JP3876679B2

JP3876679B2 - 樹脂組成物とその利用

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Publication number: JP3876679B2
Application number: JP2001317007A
Authority: JP
Inventors: 善毅平田; 弘之栗谷; 正憲山口; 靖島田; 和久大塚; 和徳山本
Original assignee: Hitachi Chemical Co Ltd; Showa Denko Materials Co Ltd
Current assignee: Showa Denko Materials Co Ltd
Priority date: 2001-10-15
Filing date: 2001-10-15
Publication date: 2007-02-07
Anticipated expiration: 2021-10-15
Also published as: JP2003119379A

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、配線板等の電子部品に好適に用いられる樹脂組成物、およびこれを用いた樹脂フィルム、配線板用材料、配線板、電子部品に関する。
【０００２】
【従来の技術】
配線板への各種部品の高密度実装化の要請から配線板の多層化が進み、さらにその内層に回路要素（コイル：Ｌ、コンデンサ：Ｃ、抵抗：Ｒ）を形成した多層板の利用が高まっている。
樹脂基板においては、樹脂層を誘電体としてその上下の配線導体に互いに対向するように電極を形成することによりコンデンサが形成される。コンデンサの静電容量は樹脂層の比誘電率に比例するため、静電容量の大きいコンデンサを得るために樹脂層の高誘電率化が検討されている。
【０００３】
また、高周波ノイズ抑制のための電源−グランド間の低インピーダンス化のために、電源−グランド間の絶縁層に高誘電率の樹脂層が用いられている。電源−グランド間のインピーダンスは、絶縁層の比誘電率の平方根に反比例するため、高誘電率の樹脂層を使うことでインピーダンスが低くなり、高周波ノイズをグランドに良好にバイパスして高周波ノイズを抑制することができる。
さらに、配線長の短縮化のために、配線導体と接する絶縁層に高誘電率の樹脂層が利用されている。信号の伝播波長は配線導体と接する絶縁層の比誘電率の平方根に反比例するため、高誘電率の樹脂層を使うことで伝播波長が短くなり、配線長が短縮されて、電子部品の小形化が可能となる。
【０００４】
このような高誘電率樹脂層を得るために、樹脂にチタン酸バリウム等の高誘電率の無機充填剤を配合することが従来より行われている。たとえば、特開昭５５−１４８３０８号では、熱硬化性樹脂にセラミック誘電体粉末（チタン酸バリウム）を充填することで高誘電率の樹脂組成物を得ている。また、米国特許５１６２９７７号では、エポキシ樹脂にチタン酸ジルコン酸鉛を充填したものをガラス布に含浸させ、高誘電率樹脂層を得ている。これら以外にも多くの組み合わせが、たとえば、ＪｏｕｒｎａｌｏｆＭａｔｅｒｉａｌｓｉｎＥｌｅｃｔｒｏｎｉｃｓの１１巻２５３〜２６８頁に掲載のＢｈａｔｔａｃｈａｒｙａらの総説にまとめられている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、樹脂組成物を高誘電率化するために高誘電率充填剤を多量に配合すると、その硬化物は硬く脆くなり、機械強度、耐衝撃性、耐熱衝撃性等が低下するという問題があった。一方、機械強度、耐衝撃性、耐熱衝撃性等の低下を防ぐためには、たとえばアクリルゴムなどのような低い弾性率の樹脂を用いることが有効であるが、硬化物の誘電正接が高くなり、電気的な損失の小さいものが得られないという問題がある。
上記に鑑み、本発明は、高誘電率と低誘電正接、機械強度、耐衝撃性、耐熱衝撃性等の特性がいずれも良好な硬化物を得ることができる樹脂組成物、および、それを利用した電子部品用材料を提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
本発明に係る樹脂組成物は、下記一般式（Ｉ）で表されるシロキサン含有ポリアミドイミド樹脂と高誘電率充填剤とエポキシ樹脂とを含み、２５℃、１ＭＨｚにおける硬化物の比誘電率が１５以上であるものである。
【化５】

