JP3897655B2 - 線膨張係数測定装置 - Google Patents

線膨張係数測定装置 Download PDF

Info

Publication number
JP3897655B2
JP3897655B2 JP2002226400A JP2002226400A JP3897655B2 JP 3897655 B2 JP3897655 B2 JP 3897655B2 JP 2002226400 A JP2002226400 A JP 2002226400A JP 2002226400 A JP2002226400 A JP 2002226400A JP 3897655 B2 JP3897655 B2 JP 3897655B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
interference
light
measured
unit
measurement
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2002226400A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2004069380A (ja
Inventor
雄一郎 横山
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitutoyo Corp
Original Assignee
Mitutoyo Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitutoyo Corp filed Critical Mitutoyo Corp
Priority to JP2002226400A priority Critical patent/JP3897655B2/ja
Publication of JP2004069380A publication Critical patent/JP2004069380A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3897655B2 publication Critical patent/JP3897655B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
  • Investigating Or Analyzing Materials Using Thermal Means (AREA)
  • Instruments For Measurement Of Length By Optical Means (AREA)

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は線膨張係数測定装置、特にその寸法測定機構の改良に関する。
【0002】
【従来の技術】
物質の温度変化による線膨張係数αは、下記の(式1)により与えられる。
α=(1/L)・(ΔL/ΔT) …(式1)
ここで、Lは被測定物のある基準温度(例えば20℃)での寸法であり、ΔLは前記基準温度からΔTの温度変化を与えたとき起こる寸法の変化量である。つまり、線膨張係数を求めるためには、温度の異なった状態での被測定物の寸法を測定しなくてはならない。そのため、線膨張係数を高精度に測定するには、寸法測定の正確さと被測定物の温度管理の精密さが必要である。
【0003】
高精度に寸法を測定する測定方法としては、ブロックゲージなどの端度器測定に代表される光波干渉測定が一般的である。この方法はベースプレート面にブロックゲージの一端面を密着(リンギング)させ、これをマイケルソン干渉計の一方の光路中に挿入し、他方の光路の光を参照光として、ブロックゲージの他端面及びベースプレート面からの反射光と干渉させ、これらの干渉縞の位相差と、ブロックゲージの予備値からブロックゲージの寸法を測定するというものである。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、ブロックゲージの片側測定面をベースプレートに密着させる方法では、被測定物であるブロックゲージとベースプレートとの密着が必要であり、測定を正確に行なうには、この密着のバラツキを極力減らさなくてはならない。ところが、この密着作業は熟練を必要とし大変面倒なものであった。
また、密着のバラツキによる寸法の測定の不確かさが線膨張係数を高精度に求めることの大きな妨げになっていた。
本発明は、線膨張係数の測定に際して、測定の高精度化及び作業の容易化、高速化を目的とする。
【0005】
【課題を解決するための手段】
前記目的を達成するため、本発明の線膨張係数測定装置は、被測定物の相対向する端面間の寸法を求める光波干渉測定手段と、前記被測定物を複数の所定温度に制御可能な温度制御手段と、を備える。
そして、前記光波干渉測定手段は所定のビーム径及び波長を持つ可干渉光を照射する光照射部と、前記光照射部から照射された光を二光束に分割する光分割部と、被測定物の測長軸と一致する光軸を有する第1干渉部及び第2干渉部と、前記第1干渉部及び第2干渉部の干渉縞をそれぞれ観察する第1観察部と第2観察部と、を備えたことを特徴とする。
