などのハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基などにより適宜置換されてもよい。そして、アラルキル基としては、ベンジル基、フェネチル基などが挙げられる。
【００２８】
上記一般式（ＩＶ）で示される２−スルホニルピリジンにアラルキルアルコールの塩を作用させることにより上記一般式（Ｉ）で示される２−アラルキルオキシピリジン類を製造することができる。
【００２９】
アラルキルアルコールとしては、ベンジルアルコール、ｐ−メチルベンジルアルコール、ｐ−メトキシベンジルアルコール、ｐ−ニトロベンジルアルコール、ｏ−ニトロベンジルアルコール、および、ｐ−クロロベンジルアルコールなどが挙げられ、また、アラルキルアルコールの塩としては、アルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩、または、アンモニウム塩が挙げられるが、好ましくはアルカリ金属塩が用いられ、より好ましくはナトリウム塩が用いられる。
【００３０】
アルカリ金属塩としてはリチウム塩、ナトリウム塩、カリウム塩などが挙げられ、アルカリ土類金属塩としてはマグネシウム塩、カルシウム塩などが挙げられる。また、アンモニウム塩としては、アンモニウム塩、エチルアンモニウム塩などのアルキルアンモニウム塩、ジ−ｎ−ブチルアンモニウム塩などのジアルキルアンモニウム塩、トリメチルアンモニウム塩などのトリアルキルアンモニウム塩、テトラ−ｎ−ブチルアンモニウム塩などのテトラアルキルアンモニウム塩、ベンジルアンモニウム塩などのアラルキルアンモニウム塩、ジベンジルアンモニウム塩などのジアラルキルアンモニウム塩、ベンジルメチルアンモニウム塩などのアラルキルアルキルアンモニウム塩、ベンジルジメチルアンモニウム塩などのアラルキルジアルキルアンモニウム塩、そして、ベンジルトリメチルアンモニウム塩などのアラルキルトリアルキルアンモニウム塩が挙げられる。
【００３１】
反応に際して、溶媒を用いることもできる。溶媒としては反応に関与しないものであればいかなるものでも用いうるが、例えば、ヘキサン、オクタンなどの炭化水素、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタンなどのハロゲン化炭化水素、ジエチルエーテル、テトラヒドロフランなどのエーテル類、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素などが挙げられる。また、反応は、一般に、２０℃から１２０℃で行われ、より好ましくは、６０℃から８０℃で行われる。
【００３２】
出発物質である（IV）は、シンセシス（Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ，１９８９年，６２３頁）記載の方法、あるいは、下記の反応により製造することができる（参考例１〜５参照）。
【００３３】
【化１６】

【００３４】
（式中、Ｒ ^２ およびＸは前記定義のとおりであり、Ｒ^３はアシロキシ基、低級アルキルチオ基、アリールチオ基、または、トリ低級アルキルシロキシ基を表す。）
【００３５】
上記一般式中、アシロキシ基としてはアセトキシ基、プロパノイルオキシ基、ベンゾイルオキシ基などが挙げられ、低級アルキルチオ基としてはメチルチオ基、プロピルチオ基などが挙げられる。また、アリールチオ基としてはフェニルチオ基、２−ナフチルチオ基などが挙げられ、トリ低級アルキルシロキシ基としてはトリメチルシロキシ基、ｔ−ブチルジメチルシロキシ基などが挙げられる。
【００３６】
出発物質である化合物（V）は、対応するスルフィン酸ナトリウムよりオーガニック シンセシス（Ｏｒｇａｎｉｃ Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ，５７巻，８８頁，１９７７年）記載の方法で得ることができる。他方の出発物質である化合物（VI）は、例えば、インダストリアル アンド エンジニアリング ケミストリー（Ｉｎｄｕｓｔｒｉａｌ ａｎｄ Ｅｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，４１巻，１２号，２９２０頁，１９４９年）記載の方法で得ることができる。
【００３７】
上記一般式（V）で示されるスルホニルシアニドと上記一般式（VI）で示されるジエンとの反応は、ディールス−アルダー反応条件下に行うことができ、溶媒および重合禁止剤の存在下、あるいは、非存在下に一般に、２０℃から１２０℃で行われ、より好ましくは６０℃から１００℃で行われる。
【００３８】
重合禁止剤としては、４−メトキシフェノール、２，６−ジ−t−ブチル−４−メチルフェノールなどのフェノール類、ヒドロキノン、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルヒドロキノンなどのヒドロキノン類、１−ナフトール、２−ナフトールなどのナフトール類、そして、カテコール、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルカテコールなどのカテコール類などが挙げられる。重合禁止剤の添加量はジエンの重量の１０ｐｐｍから１，０００ｐｐｍであり、好ましくは１００ｐｐｍから５００ｐｐｍである。溶媒としては反応に関与しないものであればいかなるものでも用いうるが、例えば、ヘキサン、オクタンなどの炭化水素、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタンなどのハロゲン化炭化水素、ジエチルエーテル、テトラヒドロフランなどのエーテル類、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素が挙げられる。
【００３９】
本発明の製造法で得られる２−アラルキルオキシピリジン類は、触媒存在下の水素化分解反応により、２−ヒドロキシピリジン類および／または２（１Ｈ）−ピリドン類に簡便に変換される。
【００４０】
【発明の効果】
本発明の方法により、医薬、農薬の製造中間体である２−ヒドロキシピリジン類および／または２（１Ｈ）−ピリドン類を、２−アラルキルオキシピリジン類から高収率かつ安価に製造することができる。この方法の原料である２−アラルキルオキシピリジン類は、２−スルホニルピリジンにアラルキルアルコールのアルカリ金属塩を作用させることにより簡便に製造しうる。
【００４１】
【実施例】
以下、実施例および参考例により本発明を更に詳しく説明する。なお、本発明はこれらによって制限されるものではない。
【００４２】
参考例１
５−メチル−２−フェニルスルホニルピリジンの合成
【００４３】
【化１７】

