CN1183522C - 光盘装置和光盘装置中的聚焦控制方法 - Google Patents

光盘装置和光盘装置中的聚焦控制方法 Download PDF

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Abstract

本发明用来在例如通过近场记录(NFR)进行原盘曝光的曝光装置中进行近场记录时可靠进行聚焦控制。物镜根据盘形记录媒体反射的光和物镜出射面反射的光之间的干涉产生的干涉光束的光量检测结果而移动。

Description

光盘装置和光盘装置中的聚焦控制方法
技术领域
本发明涉及一种光盘装置和光盘装置中的聚焦控制方法。例如，本发明可以应用于一种通过近场(near-field)记录(NFR)对原始光盘进行曝光的曝光装置。本发明还可以根据盘形记录媒体反射的光与物镜出射面(exit surface)反射的光之间的干涉所产生的干涉光束的光量检测结果，移动物镜，从而在近场记录中可靠地进行聚焦控制。
背景技术
在传统技术中，曝光装置采用近场记录，在盘形记录媒体的原始盘上，高密度地记录所要求的数据。对于这样的曝光装置，所采用的聚焦控制方法是将物镜出射面全反射的一部分记录激光束的光量作为基准，进行聚焦控制。
在近场记录中，记录激光束是在物镜的出射面上会聚的，该物镜的数值孔径大于或等于1，从而物镜对记录激光束的会聚会形成很小的光束点。另外，在近场记录中，物镜的位置靠近原始盘，而原始盘暴露在一部分由于近场效应而从物镜的边缘端漏泄的记录激光束下。
当物镜和原始盘之间的距离较大并且没有发生近场效应时，会聚在物镜出射面上记录激光束分量以大于临界角的角度照射在出射面上，由出射面通过全反射而完全反射，并回到光源侧。回到光源侧的光量随着距离的减小以及近场的相应增强而逐渐减小。在采用将全反射分量作为基准的聚焦控制中，物镜沿光轴移动，从而以大于临界角的角度投射到物镜出射面上并因此返回光源一侧的光量变成一个规定值。
然而，由于各种问题，采用这样一种全反射分量作为基准的聚焦控制至今没有在实际中应用。
在曝光装置中，会出现这样的情况，即，根据曝光条件，改变记录激光束的光量。在这样的情况下，在采用全反射分量作为基准进行聚焦控制时，回到聚焦控制主体的光源一侧的光量也是变化的。所以，必须重新设置聚焦控制的基准，这需要进行烦琐的操作。
采用全反射分量作为基准的聚焦控制的另一个问题是，回到光源侧的光量不能以充分大的SN比加以检测，这妨碍了聚焦控制的稳定进行。
在曝光装置中，凹点潜象是通过记录激光束的通/断控制形成的。采用全反射分量作为基准进行聚焦控制的另一个问题是，回到光源一侧的光量的检测结果是被通/断控制所调制，这也妨碍了聚焦控制的稳定进行。采用滤色镜(filter)，通过消除与记录激光束调制相应的分量，可以解决这一问题。然而，在聚焦控制频带中，会出现这样的情况，这种分量是不可能完全被消除，这时，这种分量作为噪声分量而保留了下来。
解决上述问题的一种方法是，产生一条独立的激光束，这条激光束的波长不在原始盘的灵敏范围以内，并检测该激光束的全反射分量的光量。然而，这一方法有这样一个问题，即，由于光学系统的色差而使精度降低。另外，会出现这样的情况，即，在物理上很难检测全反射返回光。
发明内容
本发明就是考虑到现有技术中的这些情况。因此，本发明的目的是提供一种光盘装置和光盘装置中的控制方法，使得可以在近场记录中可靠地进行聚焦控制。
为了实现上述目的，本发明提供了一种通过近场记录将数据记录在盘形记录媒体上的光盘装置。所述光盘装置包括：
第一光源，用于发射一记录激光束；
第一照射光学系统，用来将所述记录激光束引导到一物镜上；
物镜，用于会聚所述记录激光束，并将将所述记录激光束施加到所述盘形记录媒体上；和
聚焦控制机构，它包括：
第二光源，用于发射具有一聚焦激光束；
第二照射光学系统，用来将所述聚焦激光束引导到所述物镜上，所述物镜将所述聚焦激光束施加到所述盘形记录媒体上；
第一光检测装置，用来检测所述记录激光束之返回光束的一个分量的光量，所述返回光束的所述分量对应于所述记录激光束中以大于临界角的角度投射到所述物镜出射面上从而被所述物镜出射面全反射的那部分光，并且输出第一光量检测结果；
第二光检测装置，用来检测因所述盘形记录媒体反射的聚焦激光束与所述物镜出射面反射的聚焦激光束之间发生干涉而产生的干涉光束的光量，并输出第二光量检测结果；和
控制装置，用于根据所述返回光束的第一光量检测结果，沿物镜光轴移动所述物镜，直至第一光量检测结果处于包含一预定光量的一个范围内，并且当所述返回光束的第一光量检测结果处于包含所述预定光量的所述范围内时，根据所述干涉光束的第二光量检测结果，沿物镜光轴移动所述物镜，致使所述盘形记录媒体表面与所述物镜出射面之间的间距保持一预定值。
依照本发明的另一方面，提供了一种在光盘装置中使用的聚焦控制方法，所述光盘装置利用靠近盘形记录媒体的物镜，通过近场记录将所需数据记录在所述盘形记录媒体上。所述方法包含以下步骤：
通过所述物镜，将一记录激光束施加到所述盘形记录媒体上；
通过所述物镜，将一聚焦激光束施加到所述盘形记录媒体上；
检测所述记录激光束之返回光束的一个分量的光量，所述返回光束的所述分量对应于所述记录激光束中以大于临界角的角度投射到所述物镜出射面上从而被所述物镜出射面全反射的那部分光，并且获得第一光量检测结果；
检测因所述盘形记录媒体反射的聚焦激光束与所述物镜出射面反射的聚焦激光束之间发生干涉而产生的干涉光束的光量，并获得第二光量检测结果；
根据所述返回光束的第一光量检测结果，沿物镜光轴移动所述物镜，直至第一光量检测结果处于包含一预定光量的一个范围内；以及
当所述返回光束的第一光量检测结果处于包含所述预定光量的所述范围内时，根据所述干涉光束的第二光量检测结果，沿物镜光轴移动所述物镜，致使所述盘形记录媒体表面与所述物镜出射面之间的间距保持一预定值。
本发明的光盘装置以及光盘装置中的聚焦控制方法检测盘形记录媒体反射的光和物镜出射面反射的光之间的干涉所产生的干涉光束，根据干涉光束的光量检测结果，使物镜沿其光轴移动。
在上述光盘装置和聚焦控制方法中，检测盘形记录媒体反射的光与物镜出射面反射的光之间的干涉所产生的干涉光束，并根据干涉光束的光量检测结果，使物镜沿其光轴移动。所以，通过检测盘形记录媒体和物镜出射面之间的间隔变化，可以进行聚焦控制，并且检测精度稳定，它所具有的精度相应于产生干涉光束的聚焦激光束的波长。可以在这样高的精度下进行聚焦控制。
附图说明
图1是按照本发明的曝光装置的示意图；
图2是图1所示曝光装置中所采用的屏蔽物的平面图；以及
图3是图1所示曝光装置中光量检测结果的特性曲线图。
具体实施方式
下面参照附图详细描述本发明的实施例。
1.本实施例的结构
图1是按照本发明实施例的曝光装置的示意图。该曝光装置1以螺纹形式在原始盘2上形成磁道，并且通过将记录激光束L1施加到原始盘2上，同时通过预定的驱动机构使原始盘2旋转，逐渐使光束施加位置向外移动，而在磁道上形成坑点列潜象。
在曝光装置1中，激光光源3是Kr激光，它发射出具有预定波长的记录激光束L1。透镜将记录激光束L1转换成会聚光束，并且该会聚光束被输入到AOM(声光调制器)5内。AOM5用从信号发生器6输出的调制信号S1对记录激光束L1进行通/断调制，并输出经调制的光束。信号发生器6产生与要形成的坑点列对应的调制信号S1。
透镜7将AOM5的输出光束转换成平行光束，并输出之。透镜8A和8B构成光束扩展器8，对透镜7的输出光束进行扩展，从而形成具有预定的、更大直径的光束。偏振分光镜9反射光束扩展器8的输出光束，并且透射记录激光束L1的返回光束L1R，返回光束L1R是沿相反方向经过被反射的记录激光束的光程以后进入偏振分光镜9的，从而将记录激光束L1和返回光束L1R相互分开。
四分之一波片10通过使从偏振分光镜9输出的记录激光束L1具有相位差而转换成圆偏振光，并输出圆偏振光束。接着四分之一波片10把将要进入偏振分光镜9的圆偏振返回光束L1R转换成线性偏振光，通过采用类似的方法使返回光束L1R具有相位差，而使该线性偏振光的偏振面垂直于原始记录激光束L1的偏振面，并将产生的线性偏振光输出到偏振分光镜9。
分光镜11将从四分之一波片10输出的记录激光束L1反射到原始盘2，并将来自原始盘2的返回光束L1R反射到四分之一波片10。接着，分光镜11将波长与记录激光束L1不同的聚焦激光束L2透射到原始盘2，并透射和输出从聚焦激光束L2产生的以及来自原始盘2的干涉光束L2R。
物镜系统12由一对透镜组成，称为后透镜12A和前透镜12B。半球形端面后透镜12A将记录激光束L1转换成会聚光束，该光束由半球形端面前透镜12B的后侧透镜表面会聚在半球形端面前透镜12B的出射面上。这样，物镜系统12的半球形端面前透镜12B用作SIL(固体浸没透镜)，将整个物镜系统12的数值孔径设置成大于或等于1，并且通过近场效应，物镜系统12将记录激光束L1投射到原始盘2上。以这样一种方式形成半球形端面前透镜12B，使得其靠近原始盘侧的表面的中央部分向前突出成柱形，从而防止透镜前缘在前透镜和原始盘之间倾斜时与原始盘2碰撞。
在曝光装置1，当记录激光束L1投射到原始盘2上时，返回光束L1R是从原始盘和物镜系统12的出射面产生的。返回光束L1R沿相反方向在记录激光束L1的光程上行进，并通过偏振分光镜9，从而与记录激光束L1分开。
挡板(mask)14位于从偏振分光镜9输出的返回光束L1R的光程上。挡板14挡住返回光束L1R的近轴光线，从而有选择地透射相应于记录激光束L1中以大于临界角的角度投射到物镜系统12之出射面上的那部分光的分量。为此，如图2所示，挡板14是以这样的方式构成的，即，在透明平行片上形成比返回光束L1R直径更小的光屏蔽区，从而占据其中心位置。即，在返回光束L1R中，记录激光束L1中以小于临界角的角度投射在物镜系统12之出射面上的那部分光被物镜系统12的出射面和原始盘2反射，并且所得到的反射光束相互干涉。曝光装置1中，由挡板14抵消返回光束L1R中与这种相互干涉的反射光束对应的光分量。返回光束L1R就是以这种方式来处理的。
透镜15将透过挡板14的一部分返回光束L1R会聚在光检测器16上。光检测器16输出返回光束L1R的光量检测结果S1。挡板14用来防止会由反射光束之间的干涉所引起的光量检测结果S1的波动。
采用上述结构，曝光装置1可以检测由物镜系统12的出射面通过全反射而反射的一部分记录激光束L1的光量。如图3所示，当物镜系统12与原始盘2隔开距离超过一定的距离时，将以这种方式得到的光量检测结果S1保持在恒定的信号水平上。在物镜系统12和原始盘2之间的距离比一定的距离短时，信号电平随物镜系统12顶端与原始盘2之间的间隔的减小而下降。
激光光源18是He-Ne激光器，它发射聚焦激光束L2，该激光束的波长与记录激光束L1的波长不同，在原始盘2的灵敏范围以外。透镜19A和19B构成光束扩展器19，将聚焦激光束L2转换成具有更小直径的光束。偏振分光镜20透射光束扩展器19的输出光束，并且反射聚焦激光束L2的干涉光束L2R，该光束在沿相反方向经过透射光束的光程以后进入偏振分光镜20，从而将聚焦激光束L2和干涉光束L2R相互分开。
四分之一波片21通过使聚焦激光束L2产生相位差，而将从偏振分光镜20输出的聚焦激光束L2转换成圆偏振光，并输出至分光镜11。而且，四分之一波片21将来自分光镜11而投射到偏振分光镜20的圆偏振干涉光束L2R转换成线性偏振光，而该线性偏振器的偏振面是通过使干涉光束L2R产生相位差而与原始聚焦激光束L2的偏振面垂直的。四分之一波片21还将得到的线性偏振光输出到偏振分光镜20。
在上述曝光装置1中，波长与记录激光束L1不同的小直径聚焦激光束L2被输入到物镜系统12，并与记录激光束L1一起投射到原盘2上。在曝光装置1中，聚焦激光束L2被输入到物镜系统12，作为近轴光线。
聚焦激光束L2由物镜系统12的出射面和原盘2的表面反射。产生的反射光束相互干涉，这是因为在曝光装置1中，物镜系统12和原盘2相互靠得太近，从而适合于进行近场记录。在曝光装置1中，从这些反射光束产生的干涉光束L2R沿相反方向经过聚焦激光束L2的光程，并投射到偏振分光镜20上。由偏振分光镜20所反射，干涉光束L2R与聚焦激光束L2被分开。
透镜24将由偏振分光镜20反射的干涉光束L2R会聚到光检测器25上，光检测器25输出光量检测结果S2。如图3所示，在光量检测结果S2中，在物镜系统12顶端与原盘2之间的间隔中，信号电平以正弦方式变化，其周期是聚焦激光束12波长的一半。
控制电路30根据光量检测结果S1和S2由致动器31对物镜系统12进行聚焦控制。
具体地说，当受操作员的指令开始曝光时，控制电路30使物镜系统12移动到与原盘2的区域相对的一个位置上，而该位置是与坑点列的记录不相干的，例如原盘2的内部区域中。
于是，控制电路30驱动信号发生器6，将记录激光束L1连续地投射到上述区域内。在这种状态下，控制电路30驱动致动器31，使物镜系统12逐渐接近原盘2，并监视与全反射相关的光量检测结果S1。如果控制电路30根据与全反射相关的光量检测结果判断信号电平开始下降，并由此判定物镜系统12与原盘2已接近到出现近场效应的程度，以及物镜系统12与原盘2已接近使得所述间隔等于控制目标的程度，那么控制电路30开始用反馈环路进行聚焦控制。而在该反馈环路中，干涉光束L2R的光量检测结果S2是用作基准的。聚焦控制时，控制电路30驱动致动器31，使得相应于控制目标的参考电压REF和干涉光束L2R的光量检测结果S2之间的误差信号变为零。
以上述方式采用干涉光束L2R的光量检测结果S2作为基准开始进行聚焦控制以后，控制电路30通过控制信号发生器6的运行停止了记录激光束的连续施加，并将物镜系统12移动到曝光起始位置上。随后，控制电路30使信号发生器6开始调制记录激光束L1，从而开始从曝光开始位置起进行原盘2的曝光。
2.实施例的运行
在具有上述结构的曝光装置1中(见图1)，当操作者放置了原盘2并且指令开始进行曝光的时候，就开始了对原盘的旋转驱动，并且在控制电路30的控制下，物镜系统12移动到这样一个位置上，该位置与原盘2的一个区域相对，它和记录坑点列的记录不相干，例如在原盘2的内侧区域内。
在这样一个状态下，曝光装置1中，记录激光束1开始从激光光源3发射出去。记录激光束L1由光束扩展器8扩束成具有一定直径的光束，通过偏振光分光镜9和分光镜11，引入物镜系统12，并在物镜系统12的出射面即半球形端面前透镜12B的顶端上会聚。由出射面反射的一部分记录激光束L1、离开出射面并由原盘2反射的一部分记录激光束L1以及其他的光束构成返回光束L1R，它们沿相反的方向经过记录激光束L1的光程，并透过偏振光分光镜9。返回光束L1R中与以大于临界角的角度投射在物镜系统12之出射面上的光相应的分量有选择地透过挡板14(见图2)，并由光检测器16检测其光量。
通过这样的方式，在曝光装置1中，检测与投射在物镜系统12的出射面上的一部分记录激光束L1相应的返回光束L1R的分量的光量。当物镜系统12与原盘2靠近到这样的程度以致其间隔适合于进行近场记录的时候，在光量检测结果S1中可以观察到返回光束L1R的光量的下降(见图3)。
在曝光装置1中，由于记录激光束L1是连续投射到受致动器31驱动的原盘2上的，所以，物镜系统12逐渐与原盘2靠近，直到在返回光束L1R的光量检测结果S1中出现信号电平的下降为止，即，直到物镜系统12与原盘2靠近到这样的程度以致间隔适合于近场记录为止。
接着，当通过返回光束L1R的光量检测结果S1的监视发现物镜系统12与原盘2靠近到这样的程度使得间隔近似等于控制目标时，聚焦控制伺服环路接通，并且物镜系统12受到聚焦控制，使光检测器25的光量检测结果S2变成预定的电压REF。
具体说来，在曝光装置1中，波长与记录激光束L1不同的聚焦激光束L2是从激光光源18发射出去的。聚焦激光束L2的直径由光束扩展器19而减小，并通过偏振光分光镜20和分光镜11而引入物镜系统12。这时，聚焦激光束L2输入到物镜系统12内，它相对于物镜系统12的光轴来说是近轴光线。结果，从物镜系统12的出射面和原盘2的表面得到反射光，并且该反射光由光检测器25接收，作为干涉光束L2R。
对于干涉激光束L2R的光量检测结果S2，信号电平以正弦波方式随物镜系统12的出射面与原盘2之间的间隔而变化。因此，可以使间隔变化的检测具有较高的精确度。另外，对于光量检测结果S2，由于聚焦激光束L2的波长与记录激光束L1的波长是不同的，所以，间隔变化的检测可以不受记录激光束L1的通/断调制的影响，并且因此使检测具有较大的SN(信噪)比。
然而，尽管由于信号电平的变化是以正弦波的方式而变化的并且其变化的周期等于聚焦激光束L2的波长的二分之一从而光量检测结果S2使得可以对间隔变化进行精确的检测，但即使检测结果是S2，也很难准确地检测间隔的绝对值。结果是，如果仅采用光量检测结果S2作为基准来进行聚焦控制时，很难保证该间隔值是在近场范围内。
相反，在与全反射相关的光量检测结果S1的信号电平低于预定值时间隔已经落在近场范围内以后，如果采用干涉光束L2R的光量检测结果S2作为基准来进行聚焦控制，由于可以可靠地保证该间隔是在近场范围内的，则聚焦控制可以具有较高的精度。
在曝光装置1中，在以上述方式用干涉光束L2R的光量检测结果S2作为基准进行聚焦控制以后，通过将记录激光束L1投射到原盘2上同时用信号发生器6驱动AOM5，从预定的曝光起始位置起，可以在原盘2上形成坑点列的潜象。
由于聚焦激光束L2的波长与记录激光束L1的波长是不同的，记录激光束L1的通/断调制不会改变聚焦激光束L2的光量。所以，曝光装置1可以以稳定的方式进行聚焦控制。即使在全反射分量的光量检测结果S1不能提供充分大的SN比的时候，也可以稳定、可靠地进行聚焦控制。另外，聚焦控制可以稳定地进行，而不受物镜系统12的色差的影响。
另外，由于干涉光束L2R是以这样的方式产生的，即，聚焦激光束L2进入物镜系统12作为近轴光线而直径较小，所以大多数干涉光束L2R用作反映原盘2和物镜系统12之间的间隔的相干分量，这与挡板14挡住返回光束L1R的情况相反。所以，光量检测结果S2使得原盘2与物镜12之间间隔的变化的检测可以具有高得多的SN比和检测灵敏度。必要时，可以增大聚焦激光束L1的光量。这使得可以增大SN比和检测精度。
3.该实施例的优点
采用上述结构，根据干涉光束的光量检测结果，可以通过移动物镜系统12进行聚焦控制，而干涉光束是由原盘反射的光和物镜系统12的出射面反射的光之间的相干性产生的，从而可以在近场记录中可靠地进行聚焦控制。
还可以通过将聚焦激光束输入到物镜系统12中作为相对于物镜系统12的光轴来说是近轴光线，可以确保在干涉光束的光量检测结果中具有充分高的SN比和检测灵敏度。
通过在全反射产生的返回光束的光量处于包括预定光量的范围内的状态下，根据干涉光束的光量检测结果沿物镜系统12的光轴使物镜系统12移动，可以通过将原盘2和物镜系统12之间的间隔可靠设置在近场范围内，来进行聚焦控制。
即，当全反射所产生的返回光束的光量在物镜系统12和原盘2之间的间隔逐渐下降以后变得小于预定的光量值时，操作转变成根据干涉光束的光量检测结果来进行聚焦控制。这使得可以可靠地在近场范围内进行聚焦控制。
通过将与记录激光束分开并且波长与之不同的聚焦激光束施加到原盘上，即使当通过对记录激光束进行通/断调制形成坑点列潜象时，也可以可靠地进行聚焦控制。
4.其他实施例
尽管上述实施例针对的是通过曝光装置形成坑点列潜象的情况，但本发明并非仅限于这种情况，而是可以广泛地应用于其他各种情况，包括形成凹槽潜象的情况以及形成坑点列和凹槽的组合的潜象的情况。
尽管上述实施例针对的是采用与记录激光束分开的聚焦激光束的情况，但本发明并非仅限于这种情况。只要实际应用中可以得到充分的特征，记录激光束也可以用作聚焦激光束。这时，例如可以采用这样的结构，即可以不采用挡板14，而采用局部为镜面的平行板，用来将记录激光束的返回光束分成近轴分量和全反射分量，并且将近轴分量的光量检测结果用作干涉光束的光量检测结果。在这种结构中，为了避免对记录激光束通/断控制的影响，可以对光量检测结果进行取样。由于这简化了光学系统的结构，当将本发明应用于采用近场效应在光盘上记录需要的数据时，可以简化整个结构。
尽管本实施例是针对将本发明应用于曝光装置的情况，但本发明并非仅限于这种情况，本发明可以广泛地应用于采用近场效应在盘形记录媒体上记录需要的数据的各种光盘装置。
如上所述，按照本发明，根据盘形记录媒体反射的光和物镜系统的出射面反射的光之间的相干性所产生的干涉光束的光量检测结果来移动物镜系统，可以在近场记录中可靠地进行聚焦控制。

Claims (8)

1.一种通过近场记录将数据记录在盘形记录媒体上的光盘装置，其特征在于，所述光盘装置包括：
第一光源，用于发射一记录激光束；
第一照射光学系统，用来将所述记录激光束引导到一物镜上；
物镜，用于会聚所述记录激光束，并将将所述记录激光束施加到所述盘形记录媒体上；和
聚焦控制机构，它包括：
第二光源，用于发射具有一聚焦激光束；
第二照射光学系统，用来将所述聚焦激光束引导到所述物镜上，所述物镜将所述聚焦激光束施加到所述盘形记录媒体上；
第一光检测装置，用来检测所述记录激光束之返回光束的一个分量的光量，所述返回光束的所述分量对应于所述记录激光束中以大于临界角的角度投射到所述物镜出射面上从而被所述物镜出射面全反射的那部分光，并且输出第一光量检测结果；
第二光检测装置，用来检测因所述盘形记录媒体反射的聚焦激光束与所述物镜出射面反射的聚焦激光束之间发生干涉而产生的干涉光束的光量，并输出第二光量检测结果；和
控制装置，用于根据所述返回光束的第一光量检测结果，沿物镜光轴移动所述物镜，直至第一光量检测结果处于包含一预定光量的一个范围内，并且当所述返回光束的第一光量检测结果处于包含所述预定光量的所述范围内时，根据所述干涉光束的第二光量检测结果，沿物镜光轴移动所述物镜，致使所述盘形记录媒体表面与所述物镜出射面之间的间距保持一预定值。
2.如权利要求1所述的光盘装置，其特征在于，所述第一光源还用作所述第二光源，所述记录激光束还用作所述聚焦激光束，所述第一照射光学系统还用作所述第二照射光学系统。
3.如权利要求1或2所述的光盘装置，其特征在于，所述第二照射光学系统被构造成用于将所述聚焦激光束输入到所述物镜，作为相对于所述物镜之光轴的近轴光线。
4.如权利要求1或2所述的光盘装置，其特征在于，所述控制装置被构造成用于根据所述返回光束的第一光量检测结果，移动所述物镜，直至第一光量检测结果小于所述预定光量，并且当所述返回光束的第一光量检测结果小于所述预定光量时，根据所述干涉光束的第二光量检测结果，移动所述物镜。
5.一种在光盘装置中使用的聚焦控制方法，所述光盘装置利用靠近盘形记录媒体的物镜，通过近场记录将所需数据记录在所述盘形记录媒体上，其特征在于，所述方法包含以下步骤：
通过所述物镜，将一记录激光束施加到所述盘形记录媒体上；
通过所述物镜，将一聚焦激光束施加到所述盘形记录媒体上；
检测所述记录激光束之返回光束的一个分量的光量，所述返回光束的所述分量对应于所述记录激光束中以大于临界角的角度投射到所述物镜出射面上从而被所述物镜出射面全反射的那部分光，并且获得第一光量检测结果；
检测因所述盘形记录媒体反射的聚焦激光束与所述物镜出射面反射的聚焦激光束之间发生干涉而产生的干涉光束的光量，并获得第二光量检测结果；
根据所述返回光束的第一光量检测结果，沿物镜光轴移动所述物镜，直至第一光量检测结果处于包含一预定光量的一个范围内；以及
当所述返回光束的第一光量检测结果处于包含所述预定光量的所述范围内时，根据所述干涉光束的第二光量检测结果，沿物镜光轴移动所述物镜，致使所述盘形记录媒体表面与所述物镜出射面之间的间距保持一预定值。
6.如权利要求5所述的聚焦控制方法，其特征在于，所述记录激光束还作为所述聚焦激光束被施加到所述盘形记录媒体上。
7.如权利要求5或6所述的聚焦控制方法，其特征在于，用于施加所述聚焦激光束的步骤包括下述步骤，即将所述聚焦激光束施加到所述物镜上，作为相对于所述物镜之光轴的近轴光线。
8.如权利要求5或6所述的聚焦控制方法，其特征在于，所述两个移动步骤包含下述步骤：
根据所述返回光束的第一光量检测结果，沿物镜光轴移动所述物镜，直至第一光量检测结果小于所述预定光量；以及
当所述返回光束的第一光量检测结果小于所述预定光量时，根据所述干涉光束的第二光量检测结果，移动所述物镜。
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