（式中、Ｒ_１は
【化６】

から選ばれた１種であり、Ｒ_２は
【化７】

から選ばれた１種であり、Ｒ_３は
【化８】

であり、Ｒ_４、Ｒ_５は２価の有機基であり、Ｒ_６〜Ｒ_９は各々独立にアルキル基、フェニル基または置換フェニル基から選ばれた１種である。また、ｎは０〜９０、ｍは５〜３５０、ｐは１〜５０のそれぞれ整数であり、ｎとｍとの比は７：３〜０：１０である。）
【０００７】
式（Ｉ）のシロキサン含有ポリアミドイミド樹脂は、上記のシロキサンセグメントを含むため、これに由来する低い弾性率を有している。高誘電率の樹脂組成物を得るために、この樹脂に高誘電率充填剤を配合するが、本発明においては、高誘電率充填剤を多量に配合した場合でも、なお低い弾性率を維持することができ、機械強度、耐衝撃性、耐熱衝撃性等に優れた硬化物を与える高誘電率樹脂組成物を得ることができる。また、式（Ｉ）のシロキサン含有ポリアミドイミド樹脂は、上記のシロキサンセグメントにより、低い誘電正接を有している。
【０００８】
本発明に係る樹脂組成物が固体の場合には、溶剤を加えてワニス化することにより塗工性を向上でき、厚さ精度の高い樹脂フィルムや配線板材料を提供することができる。さらにペーストとして、必要な部分に直接塗布することもできる。
【０００９】
本発明に係る樹脂フィルムは、上記本発明に係る樹脂組成物からなるものである。ここで、「樹脂組成物からなる」は、「樹脂組成物の硬化物からなる」ものをも含む概念である（以下の本発明においても同様）。フィルム化することで取り扱い性や位置合わせ精度等が向上され、各種電子部品用の絶縁フィルム、接着フィルム等として好適に使用できる。
【００１０】
本発明に係る配線板材料は、上記本発明に係る樹脂組成物からなる樹脂層と金属層（回路形成されていない金属層）とを含むものである。この樹脂層は、上記本発明に係る樹脂フィルムを用いて得られるものも含んでいる。また、この金属層には、通常の配線板材料で使われる金属、たとえば銅などの金属箔を好ましく用いることができる。
【００１１】
本発明に係る配線板は、絶縁層と配線導体（配線された導体、すなわち回路形成された金属層）とを含み、前記絶縁層のうちの少なくとも１層が本発明に係る樹脂組成物からなるものである。この絶縁層は、上記本発明に係る樹脂フィルムを用いて得られるもの、および、上記本発明に係る配線板材料を用いて得られるものを含んでいる。
【００１２】
高誘電率充填剤の配合量を調整することにより、容易に各用途に適した比誘電率を有する絶縁層とすることができる。また多量に高誘電率充填剤を配合した場合でも、絶縁層の機械強度や耐衝撃性等を維持することができ、これを用いた電子部品の信頼性を向上することができる。この絶縁層をコンデンサに対応する層に用いることにより、用途に応じた静電容量を持つコンデンサを内蔵した多層配線板等を提供でき、別途コンデンサを多数実装する必要がなくなるので、実装される回路素子の数を減らして電子部品の小形化を図ることが可能となる。また、電源−グランド間にこの絶縁層を用いることにより、電源−グランド間のインピーダンスが低くなって高周波ノイズを良好にバイパスできるため、高周波ノイズを抑制し、安定した電源電圧の供給が可能となる。さらに、アンテナ、スタブ等の共振回路にこの絶縁層を用いることにより、配線長を短くできるので、これらを用いた電子部品の小形化が可能となる。本発明に係る配線板は、半導体パッケージにおける半導体素子搭載用の基板としても好適に用いることができる。配線板の構造は、単層（すなわち、絶縁層は本発明に係る樹脂組成物からなる１層のみ）であっても多層（すなわち、絶縁層は本発明に係る樹脂組成物からなる絶縁層を含む２層以上）であってもよく、用途に応じて任意に選択できる。
【００１３】
本発明に係る電子部品は、上記本発明に係る樹脂組成物を用いてなるものであり、上記本発明に係る樹脂フィルム、配線板材料、配線板のいずれか１種以上を用いて好ましく得ることができる。
【００１４】
【発明の実施の形態】
本発明に係る樹脂組成物は、上記式（Ｉ）のシロキサン含有ポリアミドイミド樹脂とエポキシ樹脂と高誘電率充填剤とを含み、その硬化物の比誘電率は、２５℃、１ＭＨｚにおいて１５以上である。ここで、比誘電率は、ＪＩＳ規格Ｃ６４８１に準拠してＬＣＲメータＨＰ４２７５Ａ（アジレント・テクノロジー株式会社製商品名）を用いて測定した静電容量から求めた値である。高周波回路において必要な静電容量０．５〜１０ｐＦのコンデンサを厚さ１０〜３００μｍの絶縁層に電極面積１ｍｍ^２の大きさで内蔵するためには、絶縁層の比誘電率が１５以上であることが必要である。
【００１５】
樹脂組成物の硬化物の弾性率については、取り扱い性、作業性、およびこれを用いた電子部品の信頼性の観点から、広域粘弾性測定装置ＤＶＥ−Ｖ４（レオロジ社製商品名）で測定した４０℃における貯蔵弾性率で、５ＧＰａ以下であることが好ましい。これより弾性率が高いと、硬化物が硬く脆くなって、機械強度、耐衝撃性、耐熱衝撃性が低下する傾向がみられる。
【００１６】
式（Ｉ）のシロキサン含有ポリアミドイミド樹脂（以下、「ＳｉＰＡＩ樹脂」と記す）：
【化９】