【００４４】
室温下、４−メトキシフェノール（５．２ｍｇ，０．０４ｍｍｏｌ）を加えた１−アセトキシイソプレン（１７．３ｇ，１３７．１ｍｍｏｌ）にベンゼンスルホニルシアニド（１４．４ｇ，８５．７ｍｍｏｌ）を加え８０℃で１時間攪拌した。反応溶液に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え溶液をアルカリ性とし室温まで放冷した後、生じた固体を水（２００ｍｌ）で二度洗浄し、続いて、ジエチルエーテル（２００ｍｌ）で洗浄し、減圧下に溶媒を溜去することにより下記の物性値を有する５−メチル−２−フェニルスルホニルピリジンを白色固体（１９．０ｇ，収率９５．２％）として得た。
【００４５】
¹Ｈ ＮＭＲ（２００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃）δ ：２．４０（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ₃），７．５２−７．６０（ｍ，３Ｈ，Ａｒ−Ｈ），７．７０（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．８，８．６Ｈｚ，Ｈ−４），８．０３−８．０７（ｍ，２Ｈ，Ａｒ−Ｈ），８．０９（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．６Ｈｚ，Ｈ−３），８．４９（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．８Ｈｚ，Ｈ−６）
ＣＩＭＳ（ｍ／ｚ）：２３４（Ｍ⁺＋１），１６９（Ｍ⁺−ＳＯ₂）
融点：１１８℃〜１２０℃
【００４６】
参考例２
５−メチル−２−メチルスルホニルピリジンの合成
【００４７】
【化１８】

【００４８】
参考例１においてベンゼンスルホニルシアニドに代えメタンスルホニルシアニドを用いることにより下記の物性値を有する５−メチル−２−メチルスルホニルピリジンを白色固体（収率６９．３％）として得た。
【００４９】
¹Ｈ ＮＭＲ（２００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃）δ ：２．４７（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ₃）， ３．２１（ｓ，３Ｈ，−ＳＯ₂−ＣＨ₃），７．７５（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．９，８．０Ｈｚ，Ｈ−４），７．９９（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．０Ｈｚ，Ｈ−３），８．５６（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．９Ｈｚ，Ｈ−６）
融点：８５．５℃〜８６．５℃
【００５０】
参考例３
４−メチル−２−フェニルスルホニルピリジンの合成
【００５１】
【化１９】

【００５２】
参考例１において１−アセトキシイソプレンに代え１−アセトキシ−３−メチル−１，３−ブタジエンを用いることにより下記の物性値を有する４−メチル−２−フェニルスルホニルピリジンを白色固体（収率８５．０％）として得た。
【００５３】
¹Ｈ ＮＭＲ（２００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃）δ ：２．４７（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ₃），７．２５（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．６，４．８Ｈｚ，Ｈ−５），７．５３−７．６２（ｍ，３Ｈ，Ａｒ−Ｈ），８．０４−８．０８（ｍ，２Ｈ，Ａｒ−Ｈ），８．１０（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．６Ｈｚ，Ｈ−３），８．５２（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝４．８Ｈｚ，Ｈ−６）
融点：１２８℃〜１２９℃
【００５４】
参考例４
６−メチル−２−フェニルスルホニルピリジンの合成
【００５５】
【化２０】