【0006】
ここで、前記光分割部により分割された二光束の一方の光束は、前記第1干渉部に入射し、該入射した光の一部は第1参照光となり、残りは前記第1干渉部により前記被測定物の測長軸方向に反射される。
また、前記光分割部により分割された二光束の他方の光束は、前記第2干渉部に入射し、その一部は第2参照光となり、残りは前記第2干渉部により前記被測定物の測長軸方向に反射される。
【0007】
そして、前記第1干渉部から前記被測定物の測長軸方向へ反射された光は、一部が被測定物の一端において反射され、第1干渉部へと戻り第1参照光と重ね合わされ第1測定干渉光となり、その残りは被測定物の脇を通過し前記第2干渉部へ入射し、第2参照光と重ね合わされ第2基準干渉光となる。
同様に、第2干渉部から前記被測定物の測長軸方向へ反射された光は、一部が前記被測定物の他端面において反射され、第2干渉部へと戻り第2参照光と重ね合わされ第2測定干渉光となり、その他は被測定物の脇を通過し前記第1干渉部へ入射し、第1参照光と重ね合わされ第1基準干渉光となる。
【0008】
また、前記第1観察部により、前記第1干渉部で形成される第1基準干渉光と、第1測定干渉光とがそれぞれ第1基準干渉縞、第1測定干渉縞として観察される。
同様に、前記第2観察部により、前記第2干渉部で形成される第2基準干渉光と、第2測定干渉光とがそれぞれ第2基準干渉縞、第2測定干渉縞として観察される。
上記のようにして観察された前記第1基準干渉縞と前記第1測定干渉縞との位相差、前記第2基準干渉縞と前記第2測定干渉縞との位相差、および被測定物の予備値に基き、前記温度制御手段により所定の温度に維持された前記被測定物の寸法を複数の温度でそれぞれ測定し、該被測定物の線膨張係数を求める。
【0009】
また、前記温度制御手段は、前記被測定物を収容する容器となる断熱保温部と、前記被測定物を加熱する加熱部と、前記加熱部による加熱を制御する加熱制御部と、を備え、前記断熱保温部は断熱層と、測定光軸方向の側面に該測定光が透過する窓と、を備えた。
さらに、前記断熱保温部はその内部を減圧もしくは真空状態に保つため、該断熱保温部を密閉構造とし、該断熱保温部の内部を減圧または真空状態にするための真空ポンプ等を接続する真空弁を取り付けることが好適である。
【0010】
また、前記温度制御手段に、被測定物の位置調整のための微動制御部を備えることが好適である。前記加熱部と前記微動制御部が、熱膨張係数の小さい材質で形成されることも好適である。
前記光分割部から前記第1干渉部に含まれるハーフミラー、前記被測定物の一端、前記第1干渉部に含まれるハーフミラーまでの光路長をLとし、前記光分割部から前記第2干渉部に含まれるハーフミラー、前記第1干渉部に含まれるハーフミラーまでの光路長をLとし、前記光分割部から前記第2干渉部に含まれるハーフミラー、前記被測定物の他端、前記第2干渉部に含まれるハーフミラーまでの光路長をLとし、前記光分割部から前記第1干渉部に含まれるハーフミラー、前記第2干渉部に含まれるハーフミラーまでの光路長をLとする。
【0011】
このとき、下記の【数2】により被測定物の寸法Lが表される。
【数2】
=λ/2{N+(ε−ε)+(ε−ε)},
ただし、N=N−N+N−N,
:λ(N+ε),
:λ(N+ε),
:λ(N+ε),
:λ(N+ε),
λ:前記光の波長、
(i=1〜4):前記光路長Lを前記光の波長λで除したときの商の自然数部分、
ε(i=1〜4):前記光路長Lを前記光の波長λで除したときの商の端数である位相、
(ε−ε):前記第1観察部で観察された第1基準干渉縞と第1測定干渉縞との位相差、
(ε−ε):前記第2観察部で観察された第2基準干渉縞と第2測定干渉縞との位相差。
【0012】
また、上記の線膨張係数測定装置が、前記各観察部により観察された基準干渉縞と測定干渉縞との位相差を読み取る読取手段と、前記読取手段で得られた干渉縞の各位相差と被測定物の両端面間の予備値とから所定温度の被測定物の両端面間の寸法を求める演算手段と、前記演算手段により求められた被測定物の寸法を記憶する記憶手段と、を備えることも可能である。ここで、該記憶手段により記憶された被測定物の異なる温度での寸法から被測定物の線膨張係数が算出される。
【0013】
【発明の実施の形態】
本発明は非密着光波干渉測定法を用い、温度制御手段により被測定物の温度を変化させ、それぞれの温度での被測定物の寸法から温度変化による線膨張係数を求めるものである。
以下、本発明の線膨張係数測定装置の実施例を図面に従い説明する。なお、本実施形態では、被測定物として長方形断面のブロックゲージ等の端度器を想定しているが、それに限らず両面の面精度および平行度が干渉測長できる程度に良好なものであればその他の測定物にも適用できる。
【0014】
図1は、本発明の線膨張率測定装置の一実施例の概念図である。同図の線膨張係数測定装置10は、光波干渉測定手段12と温度制御手段14とを備える。被測定物42は、この温度制御手段14の設置場所に置かれている。
