JPH07294466A - 温度依存特性測定装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 被測定試料が入れられる測定室の中を連続的
に冷却又は加熱するときに被測定試料の温度を速やかに
応答させ、被測定試料の測定室への搬入を容易にする。 【構成】 測定室２０の側部に被測定試料７を出し入れ
するための密閉自在な扉２１を有し、被測定試料７を載
置する台座ボックス３０はヒータ３３及び中空部３１を
通過する冷却媒によって被測定試料７が載置される表面
金属３２をほぼ直接的に冷却又は加熱するようにした。
台座ボックス３０は、ヒータ３３への給電量及び冷却媒
の供給量をそれぞれ別々に又は同時に制御して、低温か
ら高温にわたって所定の温度勾配で正確に昇温制御され
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は温度依存特性測定装置に
関し、特に透明材料の屈折率の温度係数、熱膨張係数、
及び不透明材料の熱膨張係数などの、温度を関数とする
物性を低温から高温にわたって温度制御された同一装置
内で測定可能とする温度依存特性測定装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、温度係数、熱膨張係数など、温度
を関数とする材料の物性を測定するには、被測定試料を
一定の昇温速度に制御された真空雰囲気下に置く測定室
と測定のための光学系とから構成される温度依存特性測
定装置が用いられている。

【０００３】図９は従来の温度依存特性測定装置の概略
構成図である。この図において、従来の温度依存特性測
定装置の測定室は外周が断熱された二重壁構造の槽１を
有している。この槽１の上部には測定光及び試料からの
反射光が通過するガラス窓２を備え、槽１内には管状ニ
クロム線ヒータ３を備えたクライオスタットが配置され
ている。さらに、このクライオスタットの内部には真鍮
製の試料台４が設けられており、測定時にはこの試料台
４の上に光学原器５，６とともに被測定試料７が載置さ
れる。

【０００４】槽１には、また、図示はしないが、二重壁
内に冷却媒体である液体窒素を充填するための冷却媒体
供給設備及び槽１内を排気し減圧するための減圧設備が
接続されている。さらに、槽１の上部に設置されたガラ
ス窓２の上方には、フィゾー干渉法を使用した測定を行
うための測定用光束を出射する光源を持った光学系が配
置されている。光学系としては、レーザー光源８、ミラ
ー９、１０、ハーフミラー１１、及び測定光検出器１
２、１３を備えている。さらには、図示はしないが、測
定光検出器１２、１３の出力側に測定光解析用の設備が
接続されている。

【０００５】このような温度依存特性測定装置におい
て、たとえば、被測定試料として光学ガラスの屈折率の
温度係数（ｄｎ／ｄｔ）を測定しようとする場合には、
測定室内は、通常、−８０℃〜＋１５０℃の温度域にわ
たり、たとえば１℃／分の昇温速度をもって温度制御さ
れる。

【０００６】光学ガラスの温度依存特性を測定するとき
は、先ず、２つの光学原器５，６で両側から密着挟持し
た被測定試料７の光学ガラスを測定室に入れ、減圧設備
を作動させて測定室を排気、減圧した後、二重壁内に液
体窒素を入れて室内を所定の冷却温度まで冷却し、自然
昇温により測定開始温度まで光学ガラスが昇温するのを
待つ。その間、被測定試料７の昇温速度は、ほぼ１℃／
分に飽和した段階で管状ニクロム線ヒータ３に給電し、
昇温速度を１℃／分に保持するようにする。そして、光
学ガラスが測定開始温度に達したところで、光学ガラス
の屈折率の温度係数の測定を開始する。測定はガラス窓
２の上方に設置された光学系により、フィゾー干渉法を
用いて行われる。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】ところで、上記したク
ライオスタットは、被測定試料を外側から液体窒素及び
管状ニクロム線ヒータにより間接的に冷却又は加熱する
という構造を有するため、冷却又は加熱時の応答速度が
遅いという特性を有し、このため、被測定試料温度の正
確な自動制御は困難である。

【０００８】また、測定室の構造上外壁からの輻射を受
けて、自然昇温だけで０．５℃／分を越える昇温速度に
なる。このため、昇温速度が１℃／分以上の場合は管状
ニクロム線ヒータの使用により制御可能であるが、０℃
以下の低温域にあって被測定試料の昇温速度を１℃／分
未満に制御することは不可能である。

