JPH08271216A - ブロックゲージの非密着光波干渉測定法 - Google Patents
ブロックゲージの非密着光波干渉測定法Info
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- JPH08271216A JPH08271216A JP9419195A JP9419195A JPH08271216A JP H08271216 A JPH08271216 A JP H08271216A JP 9419195 A JP9419195 A JP 9419195A JP 9419195 A JP9419195 A JP 9419195A JP H08271216 A JPH08271216 A JP H08271216A
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- block gauge
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 従来の干渉計とほぼ同等の精度でブロックゲ
ージの長さを測定でき、ブロックゲージをベースプレー
トに密着することなく、測定能率を大幅に向上させる新
規な測定方法を提供する。 【構成】 光源からの光をブロックゲージに向う光と光
学楔を介して参照ミラーに向う光に分けるハーフミラー
と、ブロックゲージに向う光を再度分けるハーフミラー
と、該ハーフミラーで分けられた光を各々ブロックゲー
ジの両端面に向ける２個の反射ミラーとを用い、ＬＢ＝
λ／２｛Ｎ＋（ε3−ε1）＋（ε3−ε2）｝の関係に従
ってブロックゲージ長さＬＢを求める測定方法であっ
て、（ε3−ε1）及び（ε3−ε2）は参照ミラーからの
光とブロックゲージ端面からの反射光との干渉縞のズレ
から、光学楔によってスクリーンの干渉縞を移動するこ
とにより測定し、既知のＮとλを用いてブロックゲージ
の長さを測定する。
ージの長さを測定でき、ブロックゲージをベースプレー
トに密着することなく、測定能率を大幅に向上させる新
規な測定方法を提供する。 【構成】 光源からの光をブロックゲージに向う光と光
学楔を介して参照ミラーに向う光に分けるハーフミラー
と、ブロックゲージに向う光を再度分けるハーフミラー
と、該ハーフミラーで分けられた光を各々ブロックゲー
ジの両端面に向ける２個の反射ミラーとを用い、ＬＢ＝
λ／２｛Ｎ＋（ε3−ε1）＋（ε3−ε2）｝の関係に従
ってブロックゲージ長さＬＢを求める測定方法であっ
て、（ε3−ε1）及び（ε3−ε2）は参照ミラーからの
光とブロックゲージ端面からの反射光との干渉縞のズレ
から、光学楔によってスクリーンの干渉縞を移動するこ
とにより測定し、既知のＮとλを用いてブロックゲージ
の長さを測定する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】ブロックゲージをメートルの定義
に基づいて正確に校正するための光波干渉計による測定
法に関し、特に、ブロックゲージをベースプレートに密
着させることなく迅速に測定する新規な測定方法に関す
る。
に基づいて正確に校正するための光波干渉計による測定
法に関し、特に、ブロックゲージをベースプレートに密
着させることなく迅速に測定する新規な測定方法に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】最近、製品の高度化により、生産現場に
おいても高精度な長さ標準器が求められ、高精度で簡便
な標準器としてブロックゲージは欠かせないものになっ
ている。 ブロックゲージをメートルの定義に基づいて
正確に校正するための光波干渉計による測定法は、主に
マイケルソン型の干渉計を用いて行われている。この干
渉計は構造が簡単で扱い易いが、ブロックゲージをベー
スプレートに密着する必要があり、この作業は熟練を要
すると共に作業性が悪く、かつ、測定誤差の原因にもな
り得る。
おいても高精度な長さ標準器が求められ、高精度で簡便
な標準器としてブロックゲージは欠かせないものになっ
ている。 ブロックゲージをメートルの定義に基づいて
正確に校正するための光波干渉計による測定法は、主に
マイケルソン型の干渉計を用いて行われている。この干