また、光波干渉測定手段12は光照射部16と、照射された光を分割する第1ハーフミラー18(光分割部)と、所定の距離だけ離間して配置された第2ハーフミラー24(第1干渉部)及び第3ハーフミラー28(第2干渉部)と、第2、3ハーフミラー24、28にそれぞれ対応した第1参照鏡26(第1干渉部)、第2参照鏡30(第2干渉部)と、第1スクリーン32(第1観察部)、第2スクリーン34(第2観察部)と、を備えている。第2ハーフミラー24と第3ハーフミラー28とは、それらを結ぶ測定光の光軸が被測定物42の測長軸と一致するように配置される。また、第1スクリーン32、第2スクリーン34はそれぞれ第2,3ハーフミラー24、28と対応して設置されている。
【0015】
以下では上記構成要素についてその作用を述べる。まず、温度制御手段14は、被測定物42の温度の変更を行う働きと、被測定物42の温度を一定に保つ働きを担う。この温度制御手段14により、被測定物42を複数の所定温度に制御することができる。
次に、光波干渉手段12の各構成要素について述べる。光照射部16は光源36、コリメータレンズ38、反射鏡40等を含み、所定のビーム径及び波長を持つレーザ光を照射する。後述するように、レーザ光は被測定物42の端面で反射されるものと被測定物の脇を通り抜けていくものが必要なため、レーザ光のビーム径はある程度の大きさを持つことが必要である。このため被測定物の断面積より大きいビーム径であることがより望ましい。
【0016】
第1ハーフミラー18は、光照射部16から照射されたレーザ光を二光束に分割し、それぞれの光束は第2ハーフミラー24と第3ハーフミラー28に入射する。第1参照鏡26及び第2参照鏡30がそれぞれ第2、3ハーフミラー24、28を透過した光を反射し、その光を参照光として第2、3ハーフミラー24、28において測定光と干渉させる。このように、第1参照鏡26と第2ハーフミラー24との組、第2参照鏡30と第3ハーフミラー28との組は測定光と参照光を干渉させる干渉部として働く。また、第1ハーフミラー18と第2ハーフミラー24と第3ハーフミラー28とによって、環状の干渉計が構成されている。第1、2スクリーン32,34ではそれぞれ第2、3ハーフミラー24,28で形成された干渉光を干渉縞として観察する。
【0017】
以上のような構成を持つ光波干渉測定手段12を用い、温度制御手段14により一定の温度に維持された被測定物42の寸法が測定される。また、温度制御手段14により被測定物42の温度を変更し、その温度での寸法を測定することを繰り返すことで異なる複数の温度での被測定物42の寸法が得られ、被測定物42の線膨張係数が算出される。
【0018】
次に光波干渉測定手段12でのレーザ光の光路を順に説明していく。光照射部16から照射されたレーザ光は第1ハーフミラー18により二光束に分割され、それぞれ第2ハーフミラー24、第3ハーフミラー28へと向かう。この第2ハーフミラー24に入射した光は測長軸方向へ反射する光と、第2ハーフミラー24を透過し第1参照鏡26に向かう光とに分割される。第1参照鏡26に向かった光は該第1参照鏡26で反射され、第2ハーフミラー24へと戻り、この光が第1参照光となる。また、測長軸方向へ向かった光の一部は被測定物42の図中左端面42aで反射し第2ハーフミラー24へ戻り、その残りは被測定物42の脇を通り抜け第3ハーフミラー28へ入射する。
【0019】
同様に、第1ハーフミラー18で分割された二光束のうち第3ハーフミラー28に入射した光は、測長軸方向へ反射する光と、第3ハーフミラー28を透過し第2参照鏡30に向かう光とに分割される。その第2参照鏡30に向かった光は該第2参照鏡30で反射され、第3ハーフミラー28へと戻り、第2参照光となる。また、測長軸方向へ向かった光の一部は被測定物42の図中右端面42bで反射し第3ハーフミラー28へ戻り、その残りは被測定物42の脇を通り抜け第2ハーフミラー24へ入射する。
以上のような光路を辿った光は、第2ハーフミラー24において、第1参照鏡26からくる第1参照光と、被測定物42の脇を通過してきた光とが干渉して第1基準干渉光となり、また被測定物42の左端面42aで反射された光と前記第1参照光とが干渉し第1測定干渉光となる。これらの干渉光は第1スクリーン32で干渉縞として観察され、第1基準干渉縞と第1測定干渉縞の位相差が読み取られる。
【0020】
同様にして、第3ハーフミラー28では、被測定物42の脇を通過してきた光と第2参照鏡30からの第2参照光とが干渉して第2基準干渉光となり、被測定物42の右端面42bで反射された光と、第2参照鏡30からの第2参照光とが干渉して第2測定干渉光となる。また、これらの干渉光は、第2スクリーン34でそれぞれ第2基準干渉縞、第2測定干渉縞として観測され、基準干渉縞と測定干渉縞との位相差が読み取られる。
以上のようにして、第1スクリーン32と第2スクリーン34で同時に観察される第1基準干渉縞と第2測定干渉縞との位相差、第2基準干渉縞と第2測定干渉縞との位相差と、被測定物42の予備値と、をもとにして、被測定物の寸法Lが測定される。上記位相差と被測定物の寸法との関係は後に述べる。
【0021】
被測定物の温度の変化による線膨張係数は、例えば次のようにして求めることができる。まず温度制御手段14により被測定物42をある基準温度Tに保ち、その温度での被測定物42の寸法Lを上記のように光波干渉測定手段により測定する。次に温度制御手段14により被測定物42の温度を基準温度Tから変化させ、温度T’(=T+ΔT)に維持する。この温度T’における被測定物42の寸法も同様に上記のように測長し、その長さをL’とする。(式1)に温度の変化量ΔTと寸法の変化量ΔL(=L’−L)を代入することにより、基準温度Tでの被測定物42の線膨張係数が求められる。