【００５６】
参考例１において１−アセトキシイソプレンに代え４−アセトキシ−１，３−ペンタジエンを用いることにより下記の物性値を有する６−メチル−２−フェニルスルホニルピリジンを黄色半固体（収率２５．８％）として得た。
【００５７】
¹Ｈ ＮＭＲ（２００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃）δ ：２．７４（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ₃）， ７．３５（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝４．６，７．４Ｈｚ，Ｈ−４），７．５７（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．２，７．４Ｈｚ，Ｈ−３），７．６１−７．６４（ｍ，３Ｈ， Ａｒ−Ｈ），８．００−８．０４（ｍ，２Ｈ，Ａｒ−Ｈ），８．４０（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．２，４．６Ｈｚ，Ｈ−５）
ＩＲ（ＫＢｒ）ν_max / ｃｍ^-1：３０７５，１７６０，１４５５，１３１５（ＳＯ₂），１１６５（ＳＯ₂），７３０，６００
【００５８】
参考例５
２−フェニルスルホニルピリジンの合成
【００５９】
【化２１】

【００６０】
参考例１において１−アセトキシイソプレンに代え１−アセトキシ−１，３−ブタジエンを用いることにより下記の物性値を有する２−フェニルスルホニルピリジンを白色固体（収率８５．５％）として得た。
【００６１】
¹Ｈ ＮＭＲ（２００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃）δ ：７．４８（ｄｔ，１Ｈ，Ｊ＝１．８，７．７Ｈｚ，Ｈ−４），７．５４−７．６２（ｍ，３Ｈ， Ａｒ−Ｈ），７．６５（ｄｔ，１Ｈ，Ｊ＝１．６，７．７Ｈｚ，Ｈ−５），８．０５−８．１０（ｍ，２Ｈ，Ａｒ−Ｈ），８．２２（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．６，７．７Ｈｚ，Ｈ−３），８．６７（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．８，７．７Ｈｚ，Ｈ−６）
融点：９１．５℃〜９２．５℃
【００６２】
参考例６
２−ベンジルオキシピリジンの合成
【００６３】
【化２２】

【００６４】
室温下、２−フェニルスルホニルピリジン（５．０ｇ，２２．８ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（３００ｍｌ）溶液に、ナトリウム ベンジラートのベンジルアルコール溶液（１．５Ｍ，１６．７ｍｌ，２５．１ｍｍｏｌ）を加え、１時間加熱還流した。反応液を室温まで放冷後、析出したベンゼンスルフィン酸ナトリウムを濾過し、濾液を水、飽和食塩水で洗浄した後、減圧蒸留に付しベンジルアルコールを溜去することにより、残査として下記の物性値を有する２−ベンジルオキシピリジン（３．１ｇ，１６．８ｍｍｏｌ，収率７３．８％）を無色液体として得た。
【００６５】
¹Ｈ ＮＭＲ（２００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃）δ：５．３８（ｓ，２Ｈ，−ＣＨ₂−Ｐｈ），６．８１（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．８，７．７Ｈｚ，Ｈ−３），６．９２（ｄｔ，１Ｈ，Ｊ＝１．８，７．７Ｈｚ，Ｈ−５），７．３１−７．５０（ｍ，５Ｈ，Ａｒ−Ｈ），７．５９（ｄｔ，１Ｈ，Ｊ＝１．９，７．７Ｈｚ，Ｈ−４），８．１８（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．９，７．７Ｈｚ，Ｈ−６）
ＥＩＭＳ（ｍ／ｚ）：１８５（Ｍ⁺），９１（ＰｈＣＨ₂ ⁺），７９（Ｃ₅Ｈ₅Ｎ⁺）
ＩＲ（ＫＢｒ）ν_max / ｃｍ^-1：３０５０，１６１０，１５７０，１４８０，１４４０
【００６６】
参考例７
４−メチル−２−ベンジルオキシピリジンの合成
【００６７】
【化２３】

【００６８】
参考例６において２−フェニルスルホニルピリジンに代え４−メチル−２−フェニルスルホニルピリジンを用いることにより下記の物性値を有する４−メチル−２−ベンジルオキシピリジンを無色液体（収率９１．３％）として得た。
【００６９】
¹Ｈ ＮＭＲ（２００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃）δ：２．３０（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ₃），５．３６（ｓ，２Ｈ，−ＣＨ₂−Ｐｈ），６．６３（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝０．９Ｈｚ，Ｈ−３），６．７２（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝０．９，５．３Ｈｚ，Ｈ−５），７．３０−７．４８（ｍ，５Ｈ，Ａｒ−Ｈ），８．０３（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝５．３Ｈｚ，Ｈ−６）
ＥＩＭＳ（ｍ／ｚ）：１９９（Ｍ⁺），９１（Ｐｈ−ＣＨ₂ ⁺），７９（Ｃ₅Ｈ₅Ｎ⁺）
ＩＲ（ＫＢｒ）ν_max / ｃｍ^-1：３０７５，１７５０，１６２０，１５７０，１４６０，１４２５
【００７０】
実施例１
２（１Ｈ）−ピリドン（２−ヒドロキシピリジン）の合成
【００７１】
【化２４】