【０００９】被測定試料を冷却するには、測定開始温度
よりも更に低い温度まで冷却しなければならない。測定
開始温度よりも低い温度に冷却するのに必要な冷却最低
温度及び冷却速度は、充填する液体窒素の量に依存する
が、この量は、経験的なものに頼っている。

【００１０】また、槽の壁面は二重構造となってその内
部には液体窒素が存在するため、被測定試料のクライオ
スタット内への搬出入は、槽上部の測定光が入出射する
窓ガラスに設けられたフランジの開閉によって行われる
ことになるが、被測定試料の上下面を光学原器で挟み込
んだ状態で、クライオスタット内の試料台上に搬入し設
置することは熟練を要する困難な作業である。

【００１１】さらに、測定に必要な光束のクライオスタ
ット内への照射は、ガラス窓の方向のみに限定され、か
つその上方には測定光学系が配置されているため、測定
中に限らず被測定試料の状態を観測することはできな
い。

【００１２】本発明はこのような点に鑑みてなされたも
のであり、冷却又は加熱時の応答速度が速く、１℃／分
未満の昇温速度に制御することができ、液体窒素の充填
量の制御を可能にし、被測定試料の測定室への搬入を容
易にした、温度依存特性測定装置を提供することを目的
とする。

【００１３】

【課題を解決するための手段】本発明では上記課題を解
決するために、被測定試料を連続的に冷却又は加熱して
温度を関数とした物性を測定する温度依存特性測定装置
において、側部に前記被測定試料を出し入れするための
密閉自在な扉を有し、上部に測定用の光束を入出射させ
るための透明材料製の窓を有する測定室と、前記測定室
の内部を減圧する減圧手段と、加熱手段と前記測定室の
外部より冷却媒が供給される冷却手段とを有し、前記測
定室の内部に設置されていて測定時には前記被測定試料
が載置される台座ボックスと、前記測定室の窓の上方に
配設されて前記測定用の光束を出射する光源を有する光
学系とを備えたことを特徴とする温度依存特性測定装置
が提供される。

【００１４】

【作用】上述の手段によれば、被測定試料が載置される
台座ボックスは、加熱手段と冷却手段とを有して、台座
ボックス自体が直接加熱・冷却される構成にされてお
り、これにより被測定試料を冷却又は加熱する時の応答
速度が速くなり、これに伴って１℃／分未満の温度勾配
の設定が可能になる。測定室にはその側部に密閉自在な
扉を有しているため、被測定試料の測定室への搬入が容
易である。

【００１５】

【実施例】以下、本発明の一実施例を図面に基づいて説
明する。図１は本発明の温度依存特性測定装置の一構成
例を示す図である。この図において、図９に示した要素
と同一又は同等の部分については同一の符号を付してあ
る。

【００１６】本発明による温度依存特性測定装置は、被
測定試料７が入る測定室２０及び光学系により構成され
る。測定室２０は、その上部に測定のための入射光束と
被測定試料７及び光学原器５，６からの反射光束とを透
過させるための固定設置のガラス窓２を有し、さらに、
図では左側に示した側部に、被測定試料７を出し入れす
るための扉２１を有している。この扉２１には測定中の
被測定試料７を観測できるようガラスが嵌め込まれてい
る。また、扉２１は蝶番２２により前方に開閉自在であ
り、フランジ構造を有していて、Ｏリング、ノブ付ボル
ト２３などを用いて密閉できるようにしている。

【００１７】測定室２０内の底部には、被測定試料７及
び光学原器５，６を載置する台座ボックス３０が備えら
れている。この台座ボックス３０の詳細な構成を以下に
説明する。

【００１８】図２は台座ボックスの一実施例を示す平面
図であり、図３は図２のＡ−Ａ矢視図である。これらの
図において、被測定試料が載置される台座ボックス３０
は内部が中空の中空部３１とこの中空部３１の上部に設
けられた表面金属板３２とで構成される。

【００１９】表面金属板３２の表面（上面）は、光学原
器６が載置されるため平面研磨されている。表面金属板
３２の背面（中空内部側）には、凹部が設けられてお
り、この凹部にヒータ３３が密着して配設されている。
このヒータ３３としては、たとえば、板状のセラミック
ヒータが使用される。また、この表面金属板３２は熱変
形を防止するために中空部３１とは分離可能な構造にし
てある。さらに、表面金属板３２は高伝熱材で作られて
おり、好適には、銅製とすることができる。なお、台座
ボックス３０の中空部３１は表面金属板３２と同じ材質
の金属によって作られるのが好ましい。

【００２０】台座ボックス３０の中空部３１には、表面
金属板３２の背面に設けられたヒータ３３の下方に所定
の空間を保って、冷却媒である液体窒素を導入するため
のパイプ３４が配設されている。液体窒素が供給される
パイプ３４の入口部３５は、図１に示したように、測定
室２０の外部に設けられた電磁弁３６を介して液体窒素
タンク３７に接続されている。一方、パイプ３４の出口
部３８は測定室２０の外部に導き出されて大気中に開口
されている。

【００２１】台座ボックス３０の表面金属板３２のほぼ
中央には、熱電対孔３９が穿設されており、この熱電対
孔３９に台座ボックス３０の温度を計測する熱電対４０
が内側より挿入されている。

【００２２】図１に戻って、測定室２０の外側には、制
御装置４１が設置されており、台座ボックス３０の温度
を計測するための熱電対４０が接続されている。制御装
置４１にはまた、その熱電対４０の測定値に基づいて台
座ボックス３０の温度を制御するため、制御出力が台座
ボックス３０内に装着したヒータ３３及び液体窒素を供
給するパイプ３４の途中に設置された電磁弁３６にそれ
ぞれ接続されており、これらヒータ３３の給電量及び液
体窒素の供給量制御用の電磁弁３６をたとえばＰＩＤ制
御又はＯＮ／ＯＦＦ制御することによって所望の温度勾
配を得るようにしている。制御装置４１はさらに、測定
室２０を排気し減圧する減圧設備、たとえばロータリポ
ンプ４２に接続されている。

【００２３】さらに、測定室２０の上部に設置されたガ
ラス窓２の上方には、フィゾー干渉法を使用した測定を
行うための光学系が配置されている。すなわち、レーザ
ー光源８、ミラー９、１０及びハーフミラー１１が、レ
ーザー光源８からの特定波長の光束をガラス窓２を介し
て光学原器５，６及び被測定試料７の全面に投射される
ように構成されている。一方、光学原器５，６及び被測
定試料７からの反射光は、ガラス窓２、ミラー１０及び
ハーフミラー１１を介して、ピンホールを備えそれぞれ
光学原器側の光束上と被測定試料側からの光束上とに配
置されたたとえばホトセルで構成の測定光検出器１２、
１３で受光される。被測定試料７の温度変化に伴って変
化する干渉縞の強度つまり濃度変化は測定光検出器１
２、１３にて電気信号に変換され、その出力は増幅回路
５１、５２を経て電圧変換され、ディジタルマルチメー
タ５３、５４にて測定されるよう構成されている。ま
た、被測定試料７の温度を検出するため、被測定試料７
に設けられた横穴の中に熱電対５５が挿入されており、
この出力がディジタル温度計５６に入力されている。デ
ィジタルマルチメータ５３、５４及びディジタル温度計
５６の測定出力はそれぞれコンピュータ５７に入力する
よう構成されている。コンピュータ５７には表示装置５
８が接続されており、コンピュータ５７による温度依存
特性の解析結果を表示するようにしている。

【００２４】さらに、測定室２０内において、台座ボッ
クス３０の上には、円筒形状の銅製の輻射防止カバー５
９が取り外し自在に配設されている。この輻射防止カバ
ー５９は測定時に光学原器５，６及び被測定試料７を囲
って周囲からの輻射熱による温度上昇の影響を防止する
のに使用されるもので、必要に応じて、台座ボックス３
０に被測定試料７を載置した後に上から被せるようにす
る。もちろん、光学原器５，６及び被測定試料７を測定
室２０内に搬入し、台座ボックス３０の所定位置に設置
する場合には、この輻射防止カバー５９は外に取り出さ
れる。輻射熱による温度上昇が無視できるような測定時
には使用されない。さらに、輻射防止カバー５９を使用
した測定時における被測定試料７の観測が必要な場合に
備えて、輻射防止カバー５９の側部に開閉自在な観測用
窓６０を備えるようにすることもできる。

【００２５】図４は被測定試料の台座ボックスへの設置
状態を示す断面図であり、図５は被測定試料の台座ボッ
クスへの設置状態を示す平面図である。被測定試料７の
屈折率の温度係数及び熱膨張係数のフィゾー干渉法を用
いた測定を行う場合には、被測定試料７は両面が高精度
に光学研磨された２つのオプティカルフラット面を有す
る光学原器５，６で密着挟持した状態で台座ボックス３
０の上に載置される。光学原器５，６は中央が開いてい
てリング状の形状を有し、被測定試料７は直径が光学原
器５，６の開口円の直径より大きく外径より小さな円板
状の形状に形成されていて、それぞれは平行平面を有し
ている。被測定試料７の側部には横穴が開けられてお
り、その横穴の中に熱電対５５が挿入されて、被測定試
料７の屈折率の温度係数及び熱膨張係数測定時の温度と
して検出するようにしている。

【００２６】これら光学原器５，６及び被測定試料７は
レーザー光源８からの光束に対して若干傾斜して設置さ
れる。被測定試料７に入射した試料光側の入射光束ａ，
ｂは被測定試料７の表面と裏面とで反射する。反射され
たこれらの干渉光ｃは伝播距離に差があるので、干渉縞
が発生する。この干渉縞の間隔は被測定試料７の厚さに
よって変化するので、干渉縞の間隔から被測定試料７の
屈折率、熱膨張係数が測定される。測定は試料光側の光
束のみの測定だけではなく、光学原器５，６のオプティ
カルフラットの裏面及び表面の反射光による標準光側干
渉光で得られた干渉縞による測定と比較して行われ、測
定精度を上げるようにしている。

【００２７】次に、本発明の温度依存特性測定装置を用
いて、透明な光学材料の屈折率の温度係数を測定する場
合について説明する。被測定試料７を、その上下面を２
枚の光学原器５，６で密着挟持して、測定室２０内の台
座ボックス３０上の所定位置に載置する。次に、被測定
試料７を搬入するために開けておいた測定室２０の扉２
１を閉じる。そして、所定の波長光、たとえばＨｅ−Ｎ
ｅ又はアルゴンレーザーのレーザー光源８からの光束
を、ミラー９、１０及びハーフミラー１１を介しガラス
窓２を透過して光学原器５の全面に投射し、光学原器５
の下面と光学原器６の上面とで反射してきた光が干渉し
て干渉縞が得られるように測定室２０の上方の光学系の
位置調整をする（以後、標準光側干渉光という）。被測
定試料７の上面と下面とで反射してきた光についても干
渉縞が得られるように光学系の位置調整を行う（以後、
試料光側干渉光という）。

【００２８】次に、ロータリポンプ４２により測定室２
０内を排気し、たとえば真空度５×１０^-3キロパスカル
程度まで減圧した後、液体窒素タンク開閉用の電磁弁３
６を開き、台座ボックス３０内に液体窒素を導入し、被
測定試料７の温度を所定の最低冷却温度、たとえば−１
３０℃まで冷却する。台座ボックス３０を介して冷却さ
れる被測定試料７の温度は熱電対５５によって測定さ
れ、最低冷却温度に達すると電磁弁３６は閉じられる。
すると、その温度は上昇し始めるが、測定温度域をたと
えば−５０℃〜＋１１０℃として、その下限温度より予
め低く設定した制御開始温度、たとえば−８０℃に達し
たとき、台座ボックス３０の表面金属板３２に設置され
た熱電対４０からの出力を得てプログラムコントローラ
付の制御装置４１により、ヒータ３３及び電磁弁３６を
ＰＩＤ制御及びＯＮ／ＯＦＦ制御することで、台座ボッ
クス３０の温度制御を開始する。制御装置４１に予め設
定入力された昇温勾配に基づき、時間に対する設定温度
と熱電対４０からの出力温度との比較演算をして、その
結果に基づき台座ボックス３０に内蔵されたヒータ３３
への給電制御及び電磁弁３６による液体窒素供給量を制
御するこによって、測定温度域にわたって所定の、たと
えば昇温速度１℃／分で制御される。

【００２９】照射された光の反射光である標準光側干渉
光及び試料光側干渉光は、それぞれ別個にピンホール付
の測定光検出器１２、１３に導かれて電気信号に変換さ
れ、増幅回路５１、５２で増幅された後、ディジタルマ
ルチメータ５３、５４で測定され、その出力がコンピュ
ータ５７に送られる。一方、熱電対５５で検出された被
測定試料７の温度はディジタル温度計５６を通ってコン
ピュータ５７に送られる。コンピュータ５７に入力され
たディジタルマルチメータ５３、５４及びディジタル温
度計５６の各出力値を比較演算することによって、各温
度での屈折率の温度係数（ｄｎ／ｄｔ）値が求められ、
表示装置５８に表示される。又は、必要に応じて、図示
はしないが、コンピュータ５７に接続されたプリンタに
て各温度での屈折率の温度係数値データが出力される。

【００３０】熱膨張係数（α＝ｄｌ／ｄｔ）を測定する
場合には、標準光側干渉光の検出のみで可能なため、被
測定試料が不透明材料であってもその測定は可能であ
る。図６は台座ボックスの別の実施例を示す平面図であ
り、図７は図６のＢ−Ｂ矢視図である。これらの図にお
いて、被測定試料７が載置される台座ボックス３０は内
部が中空の中空部３１ａとこの中空部３１ａの上部に設
けられ表面が平面研磨されてた表面金属板３２ａとで構
成され、さらに表面金属板３２ａの背面と中空部３１ａ
の上部との間に設けられた凹部にはヒータ３３ａが密着
して配設されている。ヒータ３３ａとしては、たとえ
ば、板状のセラミックヒータが使用される。また、表面
金属板３２ａの表面にはその周囲から中心部に向かって
溝３９ａが設けられており、その溝３９ａには熱電対４
０ａが配設されている。台座ボックス３０の中空部３１
ａ及び表面金属板３２ａは、好ましくは、銅製とする。

【００３１】台座ボックス３０の中空部３１ａは冷却媒
である液体窒素が直接導入される容器を構成し、その入
口部３５ａは測定室２０の外に設置された電磁弁３６か
らのパイプに接続され、出口部３８ａは測定室２０の外
に導かれるパイプに接続されている。したがって、この
台座ボックス３０によれば、表面金属板３２ａは中空部
３１ａに導入される液体窒素により直接冷却が可能にな
り、被測定試料７の温度を下げる場合及び温度制御時の
応答時間を短縮することができる。

【００３２】図８は測定温度域における測定室内の温度
変化を示す図である。この図において、実線で示した曲
線は本発明の測定装置による、すなわち台座ボックス３
０を使用して冷却・加熱した場合の温度特性である。ま
た、比較のために、従来の測定装置による、すなわちク
ライオスタット使用時の温度特性を一点鎖線の曲線で示
してある。

【００３３】曲線Ｔ１は制御装置４１により液体窒素及
びヒータを使用する温度制御で得られた昇温速度１．５
℃／分の温度変化を示し、曲線Ｔ２は昇温速度１．０℃
／分の温度変化を示し、曲線Ｔ３は昇温速度０．５℃／
分の温度変化を示している。本発明の測定装置によれ
ば、液体窒素及びヒータを使用して、台座ボックス３０
をほとんど時間差なく直接的に温度制御することができ
るため、昇温速度として１℃／分以下の温度勾配に設定
して制御することができる。したがって、実質的には、
０．１℃／分あるいは０．２℃／分単位で任意の温度勾
配を設定することができることになる。

【００３４】一方、比較のために示した曲線Ｔ１ａはク
ライオスタットによる温度制御で得られた昇温速度１．
５℃／分の温度変化を示し、曲線Ｔ２ａは昇温速度１．
０℃／分の温度変化を示している。なお、クライオスタ
ットを用いた場合の温度制御は、クライオスタットによ
って一旦、−１００℃まで冷却した後、自然昇温により
測定開始温度である−５０℃まで昇温させるが、このと
きの昇温速度は自然昇温だけでも０．５℃／分を越える
ため、１．０℃／分以下の昇温速度に制御することは不
可能である。１．０℃／分以上の昇温速度に制御するこ
とについては、測定開始温度以上でヒータを使用するこ
とにより制御が可能である。

【００３５】本発明の測定装置は、測定室２０内への測
定光の導入が扉２１側からも可能であるため、低温から
高温域にわたって、台座ボックス３０上に載置された透
明な被測定試料７の分光計測、歪み計測も可能である。
かつ、低温から高温域にわたっての被測定試料の電気的
特性、たとえば体積抵抗率、表面抵抗率、誘電率の温度
係数などの計測装置としても使用できる。

【００３６】

【発明の効果】以上説明したように本発明では、試料を
置く台として台座ボックスを設け、その内部に循環供給
される液体窒素及びその内部に設けられたヒータによっ
て台座ボックスの温度を直接制御し得るように構成し
た。このため、台座ボックス上に載置される被測定試料
の低温域における温度応答特性が改善され、被測定試料
は高い精度での所定の温度勾配に従って昇温し、極めて
精度の高い屈折率の温度係数（ｄｎ／ｄｔ）、熱膨張係
数（ｄｌ／ｄｔ）を得ることできる。

【００３７】さらに、本発明の測定装置は、台座ボック
スを使用することによって、測定室内の周囲からの加熱
／冷却が不要なため、装置の側方に開閉自在な扉を設け
ることができ、被測定試料の出し入れが容易、かつ測定
中の被測定試料の観察が可能となる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の温度依存特性測定装置の一構成例を示
す図である。

【図２】台座ボックスの一実施例を示す平面図である。

【図３】図２のＡ−Ａ矢視図である。

【図４】被測定試料の台座ボックスへの設置状態を示す
断面図である。

【図５】被測定試料の台座ボックスへの設置状態を示す
平面図である。

【図６】台座ボックスの別の実施例を示す平面図であ
る。

【図７】図６のＢ−Ｂ矢視図である。

【図８】測定温度域における測定室内の温度変化を示す
図である。

【図９】従来の温度依存特性測定装置の概略構成図であ
る。

【符号の説明】

５，６ 光学原器 ７ 被測定試料 ２０ 測定室 ２１ 扉 ３０ 台座ボックス ３１ 中空部 ３２ 表面金属板 ３３ ヒータ ３４ パイプ ３６ 電磁弁 ３７ 液体窒素タンク ４０ 熱電対 ４１ 制御装置 ４２ ロータリポンプ ５５ 熱電対 ５９ 輻射防止カバー ６０ 観測用窓

Claims (7)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 被測定試料を連続的に冷却又は加熱して
   温度を関数とした物性を測定する温度依存特性測定装置
   において、 側部に前記被測定試料を出し入れするための密閉自在な
   扉を有し、上部に測定用の光束を入出射させるための透
   明材料製の窓を有する測定室と、 前記測定室の内部を減圧する減圧手段と、 加熱手段と前記測定室の外部より冷却媒が供給される冷
   却手段とを有し、前記測定室の内部に設置されていて測
   定時には前記被測定試料が載置される台座ボックスと、 前記測定室の窓の上方に配設されて前記測定用の光束を
   出射する光源を有する光学系と、 を備えたことを特徴とする温度依存特性測定装置。
2. 【請求項２】 前記光学系より得られた光束を計測して
   解析する解析手段をさらに備えたことを特徴とする請求
   項１記載の温度依存特性測定装置。
3. 【請求項３】 前記台座ボックスは、上面に光学原器に
   よって密着挟持された前記被測定試料が載置される表面
   を有し下面には前記加熱手段が配設される表面金属板
   と、前記表面金属板に密着配置され中に前記冷却手段を
   有する中空部とから構成されていることを特徴とする請
   求項１記載の温度依存特性測定装置。
4. 【請求項４】 前記加熱手段は、板状のセラミックヒー
   タであることを特徴とする請求項１記載の温度依存特性
   測定装置。
5. 【請求項５】 前記冷却手段は、前記中空部の中に前記
   測定室の外部より導入された冷却媒が流れるパイプを収
   容するように構成したことを特徴とする請求項３記載の
   温度依存特性測定装置。
6. 【請求項６】 前記冷却手段は、前記測定室の外部より
   供給された冷却媒を前記中空部に直接導入するように構
   成したことを特徴とする請求項３記載の温度依存特性測
   定装置。
7. 【請求項７】 前記台座ボックスの前記表面金属板の温
   度を検出して前記加熱手段の加熱量及び前記冷却媒の供
   給量を制御し、前記表面金属板の温度を所定の温度勾配
   にて昇温制御する制御手段をさらに備えたことを特徴と
   する請求項１記載の温度依存特性測定装置。