渉計は構造が簡単で扱い易いが、ブロックゲージをベー
スプレートに密着する必要があり、この作業は熟練を要
すると共に作業性が悪く、かつ、測定誤差の原因にもな
り得る。
【０００３】また、図２ないし図４に示すごとく、ブロ
ックゲージをベースプレートに密着しないで、干渉計を
用いた合致法による絶対測定が知られている。これは、
図２、図３において先ず密着有孔ブロックＣ、Ｄを矢印
Ａのごとく左右に微動させ、図２のビームスプリッタＭ
からの光路長が左右ビームとも等しくなるように調整す
る。完全に等しくなると図４の１の位置に白色干渉縞が
現れる。次にブロックゲージを微動させブロックゲージ
の中心面がＹＹ’Ｚ面と一致すると図４の２の位置に白
色干渉縞が現れる。
ックゲージをベースプレートに密着しないで、干渉計を
用いた合致法による絶対測定が知られている。これは、
図２、図３において先ず密着有孔ブロックＣ、Ｄを矢印
Ａのごとく左右に微動させ、図２のビームスプリッタＭ
からの光路長が左右ビームとも等しくなるように調整す
る。完全に等しくなると図４の１の位置に白色干渉縞が
現れる。次にブロックゲージを微動させブロックゲージ
の中心面がＹＹ’Ｚ面と一致すると図４の２の位置に白
色干渉縞が現れる。
【０００４】この状態で、光源を単色光に切り換えると
図４の３の箇所に単色の干渉縞が現れる。先の白色干渉
縞１−２を結んだ線に対して単色光の縞のくいちがいを
測定することによって、通常の干渉測長が可能となり、
これはあたかもＹＹ’Ｚ面にベースプレートがあり、そ
こにブロックゲージを密着したような測定を行ったのと
等しい効果をもつものである。
図４の３の箇所に単色の干渉縞が現れる。先の白色干渉
縞１−２を結んだ線に対して単色光の縞のくいちがいを
測定することによって、通常の干渉測長が可能となり、
これはあたかもＹＹ’Ｚ面にベースプレートがあり、そ
こにブロックゲージを密着したような測定を行ったのと
等しい効果をもつものである。
【０００５】しかしながら、この方法による時は白色干
渉縞の調整に時間がかかること、白色光を使用するため
温度上昇があること、ブロックゲージの面の１／２の面
積にしか干渉縞が現れないのでブロックゲージの平面度
や平行度が良くないときには全面にわたっての情報が得
られない等の欠点があり、最近では一般に使用されてい
ない。
渉縞の調整に時間がかかること、白色光を使用するため
温度上昇があること、ブロックゲージの面の１／２の面
積にしか干渉縞が現れないのでブロックゲージの平面度
や平行度が良くないときには全面にわたっての情報が得
られない等の欠点があり、最近では一般に使用されてい
ない。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】本発明は上記の欠点を
解消し、従来の干渉計とほぼ同等の精度でブロックゲー
ジの長さを測定でき、測定能率を大幅に向上させる新規
な測定方法を提供することである。
解消し、従来の干渉計とほぼ同等の精度でブロックゲー
ジの長さを測定でき、測定能率を大幅に向上させる新規
な測定方法を提供することである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】光源ＬＳから出た光をブ
ロックゲージＢＧに向う光と光学楔Ｗを経て参照ミラー
ＭRに向う光に分けるハーフミラーＨＭRと、ブロックゲ
ージに向う光を再度分けるハーフミラーＨＭと、該ハー
フミラーＨＭで分けられた光を各々ブロックゲージの両
端面に向ける２個の反射ミラーＭ1、Ｍ2とを用い、ＬＢ
＝λ／２｛Ｎ＋（ε3−ε1）＋（ε3−ε2）｝の関係に
従ってブロックゲージ長さＬＢを求める測定方法であっ
て、（ε3−ε1）及び（ε3−ε2）は参照ミラーＭRか
らの光とブロックゲージ端面からの反射光との干渉縞の
ズレにより測定し、既知のＮとλを用いてブロックゲー
ジの長さＬＢを測定することを特徴とする非密着光波干
渉測定法。
ロックゲージＢＧに向う光と光学楔Ｗを経て参照ミラー
ＭRに向う光に分けるハーフミラーＨＭRと、ブロックゲ
ージに向う光を再度分けるハーフミラーＨＭと、該ハー
フミラーＨＭで分けられた光を各々ブロックゲージの両
端面に向ける２個の反射ミラーＭ1、Ｍ2とを用い、ＬＢ
＝λ／２｛Ｎ＋（ε3−ε1）＋（ε3−ε2）｝の関係に
従ってブロックゲージ長さＬＢを求める測定方法であっ
て、（ε3−ε1）及び（ε3−ε2）は参照ミラーＭRか
らの光とブロックゲージ端面からの反射光との干渉縞の
ズレにより測定し、既知のＮとλを用いてブロックゲー
ジの長さＬＢを測定することを特徴とする非密着光波干
渉測定法。
【０００８】
【実施例】図１に本発明の測定法に係る光学系を示す。
光源ＬＳから出た光はハーフミラーＨＭRでブロックゲ
ージＢＧに向かう光と光学楔Ｗを経て参照ミラーＭRに
向かう光に分けられる。ブロックゲージに向かった光は
さらにハーフミラーＨＭで分けられ、その１部はブロッ
クゲージ面で反射されて行きと同じ光路を戻り、またブ
ロックゲージの脇を通り抜けた光はＨＭ−Ｍ1−Ｍ2−Ｈ
ＭあるいはＨＭ−Ｍ2−Ｍ1−ＨＭを通りそれぞれＨＭR
で参照光と干渉する。ここで、Ｍ1, Ｍ2は反射ミラーで
ある。
光源ＬＳから出た光はハーフミラーＨＭRでブロックゲ
ージＢＧに向かう光と光学楔Ｗを経て参照ミラーＭRに
向かう光に分けられる。ブロックゲージに向かった光は
さらにハーフミラーＨＭで分けられ、その１部はブロッ
クゲージ面で反射されて行きと同じ光路を戻り、またブ
ロックゲージの脇を通り抜けた光はＨＭ−Ｍ1−Ｍ2−Ｈ
ＭあるいはＨＭ−Ｍ2−Ｍ1−ＨＭを通りそれぞれＨＭR
で参照光と干渉する。ここで、Ｍ1, Ｍ2は反射ミラーで
ある。
【０００９】図１でＨＭ−Ｍ1−ＢＧの光路長をＬ1，Ｈ
Ｍ−Ｍ2−ＢＧの光路長をＬ2，ＨＭ−Ｍ1−Ｍ2−ＨＭの
光路長をＬ3とすると、ブロックゲージの長さＬＢは次
式（１）で与えられる。 ＬＢ＝Ｌ3−Ｌ1−Ｌ2・・・・・・・・・（１） 一方、入射光の波長をλとすると、各光路長Ｌ1,Ｌ2,Ｌ
3は、次式（２）の関係となる。 ２Ｌ1＝λ（Ｎ1＋ε1） ２Ｌ2＝λ（Ｎ2＋ε2） Ｌ3＝λ（Ｎ3＋ε3）・・・・・・・・（２） ここで、Ｎ1，Ｎ2およびＮ3はそれぞれ適当な整数を表
し、またε1、ε2およびε3はそれぞれ適当な少数を表
す。
Ｍ−Ｍ2−ＢＧの光路長をＬ2，ＨＭ−Ｍ1−Ｍ2−ＨＭの
光路長をＬ3とすると、ブロックゲージの長さＬＢは次
式（１）で与えられる。 ＬＢ＝Ｌ3−Ｌ1−Ｌ2・・・・・・・・・（１） 一方、入射光の波長をλとすると、各光路長Ｌ1,Ｌ2,Ｌ
3は、次式（２）の関係となる。 ２Ｌ1＝λ（Ｎ1＋ε1） ２Ｌ2＝λ（Ｎ2＋ε2） Ｌ3＝λ（Ｎ3＋ε3）・・・・・・・・（２） ここで、Ｎ1，Ｎ2およびＮ3はそれぞれ適当な整数を表
し、またε1、ε2およびε3はそれぞれ適当な少数を表
す。
【００１０】式（１）および式（２）より、結局ブロッ
クゲージの長さＬＢは式（３）で表すことができる。 ＬＢ＝λ／２｛Ｎ＋（ε3−ε1）＋（ε3−ε2）｝・・（３） ただし、Ｎ＝２Ｎ3−Ｎ1−Ｎ2である。
クゲージの長さＬＢは式（３）で表すことができる。 ＬＢ＝λ／２｛Ｎ＋（ε3−ε1）＋（ε3−ε2）｝・・（３） ただし、Ｎ＝２Ｎ3−Ｎ1−Ｎ2である。
【００１１】この式は通常の光波干渉測定で行われてい
る合致方と同様にしてブロックゲージの長さを測定でき
ることを示している。すなわち、（ε3−ε1）および
（ε3−ε2）は参照ミラーＭＲからの光との干渉縞のズ
レによって知ることができる。したがって、ＬＢのおよ
その長さ、すなわちＮおよびλが知れていればブロック
ゲージの正確な長さを知ることができる。
る合致方と同様にしてブロックゲージの長さを測定でき
ることを示している。すなわち、（ε3−ε1）および
（ε3−ε2）は参照ミラーＭＲからの光との干渉縞のズ
レによって知ることができる。したがって、ＬＢのおよ
その長さ、すなわちＮおよびλが知れていればブロック
ゲージの正確な長さを知ることができる。
【００１２】図１に示す本発明に使用する光学系は、光
源に波長０.６３３μmのＨe-Ｎe安定化レーザーを用い
る。このレーザーの波長は、ヨウ素安定化レーザーとの
周波数の比較により、７桁以上の精度で校正されてい
る。光学楔Ｗはそれを横切る光路と垂直な方向に移動で
きるようになっており、その移動量は電気マイクロメー
ターで読み取ることができる。この光学楔によってスク
リーンー上の干渉縞を移動させることができ、（ε3−
ε1）および（ε3−ε2）を測定することができる。
Ｓ1，Ｓ2はブロックゲージ面と同じ面積を遮断するシャ
ッターであり、（ε3−ε1）の測定時にはＳ1を開けＳ2
を閉じ、光路Ｌ1とＬ2の干渉が起こらないようにするこ
とができる。これらの光学系は、室温が２０±０．２℃
に制御された恒温室に設置する。
源に波長０.６３３μmのＨe-Ｎe安定化レーザーを用い
る。このレーザーの波長は、ヨウ素安定化レーザーとの
周波数の比較により、７桁以上の精度で校正されてい
る。光学楔Ｗはそれを横切る光路と垂直な方向に移動で
きるようになっており、その移動量は電気マイクロメー
ターで読み取ることができる。この光学楔によってスク
リーンー上の干渉縞を移動させることができ、（ε3−
ε1）および（ε3−ε2）を測定することができる。
Ｓ1，Ｓ2はブロックゲージ面と同じ面積を遮断するシャ
ッターであり、（ε3−ε1）の測定時にはＳ1を開けＳ2
を閉じ、光路Ｌ1とＬ2の干渉が起こらないようにするこ
とができる。これらの光学系は、室温が２０±０．２℃
に制御された恒温室に設置する。
【００１３】光軸のズレ等が十分小さくなるように光学
系を調整し、系が熱平衡に達した後ブロックゲージの測
定を行う。干渉縞を測定するには、まずシャッターＳ1
を開きＳ2を閉じ（ε3−ε1）を測定し、次にシャッタ
ーの開閉を逆にして（ε3−ε2）を測定する。測定中の
ブロックゲージの温度はサーミスタ温度計で測定し、測
定されたブロックゲージ長の補正を行う。また、室温、
気圧および湿度を測定することにより、空気の屈折率に
よる補正を行う。
系を調整し、系が熱平衡に達した後ブロックゲージの測
定を行う。干渉縞を測定するには、まずシャッターＳ1
を開きＳ2を閉じ（ε3−ε1）を測定し、次にシャッタ
ーの開閉を逆にして（ε3−ε2）を測定する。測定中の
ブロックゲージの温度はサーミスタ温度計で測定し、測
定されたブロックゲージ長の補正を行う。また、室温、
気圧および湿度を測定することにより、空気の屈折率に
よる補正を行う。
【００１４】ブロックゲージの表面で光が反射する際に
生じる位相変化はゲージによらず一定であると仮定し
て、ベースプレートに密着を行い測定した値と比較する
ことにより実験的に補正する。実験では、寸法が１．０
１，１．５，８，２４．５および９０mmのブロックゲー
ジについて、それぞれ数回づつ測定を行った。
生じる位相変化はゲージによらず一定であると仮定し
て、ベースプレートに密着を行い測定した値と比較する
ことにより実験的に補正する。実験では、寸法が１．０
１，１．５，８，２４．５および９０mmのブロックゲー
ジについて、それぞれ数回づつ測定を行った。
【００１５】
【効果】実施例の測定で得られたブロックゲージの寸法
の測定値とＮＲＬＭ−ツガミ光波干渉計（マイケルソン
型干渉計）での測定値の比較を表１に示す。これより、
ＮＲＬＭ−ツガミ光波干渉計との測定値の差は±０．０
３μm以内であることが分かる。
の測定値とＮＲＬＭ−ツガミ光波干渉計（マイケルソン
型干渉計）での測定値の比較を表１に示す。これより、
ＮＲＬＭ−ツガミ光波干渉計との測定値の差は±０．０
３μm以内であることが分かる。
【００１６】光学系のアライメントは、実施例における
光学系ではＬ3の反時計回りの光路と時計回りの光路は
平行でなければならない。もし、このふたつの光路のな
す角がδθであったならば、測定されるブロックゲージ
の長さにはδθの二次までの近似で−（ＬBδθ2）／８
の誤差が生じる。また、Ｌ3とブロックゲージからの反
射光が平行でなく、そのふたつの光路のなす角がδψの
時には、やはりδψの二次までの近似で（Ｌ3δψ2）／
４の誤差が生じる。
光学系ではＬ3の反時計回りの光路と時計回りの光路は
平行でなければならない。もし、このふたつの光路のな
す角がδθであったならば、測定されるブロックゲージ
の長さにはδθの二次までの近似で−（ＬBδθ2）／８
の誤差が生じる。また、Ｌ3とブロックゲージからの反
射光が平行でなく、そのふたつの光路のなす角がδψの
時には、やはりδψの二次までの近似で（Ｌ3δψ2）／
４の誤差が生じる。
【００１７】本発明の光学系では、前者については反射
ミラーＭ1およびＭ2の向きを調整することによりδθを
約７×１０-4rad程度に、後者はブロックゲージの向き
を調整する事によりδψを約１０-4rad程度にすること
ができる。これより、もしＬ3が１ｍで１００mmのブロ
ックゲージを測定するならば、−（ＬBδθ2）／８＝−
５×１０-9ｍ、（Ｌ3δψ2）／４＝３×１０-9ｍの誤差
が生じることになる。この値は通常のブロックゲージの
寸法測定の誤差としては十分小さい。
ミラーＭ1およびＭ2の向きを調整することによりδθを
約７×１０-4rad程度に、後者はブロックゲージの向き
を調整する事によりδψを約１０-4rad程度にすること
ができる。これより、もしＬ3が１ｍで１００mmのブロ
ックゲージを測定するならば、−（ＬBδθ2）／８＝−
５×１０-9ｍ、（Ｌ3δψ2）／４＝３×１０-9ｍの誤差
が生じることになる。この値は通常のブロックゲージの
寸法測定の誤差としては十分小さい。
【００１８】実施例の実験結果では９０mmのブロックゲ
ージにおいて、本発明の測定値とＮＲＬＭ−ツガミ干渉
計の測定値との差が比較的大きくなっている。これは実
施例において温度補正に用いた温度計の精度が±０．０
３℃程度であり、それに主に起因するものと思われる。
これは、実験装置の断熱性および温度測定精度の向上等
によって改善されるであろう。１．０１〜２４．５mmの
ブロックゲージについてはＮＲＬＭ−ツガミ干渉計との
差は±０．０１μm以内であり、非常によく一致してい
る。
ージにおいて、本発明の測定値とＮＲＬＭ−ツガミ干渉
計の測定値との差が比較的大きくなっている。これは実
施例において温度補正に用いた温度計の精度が±０．０
３℃程度であり、それに主に起因するものと思われる。
これは、実験装置の断熱性および温度測定精度の向上等
によって改善されるであろう。１．０１〜２４．５mmの
ブロックゲージについてはＮＲＬＭ−ツガミ干渉計との
差は±０．０１μm以内であり、非常によく一致してい
る。
【００１９】本発明の実施例において使用した光学系で
は、ブロックゲージとベースプレトとの密着を必要とし
ないが、測定回数が従来の干渉計の二倍必要となる。こ
れは測定者の負担にもなるし、また測定誤差の原因にも
なり得る。しかし、近年、安価で高性能な光学電子素子
の普及にともない、干渉縞の自動測定技術も進歩してい
る。このような技術を用いれば測定回数が増える欠点も
解消される。また、観測光としてレーザー光を利用でき
るので、Ｓ／Ｎ比を大幅に向上することが可能である。
は、ブロックゲージとベースプレトとの密着を必要とし
ないが、測定回数が従来の干渉計の二倍必要となる。こ
れは測定者の負担にもなるし、また測定誤差の原因にも
なり得る。しかし、近年、安価で高性能な光学電子素子
の普及にともない、干渉縞の自動測定技術も進歩してい
る。このような技術を用いれば測定回数が増える欠点も
解消される。また、観測光としてレーザー光を利用でき
るので、Ｓ／Ｎ比を大幅に向上することが可能である。
【００２０】
【図１】本発明の測定法に使用する光学系の概略図であ
る。
る。
【図２】従来のブロックゲージ測定用の干渉計で、合致
法による絶対測定に使用する光学系の概略図である。
法による絶対測定に使用する光学系の概略図である。
【図３】図２に示す従来例に使用される、特別の２個の
ブロックゲージ部の拡大説明図である。
ブロックゲージ部の拡大説明図である。
【図４】従来例における合致法による絶体測定の場合
の、干渉縞の関係を示す図である。
の、干渉縞の関係を示す図である。
ＬＳ 光源 ＨＭR ハーフミラー ＨＭ ハーフミラー ＭR 参照ミラー Ｗ 光学楔 ＳＣ スクリーン ＢＧ ブロックゲージ Ｍ1,Ｍ2 反射ミラー Ｃ，Ｄ ブロックゲージ Ｃ1,Ｄ1 密着面 Ｇ1,Ｇ2 ブロックゲージ端面
Claims (1)
- 【請求項１】 光源ＬＳから出た光をブロックゲージＢ
Ｇに向う光と光学楔を介して参照ミラーＭRに向う光に
分けるハーフミラーＨＭRと、ブロックゲージに向う光
を再度分けるハーフミラーＨＭと、該ハーフミラーＨＭ
で分けられた光を各々ブロックゲージの両端面に向ける
２個の反射ミラーＭ1、Ｍ2とを用い、ＬＢ＝λ／２｛Ｎ
＋（ε3−ε1）＋（ε3−ε2）｝の関係に従ってブロッ
クゲージ長さＬＢを求める測定方法であって、 （ε3−ε1）及び（ε3−ε2）は参照ミラーＭRからの
光とブロックゲージ端面からの反射光との干渉縞のズレ
から、光学楔Ｗによってスクリーンの干渉縞を移動する
ことにより測定し、既知のＮとλを用いてブロックゲー
ジの長さＬＢを測定することを特徴とする非密着光波干
渉測定法。ただし、λは使用光の波長、Ｎはゲージ寸法
をλ／２で割った商の整数部分で縞次数を、εはその端
数部分を表すものとする。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9419195A JP2657906B2 (ja) | 1995-03-29 | 1995-03-29 | ブロックゲージの非密着光波干渉測定法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9419195A JP2657906B2 (ja) | 1995-03-29 | 1995-03-29 | ブロックゲージの非密着光波干渉測定法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08271216A true JPH08271216A (ja) | 1996-10-18 |
| JP2657906B2 JP2657906B2 (ja) | 1997-09-30 |
Family
ID=14103420
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9419195A Expired - Lifetime JP2657906B2 (ja) | 1995-03-29 | 1995-03-29 | ブロックゲージの非密着光波干渉測定法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2657906B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007285783A (ja) * | 2006-04-14 | 2007-11-01 | Mitsutoyo Corp | 寸法差測定方法、及びその装置 |
| JP2011519040A (ja) * | 2008-04-30 | 2011-06-30 | ローベルト ボツシユ ゲゼルシヤフト ミツト ベシユレンクテル ハフツング | 被測定物に照射するための光学装置、および被測定物の面を測定するための干渉測定装置 |
| CN103528524A (zh) * | 2013-09-16 | 2014-01-22 | 广东工业大学 | 透视测量树脂基复合材料内部离面位移场分布的装置及方法 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4203831B2 (ja) * | 2006-11-30 | 2009-01-07 | 独立行政法人産業技術総合研究所 | 光学材料の群屈折率精密計測方法 |
-
1995
- 1995-03-29 JP JP9419195A patent/JP2657906B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007285783A (ja) * | 2006-04-14 | 2007-11-01 | Mitsutoyo Corp | 寸法差測定方法、及びその装置 |
| JP2011519040A (ja) * | 2008-04-30 | 2011-06-30 | ローベルト ボツシユ ゲゼルシヤフト ミツト ベシユレンクテル ハフツング | 被測定物に照射するための光学装置、および被測定物の面を測定するための干渉測定装置 |
| CN103528524A (zh) * | 2013-09-16 | 2014-01-22 | 广东工业大学 | 透视测量树脂基复合材料内部离面位移场分布的装置及方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2657906B2 (ja) | 1997-09-30 |
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