【００７２】
水素雰囲気下、２−ベンジルオキシピリジン（４．４ｇ，２３．８ｍｍｏｌ）のメタノール（５０ｍｌ）溶液にパラジウム−炭素（１０％ｗ／ｗ，４４０ｍｇ，１０ｗｔ％）を加え、常圧、２５℃において接触水素化分解反応を行った。反応器を窒素置換した後、触媒を濾別し、濾液を濃縮することにより下記の物性値を有する２（１Ｈ）−ピリドン（１．６４ｇ，１９．３ｍｍｏｌ，収率８１．１％）を白色固体として得た。
【００７３】
¹Ｈ ＮＭＲ（２００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃）δ：６．２９（ｄｔ，１Ｈ，Ｊ＝１．０，７．７Ｈｚ，Ｈ−５），６．５９（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．０，７．７Ｈｚ，Ｈ−３），７．３８（ｄｔ，１Ｈ，Ｊ＝２．１，７．７Ｈｚ，Ｈ−４），７．４８（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．１，７．７Ｈｚ，Ｈ−６），１３．０９（ｂｒ−ｓ，１Ｈ，−ＮＨ−ＣＯ）
ＥＩＭＳ（ｍ／ｚ）：９５（Ｍ⁺）
融点：１０３℃〜１０５℃
【００７４】
実施例２
４−メチル−２（１Ｈ）−ピリドン（２−ヒドロキシ−４−メチルピリジン）の合成
【００７５】
【化２５】

【００７６】
実施例１において２−ベンジルオキシピリジンに代え４−メチル−２−ベンジルオキシピリジンを用いることにより下記の物性値を有する４−メチル−２（１Ｈ）−ピリドンを白色固体（収率８９．８％）として得た。
【００７７】
¹Ｈ ＮＭＲ（２００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃）δ：２．２２（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ₃），６．１２（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．６，６．８Ｈｚ，Ｈ−５），６．３７（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．６Ｈｚ，Ｈ−３），７．２４（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ，Ｈ−６），１３．１０（ｂｒ−ｓ，１Ｈ，−ＮＨ−ＣＯ）
ＥＩＭＳ（ｍ／ｚ）：１０９（Ｍ⁺）
融点：１２７℃〜１３１℃

Claims (2)

1. 下記の一般式（ＩＶ）
   

   

   （式中、Ｒ^２は、低級アルキル基、シクロアルキル基、置換されてもよいアリール基、または、置換されてもよいアラルキル基を表し、Ｘはメチル基または水素原子を表す。）
   で示される２−スルホニルピリジンにアラルキルアルコールの塩を作用させることにより得られた、下記の一般式（Ｉ）
   

   

   （式中、Ｒ^１は置換されてもよいアラルキル基を表し、Ｘは前記定義のとおりである。）
   で示される２−アラルキルオキシピリジン類を、接触水素化分解反応に用いられる触媒存在下、水素を添加して水素化分解反応に付すことを特徴とする、下記の一般式（ＩＩ）
   

   

   （式中、Ｘは前記定義のとおりである。）
   で示される２−ヒドロキシピリジン類および／または下記の一般式（ＩＩＩ）
   

   

   （式中、Ｘは前記定義のとおりである。）
   で示される２（１Ｈ）−ピリドン類の製造法。
2. 下記の一般式（ＩＶ）
   

   

   （式中、Ｒ ^２ は、低級アルキル基、シクロアルキル基、置換されてもよいアリール基、または、置換されてもよいアラルキル基を表し、Ｘはメチル基または水素原子を表す。）
   で示される２−スルホニルピリジンを、下記の一般式（Ｖ）
   

   

   （式中、Ｒ ^２ は前記定義のとおりである。）
   で示されるスルホニルシアニドと、下記の一般式（ＶＩ）
   

   

   （式中、Ｒ ^３ はアシロキシ基、低級アルキルチオ基、アリールチオ基、または、トリ低級アルキルシロキシ基を表し、Ｘは前記定義のとおりである。）
   で示されるジエンとの反応により製造することを特徴とする請求項１に記載の製造法。