（式中、Ｒ_１は
【化１０】

から選ばれた１種であり、Ｒ_２は
【化１１】

から選ばれた１種であり、Ｒ_３は
【化１２】

であり、Ｒ_４、Ｒ_５は２価の有機基であり、Ｒ_６〜Ｒ_９は各々独立にアルキル基、フェニル基または置換フェニル基から選ばれた１種である。また、ｎは０〜９０、ｍは５〜３５０、ｐは１〜５０のそれぞれ整数であり、ｎとｍとの比は７：３〜０：１０である。）
のシロキサンセグメントの比率については、ワニス化したときの溶剤の乾燥性と作業効率、および、硬化物の誘電正接と電気的な損失の観点から、ｎとｍとの比は７：３〜０：１０が好ましく選ばれ、さらには５：５〜０：１０であることがより好ましい。また、このＳｉＰＡＩ樹脂の重量平均分子量は、成膜性の観点から１万以上であることが好ましく、合成コストの観点から２０万以下であることが好ましく、２万〜１０万であることがさらに好ましい。２価の有機基であるＲ_４、Ｒ_５としては、特に限定はされないが、Ｃ３であるプロピレン基、イソプロピレン基、フェニレン基、メチル基やエチル基等のアルキル基により置換されたアルキル置換フェニレン基（たとえば、下記式：
【化１３】

