JP3906958B2 - 光ディスク装置及び光ディスク装置のフォーカス制御方法 - Google Patents
光ディスク装置及び光ディスク装置のフォーカス制御方法 Download PDFInfo
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、光ディスク装置及び光ディスク装置のフォーカス制御方法に関し、例えば近接場記録（ＮＦＲ：Near Field Reacording ）によりディスク原盤を露光する露光装置に適用することができる。本発明は、ディスク状記録媒体で反射した反射光と、対物レンズの出射面で反射した反射光とによる干渉光の光量検出結果に基づいて対物レンズを可動することにより、近接場記録において確実にフォーカス制御することができるようにする。
【０００２】
【従来の技術】
従来、露光装置においては、ディスク状記録媒体であるディスク原盤に近接場記録により所望のデータを高密度記録する露光装置が提案されており、このような露光装置では、対物レンズの出射面で全反射する記録用レーザービームの光量を基準にしてフォーカス制御する方法が提案されている。
【０００３】
すなわち近接場記録においては、対物レンズの出射面に記録用レーザービームを集光することにより、開口数１以上の対物レンズにより記録用レーザービームを集光して微細なビームスポットを作成する。さらに近接場記録においては、対物レンズをディスク原盤に極めて近接して配置し、近接場効果によって対物レンズの先端より漏れ出す記録用レーザービームによりディスク原盤を露光する。
【０００４】
このようにして対物レンズの出射面に集光される記録用レーザービームのうち、出射面に対して臨界角以上の角度により入射する成分にあっては、対物レンズとディスク原盤との間の距離が大きく近接場効果が発揮されない場合、全ての成分が全反射して光源側に戻ることになる。これに対してこの距離が小さくなって近接場効果が発揮されるようになると、光源側に戻る光量が徐々に減少する。これによりこの全反射の成分を基準にしたフォーカス制御においては、この臨界角以上の角度により入射して光源側に戻る光量が所定光量になるように、対物レンズを光軸に沿った方向に移動させてフォーカス制御するようになされている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
ところがこのような全反射の成分を基準にしたフォーカス制御においては、実用上未だ不十分な問題がある。
【０００６】
すなわち露光装置においては、露光の条件により記録用レーザービームの光量を変更する場合がある。この場合、このような全反射の成分を基準にしたフォーカス制御においては、フォーカス制御の制御目標である光源側に戻る光量も変化することにより、フォーカス制御の基準を設定し直す必要があり、その分操作が煩雑になる問題がある。
【０００７】
またこのような全反射の成分を基準にしたフォーカス制御においては、充分なＳＮ比により光源側に戻る光量を検出することが困難で、結局、安定にフォーカス制御できない問題もある。
【０００８】
さらに露光装置においては、記録用レーザービームをオンオフ制御してピット列の潜像を作成することにより、このような全反射の成分を基準にしたフォーカス制御においては、光源側に戻る光量検出結果がこのオンオフ制御により変調され、これによっても安定にフォーカス制御できない問題がある。なおこの場合、フィルタにより記録用レーザービームの変調成分を除去する方法も考えられるが、フォーカス制御の周波数帯域においては、この種の成分を完全に除去し得ない場合があり、この場合結局、このような成分がノイズ成分として残存することになる。
【０００９】
これらの問題を解決する１つの方法として、ディスク原盤を感光しない波長によるレーザービームを別途照射し、このレーザービームについて全反射する光量を検出する方法が考えられ、しかしながらこの方法の場合、光学系の色収差により、精度が劣化する欠点がある。また物理的に全反射する戻り光を検出することが困難な場合も考えられる。
【００１０】
本発明は以上の点を考慮してなされたもので、近接場記録において確実にフォーカス制御することができる光ディスク装置及び光ディスク装置のフォーカス制御方法を提案しようとするものである。
【００１１】
【課題を解決するための手段】
かかる課題を解決するため請求項１又は請求項６に係る発明においては、光ディスク装置又は光ディスク装置のフォーカス制御方法に適用して、ディスク状記録媒体で反射した反射光と対物レンズの出射面で反射した反射光との干渉光を受光し、この干渉光の光量検出結果に基づいて対物レンズを光軸に沿った方向に可動する。
【００１２】
請求項１又は請求項６の構成によれば、ディスク状記録媒体で反射した反射光と対物レンズの出射面で反射した反射光との干渉光を受光し、この干渉光の光量検出結果に基づいて対物レンズを光軸に沿った方向に可動することにより、この干渉光の生成元であるフォーカス用レーザービームの波長に対応する精度で、また安定に、ディスク状記録媒体と対物レンズの出射面との間隔の変化を検出してフォーカス制御することができ、その分高い精度によりフォーカス制御することができる。
【００１３】
【発明の実施の形態】
以下、適宜図面を参照しながら本発明の実施の形態を詳述する。
【００１４】
（１）実施の形態の構成
図１は、本発明の実施の形態に係る露光装置を示す略線図である。この露光装置１は、所定の駆動機構によりディスク原盤２を回転駆動した状態で、記録用レーザービームＬ１をこのディスク原盤２に照射して照射位置を順次ディスク原盤２の外周側に変位させることにより、このディスク原盤２にラセン状にトラックを形成し、このトラックにピット列による潜像を作成する。
【００１５】
すなわち露光装置１において、レーザー光源３は、Ｋｒレーザーであり、所定波長の記録用レーザービームＬ１を出射する。レンズ４は、この記録用レーザービームＬ１を収束光束に変換してＡＯＭ（Acousto Optic Modulator ）４に入射する。ＡＯＭ４は、信号発生器６より出力される変調信号Ｓ１によりこの記録用レーザービームＬ１をオンオフ変調して出射する。ここで信号発生器６は、ピット列に対応する変調信号Ｓ１を出射する。
【００１６】