以上が本発明の線膨張係数測定装置の基本的な構成である。光波干渉測定手段が上記のように構成されているため、被測定物をベースプレートに密着させる必要がない。そのため、作業が容易になるとともに、リンギングのバラツキによる測定誤差が取り除かれ高精度な測定ができる。
【0022】
また、第1基準干渉縞と第1測定干渉縞とを第1スクリーン32で、第2基準干渉縞と第2測定干渉縞とを第2スクリーン34で、それぞれ同時に観察しているため、測定時間が短縮される。
さらに本発明では、第1ハーフミラー18と第2ハーフミラー24と第3ハーフミラー28により環状の干渉計が構成されているが、第2ハーフミラー24と第3ハーフミラー28が空間的に分離されているので、時計周りの光と反時計周りの光が干渉する可能性がなく、適正な測定を行なうことができる。
【0023】
図2は本発明における温度制御手段の一実施例を示した図である。同図に示す温度制御手段はその内部に被測定物42を収容する箱型の可変温度槽44として構成されている。可変温度槽44の壁(断熱保温部)46は断熱材、もしくは断熱構造を備えたもの、から形成された断熱層となっており、また測定光軸方向の両側の壁46は、光を透過するガラスなどの窓48を備える。この窓48は少なくとも使用されるレーザ光のビーム径より大きなものとする。被測定物42は均熱プレート52(加熱部)に設置され、加熱制御部はヒータ50、温度コントローラ56、電源57等から構成される。ヒータ50(加熱制御部)により均熱プレート52(加熱部)が加熱され、また被測定物42に取りつけられた温度センサ54及びヒータ50は温度コントローラ56(加熱制御部)に接続される。
【0024】
このように可変温度槽44(温度制御手段)は断熱層となっているため、可変温度層44の内部の温度環境とその外部の温度環境との間の互いへの影響が少なくなる。このため、可変温度層44の外部に設置された光波干渉手段等の光学機器が温度による影響を受けにくく、高温での測定も可能となる。また、可変温度層44内部の温度環境が安定するので、被測定物42の温度を一定に保ちやすい。
【0025】
また、被測定物42に取り付けられた温度センサ54が、被測定物42の温度を感知し、その情報を温度コントローラ56に伝えることにより、温度コントローラ56はヒータ50による加熱を適切に制御できる。図3は温度コントローラ56の制御ブロック図である。被測定物42に取り付けられた温度センサ54により感知された温度情報は、比較器58へと送られ、設定された温度との比較を行なう。またその結果は特性補償要素60へと送られヒータ50や均熱プレート52、被測定物42の熱特性に応じてヒータ50の操作量を算出し、その操作量が増幅器62へと送られヒータ50を加熱する。
【0026】
このように、被測定物の温度変化に応じて加熱量を調整するため、被測定物の温度は安定に保たれ、被測定物をさまざまな温度に設定することができる。この結果、精密な温度管理が可能となり、また均熱プレート52を介して加熱するため、被測定物42を一様に加熱することができる。
また、可変温度槽44を密閉構造とすることも可能である。このとき、可変温度槽44は、内部を減圧もしくは真空にするために、真空ポンプ等を取りつける真空弁64を備える。可変温度層44内部が減圧又は真空状態に保たれることにより、空気の密度ゆらぎによる測定光のゆらぎが低減され、より正確な測定を行なうことができる。また、可変温度層44の断熱効果もさらに高まる。
【0027】
試料42の設置台となる均熱プレート52に光学的なアライメントを行なうための微動制御部66を設けることも好適である。図2の微動制御部66には支持部材68が備えられ、この支持部材68の上に均熱プレート52が設置される。
【0028】
微動制御部66の調節つまみ65を調節することにより、被測定物42の測定光軸に対する角度や高さ方向の位置等を適切に設定することができる。さらに、温度変化によって、測定光軸に対する高さ方向に被測定物42の位置が変化するのを防ぐため、均熱プレート52と微動制御部66の間にある支持部材68は熱膨張係数の小さい材質からできていることが望ましい。また、支持部材68の他にも、均熱プレート52、微動制御部66等、可変温度槽44内部の部材は熱膨張係数の小さな材質を用いることが好ましい。熱膨張係数の小さい材質の部材を用いることにより、被測定物42を支える部材の温度変化による変形を小さく抑えることができるので、測定光軸に対する高さ方向の位置変化が少なく、測定の正確度が増す。
【0029】
被測定物42の微動制御部66による位置制御は、可変温度槽44の外部から設定することも可能である。このため、可変温度槽44の外部に備えられた微動制御駆動部67は、微動制御部66の調節つまみ65に接続され、調節つまみ65を駆動するモータ等を電気的に制御し、被測定物42の位置を設定する。また、微動制御部66の調節つまみ65を可変温度槽44の外部に設け、手動により外部から調整できるようにしてもよい。