により表される、Ｓｉに対しメタ位にメチル基が置換しているもの）が例示できる。Ｒ_６〜Ｒ_９としては、メチル基、エチル基、フェニル基、トルイル基等のアルキル置換フェニル基等が挙げられる。
【００１７】
高誘電率充填剤は、２５℃、１ＭＨｚでの比誘電率が５０以上のものであることが好ましく、１００以上であることがより好ましく、５００以上であることが一層好ましい。充填剤の比誘電率が５０未満では、樹脂組成物の比誘電率を１５以上にするために多量の充填剤を必要とし、成形できなくなる場合がある。
【００１８】
高誘電率充填剤は、具体的には、チタン酸バリウム、チタン酸ストロンチウム、チタン酸カルシウム、チタン酸マグネシウム、チタン酸鉛、二酸化チタン、ジルコン酸バリウム、ジルコン酸カルシウム、ジルコン酸鉛からなる群から選ばれた１種以上であることが好ましい。これらの高誘電率充填剤は、予めカップリング剤で表面処理されたものを用いることもできるし、配合時にカップリング剤を添加してインテグラル法により表面処理を行ってもよい。このようなカップリング剤としては、チタネート系カップリング剤が好ましい。高誘電率充填剤の形状は、粒状、不定形、フレーク状など任意のものを任意の比率で用いることができる。また、その平均粒径は、かさ密度と樹脂への充填性の観点から０．１μｍ以上であることが好ましく、樹脂層の厚さ精度の観点から２０μm以下であることが好ましく、０．５〜１０μmであることがより好ましい。
【００１９】
ＳｉＰＡＩ樹脂と高誘電率充填剤との配合比は、ＳｉＰＡＩ樹脂１００重量部に対する高誘電率充填剤の配合量が、樹脂組成物の比誘電率を確保する観点から２５０重量部以上であることが好ましく、成形性の観点から３０００重量部以下であることが好ましく、４００〜２０００重量部であることがより好ましい。
【００２０】
エポキシ樹脂は、１分子内に２つ以上のエポキシ基を有するものであればどのようなものでもよく、たとえばビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＳ型エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、脂肪族鎖状エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールＡノボラック型エポキシ樹脂、ビフェノールのジグリシジルエーテル化物、ナフタレンジオールのジグリシジルエーテル化物、フェノール類のジグリシジルエーテル化物、アルコール類のジグリシジルエーテル化物、およびこれらのアルキル置換体、ハロゲン化物などがあり、これらを単独で用いても併用してもよい。これらのエポキシ樹脂中のエポキシ基は、ＳｉＰＡＩ樹脂中のアミド基のＮＨと反応して３次元架橋構造を形成し、樹脂組成物に熱硬化性を付与する。
【００２１】
ＳｉＰＡＩ樹脂とエポキシ樹脂との配合比は、ＳｉＰＡＩ樹脂１００重量部に対するエポキシ樹脂の配合量が、熱硬化性付与の観点から５重量部以上であることが好ましく、ＳｉＰＡＩ樹脂との相溶性および硬化物の弾性率を適切に保つ観点から２５０重量部以下であることが好ましい。
【００２２】
本発明の樹脂組成物には、エポキシ樹脂の硬化剤が含まれていてもよい。たとえば、多官能フェノール類、アミン類、イミダゾール化合物、酸無水物、有機リン化合物およびこれらのハロゲン化物などがあるが、硬化物の誘電正接を増大させない硬化剤を用いることが好ましい。また、本発明の樹脂組成物には、必要に応じて硬化促進剤を配合してもよい。代表的な硬化促進剤として、第３級アミン、イミダゾール類、第４級アンモニウム塩などがあるが、これらに限定されるものではない。さらに、この樹脂組成物には、必要に応じて一般の配線板用樹脂材料に用いられる充填剤、たとえばシリカ、アルミナ、クレー、タルクなどや、着色剤、難燃剤、接着性付与剤などの添加剤を適宜配合してもよい。
【００２３】
また、この樹脂組成物が固体である場合は、溶剤を加えてワニス化することにより、塗工時の粘度を調整することができ、作業性、厚さ精度が向上する。加える溶剤としては、ＳｉＰＡＩ樹脂とエポキシ樹脂とを溶解するものが好ましい。具体的には、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ、Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド、エチレングリコールモノメチルエーテル、テトラヒドロフラン等が使用できる。ワニス化する際の溶剤の配合量は、樹脂組成物１００重量部に対し、ワニスの粘度と作業性、塗工性の観点から５重量部以上であり、乾燥時間と作業効率の観点から９００重量部以下であることが好ましく、１０〜５００重量部であることがより好ましい。
【００２４】
樹脂組成物のワニスを調整する方法としては、ミキサー、ビーズミル、パールミル、ニーダー、三本ロールなどの公知の方法を用いることができる。各種配合成分はすべてを同時に添加してもよいし、添加順序を適宜設定してもよいし、また必要に応じて、一部の配合成分を予め予備混練してから添加してもよい。
【００２５】
本発明の樹脂フィルムは、本発明の樹脂組成物から得られるものであり、その厚さは、厚さ精度を確保する観点から１０μｍ以上であり、フィルムとしての取り扱い性やコンデンサとして用いた際の静電容量確保の観点から３００μｍ以下であることが好ましい。
【００２６】
この樹脂フィルムは、ワニス化した樹脂組成物を用いて、公知の方法、たとえばブレードコータ、ロッドコータ、ナイフコータ、スクイズコータ、リバースロールコータ、トランスファコールコータ等の、基材と平行な面方向にせん断力を負荷できるか、あるいは、基材の面に垂直な方向に圧縮力を負荷できる塗布方法を用いて、ポリエステル、ポリイミド等のキャリアフィルムの片面に塗工し、たとえば１２０〜１７０℃で２〜１０分間加熱乾燥して溶剤を除去することにより得られる。半硬化状のベタツキのない状態のフィルムとすることが好ましい。
【００２７】
次に、本発明の樹脂組成物および／または樹脂フィルムを用いた配線板材料、配線板について、図面を用いて説明する。
図１は、本発明に係る配線板用材料の一実施形態を模式的に示した断面図である。配線板用材料（１）は、金属層としての金属箔（１２）と本発明に係る樹脂組成物からなる樹脂層（１１）とを含んでいる。
【００２８】
配線板用材料の形成は、通常配線導体として用いられる金属箔、たとえば金、銀、銅、アルミニウム、ニッケル、クロム等の箔に対し、ワニス化した本発明の樹脂組成物を塗布した後乾燥してもよいし、それら金属箔と本発明の樹脂フィルムとを積層プレスしてもよい。また本発明の樹脂フィルム上に、めっき、蒸着、スパッタリング、イオンプレーティングなどの手法を用いて金属箔を形成してもよい。
【００２９】
図２は、本発明に係る配線板の一実施形態を模式的に示した断面図である。配線板（２）は、第１絶縁層（２２）と第１配線導体（２３）と第２配線導体（２１）とからなり、第１絶縁層（２２）は本発明の樹脂組成物から構成されている。配線板（２）は、第２配線導体（２１）がない片面板でもよい。
【００３０】
図３は、本発明に係る配線板の別の実施形態を模式的に示した断面図である。配線板（３）は、第１絶縁層（３６）、第１配線導体（３７）、第２絶縁層（３４）、第２配線導体（３５）、第３絶縁層（３２）、第３配線導体（３３）、第４配線導体（３１）とからなる多層配線板であり、第１絶縁層（３６）、第２絶縁層（３４）、第３絶縁層（３２）のうちの少なくとも一層は、本発明の樹脂組成物から構成されている。図には示していないが、さらに、第４、第５、第６・・・等の絶縁層と配線導体とが交互に積層されていてもよい。
【００３１】
多層配線板の場合、絶縁層のうちの少なくとも一層が、本発明の樹脂組成物から構成されていればよく、また、複数層に対し、同じおよび／または異なる比誘電率を有する本発明の樹脂組成物を用いることもできる。本発明の樹脂組成物を用いない他の絶縁層（樹脂層）には、通常配線板に用いられるエポキシ樹脂、フェノール樹脂、ＢＴ樹脂等や、低誘電率の樹脂、たとえばポリフェニレンオキサイド樹脂、シアネートエステル樹脂、フッ素樹脂等を用いることができる。第１、第２、第３・・・等の配線導体は、互いに同一でも異なっていてもよい。
【００３２】
次に、本発明の樹脂組成物を用いた多層配線板の製造法の一例を説明する。まず、本発明の樹脂組成物を用いた金属層（金属箔）付きの配線板材料を、加圧、加熱条件下で、プレス機等を用いて内層回路基板上に積層し、加熱硬化させる。内層回路基板としては、ガラスエポキシ基板、ポリエステル基板、ポリイミド基板、ＢＴレジン基板、熱硬化型ＰＰＥ基板、金属基板などを使用することができる。回路表面を予め粗化処理してもよい。加熱硬化の条件は、通常１２０℃以上、好ましくは１５０〜２００℃の温度で、通常２０〜１８０分間、好ましくは６０〜１２０分間である。上記のように内層回路基板上に本発明の樹脂組成物を積層して硬化させた後、ドリルまたはレーザを用いて穴開けを行い、スルーホールやバイアホールを形成させる。レーザ穴開け機としては、炭酸ガスレーザ、ＹＡＧレーザ、エキシマレーザなどを用いることができる。その後、過マンガン酸塩や重クロム酸塩などの酸化剤を用いた薬品処理を行って、レーザ穴開けの際に発生する樹脂残さを除去する。さらに、無電解銅めっき、導電性ペーストの充填などの手法を用いて内層と外層の電気的導通を得た後は、通常の配線板における回路形方法を用いて、積層した本発明の樹脂組成物の表面の金属層に、任意の回路加工を行う。
【００３３】
本発明の樹脂組成物を内層回路基板上に積層する別の方法として、ワニス化した本発明の樹脂組成物を、内層回路基板に塗布し乾燥した後、加熱硬化させてもよいし、本発明の樹脂フィルムを用いて、加圧、加熱条件下で内層回路基板上にプレス機等を用いて積層し、ついでキャリアフィルムを剥離した後、加熱硬化させてもよい。あるいは、内層回路基板上にキャリアフィルムを剥離した本発明の樹脂フィルムと金属箔とを同時に積層し、加熱硬化させてもよい。また、内層回路基板と別の内層回路基板とを本発明の樹脂フィルムで接着し加熱硬化させてもよいし、内層回路基板上にワニス化した本発明の樹脂組成物を塗布し、さらに別の内層回路基板を積層して加熱硬化させてもよい。
【００３４】
以上に説明した配線板の他、本発明の樹脂組成物は、フィルムコンデンサ、ＬＣＲフィルタ、オシレータ等の電子部品単体としても使用することができる。
【００３５】
【実施例】
次に、実施例により本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。以下の実施例において、「部」は「重量部」を表す。
［実施例１〜４、比較例１〜３］
表１に示すＳｉＰＡＩ樹脂１〜４を、表２に示す配合で、次のようにしてそれぞれ合成した。還流冷却器を連結したコック付き２５ｍｌの水分定量受器、温度計、攪拌器を備えた１リットルのセパラブルフラスコに、所定量の反応性シリコーンオイル「ＫＦ−８０１０」または「Ｘ−２２−１６１Ａ」（ともに信越化学工業株式会社製商品名）、ＢＡＰＰ（２，２−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］プロパン）、無水トリメリット酸、Ｎ−メチル−２−ピロリドンを仕込み、８０℃で３０分間攪拌した。そして、トルエン１００ｍｌを投入してから温度を上げ、約１６０℃で２時間還流させた。水分定量受器に水が約２．５ｍｌ以上たまっていること、および、水の流出が見られなくなっていることを確認し、水分定量受器にたまっている流出液を除去しながら、約１９０℃まで温度を上げて、トルエンを除去した。その後、溶液の温度を室温に戻し、水分定量受器を外し、所定量のＭＤＩ（４，４−ジフェニルメタンジイソシアネート）、トリエチルアミンを投入し、１１０℃で２時間反応させた。反応終了後、得られたＳｉＰＡＩ樹脂のＮ−メチル−２−ピロリドン溶液の濃度を、それぞれ２５重量％に調製した。
【００３６】
【表１】

【００３７】
【表２】

【００３８】
上記得られたＳｉＰＡＩ樹脂１〜４の２５重量％Ｎ−メチル−２−ピロリドン溶液、高誘電率充填剤としてチタン酸バリウム「ＢＴ−１００ＰＲ」（富士チタン工業株式会社製商品名、２５℃、１ＭＨｚでの比誘電率１６００、平均粒径１．５μm）および二酸化チタン「ＴＭ−１」（富士チタン工業株式会社製商品名、２５℃、１ＭＨｚでの比誘電率９６、平均粒径０．６μｍ）、エポキシ樹脂としてビスフェノールＡ型エポキシ樹脂「ＹＤ−８１２５」（東都化成株式会社製商品名）、硬化促進剤としてイミダゾール誘導体「２ＰＺ−ＣＮ」（四国化成株式会社製商品名）、カップリング剤としてチタネート系カップリング剤「ＫＲ−３８Ｓ」（味の素株式会社製商品名）をそれぞれ用いて表３に示すように配合し、小型撹拌脱泡装置ＭＸ−２０１（シンキー株式会社製商品名）で１０分間撹拌脱泡した。これらを２００メッシュのナイロン布で濾過した後、再び小型撹拌脱泡装置を用いて２分間撹拌脱泡し、実施例１〜４および比較例１〜３の樹脂組成物のワニスを調製した。
【００３９】
【表３】

【００４０】
［比較例４］
ＹＤ−８１２５を６６部、ｏ−クレゾールノボラック型エポキシ樹脂「ＹＤＣＮ−７０３」（東都化成株式会社商品名）を３４部、ＢＴ−１００ＰＲを７２２部、ＴＭ−１を２２１部、ビスフェノールＡ型フェノキシ樹脂「ＹＰ−５０」（東都化成株式会社製商品名）を２４部、ビスフェノールＡノボラック型フェノール樹脂「ＬＦ−２８８２」（大日本インキ工業株式会社製商品名）を６３部、２ＰＺ−ＣＮを０．６部、ＫＲ−３８Ｓを１．１部、分散剤「Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ−１１０」（ビッグケミー・ジャパン株式会社製商品名）を７部、溶剤としてメチルエチルケトンを２００部それぞれ配合し、ビーズミル（容器５００ｍｌにサンプル２００ｍｌ、アルミナビーズ１５０ｍｌ）を用いて１０００回転／分で１時間撹拌して、樹脂組成物のワニスを調製した。
【００４１】
［比較例５］
ＢＴ−１００ＰＲを６２６部、ＴＭ−１を１９２部、ＹＤ−８１２５を２６部、ＹＤＣＮ−７０３を２６部、ＹＰ−５０を１４部、ＬＦ−２８８２を２４部、ＫＲ−３８Ｓを１部、溶剤としてシクロヘキサノンを配合し、ビーズミル（容器５００ｍｌにサンプル２００ｍｌ、アルミナビーズ１５０ｍｌ）を用いて１０００回転／分で１時間撹拌した。これにエポキシ基含有アクリルゴム「ＨＴＲ−８６０−Ｐ３」（帝国化学産業株式会社製商品名、重量平均分子量８５万）を１００部、２ＰＮ−ＣＮを０．３７部配合し、スクリュー型攪拌機を用いて１時間撹拌して、樹脂組成物のワニスを調製した。
【００４２】
得られた各実施例および比較例のワニスをマルチコータ（ヒラノテクシード株式会社製商品名、乾燥炉長１ｍ）を用いて、乾燥室温度１４０〜１６０℃、送り速度０．２〜０．４ｍ／分でロール電解銅箔「ＧＴＳ−１２」（古河サーキットフォイル株式会社製商品名）に塗布して乾燥し、樹脂厚さ５０μｍの配線板材料を作製した。
【００４３】
これらの配線板材料を、樹脂面が内側になるように２枚合わせ、高温真空プレス（名機製作所株式会社製、１０５トン）を用いて、真空度５．３ｋＰａ、成形圧力２．４５ＭＰａ、成形温度１８０℃で９０分間加圧加熱し、それぞれ配線板を作製した。
なお、比較例２では、式（Ｉ）中のｍの値が５未満でありＳｉＰＡＩ樹脂の分子量が低いために、乾燥後に割れを生じ、配線板材料を作製することができなかった。
【００４４】
実施例１〜４、比較例１、３、４、５の配線板を用いて、樹脂組成物の硬化物を評価した。ＪＩＳ規格Ｃ６４８１に準拠して、ＬＣＲメータＨＰ４２７５Ａ（アジレント・テクノロジー株式会社製商品名）を用いて測定した静電容量から求めた硬化物の２５℃、１ＭＨｚにおける比誘電率と誘電正接、広域粘弾性測定装置ＤＶＥ−Ｖ４（レオロジ社製商品名）で測定した４０℃での貯蔵弾性率、および、厚さ１００μｍの硬化物の取り扱い性をまとめて表４に示す。
【００４５】
【表４】

【００４６】
表４から明らかなように、本発明による実施例１〜４では、いずれも誘電率が高く誘電正接が低く、且つ弾性率が低い硬化物が得られた。比較例１では、ＳｉＰＡＩ樹脂のシロキサンセグメントの比率が低いため誘電正接が高く、比較例３では、高誘電率充填剤の充填量が少ないために誘電率が低く、比較例４では、ＳｉＰＡＩ樹脂を用いずにフェノキシ樹脂を用いたため、硬化物の弾性率が高く且つ脆く、比較例５では、ＳｉＰＡＩ樹脂を用いずにエポキシ基含有アクリルゴムを用いたために、弾性率は低くなったが誘電正接が高い、という結果が得られた。
【００４７】
［実施例５］
実施例２の配線板材料を、下部電極を予め形成したガラスエポキシ樹脂基板からなる内層回路基板上に積層した後、上部電極をエッチングにより形成し、またレーザ穴開けによりバイアホールを形成して、下部電極と外層との電気的接続を行い、電極面積１ｍｍ^２、絶縁層厚５０μｍの基板に内蔵されたコンデンサを作製した。ＬＣＲメータＨＰ４２７５Ａを用いてこのコンデンサの静電容量を測定した結果、２５℃、１ＭＨｚにおいて４．８ｐＦであった。
【００４８】
［比較例６］
比較例３の配線板材料を用いて、実施例５と同様にして、電極面積１ｍｍ^２、絶縁層厚１００μｍの基板に内蔵されたコンデンサを作製した。得られたコンデンサの静電容量を測定した結果、２５℃、１ＭＨｚにおいて０．７ｐＦであった。
【００４９】
【発明の効果】
以上のように、本発明の樹脂組成物では、ＳｉＰＡＩ樹脂とエポキシ樹脂に高誘電率充填剤を充填することにより、誘電率の高い硬化物を得ることができる。ＳｉＰＡＩ樹脂を用いることで、高誘電率充填剤を多量に配合した場合でも弾性率の低い硬化物が得られ、誘電率が高く且つ機械強度、耐衝撃性等に優れた樹脂フィルムや配線板材料を提供でき、信頼性の高い配線板およびそれを用いた電子部品を提供できる。さらに、ＳｉＰＡＩ樹脂を用いることにより、誘電正接が低くなるため、電気的な損失の小さい配線板およびそれを用いた電子部品を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の配線板用材料の一実施形態を示す断面図である。
【図２】本発明の配線板の一実施形態を示す断面図である。
【図３】本発明の配線板の別の実施形態を示す断面図である。
【符号の説明】
１配線板用材料
１１樹脂層
１２金属箔
２配線板
２１第２配線導体
２２第１絶縁層
２３第１配線導体
３配線板
３１第４配線導体
３２第３絶縁層
３３第３配線導体
３４第２絶縁層
３５第２配線導体
３６第１絶縁層
３７第１配線導体

Claims

下記一般式（Ｉ）で表されるシロキサン含有ポリアミドイミド樹脂と高誘電率充填剤とエポキシ樹脂とを含み、前記シロキサン含有ポリアミドイミド樹脂１００重量部に対する前記高誘電率充填剤の配合量が４００〜３０００重量部であり、２５℃、１ＭＨｚにおける硬化物の比誘電率が１５以上である樹脂組成物。

（式中、Ｒ_１は

から選ばれた１種であり、Ｒ_２は

から選ばれた１種であり、Ｒ_３は

であり、Ｒ_４、Ｒ_５は２価の有機基であり、Ｒ_６〜Ｒ_９は各々独立にアルキル基、フェニル基または置換フェニル基から選ばれた１種である。また、ｎは０〜９０、ｍは５〜３５０、ｐは１〜５０のそれぞれ整数であり、ｎとｍとの比は７：３〜０：１０である。）
前記硬化物の４０℃における貯蔵弾性率が５ＧＰａ以下である請求項１記載の樹脂組成物。
前記シロキサン含有ポリアミドイミド樹脂の重量平均分子量が１万〜２０万である請求項１または２記載の樹脂組成物。
前記高誘電率充填剤の２５℃、１ＭＨｚにおける比誘電率が５０以上である請求項１〜３のいずれか１項記載の樹脂組成物。
前記高誘電率充填剤が、チタン酸バリウム、チタン酸ストロンチウム、チタン酸カルシウム、チタン酸マグネシウム、チタン酸鉛、二酸化チタン、ジルコン酸バリウム、ジルコン酸カルシウム、ジルコン酸鉛からなる群から選ばれた１種以上を含む請求項１〜４のいずれか１項記載の樹脂組成物。
前記シロキサン含有ポリアミドイミド樹脂１００重量部に対する前記エポキシ樹脂の配合量が５〜２５０重量部である請求項１〜５のいずれか１項記載の樹脂組成物。
請求項１〜６のいずれか１項記載の樹脂組成物からなる樹脂フィルム。
厚みが１０〜３００μｍである請求項７記載の樹脂フィルム。
請求項１〜６のいずれか１項記載の樹脂組成物からなる樹脂層と金属層とを含む配線板材料。
絶縁層と配線導体とを含み、前記絶縁層のうちの少なくとも１層が請求項１〜６のいずれか１項記載の樹脂組成物からなる配線板。
前記絶縁層の上下の配線導体の一部に、互いに対向するように電極が形成されている請求項１０記載の配線板。
請求項１〜６のいずれか１項記載の樹脂組成物を用いた電子部品。