続くレンズ７は、このＡＯＭ５の出射光を平行光線に変換して出射する。続くレンズ８Ａ及び８Ｂは、ビームエキスパンダ８を構成し、レンズ７の出射光についてビーム径を拡大して所定のビーム径により出射する。偏光ビームスプリッタ９は、このビームエキスパンダ８の出射光を反射すると共に、この反射光の光路を逆に辿って入射する記録用レーザービームＬ１の戻り光Ｌ１Ｒを透過し、これにより記録用レーザービームＬ１と戻り光Ｌ１Ｒとを分離する。
【００１７】
１／４波長板１０は、偏光ビームスプリッタ９より出射される記録用レーザービームＬ１に位相差を与えることによりこの記録用レーザービームＬ１を円偏向に変換して出射する。また１／４波長板１０は、偏光ビームスプリッタ９に入射する戻り光Ｌ１Ｒに同様に位相差を与えることにより、円偏向により入射する戻り光Ｌ１Ｒを記録用レーザービームＬ１と偏向面が直交する直線偏向により偏光ビームスプリッタ９に出射する。
【００１８】
ダイクロイックミラー１１は、この１／４波長板１０より出射される記録用レーザービームＬ１をディスク原盤２に向けて反射すると共に、このディスク原盤２側より到来する戻り光Ｌ１Ｒを１／４波長板１０に向けて出射する。またダイクロイックミラー１１は、この記録用レーザービームＬ１と波長が異なるフォーカス用レーザービームＬ２をディスク原盤２に向けて透過すると共に、このディスク原盤２側より到来するフォーカス用レーザービームＬ２による干渉光Ｌ２Ｒを透過して出射する。
【００１９】
対物レンズ１２は、いわゆる後玉レンズ１２Ａ及び先玉レンズ１２Ｂによる１組のレンズにより構成され、後玉レンズ１２Ａにより記録用レーザービームＬ１を収束光束に変換した後、先玉レンズ１２Ｂの後玉レンズ１２Ａ側レンズ面により先玉レンズ１２Ｂの出射面に集光する。これにより対物レンズ１２は、先玉レンズ１２ＢがＳＩＬ（Solid Immersion Lens）を構成し、全体として開口数が１以上に設定されて、近接場効果により記録用レーザービームＬ１をディスク原盤２に照射するようになされている。なおこの先玉レンズ１２Ｂは、ディスク原盤２側面の中央が円形形状に突出するように形成され、これによりディスク原盤２への衝突を防止するようになされている。
【００２０】
露光装置１では、この記録用レーザービームＬ１の照射によりディスク原盤２、対物レンズ１２の出射面より戻り光Ｌ１Ｒが得られ、この戻り光Ｌ１Ｒが記録用レーザービームＬ１の光路を逆に辿り、偏光ビームスプリッタ９を透過して記録用レーザービームＬ１から分離されることになる。
【００２１】
マスク１４は、この偏光ビームスプリッタ９より出射される戻り光Ｌ１Ｒの光路上に配置されて、戻り光Ｌ１Ｒのうちの近軸光線を遮光することにより、対物レンズ１２の出射面に対して臨界角以上の角度により入射した記録用レーザービームＬ１に対応する成分のみ選択的に透過する。かくするにつきマスク１４は、図２に示すように、透明平行平板の中央に、戻り光Ｌ１Ｒのビーム径に比して小径の遮光領域を作成して構成される。すなわち戻り光Ｌ１Ｒにおいて、対物レンズ１２の出射面に臨界角以下の入射角により入射した成分は、この対物レンズ１２の出射面とディスク原盤２とで反射され、これらの反射光が干渉することになる。これにより露光装置１では、このような干渉する反射光の成分についてはマスク１４で除去して戻り光Ｌ１Ｒを処理するようになされている。
【００２２】
レンズ１５は、このマスク１４を透過した戻り光Ｌ１Ｒを受光素子１６に集光し、受光素子１６は、戻り光Ｌ１Ｒの光量検出結果Ｓ１を出力する。かくするにつきマスク１４は、反射光の干渉によるこの光量検出結果Ｓ１の変動を防止することになる。
【００２３】
これにより露光装置１は、対物レンズ１２の出射面で全反射する記録用レーザービームＬ１の光量を検出できるようになされている。かくするにつきこのようにして検出される光量検出結果Ｓ１は、図３に示すように、対物レンズ１２がディスク原盤２より一定距離以上離間している場合には、一定の信号レベルに保持されるのに対し、対物レンズ１２がディスク原盤２に一定距離以上近づくと、対物レンズ１２の先端とディスク原盤２との間の間隔に対応するように信号レベルが変化することになる。
【００２４】
レーザー光源１８は、Ｈｅ−Ｎｅレーザーであり、記録用レーザービームＬ１とは異なる波長であり、またディスク原盤２を露光しない波長によるフォーカス用レーザービームＬ２を出射する。続くレンズ１９Ａ及び１９Ｂは、ビームエキスパンダ１９を構成し、このフォーカス用レーザービームＬ２のビーム径を縮小して小さなビーム径により出射する。偏光ビームスプリッタ２０は、このビームエキスパンダ１９の出射光を透過すると共に、この透過光の光路を逆に辿って入射するフォーカス用レーザービームＬ２による干渉光Ｌ２Ｒを反射し、これによりフォーカス用レーザービームＬ２と干渉光Ｌ２Ｒとを分離する。
【００２５】
１／４波長板２１は、偏光ビームスプリッタ２０より出射されるフォーカス用レーザービームＬ２に位相差を与えることによりこのフォーカス用レーザービームＬ２を円偏向に変換してダイクロイックミラー１１に出射する。またダイクロイックミラー１１より偏光ビームスプリッタ２０に入射する干渉光Ｌ２Ｒに同様に位相差を与えることにより、円偏向により入射する干渉光Ｌ２Ｒをフォーカス用レーザービームＬ２と偏向面が直交する直線偏向により偏光ビームスプリッタ２０に出射する。
【００２６】
これにより露光装置１では、記録用レーザービームＬ１と波長の異なる小さなビーム径によるフォーカス用レーザービームＬ２を、記録用レーザービームＬ１と共に対物レンズ１２に入射してディスク原盤２に照射するようになされている。露光装置１は、このフォーカス用レーザービームＬ１を対物レンズ１２の近軸光線により入射する。
【００２７】
これによりこのフォーカス用レーザービームＬ１は、対物レンズ１２の出射面と、ディスク原盤２の表面とでそれぞれ反射され、露光装置１においては、近接場記録に供する程度に対物レンズ１２とディスク原盤２とが近接して配置されることにより、これら反射光が干渉することになる。露光装置１では、これらの反射光による干渉光Ｌ２Ｒがフォーカス用レーザービームＬ２の光路を逆に辿って偏光ビームスプリッタ２０に入射し、この偏光ビームスプリッタ２０で反射されてフォーカス用レーザービームＬ２から分離される。
【００２８】
レンズ２４は、この偏光ビームスプリッタ２０で反射された干渉光Ｌ２Ｒを受光素子２５に集光し、受光素子２５は、光量検出結果Ｓ２を出力する。これらによりこの光量検出結果Ｓ２においては、図３に示すように、対物レンズ１２の先端とディスク原盤２との間の間隔がフォーカス用レーザービームＬ２の波長λの２分の１だけ変化する周期により正弦波状に信号レベルが変化することになる。
