JP3903313B2 - 構造物の基礎構造 - Google Patents

構造物の基礎構造 Download PDF

Info

Publication number
JP3903313B2
JP3903313B2 JP2002251353A JP2002251353A JP3903313B2 JP 3903313 B2 JP3903313 B2 JP 3903313B2 JP 2002251353 A JP2002251353 A JP 2002251353A JP 2002251353 A JP2002251353 A JP 2002251353A JP 3903313 B2 JP3903313 B2 JP 3903313B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
ground
retaining wall
artificial
artificial ground
foundation
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2002251353A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2004092048A (ja
Inventor
康広 社本
豊 桂
紀治 三宅
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shimizu Corp
Original Assignee
Shimizu Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shimizu Corp filed Critical Shimizu Corp
Priority to JP2002251353A priority Critical patent/JP3903313B2/ja
Publication of JP2004092048A publication Critical patent/JP2004092048A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3903313B2 publication Critical patent/JP3903313B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Images

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、施工性が良く、低コストで液状化による被害を抑制できる構造物の基礎構造に関する。
【0002】
【従来の技術】
地下水で飽和された砂地盤等の液状化層を支持層として構造物を構築した場合、地震発生時には液状化層に液状化現象が生じることにより、構造物を支える十分な支持力を喪失し、構造物が沈下する等の現象が起こりやすい。このような液状化現象に対応すべく、液状化層の密度を強制的に高めて地盤強度を増大する、または鉛直ドレーンによりせん断変形による過剰間隙水圧発生を防止する等の地盤改良工法が採用されている。
【0003】
この他にも、図4(a)に示すように、液状化層3を有する液状化地盤1の地下水12を常時低下させる方法や、図4(b)に示すように、十分な支持力を有する安定地盤14まで杭基礎13を根入れし、構造物11を杭基礎13で支える方法など、様々な地盤改良工法が採用されているものの、何れも工期が長期化するとともに、コスト高となりやすい。このため、上述する地盤改良工法により構築される基礎は、多少の沈下や傾斜も許容できないような、重要構造物に対して適用されている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
一方で、上述するような地盤改良工法を採用するには建設投資額が見合わない状況下において、構築したい構造物11が、低層構造物であり、かつ建築物面積が比較的大きい場合には、所定の範囲内における沈下や傾斜を許容することも考えられる。しかし、このような状況下における有効な構造物11の基礎が存在しなかった。
【0005】
上記事情に鑑み、本発明は、施工性が良く、低コストで液状化による被害を抑制できる構造物の基礎構造を提供することを目的としている。
【0009】
【課題を解決するための手段】
請求項に記載の構造物の基礎構造は、液状化層を有する地盤上に構築される低層構造物の基礎に、表層地盤改良による人工地盤を用いる構造物の基礎構造であって、前記人工地盤が、鉛直方向に立設される筒状に形成されるとともに、該人工地盤の内方には、一方の端部が該人工地盤に埋設され、他方の端部が内空部に突出するとともに、下端部が前記液状化層まで根入れされる控え壁連設体が不連続に設けられており、前記控え壁連設体は、地盤改良体よりなる鉛直方向に立設する板状の控え壁が所定の間隔をもって並列に複数配置され、前記人工地盤に埋設される一方の端部どうしを連結部材を介して連結してなり、前記控え壁は、前記連結部材から前記人工地盤の内方に向けて突出するようにリブ状に設けられ、該控え壁の突出端部よりも内方には、地盤改良がされていない未改良地盤があることを特徴としている。