【0030】
次に光波干渉測定手段において読み取られた位相差と被測定物の寸法との関係について、図1を参照して説明する。
第1ハーフミラー18から第2ハーフミラー24へ、さらに被測定物42の図中左端面42aに向かい、そこで反射した光が再び第2ハーフミラー24へと戻る光路の光路長をLとする。また、第1ハーフミラー18から第3ハーフミラー28に向かい、そこで反射され被測定物42の脇を通り抜け第2ハーフミラー24へ入射するまでの光路長をLとする。同様に、光路長Lは第1ハーフミラー18、第3ハーフミラー28、被測定物42の右端面42b、第3ハーフミラー28へと進む光路長とする。光路長Lは、第1ハーフミラー18から第2ハーフミラー24へと向かい、そこで反射され被測定物42の脇を通過し第3ハーフミラー28へ入射するまでの光路長とする。
【0031】
また、第1ハーフミラー18と第2ハーフミラー24との間の光路長をa、第2ハーフミラー24と被測定物42の図中左端面42aとの間の光路長をb、第1ハーフミラー18と第3ハーフミラー28との間の光路長をc、第3ハーフミラー28と被測定物42の図中右端面42bとの間の光路長をdとする。
上記の光路長L(i=1〜4)を光路長a、b、c、dを用いて表すと
=a+2b,L=b+c+d+L
=c+2d,L=a+b+d+L
となる。これらの式からa、b、c、dを消去すると被測定物42の寸法Lは次の(式2)で表される。
=1/2{(L−L)+(L−L)} …(式2)
【0032】
また、上記の光路長L、L、L、Lを、測定に使用するレーザ光の波長λを用いて表すと以下のようになる。
=λ(N+ε) (i=1〜4) …(式3)
ここで、Nは光路長Lを波長λで割った時の商の整数部分、εはその商の端数部分(位相)である。(式3)を(式2)に代入すると
=λ/2{(N−N)+(N−N)+(ε−ε)+(ε−ε)}
=λ/2{N+(ε−ε)+(ε−ε)} …(式4)
となる。ただし、N=(N−N)+(N−N)とした。
【0033】
(式4)の(ε−ε)が第1スクリーン32で観測される第1基準干渉縞と第1測定干渉縞の位相差であり、また、(ε−ε)が第2スクリーン34で観測される第2基準干渉縞と第2測定干渉縞の位相差である。また、波長λは既知であり、被測定物の予備値と波長λより算出されるNを用いて(式4)より被測定物の寸法Lが求められる。温度変更を繰り返して被測定物の寸法の測定を行ない、複数の温度での寸法から被測定物の線膨張係数を求めることができる。
【0034】
図1に示すように、第1、2スクリーン32、34で形成された干渉縞をそれぞれ第1読取手段70と第2読取手段72によって観測することも可能である。この読取手段はCCDカメラ、或いはその他の光電変換手段などにより干渉縞を読み取る。
これらの位相差は、図1のコンピュータ74内の測定データ記憶手段76へと送られ記憶される。さらに、その位相差から演算手段78により上記の寸法Lが算出され、演算データ記憶手段80に記憶される。また、コンピュータ74と温度制御手段14は接続され、被測定物の温度に関するデータ等の受け渡しを行なう。それらのデータは測定データ記憶手段76に記憶される。
【0035】
温度制御手段14により被測定物42の温度を変更し、上記と同様に寸法測定を行ない、その結果を演算データ記憶手段80に記憶する。このように、異なる複数の温度での被測定物の寸法が演算データ記憶手段80に記憶される。これらの異なる温度での寸法のデータや温度データを演算データ記憶手段80、測定データ記憶手段76から呼び出し、演算手段78により所定の温度での線膨張係数を算出することができる。
【0036】
以上の構成では、測定に単一波長のレーザ光を用いた例について説明した。しかし、本発明はこれに限定されるものではなく、もちろん複数の異なる波長を用いて測定を行なってもよい。
本発明は被測定物とベースプレートを密着させる必要がないので、密着型の光波干渉測定法を用いた場合と比較して作業が容易となり、測定時間が大幅に短縮される。また、密着のバラツキによる測定誤差がなく、高精度な測定が可能となる。
【0037】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明の線膨張係数測定装置は、非密着型の光波干渉測定手段と、被測定物の温度の維持及び温度の変更を行なう温度制御手段を備える。この結果、被測定物の線膨張係数の測定を高精度に行なうことが可能で、また作業性の向上および高速化が達成できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の線膨張係数測定装置の概念図である。
【図2】 可変温度槽(温度制御手段)の概略構成の説明図である。
【図3】 温度コントローラの制御ブロック図である。
【符号の説明】
10 本発明の線膨張係数測定装置
12 光波干渉測定手段
14 温度制御手段
16 光照射部
18 第1ハーフミラー(光分割部)
24 第2ハーフミラー(第1干渉部)
26 第1参照鏡(第1干渉部)
28 第3ハーフミラー(第2干渉部)
30 第2参照鏡(第2干渉部)
32 第1スクリーン(第1観察部)
34 第2スクリーン(第2観察部)
42 被測定物

Claims (7)

  1. 被測定物の相対向する端面間の寸法を求める光波干渉測定手段と、前記被測定物を複数の所定温度に制御可能な温度制御手段と、を備えた線膨張係数測定装置において、
    前記光波干渉測定手段は、
    所定のビーム径及び波長を持つ光を照射する光照射部と、
    前記光照射部から照射された光を二光束に分割する光分割部と、
    被測定物の測長軸と一致する光軸を有する第1干渉部及び第2干渉部と、
    前記第1干渉部及び第2干渉部の干渉縞をそれぞれ観察する第1観察部と第2観察部と、
    を備えており、
    前記光分割部により分割された二光束の一方の光束は、前記第1干渉部に入射し、該光束の一部は第1参照光となり、残りは前記第1干渉部により前記被測定物の測長軸方向に反射され、
    前記光分割部により分割された二光束の他方の光束は、前記第2干渉部に入射し、該光束の一部は第2参照光となり、残りは前記第2干渉部により前記被測定物の測長軸方向に反射され、
    前記第1干渉部から前記被測定物の測長軸方向へ反射された光は、一部が前記被測定物の一端において反射され、第1干渉部へと戻り第1参照光と重ね合わされ第1測定干渉光となり、その残りは前記被測定物の脇を通過し前記第2干渉部へ入射し、第2参照光と重ね合わされ第2基準干渉光となり、
    前記第2干渉部から前記被測定物の測長軸方向へ反射された光は、一部が前記被測定物の他端面において反射され、第2干渉部へと戻り第2参照光と重ね合わされ第2測定干渉光となり、その残りは前記被測定物の脇を通過し前記第1干渉部へ入射し、第1参照光と重ね合わされ第1基準干渉光となり、
    前記第1観察部により、前記第1干渉部で形成される第1基準干渉光と第1測定干渉光とをそれぞれ第1基準干渉縞及び第1測定干渉縞として観察し、
    前記第2観察部により、前記第2干渉部で形成される第2基準干渉光と第2測定干渉光とをそれぞれ第2基準干渉縞及び第2測定干渉縞として観察し、
    前記第1基準干渉縞と前記第1測定干渉縞との位相差、前記第2基準干渉縞と前記第2測定干渉縞との位相差、および被測定物の予備値に基き、前記温度制御手段により所定の温度に維持された前記被測定物の寸法を複数の温度でそれぞれ測定することを特徴とする線膨張係数測定装置。
  2. 請求項1記載の線膨張係数測定装置において、
    前記温度制御手段は、
    前記被測定物を収容する容器となる断熱保温部と、
    前記被測定物を加熱する加熱部と、
    前記加熱部による加熱を制御する加熱制御部と、を備え、
    前記断熱保温部は断熱層と、測定光軸方向の側面に該測定光が透過する窓と、を備えたことを特徴とする線膨張係数測定装置。
  3. 請求項2記載の線膨張係数測定装置において、
    前記断熱保温部はその内部を減圧もしくは真空状態に保つため、該断熱保温部を密閉構造とし、真空弁を備えたことを特徴とする線膨張係数測定装置。
  4. 請求項2〜3いずれかに記載の線膨張係数測定装置において、
    前記温度制御手段が、被測定物の位置調整のための微動制御部を備えることを特徴とする線膨張係数測定装置。
  5. 請求項4記載の線膨張係数測定装置において、
    前記加熱部と前記微動制御部とを構成する部材が熱膨張係数の小さい材質により形成されることを特徴とする線膨張係数測定装置。
  6. 請求項1〜5いずれかに記載の線膨張係数測定装置において、
    前記光分割部から前記第1干渉部に含まれるハーフミラー、前記被測定物の一端、前記第1干渉部に含まれるハーフミラーまでの光路長をLとし、
    前記光分割部から前記第2干渉部に含まれるハーフミラー、前記第1干渉部に含まれるハーフミラーまでの光路長をLとし、
    前記光分割部から前記第2干渉部に含まれるハーフミラー、前記被測定物の他端、前記第2干渉部に含まれるハーフミラーまでの光路長をLとし、
    前記光分割部から前記第1干渉部に含まれるハーフミラー、前記第2干渉部に含まれるハーフミラーまでの光路長をLとし、
    下記の【数1】により被測定物の寸法Lが表されたことを特徴とする線膨張係数測定装置。
    【数1】
    =λ/2{N+(ε−ε)+(ε−ε)},
    ただし、N=N−N+N−N,
    :λ(N+ε),
    :λ(N+ε),
    :λ(N+ε),
    :λ(N+ε),
    λ:前記光の波長、
    (i=1〜4):前記光路長Lを前記光の波長λで除したときの商の自然数部分、
    ε(i=1〜4):前記光路長Lを前記光の波長λで除したときの商の端数である位相、
    (ε−ε):前記第1観察部で観察された第1基準干渉縞と第1測定干渉縞との位相差、
    (ε−ε):前記第2観察部で観察された第2基準干渉縞と第2測定干渉縞との位相差。
  7. 請求項1〜6いずれかに記載の線膨張係数測定装置において、
    前記第1観察部および第2観察部により観察された基準干渉縞と測定干渉縞との位相差を読み取る読取手段と、
    前記読取手段で得られた干渉縞の各位相差と被測定物の両端面間の予備値とから所定の温度の被測定物の両端面間の寸法を求める演算手段と、
    前記演算手段により求められた被測定物の寸法を記憶する記憶手段と、を備え、
    前記記憶手段に記憶された異なる複数の温度での被測定物の寸法から被測定物の線膨張係数を求めることを特徴とする線膨張係数測定装置。
JP2002226400A 2002-08-02 2002-08-02 線膨張係数測定装置 Expired - Fee Related JP3897655B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2002226400A JP3897655B2 (ja) 2002-08-02 2002-08-02 線膨張係数測定装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2002226400A JP3897655B2 (ja) 2002-08-02 2002-08-02 線膨張係数測定装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2004069380A JP2004069380A (ja) 2004-03-04
JP3897655B2 true JP3897655B2 (ja) 2007-03-28

Family

ID=32013754

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2002226400A Expired - Fee Related JP3897655B2 (ja) 2002-08-02 2002-08-02 線膨張係数測定装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3897655B2 (ja)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9341468B2 (en) 2012-02-15 2016-05-17 Canon Kabushiki Kaisha Measuring apparatus
EP3147656A2 (en) 2015-09-25 2017-03-29 Mitutoyo Corporation Coefficient-of-thermal-expansion measurement
DE102017223613A1 (de) 2016-12-22 2018-06-28 Mitutoyo Corporation Wärmeausdehnungskoeffizienten-Messverfahren und Wärmeausdehnungskoeffizienten-Messvorrichtung
DE102018118516A1 (de) 2017-08-31 2019-02-28 Mitutoyo Corporation Messvorrichtung für Wärmeausdehnungskoeffizienten und Messverfahren für Wärmeausdehnungskoeffizienten
DE102018118503A1 (de) 2017-08-31 2019-02-28 Mitutoyo Corporation Messvorrichtung für Wärmeausdehnungskoeffizienten und Messverfahren für Wärmeausdehnungskoeffizienten

Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4878904B2 (ja) * 2006-04-14 2012-02-15 株式会社ミツトヨ 寸法差測定方法、及びその装置
CN101498577B (zh) * 2008-03-26 2011-04-20 中国计量科学研究院 精密相移发生装置及精密长度测量方法
JP6173792B2 (ja) * 2013-06-27 2017-08-02 株式会社ミツトヨ 恒温槽、線膨張係数測定装置、及び恒温槽の制御方法
JP2017062192A (ja) * 2015-09-25 2017-03-30 株式会社ミツトヨ 寸法基準器の線膨張係数測定方法および測定装置
US10458936B2 (en) * 2016-05-11 2019-10-29 Corning Incorporated Apparatus and method for the determination of the absolute coefficient of thermal expansion in ultralow expansion materials
CN107884433A (zh) * 2017-11-10 2018-04-06 哈尔滨学院 一种利用牛顿环仪测量金属线胀系数的实验装置
CN111272804A (zh) * 2020-03-12 2020-06-12 陕西科技大学 基于光栅测量陶瓷中釉质线性热膨胀系数的装置与方法
CN112881457B (zh) * 2021-01-18 2022-04-12 东南大学 一种控温微乳液相图的自动化检测装置及方法