【００２９】
制御回路３０は、これら光量検出結果Ｓ１及びＳ２に基づいて、アクチュエータ３１を駆動することにより、対物レンズ１２をフォーカス制御する。
【００３０】
すなわち制御回路３０は、オペレータにより露光の開始が指示されると、何らディスク原盤２におけるピット列の記録とは無関係の、例えばディスク原盤２の内周側領域に対物レンズ１２を移動する。
【００３１】
さらに制御回路３０は、信号発生器６を駆動して記録用レーザービームＬ１をこの領域に連続的に照射する。この状態で制御回路３０は、アクチュエータ３１を駆動して対物レンズ１２をディスク原盤２に徐々に接近させ、全反射に係る光量検出結果Ｓ１を監視する。ここで制御回路３０は、光量検出結果Ｓ１の信号レベルが減少を開始して近接場効果を発揮できる程度に対物レンズ１２とディスク原盤２の接近が検出され、さらにこの全反射に係る光量検出結果Ｓ１によりほぼ制御目標まで対物レンズ１２がディスク原盤２に接近したと判断すると、干渉光Ｌ２Ｒの光量検出結果Ｓ２を基準にしたフィードバックループによりフォーカス制御を開始する。すなわち制御回路３０は、このフォーカス制御において、制御目標に対応する基準電圧ＲＥＦと干渉光の光量検出結果Ｓ２との誤差信号が０レベルになるようにアクチュエータ３１を駆動する。
【００３２】
制御回路３０は、このようにして干渉光Ｌ２Ｒの光量検出結果Ｓ２を基準にしたフォーカス制御を開始すると、信号発生器６の動作を制御して連続した記録用レーザービームＬ１の照射を停止した後、対物レンズ１２を露光開始位置に移動させる。さらに制御回路３０は、信号発生器６により記録用レーザービームＬ１の変調を開始し、この露光開始位置より順次ディスク原盤２の露光を開始する。
【００３３】
（２）実施の形態の動作
以上の構成において、この露光装置１においては（図１）、ディスク原盤２を載置してオペレータが露光の開始を指示すると、ディスク原盤２の回転駆動が開始され、制御回路３０の制御により対物レンズ１２がピット列の記録とは無関係の例えば内周側領域に移動する。
【００３４】
この状態で露光装置１は、レーザー光源３より記録用レーザービームＬ１の照射が開始され、この記録用レーザービームＬ１がビームエキスパンダ８により所定のビーム径に拡大された後、偏光ビームスプリッタ９、ダイクロイックミラー１１を介して対物レンズ１２に導かれ、この対物レンズ１２の先玉レンズ１２Ｂの先端である出射面に集光される。さらにこの出射面で反射された記録用レーザービーム、この先端よりディスク原盤２に出射しディスク原盤２より反射された記録用レーザービーム等が戻り光Ｌ１Ｒとして記録用レーザービームＬ１の光路を逆に辿って偏光ビームスプリッタ９を透過し、続くマスク１４により対物レンズ１２の出射面に臨界角以上の角度で入射した成分が選択的に透過され（図２）、受光素子１６によりその光量が検出される。
【００３５】
これにより露光装置１では、対物レンズ１２の出射面で全反射する成分について記録用レーザービームＬ１の戻り光Ｌ１Ｒの光量が検出され、この光量検出結果Ｓ１においては、近接場記録に供する距離程度に対物レンズ１２がディスク原盤２に接近すると、戻り光Ｌ１Ｒの光量の低下が観察されるようになる（図３）。
【００３６】
露光装置１では、この記録用レーザービームＬ１が連続してディスク原盤２に照射され、この戻り光Ｌ１Ｒの光量検出結果Ｓ１において信号レベルの低下が観察されるまで、すなわち近接場記録に供する程度にまで対物レンズ１２がディスク原盤２に接近するまで、アクチュエータ３１の駆動により対物レンズ１２が徐々にディスク原盤２に近づけられる。
【００３７】
さらにこの戻り光Ｌ１Ｒの光量検出結果Ｓ１の監視により、ほぼ制御目標の距離にまで対物レンズ１２がディスク原盤２に接近すると、フォーカス制御におけるサーボループがオン状態に切り換えられ、受光素子２５による光量検出結果Ｓ２が所定電圧ＲＥＦになるように対物レンズ１２がフォーカス制御される。
【００３８】
すなわち露光装置１では、記録用レーザービームＬ１とは波長の異なるフォーカス用レーザービームＬ２がレーザー光源１８より出射され、このフォーカス用レーザービームＬ２がビームエキスパンダ１９によりビーム径が絞られた後、偏光ビームスプリッタ２０、ダイクロイックミラー１１を介して対物レンズ１２に導かれる。このときフォーカス用レーザービームＬ１は、対物レンズ１２の光軸に対して近軸光線により対物レンズ１２に入射され、その結果対物レンズ１２の出射面と、ディスク原盤２の表面とで反射光が得られ、これらの反射光が干渉光Ｌ２Ｒとして受光素子２５で受光される。
【００３９】
この干渉光Ｌ２Ｒの光量検出結果Ｓ２においては、フォーカス用レーザービームＬ２の波長に対応する周期により、対物レンズ１２の出射面とディスク原盤２との間隔が変化すると信号レベルが正弦波状に変化し、高い精度によりこの間隔の変化を検出することができる。さらにこの光量検出結果Ｓ２においては、記録用レーザービームＬ１とは波長が異なることにより、記録用レーザービームＬ１のオンオフ変調に何ら影響を受けることなく間隔の変化を検出することができ、さらには高いＳＮ比によりこの間隔の変化を検出することができる。
【００４０】
しかしながらこの光量検出結果Ｓ２においては、フォーカス用レーザービームＬ２の波長周期で信号レベルが正弦波状に変化することにより、間隔の変化については精度良く検出できるものの、この間隔の絶対的値については正しく検出することが困難で、結局、単にこの光量検出結果Ｓ２を基準にしてフォーカス制御を開始したのでは、この間隔が近接場領域内であるとを何ら保証することが困難になる。
【００４１】
ところがこの実施の形態のように、全反射に係る光量検出結果Ｓ１が所定の信号レベル以下の範囲である近接場領域に間隔が保持された時点で、干渉光Ｌ２Ｒの光量検出結果Ｓ２を基準にしたフォーカス制御を開始すれば、確実に近接場領域内で、高い精度によりフォーカス制御することができる。
【００４２】
これにより露光装置１では、このようにして干渉光Ｌ２Ｒの光量検出結果Ｓ２を基準にしたフォーカス制御を開始すると、所定の露光開始位置より、信号発生器６によりＡＯＭ５を駆動して記録用レーザービームＬ１を照射することにより、ピット列の潜像をディスク原盤２に作成することができる。
【００４３】
このときフォーカス用レーザービームＬ２においては、記録用レーザービームＬ１と波長が異なることにより、記録用レーザービームＬ１のオンオフ変調によっては何ら光量が変化することなく、これにより露光装置１では安定にフォーカス制御することができる。また全反射する成分の光量検出結果Ｓ１で充分なＳＮ比が得られ無い場合でも、安定かつ確実にフォーカス制御することができる。さらに対物レンズ１２おける色収差についても、何ら影響を受けることなく、安定にフォーカス制御することができる。
【００４４】
さらにビーム径の小さな近軸光線によりフォーカス用レーザービームＬ２が対物レンズ１２に入射されて干渉光Ｌ２Ｒが生成されることにより、干渉光Ｌ２Ｒにおいては、マスク１４により遮光して得られる戻り光Ｌ１Ｒとは逆に、その殆どがディスク原盤２と対物レンズ１２との間隔を反映した可干渉成分とすることができ、その分光量検出結果Ｓ２において、高いＳＮ比、高い検出感度によりディスク原盤２と対物レンズ１２との間隔の変化を検出することができる。また必要に応じてフォーカス用レーザービームＬ１の光量を増大できることにより、この光量の増大によってもＳＮ比を向上して検出精度を向上することができる。
【００４５】
（３）実施の形態の効果
以上の構成によれば、ディスク原盤で反射した反射光と、対物レンズの出射面で反射した反射光との干渉光の光量検出結果に基づいて対物レンズを可動してフォーカス制御することにより、近接場記録において確実にフォーカス制御することができる。
【００４６】
またこのとき対物レンズの近軸光線によりフォーカス用レーザービームを対物レンズに入射することにより、干渉光の光量検出結果において、充分なＳＮ比、検出感度を確保することができる。
【００４７】
また全反射による戻り光の光量が所定光量となる範囲で、干渉光の光量検出結果に基づいて対物レンズを光軸に沿った方向に可動してフォーカス制御することにより、ディスク原盤２と対物レンズ１２との間隔を確実に近接場領域に設定してフォーカス制御することができる。
【００４８】
すなわち対物レンズ１２とディスク原盤２との間隔を徐々に低減して、全反射による戻り光の光量が所定光量以下となると、干渉光の光量検出結果に基づいたフォーカス制御に動作を切り換えて、確実に近接場領域においてフォーカス制御することができる。
【００４９】
またこのフォーカス用レーザービームを記録用レーザービームと異なる波長により別途ディスク原盤に照射することにより、記録用レーザービームをオンオフ変調してピット列の潜像を作成する場合でも、確実にフォーカス制御することができる。
【００５０】
（４）他の実施の形態
なお上述の実施の形態においては、露光装置によりピット列の潜像を作成する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、グルーブによる潜像を作成する場合、さらにはピット列とグルーブとの組み合わせに係る潜像を作成する場合等に広く適用することができる。
【００５１】
また上述の実施の形態においては、フォーカス用のレーザービームを別途照射する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、実用上充分な特性を得ることができる場合、記録用レーザービームをフォーカス用レーザービームとして使用するようにしてもよい。なおこの場合、例えばマスク１４に代えて、局所的にミラー面を形成した平行平板を配置して、記録用レーザービームの戻り光より近軸光線成分と全反射成分とを分離し、この近軸光線成分の光量検出結果を干渉光の光量検出結果とすることができる。またこのように構成する場合には、記録用レーザービームのオンオフ制御による影響を回避するために、光量検出結果をサンプリングする方法も考えられる。このようにすれば光学系の構成を簡略化できることにより、近接場効果により所望のデータを光ディスクに記録する場合に適用して全体構成を簡略化することができる。
【００５２】
また上述の実施の形態においては、本発明を露光装置に適用する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、ディスク状記録媒体に近接場効果により所望のデータを記録する種々の光ディスク装置に広く適用することができる。
【００５３】
【発明の効果】
上述のように本発明によれば、ディスク状記録媒体で反射した反射光と、対物レンズの出射面で反射した反射光とによる干渉光の光量検出結果に基づいて対物レンズを可動することにより、近接場記録において確実にフォーカス制御することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施の形態に係る露光装置を示す略線図である。
【図２】図１の露光装置のマスクを示す平面図である。
【図３】図１の露光装置における光量検出結果を示す特性曲線図である。
【符号の説明】
１……露光装置、２……ディスク原盤、３、１８……レーザー光源、６……信号発生器、８、１９……ビームエキスパンダ、１２……対物レンズ、１６、２５……受光素子、３０……制御回路、３１……アクチュエータ
【発明の属する技術分野】
本発明は、光ディスク装置及び光ディスク装置のフォーカス制御方法に関し、例えば近接場記録（ＮＦＲ：Near Field Reacording ）によりディスク原盤を露光する露光装置に適用することができる。本発明は、ディスク状記録媒体で反射した反射光と、対物レンズの出射面で反射した反射光とによる干渉光の光量検出結果に基づいて対物レンズを可動することにより、近接場記録において確実にフォーカス制御することができるようにする。
【０００２】
【従来の技術】
従来、露光装置においては、ディスク状記録媒体であるディスク原盤に近接場記録により所望のデータを高密度記録する露光装置が提案されており、このような露光装置では、対物レンズの出射面で全反射する記録用レーザービームの光量を基準にしてフォーカス制御する方法が提案されている。
【０００３】
すなわち近接場記録においては、対物レンズの出射面に記録用レーザービームを集光することにより、開口数１以上の対物レンズにより記録用レーザービームを集光して微細なビームスポットを作成する。さらに近接場記録においては、対物レンズをディスク原盤に極めて近接して配置し、近接場効果によって対物レンズの先端より漏れ出す記録用レーザービームによりディスク原盤を露光する。
【０００４】
このようにして対物レンズの出射面に集光される記録用レーザービームのうち、出射面に対して臨界角以上の角度により入射する成分にあっては、対物レンズとディスク原盤との間の距離が大きく近接場効果が発揮されない場合、全ての成分が全反射して光源側に戻ることになる。これに対してこの距離が小さくなって近接場効果が発揮されるようになると、光源側に戻る光量が徐々に減少する。これによりこの全反射の成分を基準にしたフォーカス制御においては、この臨界角以上の角度により入射して光源側に戻る光量が所定光量になるように、対物レンズを光軸に沿った方向に移動させてフォーカス制御するようになされている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
ところがこのような全反射の成分を基準にしたフォーカス制御においては、実用上未だ不十分な問題がある。
【０００６】
すなわち露光装置においては、露光の条件により記録用レーザービームの光量を変更する場合がある。この場合、このような全反射の成分を基準にしたフォーカス制御においては、フォーカス制御の制御目標である光源側に戻る光量も変化することにより、フォーカス制御の基準を設定し直す必要があり、その分操作が煩雑になる問題がある。
【０００７】
またこのような全反射の成分を基準にしたフォーカス制御においては、充分なＳＮ比により光源側に戻る光量を検出することが困難で、結局、安定にフォーカス制御できない問題もある。
【０００８】
さらに露光装置においては、記録用レーザービームをオンオフ制御してピット列の潜像を作成することにより、このような全反射の成分を基準にしたフォーカス制御においては、光源側に戻る光量検出結果がこのオンオフ制御により変調され、これによっても安定にフォーカス制御できない問題がある。なおこの場合、フィルタにより記録用レーザービームの変調成分を除去する方法も考えられるが、フォーカス制御の周波数帯域においては、この種の成分を完全に除去し得ない場合があり、この場合結局、このような成分がノイズ成分として残存することになる。
【０００９】
これらの問題を解決する１つの方法として、ディスク原盤を感光しない波長によるレーザービームを別途照射し、このレーザービームについて全反射する光量を検出する方法が考えられ、しかしながらこの方法の場合、光学系の色収差により、精度が劣化する欠点がある。また物理的に全反射する戻り光を検出することが困難な場合も考えられる。
【００１０】
本発明は以上の点を考慮してなされたもので、近接場記録において確実にフォーカス制御することができる光ディスク装置及び光ディスク装置のフォーカス制御方法を提案しようとするものである。
【００１１】
【課題を解決するための手段】
かかる課題を解決するため請求項１又は請求項６に係る発明においては、光ディスク装置又は光ディスク装置のフォーカス制御方法に適用して、ディスク状記録媒体で反射した反射光と対物レンズの出射面で反射した反射光との干渉光を受光し、この干渉光の光量検出結果に基づいて対物レンズを光軸に沿った方向に可動する。
【００１２】
請求項１又は請求項６の構成によれば、ディスク状記録媒体で反射した反射光と対物レンズの出射面で反射した反射光との干渉光を受光し、この干渉光の光量検出結果に基づいて対物レンズを光軸に沿った方向に可動することにより、この干渉光の生成元であるフォーカス用レーザービームの波長に対応する精度で、また安定に、ディスク状記録媒体と対物レンズの出射面との間隔の変化を検出してフォーカス制御することができ、その分高い精度によりフォーカス制御することができる。
【００１３】
【発明の実施の形態】
以下、適宜図面を参照しながら本発明の実施の形態を詳述する。
【００１４】
（１）実施の形態の構成
図１は、本発明の実施の形態に係る露光装置を示す略線図である。この露光装置１は、所定の駆動機構によりディスク原盤２を回転駆動した状態で、記録用レーザービームＬ１をこのディスク原盤２に照射して照射位置を順次ディスク原盤２の外周側に変位させることにより、このディスク原盤２にラセン状にトラックを形成し、このトラックにピット列による潜像を作成する。
【００１５】
すなわち露光装置１において、レーザー光源３は、Ｋｒレーザーであり、所定波長の記録用レーザービームＬ１を出射する。レンズ４は、この記録用レーザービームＬ１を収束光束に変換してＡＯＭ（Acousto Optic Modulator ）４に入射する。ＡＯＭ４は、信号発生器６より出力される変調信号Ｓ１によりこの記録用レーザービームＬ１をオンオフ変調して出射する。ここで信号発生器６は、ピット列に対応する変調信号Ｓ１を出射する。
【００１６】
続くレンズ７は、このＡＯＭ５の出射光を平行光線に変換して出射する。続くレンズ８Ａ及び８Ｂは、ビームエキスパンダ８を構成し、レンズ７の出射光についてビーム径を拡大して所定のビーム径により出射する。偏光ビームスプリッタ９は、このビームエキスパンダ８の出射光を反射すると共に、この反射光の光路を逆に辿って入射する記録用レーザービームＬ１の戻り光Ｌ１Ｒを透過し、これにより記録用レーザービームＬ１と戻り光Ｌ１Ｒとを分離する。
【００１７】
１／４波長板１０は、偏光ビームスプリッタ９より出射される記録用レーザービームＬ１に位相差を与えることによりこの記録用レーザービームＬ１を円偏向に変換して出射する。また１／４波長板１０は、偏光ビームスプリッタ９に入射する戻り光Ｌ１Ｒに同様に位相差を与えることにより、円偏向により入射する戻り光Ｌ１Ｒを記録用レーザービームＬ１と偏向面が直交する直線偏向により偏光ビームスプリッタ９に出射する。
【００１８】
ダイクロイックミラー１１は、この１／４波長板１０より出射される記録用レーザービームＬ１をディスク原盤２に向けて反射すると共に、このディスク原盤２側より到来する戻り光Ｌ１Ｒを１／４波長板１０に向けて出射する。またダイクロイックミラー１１は、この記録用レーザービームＬ１と波長が異なるフォーカス用レーザービームＬ２をディスク原盤２に向けて透過すると共に、このディスク原盤２側より到来するフォーカス用レーザービームＬ２による干渉光Ｌ２Ｒを透過して出射する。
【００１９】
対物レンズ１２は、いわゆる後玉レンズ１２Ａ及び先玉レンズ１２Ｂによる１組のレンズにより構成され、後玉レンズ１２Ａにより記録用レーザービームＬ１を収束光束に変換した後、先玉レンズ１２Ｂの後玉レンズ１２Ａ側レンズ面により先玉レンズ１２Ｂの出射面に集光する。これにより対物レンズ１２は、先玉レンズ１２ＢがＳＩＬ（Solid Immersion Lens）を構成し、全体として開口数が１以上に設定されて、近接場効果により記録用レーザービームＬ１をディスク原盤２に照射するようになされている。なおこの先玉レンズ１２Ｂは、ディスク原盤２側面の中央が円形形状に突出するように形成され、これによりディスク原盤２への衝突を防止するようになされている。
【００２０】
露光装置１では、この記録用レーザービームＬ１の照射によりディスク原盤２、対物レンズ１２の出射面より戻り光Ｌ１Ｒが得られ、この戻り光Ｌ１Ｒが記録用レーザービームＬ１の光路を逆に辿り、偏光ビームスプリッタ９を透過して記録用レーザービームＬ１から分離されることになる。
【００２１】
マスク１４は、この偏光ビームスプリッタ９より出射される戻り光Ｌ１Ｒの光路上に配置されて、戻り光Ｌ１Ｒのうちの近軸光線を遮光することにより、対物レンズ１２の出射面に対して臨界角以上の角度により入射した記録用レーザービームＬ１に対応する成分のみ選択的に透過する。かくするにつきマスク１４は、図２に示すように、透明平行平板の中央に、戻り光Ｌ１Ｒのビーム径に比して小径の遮光領域を作成して構成される。すなわち戻り光Ｌ１Ｒにおいて、対物レンズ１２の出射面に臨界角以下の入射角により入射した成分は、この対物レンズ１２の出射面とディスク原盤２とで反射され、これらの反射光が干渉することになる。これにより露光装置１では、このような干渉する反射光の成分についてはマスク１４で除去して戻り光Ｌ１Ｒを処理するようになされている。
【００２２】
レンズ１５は、このマスク１４を透過した戻り光Ｌ１Ｒを受光素子１６に集光し、受光素子１６は、戻り光Ｌ１Ｒの光量検出結果Ｓ１を出力する。かくするにつきマスク１４は、反射光の干渉によるこの光量検出結果Ｓ１の変動を防止することになる。
【００２３】
これにより露光装置１は、対物レンズ１２の出射面で全反射する記録用レーザービームＬ１の光量を検出できるようになされている。かくするにつきこのようにして検出される光量検出結果Ｓ１は、図３に示すように、対物レンズ１２がディスク原盤２より一定距離以上離間している場合には、一定の信号レベルに保持されるのに対し、対物レンズ１２がディスク原盤２に一定距離以上近づくと、対物レンズ１２の先端とディスク原盤２との間の間隔に対応するように信号レベルが変化することになる。
【００２４】
レーザー光源１８は、Ｈｅ−Ｎｅレーザーであり、記録用レーザービームＬ１とは異なる波長であり、またディスク原盤２を露光しない波長によるフォーカス用レーザービームＬ２を出射する。続くレンズ１９Ａ及び１９Ｂは、ビームエキスパンダ１９を構成し、このフォーカス用レーザービームＬ２のビーム径を縮小して小さなビーム径により出射する。偏光ビームスプリッタ２０は、このビームエキスパンダ１９の出射光を透過すると共に、この透過光の光路を逆に辿って入射するフォーカス用レーザービームＬ２による干渉光Ｌ２Ｒを反射し、これによりフォーカス用レーザービームＬ２と干渉光Ｌ２Ｒとを分離する。
【００２５】
１／４波長板２１は、偏光ビームスプリッタ２０より出射されるフォーカス用レーザービームＬ２に位相差を与えることによりこのフォーカス用レーザービームＬ２を円偏向に変換してダイクロイックミラー１１に出射する。またダイクロイックミラー１１より偏光ビームスプリッタ２０に入射する干渉光Ｌ２Ｒに同様に位相差を与えることにより、円偏向により入射する干渉光Ｌ２Ｒをフォーカス用レーザービームＬ２と偏向面が直交する直線偏向により偏光ビームスプリッタ２０に出射する。
【００２６】
これにより露光装置１では、記録用レーザービームＬ１と波長の異なる小さなビーム径によるフォーカス用レーザービームＬ２を、記録用レーザービームＬ１と共に対物レンズ１２に入射してディスク原盤２に照射するようになされている。露光装置１は、このフォーカス用レーザービームＬ１を対物レンズ１２の近軸光線により入射する。
【００２７】
これによりこのフォーカス用レーザービームＬ１は、対物レンズ１２の出射面と、ディスク原盤２の表面とでそれぞれ反射され、露光装置１においては、近接場記録に供する程度に対物レンズ１２とディスク原盤２とが近接して配置されることにより、これら反射光が干渉することになる。露光装置１では、これらの反射光による干渉光Ｌ２Ｒがフォーカス用レーザービームＬ２の光路を逆に辿って偏光ビームスプリッタ２０に入射し、この偏光ビームスプリッタ２０で反射されてフォーカス用レーザービームＬ２から分離される。
【００２８】
レンズ２４は、この偏光ビームスプリッタ２０で反射された干渉光Ｌ２Ｒを受光素子２５に集光し、受光素子２５は、光量検出結果Ｓ２を出力する。これらによりこの光量検出結果Ｓ２においては、図３に示すように、対物レンズ１２の先端とディスク原盤２との間の間隔がフォーカス用レーザービームＬ２の波長λの２分の１だけ変化する周期により正弦波状に信号レベルが変化することになる。
【００２９】
制御回路３０は、これら光量検出結果Ｓ１及びＳ２に基づいて、アクチュエータ３１を駆動することにより、対物レンズ１２をフォーカス制御する。
【００３０】
すなわち制御回路３０は、オペレータにより露光の開始が指示されると、何らディスク原盤２におけるピット列の記録とは無関係の、例えばディスク原盤２の内周側領域に対物レンズ１２を移動する。
【００３１】
さらに制御回路３０は、信号発生器６を駆動して記録用レーザービームＬ１をこの領域に連続的に照射する。この状態で制御回路３０は、アクチュエータ３１を駆動して対物レンズ１２をディスク原盤２に徐々に接近させ、全反射に係る光量検出結果Ｓ１を監視する。ここで制御回路３０は、光量検出結果Ｓ１の信号レベルが減少を開始して近接場効果を発揮できる程度に対物レンズ１２とディスク原盤２の接近が検出され、さらにこの全反射に係る光量検出結果Ｓ１によりほぼ制御目標まで対物レンズ１２がディスク原盤２に接近したと判断すると、干渉光Ｌ２Ｒの光量検出結果Ｓ２を基準にしたフィードバックループによりフォーカス制御を開始する。すなわち制御回路３０は、このフォーカス制御において、制御目標に対応する基準電圧ＲＥＦと干渉光の光量検出結果Ｓ２との誤差信号が０レベルになるようにアクチュエータ３１を駆動する。
【００３２】
制御回路３０は、このようにして干渉光Ｌ２Ｒの光量検出結果Ｓ２を基準にしたフォーカス制御を開始すると、信号発生器６の動作を制御して連続した記録用レーザービームＬ１の照射を停止した後、対物レンズ１２を露光開始位置に移動させる。さらに制御回路３０は、信号発生器６により記録用レーザービームＬ１の変調を開始し、この露光開始位置より順次ディスク原盤２の露光を開始する。
【００３３】
（２）実施の形態の動作
以上の構成において、この露光装置１においては（図１）、ディスク原盤２を載置してオペレータが露光の開始を指示すると、ディスク原盤２の回転駆動が開始され、制御回路３０の制御により対物レンズ１２がピット列の記録とは無関係の例えば内周側領域に移動する。
【００３４】
この状態で露光装置１は、レーザー光源３より記録用レーザービームＬ１の照射が開始され、この記録用レーザービームＬ１がビームエキスパンダ８により所定のビーム径に拡大された後、偏光ビームスプリッタ９、ダイクロイックミラー１１を介して対物レンズ１２に導かれ、この対物レンズ１２の先玉レンズ１２Ｂの先端である出射面に集光される。さらにこの出射面で反射された記録用レーザービーム、この先端よりディスク原盤２に出射しディスク原盤２より反射された記録用レーザービーム等が戻り光Ｌ１Ｒとして記録用レーザービームＬ１の光路を逆に辿って偏光ビームスプリッタ９を透過し、続くマスク１４により対物レンズ１２の出射面に臨界角以上の角度で入射した成分が選択的に透過され（図２）、受光素子１６によりその光量が検出される。
【００３５】
これにより露光装置１では、対物レンズ１２の出射面で全反射する成分について記録用レーザービームＬ１の戻り光Ｌ１Ｒの光量が検出され、この光量検出結果Ｓ１においては、近接場記録に供する距離程度に対物レンズ１２がディスク原盤２に接近すると、戻り光Ｌ１Ｒの光量の低下が観察されるようになる（図３）。
【００３６】
露光装置１では、この記録用レーザービームＬ１が連続してディスク原盤２に照射され、この戻り光Ｌ１Ｒの光量検出結果Ｓ１において信号レベルの低下が観察されるまで、すなわち近接場記録に供する程度にまで対物レンズ１２がディスク原盤２に接近するまで、アクチュエータ３１の駆動により対物レンズ１２が徐々にディスク原盤２に近づけられる。
【００３７】
さらにこの戻り光Ｌ１Ｒの光量検出結果Ｓ１の監視により、ほぼ制御目標の距離にまで対物レンズ１２がディスク原盤２に接近すると、フォーカス制御におけるサーボループがオン状態に切り換えられ、受光素子２５による光量検出結果Ｓ２が所定電圧ＲＥＦになるように対物レンズ１２がフォーカス制御される。
【００３８】
すなわち露光装置１では、記録用レーザービームＬ１とは波長の異なるフォーカス用レーザービームＬ２がレーザー光源１８より出射され、このフォーカス用レーザービームＬ２がビームエキスパンダ１９によりビーム径が絞られた後、偏光ビームスプリッタ２０、ダイクロイックミラー１１を介して対物レンズ１２に導かれる。このときフォーカス用レーザービームＬ１は、対物レンズ１２の光軸に対して近軸光線により対物レンズ１２に入射され、その結果対物レンズ１２の出射面と、ディスク原盤２の表面とで反射光が得られ、これらの反射光が干渉光Ｌ２Ｒとして受光素子２５で受光される。
【００３９】
この干渉光Ｌ２Ｒの光量検出結果Ｓ２においては、フォーカス用レーザービームＬ２の波長に対応する周期により、対物レンズ１２の出射面とディスク原盤２との間隔が変化すると信号レベルが正弦波状に変化し、高い精度によりこの間隔の変化を検出することができる。さらにこの光量検出結果Ｓ２においては、記録用レーザービームＬ１とは波長が異なることにより、記録用レーザービームＬ１のオンオフ変調に何ら影響を受けることなく間隔の変化を検出することができ、さらには高いＳＮ比によりこの間隔の変化を検出することができる。
【００４０】
しかしながらこの光量検出結果Ｓ２においては、フォーカス用レーザービームＬ２の波長周期で信号レベルが正弦波状に変化することにより、間隔の変化については精度良く検出できるものの、この間隔の絶対的値については正しく検出することが困難で、結局、単にこの光量検出結果Ｓ２を基準にしてフォーカス制御を開始したのでは、この間隔が近接場領域内であるとを何ら保証することが困難になる。
【００４１】
ところがこの実施の形態のように、全反射に係る光量検出結果Ｓ１が所定の信号レベル以下の範囲である近接場領域に間隔が保持された時点で、干渉光Ｌ２Ｒの光量検出結果Ｓ２を基準にしたフォーカス制御を開始すれば、確実に近接場領域内で、高い精度によりフォーカス制御することができる。
【００４２】
これにより露光装置１では、このようにして干渉光Ｌ２Ｒの光量検出結果Ｓ２を基準にしたフォーカス制御を開始すると、所定の露光開始位置より、信号発生器６によりＡＯＭ５を駆動して記録用レーザービームＬ１を照射することにより、ピット列の潜像をディスク原盤２に作成することができる。
【００４３】
このときフォーカス用レーザービームＬ２においては、記録用レーザービームＬ１と波長が異なることにより、記録用レーザービームＬ１のオンオフ変調によっては何ら光量が変化することなく、これにより露光装置１では安定にフォーカス制御することができる。また全反射する成分の光量検出結果Ｓ１で充分なＳＮ比が得られ無い場合でも、安定かつ確実にフォーカス制御することができる。さらに対物レンズ１２おける色収差についても、何ら影響を受けることなく、安定にフォーカス制御することができる。
【００４４】
さらにビーム径の小さな近軸光線によりフォーカス用レーザービームＬ２が対物レンズ１２に入射されて干渉光Ｌ２Ｒが生成されることにより、干渉光Ｌ２Ｒにおいては、マスク１４により遮光して得られる戻り光Ｌ１Ｒとは逆に、その殆どがディスク原盤２と対物レンズ１２との間隔を反映した可干渉成分とすることができ、その分光量検出結果Ｓ２において、高いＳＮ比、高い検出感度によりディスク原盤２と対物レンズ１２との間隔の変化を検出することができる。また必要に応じてフォーカス用レーザービームＬ１の光量を増大できることにより、この光量の増大によってもＳＮ比を向上して検出精度を向上することができる。
【００４５】
（３）実施の形態の効果
以上の構成によれば、ディスク原盤で反射した反射光と、対物レンズの出射面で反射した反射光との干渉光の光量検出結果に基づいて対物レンズを可動してフォーカス制御することにより、近接場記録において確実にフォーカス制御することができる。
【００４６】
またこのとき対物レンズの近軸光線によりフォーカス用レーザービームを対物レンズに入射することにより、干渉光の光量検出結果において、充分なＳＮ比、検出感度を確保することができる。
【００４７】
また全反射による戻り光の光量が所定光量となる範囲で、干渉光の光量検出結果に基づいて対物レンズを光軸に沿った方向に可動してフォーカス制御することにより、ディスク原盤２と対物レンズ１２との間隔を確実に近接場領域に設定してフォーカス制御することができる。
【００４８】
すなわち対物レンズ１２とディスク原盤２との間隔を徐々に低減して、全反射による戻り光の光量が所定光量以下となると、干渉光の光量検出結果に基づいたフォーカス制御に動作を切り換えて、確実に近接場領域においてフォーカス制御することができる。