【0010】
請求項に記載の構造物の基礎構造は、前記控え壁連設体が、前記人工地盤の平面形状に応じて前記人工地盤への取り付け位置を調整されるとともに、前記構造物の面積及び荷重に応じて、前記控え壁の形状及び隣り合う控え壁の配置間隔を調整されることを特徴としている。
【0011】
請求項に記載の構造物の基礎構造は、前記地盤改良体には、セメント系材料よりなる地盤改良材が用いられることを特徴としている。
【0012】
【発明の実施の形態】
本発明に係る構造物の参考例を図1、図2に示し、本発明に係る構造物の基礎構造の基本構成を図3に示す。本実施の形態では、沈下や傾斜がある所定の範囲内で許容されるような建築物面積の大きい低層構造物に用いる基礎を示すものである。
【0013】
参考例
図1(a)に示すように、粘性土層2によりなる下層と、液状化層3によりなる上層と、表層4により構成される液状化地盤1には、建築物面積が比較的大きく高さの低い低層構造物5が基礎6に支持されて構築されている。ここで、前記液状化層3、及び粘性土層2は、通常時において前記低層構造物5及び基礎6の荷重に耐えうる強度を有している。
【0014】
該基礎6は、地盤改良材を現地盤の土と混ぜ合わせ、これらを締め固めることにより形成される地盤改良体によりなり、地盤改良材にはセメント系材料が用いられている。これら、地盤改良体により成形された前記基礎6の形状は、鉛直方向に立設される筒状の基礎本体7と、該基礎本体7の内周面7aに所定の間隔をもって複数配置される控え壁8とにより構成される。
【0015】
前記基礎本体7は、その平面視の外形形状が、前記構造物5の建築物面積とほぼ同様の形状を有するとともに、その深さは、前記表層4の地表面から前記液状化層3の下位層に未改良層Lを残す程度にまで達している。
【0016】
また、前記控え壁8は、図1(b)の平面図に示すように、前記基礎本体7の内周面7aから基礎本体7の内方(中空部7b)に向けて垂直に突出するようにリブ状に設けられて、その形状は長方形の板形状に成形されている。該控え壁8の高さは、前記基礎本体7と同一に形成されているが、前記基礎本体7の内周面7aからの張出し長さL、部材厚及び隣り合う前記控え壁8どうしの配置間隔L等は、上部に配置される低層構造物5に応じた支持力を確保できるとともに、地震等発生時の許容沈下量を確保できるよう、前記低層構造物5の建築物面積及び荷重に応じて、適宜調整されるものである。また、控え壁8の突出端部よりも内方には、地盤改良がされていない未改良地盤がある。
【0017】
なお、図2に示すように、前記液状化地盤1における液状化層3が薄い場合には、前記基礎6を前記粘性土層2まで根入れしてもよい。
【0018】
上述する構成によれば、液状化地盤1の液状化層3の上位層、及び表層4には、地盤改良材により改良された前記基礎本体7及びその内方に設けられた控え壁8より構成される前記基礎6が形成されることから、地震等により液状化現象が生じた際にも、前記基礎6の内方に位置する液状化層3は、地盤拘束効果を受けるため、前記低層構造物5の沈下や傾斜を許容値の範囲内に納めることが可能となる。
【0019】
また、前記低層構造物5は、地盤改良材により改良された前記基礎6により支持されるため、杭が不要であり、短工期で低コストの基礎6を構築することが可能となる。
【0020】
さらに、前記基礎6は、前記低層構造物5の建築物面積の範囲内で液状化対策を施すことができることから、敷地面積が狭く、構造物面積を広く取りたい場合にも適用することが可能となる。
【0021】
一方、前記控え壁8が、前記低層構造物5の面積及び荷重に応じて、形状及び隣り合う控え壁8との配置間隔を調整されることから、どのような平面形状の低層構造物5に対しても適用することが可能であり、該基礎6の汎用性を高めることが可能となる。
【0022】
本発明の実施の形態
図3(a)に示すように、粘性土層2によりなる下層と、液状化層3によりなる上層と、表層4により構成される液状化地盤1の前記表層4には、表層地盤改良工法による人工地盤9が構築されている。表層地盤改良工法は、前記液状化層3の上部に、硬質な板状の人工地盤9を設けることで、前記低層構造物5の支持力を確保することを目的に一般に用いられるものである。
【0023】
該人工地盤9は、前記基礎6と同様に、セメント系材料よりなる地盤改良材を用いて改良されたもので、その平面視の外形形状は、前記低層構造物5の荷重を支持するに十分な面積を有するとともに、その内方には、鉛直方向に中空部9aを有する筒状の形状を有している。
【0024】
本実施の形態において、図3(b)に示すように、平面視四角形状に構築された該人工地盤9には、控え壁連設体10が、他方の端部を中空部9aに突出するとともに、一方の端部を人工地盤9の各4辺の所望の位置に埋設されるようにして設けられている。該控え壁連設体10の人工地盤9に対する取り付け位置は、前記人工地盤9の平面形状に応じて、所望の位置に設けられるものであり、前記低層構造物5に対する支持力等は、後に述べる人工地盤9を構成する控え壁8により適宜調整されるものである。
【0025】
該控え壁連設体10は、長方形の板形状に形成されて、鉛直方向に立設するよう配置された複数の前記控え壁8を所定の配置間隔をもって並列に配置し、一方の側端部を連結部材10aを介して連結して一体化したもので、連結した側の側端部が、前記人工地盤9に埋設されることとなる。控え壁8は、連結部材10aから人工地盤9の内方(中空部9a)に向けて突出するようにリブ状に設けられている。前記控え壁8の高さは、前記人工地盤9より長く、前記表層4の地表面から前記液状化層3の下位層に未改良層Lを残す程度にまで達している。また、人工地盤9の中空部9aからの前記控え壁8の張出し長さL、部材厚及び配置間隔L等は、上部に配置される低層構造物5に応じた支持力を確保できるとともに、地震等発生時の許容沈下量を確保できるよう、前記構造物5の建築物面積及び荷重に応じて、適宜調整されるものである。また、控え壁8の突出端部よりも内方には、地盤改良がされていない未改良地盤がある。
【0026】
なお、前記控え壁連設体10は、人工地盤9に、前記低層構造物5に応じた支持力、及び許容範囲内の沈下量を維持できる面積が確保できる場合には設ける必要はなく、必要面積が確保できない場合に用いるものである。
【0027】
前述する構成によれば、前記低層構造物5の基礎構造に、表層地盤改良による人工地盤9を用いるとともに、該人工地盤9の内方には、控え壁連設体10が不連続に設けられることから、表層地盤改良による人工地盤9を用いたものの、改良部分に必要な面積を確保できない場合においても、前記低層構造物5の沈下や傾斜を許容範囲内に防止することが可能となる。
【0028】
前記人工地盤9の内方に設けられる控え壁連設体10は、その設置位置を、人工地盤9の平面形状に応じて適宜調整されることから、どのような平面形状の低層構造物5に対しても適用することが可能であり、該基礎6の汎用性を高めることが可能となる。
【0029】
また、参考例及び実施の形態の何れにおいても、地下水位低下工法やサンドコンパクションパイル工法などのような液状化対策が不要であるため、地下水位低下工法の場合に発生しうる地下水位低下に伴う周辺地域の地盤沈下や、サンドコンパクションパイル工法の施工時に生じる騒音振動等が生じることなく周辺環境面でも有利であり、住宅密集地等でも施工を行うことが可能となる。
【0030】
さらに、参考例及び実施の形態の何れにおいても、前記基礎6を構成する地盤改良体には、セメント系材料よりなる地盤改良材が用いられることから、セメント系材料の配合設計を変えることによって地盤改良体の強度を自在に調整できるため、前記低層構造物5の荷重に応じて、前記基礎6に用いる地盤改良体を自在に選択することが可能となる。
【0037】
【発明の効果】
請求項に記載の構造物の基礎構造によれば、液状化層を有する地盤上に構築される低層構造物の基礎に、表層地盤改良による人工地盤を用いる構造物の基礎構造であって、前記人工地盤が、鉛直方向に立設される筒状に形成されるとともに、該人工地盤の内方には、一方の端部が該人工地盤に埋設され、他方の端部が内空部に突出するとともに、下端部が前記液状化層まで根入れされる控え壁連設体が不連続に設けられており、前記控え壁連設体は、地盤改良体よりなる鉛直方向に立設する板状の控え壁が所定の間隔をもって並列に複数配置され、前記人工地盤に埋設される一方の端部どうしを連結部材を介して連結してなり、前記控え壁は、前記連結部材から前記人工地盤の内方に向けて突出するようにリブ状に設けられ、該控え壁の突出端部よりも内方には、地盤改良がされていない未改良地盤があることから、表層地盤改良による人工地盤を用いたものの、改良部分に必要な面積を確保できない場合においても、前記低層構造物の沈下や傾斜を許容範囲内に防止することが可能となる。
【0038】
請求項に記載の構造物の基礎構造によれば、前記控え壁連設体が、前記人工地盤の平面形状に応じて前記人工地盤への取り付け位置を調整されるとともに、前記構造物の面積及び荷重に応じて、前記控え壁の形状及び隣り合う控え壁の配置間隔を調整されることから、どのような平面形状の低層構造物に対しても適用することが可能であり、基礎の汎用性を高めることが可能となる。
【0039】
請求項に記載の構造物の基礎構造によれば、前記地盤改良体には、セメント系材料よりなる地盤改良材が用いられることから、セメント系材料の配合設計を変えることによって地盤改良体の強度を自在に調整できるため、前記低層構造物の荷重に応じて、前記基礎に用いる地盤改良体を自在に選択することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の参考例に係る低層構造物の基礎を示すものである。
【図2】 本発明の参考例に係る根入深さを違えた低層構造物の基礎を示すものである。
【図3】 本発明に係る低層構造物の表層地盤改良による人工地盤を用いた低層構造物の基礎を示すものである。
【図4】 従来の液状化対策工法を示すものである。
【符号の説明】
1 液状化地盤
2 粘性土層
3 液状化層
4 表層
5 低層構造物
6 基礎
7 基礎本体
7a 内周面
7b 中空部
8 控え壁
9 人工地盤
9a 中空部
10 控え壁連設体
10a 連結部材
11 構造物
12 地下水
13 杭基礎
14 安定地盤

Claims (3)

  1. 液状化層を有する地盤上に構築される低層構造物の基礎に、表層地盤改良による人工地盤を用いる構造物の基礎構造であって、
    前記人工地盤が、鉛直方向に立設される筒状に形成されるとともに、
    該人工地盤の内方には、一方の端部が該人工地盤に埋設され、他方の端部が内空部に突出するとともに、下端部が前記液状化層まで根入れされる控え壁連設体が不連続に設けられており、
    前記控え壁連設体は、地盤改良体よりなる鉛直方向に立設する板状の控え壁が所定の間隔をもって並列に複数配置され、前記人工地盤に埋設される一方の端部どうしを連結部材を介して連結してなり、
    前記控え壁は、前記連結部材から前記人工地盤の内方に向けて突出するようにリブ状に設けられ、該控え壁の突出端部よりも内方には、地盤改良がされていない未改良地盤があることを特徴とする構造物の基礎構造。
  2. 請求項に記載の構造物の基礎構造において、
    前記控え壁連設体が、前記人工地盤の平面形状に応じて前記人工地盤への取り付け位置を調整されるとともに、
    前記構造物の面積及び荷重に応じて、前記控え壁の形状及び隣り合う控え壁の配置間隔を調整されることを特徴とする構造物の基礎構造。
  3. 請求項1または2に記載の構造物の基礎構造において、
    前記地盤改良体には、セメント系材料よりなる地盤改良材が用いられることを特徴とする構造物の基礎構造。
JP2002251353A 2002-08-29 2002-08-29 構造物の基礎構造 Expired - Fee Related JP3903313B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2002251353A JP3903313B2 (ja) 2002-08-29 2002-08-29 構造物の基礎構造

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2002251353A JP3903313B2 (ja) 2002-08-29 2002-08-29 構造物の基礎構造

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2004092048A JP2004092048A (ja) 2004-03-25
JP3903313B2 true JP3903313B2 (ja) 2007-04-11

Family

ID=32057957

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2002251353A Expired - Fee Related JP3903313B2 (ja) 2002-08-29 2002-08-29 構造物の基礎構造

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3903313B2 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009108658A (ja) * 2007-11-01 2009-05-21 Takenaka Komuten Co Ltd 既設建物直下地盤の液状化防止工法

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010163771A (ja) * 2009-01-14 2010-07-29 Shimizu Corp 構造物の液状化対策構造及び構造物の液状化対策工法
JP5282963B2 (ja) * 2009-05-11 2013-09-04 清水建設株式会社 構造物の液状化対策構造及び構造物の液状化対策工法

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0454004B2 (ja) * 1984-06-20 1992-08-28 Kensetsusho Doboku Kenkyu Shocho
JPH0543012B2 (ja) * 1986-12-15 1993-06-30 Takenaka Komuten Co
JPH06173284A (ja) * 1992-12-09 1994-06-21 Shimizu Corp 自立連壁の構築方法
JPH093923A (ja) * 1995-06-21 1997-01-07 Kajima Corp 液状化による噴砂防止構造
JPH1018308A (ja) * 1996-07-02 1998-01-20 Taisei Corp 建物基礎地盤の液状化防止構造
JP2001020301A (ja) * 1999-07-12 2001-01-23 Taisei Corp 杭基礎構造
JP3360061B2 (ja) * 2000-02-10 2002-12-24 八千代エンジニヤリング株式会社 山留め架構の先行板状切ばり
JP4543268B2 (ja) * 2000-08-01 2010-09-15 独立行政法人建築研究所 液状化防止構造
JP2002138487A (ja) * 2000-11-06 2002-05-14 Shimizu Corp 建築構造物の支持構造

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009108658A (ja) * 2007-11-01 2009-05-21 Takenaka Komuten Co Ltd 既設建物直下地盤の液状化防止工法

Also Published As

Publication number Publication date
JP2004092048A (ja) 2004-03-25

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US8696250B2 (en) Backfill system for retaining wall
JP4210312B2 (ja) 建築物
JP4793643B2 (ja) 基礎杭の応力低減構造及び応力低減方法
CN105421477A (zh) 一种塔吊基础的施工方法
JP3903313B2 (ja) 構造物の基礎構造
JP3855196B2 (ja) 構造物の基礎構造
KR101591812B1 (ko) 그리드 보강재와 강봉이 설치되는 블록식 보강토 옹벽 공법
US9416515B2 (en) Device and method for keeping humidity/water away from concrete foundations and provide insulation
CN201952808U (zh) 地基结构以及建筑物
KR101366139B1 (ko) 배수판 조립체
JP4565397B2 (ja) 構造物の耐震補強方法
JP5877482B2 (ja) 構造物の液状化被害低減構造
JP4176235B2 (ja) 液状化防止対策工法
JP2020159006A (ja) 擁壁及びその施工方法
JP5071852B2 (ja) 構造物の沈下抑制構造
JP3092244U (ja) 避震基礎構造及びこれに用いられる滑動層並びに避震基礎構造を用いた構造物
JP2006207288A (ja) 免震基礎構造、木造住宅、および建物の免震支承体
CA2832210C (en) Device and method for keeping humidity/water away from concrete foundations and provide insulation
JP2010209528A (ja) 側方流動対策構造
JP5396196B2 (ja) 建物
CN209874039U (zh) 一种地下室变形缝结构
RU64650U1 (ru) Пространственная фундаментальная платформа под здания и сооружения для строительства на слабых, просадочных, пучинистых грунтах и в сейсмических зонах
KR200357962Y1 (ko) 조립식 콘크리트 옹벽
JP4528176B2 (ja) 浮力対策構造を備えた軽量盛土構造体
JP3858251B2 (ja) 構造物の耐震補強構造

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20040618

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20051219

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20060418

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20060613

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20060808

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20060904

A911 Transfer of reconsideration by examiner before appeal (zenchi)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911

Effective date: 20061010

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20061205

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20061222

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130119

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130119

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140119

Year of fee payment: 7

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140119

Year of fee payment: 7

S531 Written request for registration of change of domicile

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140119

Year of fee payment: 7

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150119

Year of fee payment: 8

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees