JP3893340B2 - 半導体素子の製造方法 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体素子に関し、より具体的には、アルミニウム含有ボンディングパッドのワイヤボンディング強度を向上させた半導体素子に関する。
【0002】
【従来の技術】
半導体素子は、ワイヤボンディングを行なう部分であるボンディングパッドの材料として、アルミニウムを含有するものが用いられている。アルミニウム含有材料を用いるのは、ワイヤボンディングを行なう際に半導体素子の位置を容易に認識することができるようにするためである。
【0003】
半導体素子のワイヤボンディング側のボンディングパッドは、エピタキシャル成長等により形成された素子そのものの材料との密着性を考慮した金属材料を多層形成し、その後表面となる最上部にはアルミニウム層が形成されるのが通常である(たとえば、特許文献1参照。)。また、ワイヤボンディング側と反対に位置するダイボンディング側には金合金材料を用いるのが通常である。
【0004】
ボンディングパッド材料は、各素子構造の前状態であるウエハ状態でスパッタ方式等によって形成される。その後、素子毎のボンディングパッドパターンを形成し、熱処理される。次に、熱処理された該ウエハは、ダイシングによって各素子に分割され、発光素子となる。この様にして作成される従来の半導体発光素子の素子構造の概略図を図5に示す。その後、この発光素子を所定の場所に銀ペーストを接着剤に用いて電極4側をダイボンドし、その後アルミニウム含有ボンディングパッド1側に金ワイヤにてワイヤボンディングを行ない、さらに樹脂被覆を行ない発光ダイオード(LED)が組み立てられる(たとえば、特許文献2参照。)。
【0005】
【特許文献1】
特開平04−63480号公報
【0006】
【特許文献2】
特開平09−102632号公報
【0007】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、アルミニウム含有ボンディングパッドと金ワイヤとの接着力が弱く、アルミニウム含有ボンディングパッドとボンディングされた金ワイヤが、樹脂被覆してLEDを組み立てる際にしばしば剥がれるという問題が発生している。かかる問題は、生産歩留まりのみならず生産効率をも低下させる。
【0008】
また、アルミニウム含有ボンディングパッドとボンディングされた金ワイヤが、LED形成工程の際には接着していても使用の際に剥がれるという問題が発生している。かかる問題は、製品寿命の短縮化のみならず製品の信頼性をも損なう。
【0009】
本発明は、上記問題点を解消するため、アルミニウム含有ボンディングパッドと金ワイヤとのボンディング強度が大きい半導体素子およびその製造方法を提供することを目的とする。ここで、ボンディング強度とは、アルミニウム含有ボンディングパッドと金ワイヤ先端部にある金ボールとの接着力をいう。
【0010】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するため、本発明は、半導体素子のアルミニウム含有ボンディングパッドの表面が粗面であることを特徴とする半導体素子である。ここで、アルミニウム含有ボンディングパッドの表面が、0.1μm〜0.5μmの凹凸高低差を有することが好ましく、アルミニウム含有ボンディングパッドに金ワイヤを接着させる構造を有していることが好ましい。
【0011】
本発明は、上記ワイヤ剥がれの原因を詳細に検討して、その原因がアルミニウム含有ボンディングパッドの表面が平滑面であることに由来することを見出したことによってなされたものである。
【0012】
また、本発明にかかる半導体素子の製造方法としては、アルミニウム含有ボンディングパッドを、一水素二フッ化アンモニウム含有量が6.0質量%〜7.4質量%のフッ素系エッチング剤を用いて23℃〜27℃で2分間以上3分間以下エッチングする工程を含むこと、または、アルミニウム含有ボンディングパッドの粗面化をボンディングパッド形状にパターン化する前に行なうことが好ましい。
【0013】
【発明の実施の形態】
本発明にかかる半導体素子の素子構造の概略図を図1に示す。本発明にかかる半導体素子は、半導体素子のアルミニウム含有ボンディングパッド2の表面が粗面であることを特徴とする。粗面とすることにより、ボンディング強度を低下の原因となるアルミニウム含有ボンディングパッドと金ワイヤとの接着面でのすべりをなくすことができるからである。ここで、粗面とは表面の凹凸高低差が0.1μm以上のものをいい、平滑面とは表面の凹凸高低差が0.1μm未満のものをいう。また、アルミニウム含有ボンディングパッドとは、それが単層で構成されているか二層以上の多層で構成されているかを問わず、ワイヤボンディングされる表面層にアルミニウムを含有するボンディングパッドをいう。
【0014】
また、本発明にかかる半導体素子のアルミニウム含有ボンディングパッドの断面概略図を図2に示す。図2に示すように、表面の凹凸高低差Hとは凸部最上部P1と隣接する凹部最下部P2との間の高さ方向の距離をいい、凹凸幅Wとは凸部最上部P1と隣接する凹部最下部P2との間の水平方向の距離をいう。
【0015】
本発明にかかる半導体素子の表面が粗面であるアルミニウム含有ボンディングパッド2表面の凹凸高低差Hは0.1μm〜0.5μmであることが好ましい。凹凸高低差Hが0.1μm未満であると接着面でのすべりが起こる可能性があり、0.5μmを超えるとアルミニウム含有ボンディングパッドを薄層化する場合にワイヤボンド時のボンディング衝撃を緩和できず半導体素子本体を破壊する可能性があるからである。
【0016】
また、表面が粗面であるアルミニウム含有ボンディングパッド2表面の凹凸幅Wは、5μm〜20μmであることが好ましい。凹凸幅Wが5μm未満であると凹凸幅が狭くなり、20μmを超えると凹凸数が減少し、いずれの場合も凹凸によるアンカー効果が減少するからである。
【0017】
半導体素子のアルミニウム含有ボンディングパッドに金ワイヤを接着させる構造を有するとは、金ワイヤを接着させるための直径120μm以上のアルミニウム含有ボンディングパッドを有することをいい、パッドが設けられる位置、形状は問わない。
【0018】
本発明にかかる半導体素子の製造方法は、図1に示すような半導体素子本体部3に表面が粗面であるアルミニウム含有ボンディングパッド2と電極4を設けることができる方法であれば特に制限はなく、通常の方法を用いることもできる。
【0019】
本発明にかかる半導体素子を製造方法において、アルミニウム含有ボンディングパッドの表面を粗面化するためにアルミニウム含有ボンディングパッドをフッ素系エッチング剤を用いてエッチングする工程が含まれていることが好ましい。エッチング剤によるエッチングは、エッチング速度の制御が容易で所望の凹凸高低差を容易に実現できるからである。また、フッ素系エッチング剤は、素子本体に用いられるGaAlAs等に比べアルミニウムを容易にエッチングするため、選択的なエッチングができるからである。ここで、フッ素系エッチング剤とは、たとえば、一水素二フッ化アンモニウムを含有するエッチング剤をいい、フッ酸およびフッ化アンモニウム等を混合して調製することができる。
【0020】
アルミニウム含有ボンディングパッドをフッ素系エッチング剤を用いてエッチングする場合は、一水素二フッ化アンモニウム含有量が6.0質量%〜7.4質量%のフッ素系エッチング剤を用いて、23℃〜27℃で2分間以上3分間以下エッチングするのが好ましい。一水素二フッ化アンモニウム含有量が6.0質量%未満またはエッチング処理温度が23℃未満であるとエッチング速度が遅くなり生産効率が低下し、一水素二フッ化アンモニウム含有量が7.4質量%を超えるまたはエッチング処理温度が27℃を超えるとエッチング速度が速くなりすぎてアルミニウム含有ボンディングパッド表面の凹凸高低差の調節が難しくなるからである。また、エッチング処理時間が2分間未満であると0.1μm以上の凹凸を形成することが困難であり、3分間を超えるとエッチングの均一化により凹凸形状が崩れていくからである。
【0021】
また、上記のようなアルミニウム含有ボンディングパッド表面の粗面化をボンディング形状にパターン化する前に行なうことが好ましい。ボンディング形状にパターン化、熱処理した後では、アルミニウム含有ボンディングパッドが緻密化されているため所望の凹凸を形成することが困難になるからである。
【0022】
図3は、本発明にかかる半導体素子の製造方法の一実施形態を示す工程図である。図3(a)に示すように、p型GaAs基板3aを最下層とし、その上にp型Ga0.3Al0.7As層3bを、さらにその上にp型Ga0.65Al0.35As層3cを、さらにその上にn型Ga0.3Al0.7As層3dの3層(3層の総厚みは150μm)をエピタキシャル成長により形成した後、p型GaAs基板3aの一部をウェットエッチングにより除去して、全体の総厚みが280μmの多層ウエハを得た。かかる多層ウエハが、後工程において半導体本体部3を構成する。また、上記エピタキシャル成長は、液相にて最高温度930℃からの除冷法により形成した。
【0023】
次いで、図3(b)に示すように、上記ウエハのワイヤボンディング側となるn型Ga0.3Al0.7As層3dの上に金合金層1a、窒化チタン層1bの多層金属層を形成し、その上に最上部層としてアルミニウム層1cをスパッタ方式によって形成することにより、上記ウエハ上に表面が平滑面であるアルミニウム含有ボンディングパッド1を形成した。
【0024】
次いで、図3(c)に示すように、フッ素系エッチング剤であるバッファードフッ酸(キシダ化学社製、一水素二フッ化アンモニウム含有量13.4質量%)を純水にて2倍に希釈した後、このエッチング剤を用いて、最上部のアルミニウム層1cをエッチングすることにより、表面が粗面であるアルミニウム含有ボンディングパッド2を形成した。エッチング条件は、温度25℃において1分間、2分間、3分間、4分間の4水準として、エッチングを実施した。このときの、エッチング時間と表面凹凸高低差との関係を表1に示す。表1に示すように、エッチング時間を2分間以上3分間以下とすると、表面の凹凸高低差を0.1μm〜0.5μmとすることができた。
【0025】
【表1】
【0026】
次いで、図3(d)に示すように、通常のフォトエッチング法によって上記ウエハ上の多層ボンディングパッドを所定の形状にパターン化した後、450℃の窒素雰囲気中で30分間熱処理してボンディングパッドにオーム性接触を付与した。
【0027】
次いで、図3(e)に示すように、上記ウエハのダイボンド側であるp型GaAs基板3aの上にスパッタ法により電極4として金合金層4aを形成し、450℃の窒素雰囲気中で30分間熱処理して金合金層にオーム性接触を付与した。
【0028】
次いで、図3(f)に示すように、上記ウエハをダイシングにより個々の半導体素子に分割して半導体素子本体部3にn型Ga0.3Al0.7As層/p型Ga0.65Al0.35As層/p型Ga0.3Al0.7As層/p型GaAs基板構造を有する半導体素子を得た。
【0029】
この様にして得られた半導体素子を、金合金層4aの電極4にリードフレームに銀系ペーストを用いてダイボンディングを行ない、アルミニウム含有ボンディングパッドに直径25μmの金ワイヤ先端部の金ボールをワイヤボンディングさせた。このとき、金ワイヤ先端部の金ボールとアルミニウム含有ボンディングパッドの接着面積は約7.8×10-3mm2であった。
【0030】
上記ワイヤボンディング完了後、ワイヤボンディング強度を測定した。ここで、ワイヤボンディング強度は、アルミニウム含有ボンディングパッド表面と接着している金ボールに荷重を掛けて、半導体素子表面に対して水平に押し外す力を金ボールに掛けた荷重(mN)で代用し、これをボール押し強度と定義する。図4に、表面凹凸高低差とボール押し強度との関係を示した。図4に示すように、アルミニウム含有ボンディングパッド表面の凹凸高低差が0.1μm〜0.5μmの粗面の場合は、表面が平滑面の場合に比べ、1.5倍〜1.75倍のワイヤボンディング強度を有していた。
【0031】
ワイヤボンディングが完了した上記半導体素子にさらに樹脂被覆を施すことにより発光素子となる半導体素子ができる。
【0032】
今回開示された実施の形態はすべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は、上記した説明でなくて特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内のすべての変更が含まれることが意図される。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明にかかる半導体素子の素子構造の概略図である。
【図2】 本発明にかかる半導体素子のアルミニウム含有ボンディングパッドの断面概略図である。
【図3】 本発明にかかる半導体素子の製造方法の一実施形態を示す工程図である。
【図4】 表面凹凸高低差とボール押し強度との関係を示す図である。
【図5】 従来の半導体発光素子の素子構造の概略図である。
【符号の説明】
1 表面が平滑面であるアルミニウム含有ボンディングパッド、1a,4a 金合金層、1b 窒化チタン層、1c アルミニウム層、2 表面が粗面であるアルミニウム含有ボンディングパッド、3 半導体素子本体部、3a p型GaAs基板、3b p型Ga0.3Al0.7As層、3c p型Ga0.65Al0.35As層、3d n型Ga0.3Al0.7As層、4 電極、5 ダイシング溝。
Claims (2)
- 半導体素子のアルミニウム含有ボンディングパッドを、一水素二フッ化アンモニウム含有量が6.0質量%〜7.4質量%のフッ素系エッチング剤を用いて、23℃〜27℃で2分間以上3分間以下エッチングする工程を含む半導体素子の製造方法。
- 前記エッチングする工程をボンディングパッド形状にパターン化する前に行なうことを特徴とする請求項1に記載の半導体素子の製造方法。
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