【００４９】
またこのフォーカス用レーザービームを記録用レーザービームと異なる波長により別途ディスク原盤に照射することにより、記録用レーザービームをオンオフ変調してピット列の潜像を作成する場合でも、確実にフォーカス制御することができる。
【００５０】
（４）他の実施の形態
なお上述の実施の形態においては、露光装置によりピット列の潜像を作成する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、グルーブによる潜像を作成する場合、さらにはピット列とグルーブとの組み合わせに係る潜像を作成する場合等に広く適用することができる。
【００５１】
また上述の実施の形態においては、フォーカス用のレーザービームを別途照射する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、実用上充分な特性を得ることができる場合、記録用レーザービームをフォーカス用レーザービームとして使用するようにしてもよい。なおこの場合、例えばマスク１４に代えて、局所的にミラー面を形成した平行平板を配置して、記録用レーザービームの戻り光より近軸光線成分と全反射成分とを分離し、この近軸光線成分の光量検出結果を干渉光の光量検出結果とすることができる。またこのように構成する場合には、記録用レーザービームのオンオフ制御による影響を回避するために、光量検出結果をサンプリングする方法も考えられる。このようにすれば光学系の構成を簡略化できることにより、近接場効果により所望のデータを光ディスクに記録する場合に適用して全体構成を簡略化することができる。
【００５２】
また上述の実施の形態においては、本発明を露光装置に適用する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、ディスク状記録媒体に近接場効果により所望のデータを記録する種々の光ディスク装置に広く適用することができる。
【００５３】
【発明の効果】
上述のように本発明によれば、ディスク状記録媒体で反射した反射光と、対物レンズの出射面で反射した反射光とによる干渉光の光量検出結果に基づいて対物レンズを可動することにより、近接場記録において確実にフォーカス制御することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施の形態に係る露光装置を示す略線図である。
【図２】図１の露光装置のマスクを示す平面図である。
【図３】図１の露光装置における光量検出結果を示す特性曲線図である。
【符号の説明】
１……露光装置、２……ディスク原盤、３、１８……レーザー光源、６……信号発生器、８、１９……ビームエキスパンダ、１２……対物レンズ、１６、２５……受光素子、３０……制御回路、３１……アクチュエータ
Claims (9)
- ディスク状記録媒体に近接して保持した対物レンズを用いた近接場記録により所望のデータを前記ディスク状記録媒体に記録する光ディスク装置において、
前記ディスク状記録媒体の表面と前記対物レンズの出射面との間隔を所定間隔に保持するフォーカス制御機構を有し、
前記フォーカス制御機構は、
所定波長のフォーカス用レーザービームを出射する光源と、
前記フォーカス用レーザービームを前記対物レンズに導き、前記対物レンズを介して前記フォーカス用レーザービームを前記ディスク状記録媒体に照射する照射光学系と、
前記ディスク状記録媒体で反射した反射光と前記対物レンズの出射面で反射した反射光との干渉光を受光して光量検出結果を出力する受光光学系と、
前記干渉光の光量検出結果に基づいて前記対物レンズを光軸に沿った方向に可動する可動手段とを有する
ことを特徴とする光ディスク装置。 - 前記照射光学系は、
前記対物レンズの近軸光線により前記フォーカス用レーザービームを前記対物レンズに入射する
ことを特徴とする請求項１に記載の光ディスク装置。 - 前記ディスク状記録媒体に向かって前記対物レンズの出射面に臨界角以上の角度により入射するレーザービームの成分について、前記対物レンズより得られる戻り光の光量検出結果を出力する戻り光検出手段を有し、
前記可動手段は、
前記戻り光の光量検出結果により、前記戻り光の光量が所定光量となる範囲で、前記干渉光の光量検出結果に基づいて前記対物レンズを光軸に沿った方向に可動する
ことを特徴とする請求項１に記載の光ディスク装置。 - 前記可動手段は、
前記間隔を徐々に低減して、前記戻り光の光量が所定光量以下となると、前記干渉光の光量検出結果に基づいた前記対物レンズの可動を開始する
ことを特徴とする請求項３に記載の光ディスク装置。 - 前記戻り光検出手段が検出する戻り光に対応するレーザービームが、
前記ディスク状記録媒体に所望のデータを記録するレーザービームである
ことを特徴とする請求項３に記載の光ディスク装置。 - ディスク状記録媒体に近接して保持した対物レンズを用いた近接場記録により所望のデータを前記ディスク状記録媒体に記録する光ディスク装置のフォーカス制御方法において、
前記対物レンズを介して所定波長のフォーカス用レーザービームを前記ディスク状記録媒体に照射し、
前記ディスク状記録媒体で反射した反射光と前記対物レンズの出射面で反射した反射光との干渉光を受光して光量検出結果を得、
前記干渉光の光量検出結果に基づいて前記対物レンズを光軸に沿った方向に可動する
ことを特徴とする光ディスク装置のフォーカス制御方法。 - 前記対物レンズの近軸光線により前記フォーカス用レーザービームを前記対物レンズに入射する
ことを特徴とする請求項６に記載の光ディスク装置のフォーカス制御方法。 - 前記ディスク状記録媒体に向かって前記対物レンズの出射面に臨界角以上の角度により入射するレーザービームの成分について、前記対物レンズより得られる戻り光の光量検出結果を得、
前記戻り光の光量検出結果により、前記戻り光の光量が所定光量となる範囲で、前記干渉光の光量検出結果に基づいて前記対物レンズを光軸に沿った方向に可動する
ことを特徴とする請求項６に記載の光ディスク装置のフォーカス制御方法。 - 前記間隔を徐々に低減して、前記戻り光の光量が所定光量以下となると、前記干渉光の光量検出結果に基づいた前記対物レンズの可動を開始する
ことを特徴とする請求項８に記載の光ディスク装置のフォーカス制御方法。
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