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07294466A (ja) * 1994-04-25 1995-11-10 Hoya Corp 温度依存特性測定装置
JP3814397B2 (ja) * 1997-12-22 2006-08-30 株式会社オハラ 膨張測定装置
JP3945607B2 (ja) * 1999-11-16 2007-07-18 三菱電機株式会社 線膨張係数測定装置
JP3970510B2 (ja) * 2000-09-28 2007-09-05 三菱電機株式会社 線膨張係数測定装置

Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9341468B2 (en) 2012-02-15 2016-05-17 Canon Kabushiki Kaisha Measuring apparatus
EP3147656A2 (en) 2015-09-25 2017-03-29 Mitutoyo Corporation Coefficient-of-thermal-expansion measurement
EP3190405A1 (en) 2015-09-25 2017-07-12 Mitutoyo Corporation Coefficient-of-thermal-expansion measurement
EP3190404A1 (en) 2015-09-25 2017-07-12 Mitutoyo Corporation Coefficient-of-thermal-expansion measurement
US10352678B2 (en) 2015-09-25 2019-07-16 Mitutoyo Corporation Coefficient-of-thermal-expansion measurement method of dimension reference gauge, measuring device for coefficient of thermal expansion and reference gauge
DE102017223613A1 (de) 2016-12-22 2018-06-28 Mitutoyo Corporation Wärmeausdehnungskoeffizienten-Messverfahren und Wärmeausdehnungskoeffizienten-Messvorrichtung
US10627204B2 (en) 2016-12-22 2020-04-21 Mitutoyo Corporation Coefficient-of-thermal-expansion measurement method and measuring device for coefficient of thermal expansion
DE102018118516A1 (de) 2017-08-31 2019-02-28 Mitutoyo Corporation Messvorrichtung für Wärmeausdehnungskoeffizienten und Messverfahren für Wärmeausdehnungskoeffizienten
DE102018118503A1 (de) 2017-08-31 2019-02-28 Mitutoyo Corporation Messvorrichtung für Wärmeausdehnungskoeffizienten und Messverfahren für Wärmeausdehnungskoeffizienten
US10900917B2 (en) 2017-08-31 2021-01-26 Mitutoyo Corporation Measuring device for coefficient of thermal expansion and measurement method for coefficient of thermal expansion
US10969355B2 (en) 2017-08-31 2021-04-06 Mitutoyo Corporation Measuring device for coefficient of thermal expansion and measurement method for coefficient of thermal expansion

Also Published As

Publication number Publication date
JP2004069380A (ja) 2004-03-04

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3897655B2 (ja) 線膨張係数測定装置
US6822745B2 (en) Optical systems for measuring form and geometric dimensions of precision engineered parts
US7450246B2 (en) Measuring device and method for determining relative positions of a positioning stage configured to be moveable in at least one direction
WO2021024614A1 (ja) 距離計測システム、及び距離計測方法
JP2017003434A (ja) 屈折率の計測方法、計測装置、光学素子の製造方法
Lewis Measurement of length, surface form and thermal expansion coefficient of length bars up to 1.5 m using multiple-wavelength phase-stepping interferometry
EP0305438A1 (en) INTERFEROMETER COMBINED WITH A SCALE.
JP3814397B2 (ja) 膨張測定装置
US8500326B2 (en) Probe for temperature measurement, temperature measuring system and temperature measuring method using the same
JP2003302358A (ja) 線膨張係数測定装置
KR20130107818A (ko) 레이저 간섭계 및 이 레이저 간섭계를 이용한 변위 측정 시스템
JPH0843015A (ja) 干渉測長システム
Diz-Bugarín et al. Design of an interferometric system for gauge block calibration
JP3202183B2 (ja) レーザ光を用いたスケール及び測長方法
EP0539571A4 (en) Dynamic shearing interferometer
JP2005214740A (ja) 位相補正値測定方法
US3674371A (en) Temperature compensation of a laser interferometer
JP3351857B2 (ja) マイケルソン形干渉測定装置
RU58216U1 (ru) Лазерно-интерференционный гидрофон
US11378386B2 (en) Laser interference device
JPH08271216A (ja) ブロックゲージの非密着光波干渉測定法
JP4456958B2 (ja) 光波干渉測定装置
SU360560A1 (ja)
Kruger et al. Fizeau Interferometer to Measure Refractive Index of Air With Permanent Vacuum Prism Etalon
WO2024037799A1 (en) Method to stabilize a wavelength of a tunable laser device, tunable laser device, and position measurement system provided with the tunable laser device

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20050726

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20061208

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20061219

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20061219

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 3897655

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100105

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130105

Year of fee payment: 6

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20160105

Year of fee payment: 9

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees