JP3868427B2 - プラズマプロセスのリアルタイムモニタ装置 - Google Patents
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Description
2…プラズマ
3…半導体ウエハ
4…基台
5…窓
6…データ処理装置
7…光検出器
8…光学系
10…測定ユニット
11…エンドポイントモニタ
12…プラズマ誘起電流測定センサ
13、14…プラズマプロセス検出センサ(表面状態センサ)
15…半導体基板
16…発光素子
17…電源部
Claims (6)
- 半導体デバイス形成のためにプラズマ処理装置内に設置された半導体ウエハの処理過程をリアルタイムでモニタするプラズマプロセスのリアルタイムモニタ装置であって、
半導体デバイスを形成するためのマスクパターンが形成された半導体ウエハ上の異なる位置に貼付された複数の測定ユニットと、
前記個々の測定ユニットから送信される信号を受信する受信装置と、
前記受信した信号に基づいて前記半導体ウエハの状態を検出するデータ処理装置と、を備え、
前記測定ユニットは、プラズマプロセスの終点を検出するためのエンドポイントモニタを含む少なくとも1個のプラズマプロセス検出センサと、前記プラズマプロセス検出センサ出力を光出力に変換する発光素子と、前記発光素子に駆動電力を供給する電源部とを含み、前記プラズマプロセス検出センサは集積化チップとして形成され、前記発光素子と前記電源部は前記集積化チップに外付けされていることを特徴とする、プラズマプロセスのリアルタイムモニタ装置。 - 請求項1に記載のプラズマプロセスのリアルタイムモニタ装置であって、前記測定ユニットは、前記プラズマプロセス検出センサとして前記プラズマ処理装置内のスパークの発生を光電変換により検出するプラズマ誘起電流測定センサを備えることを特徴とする、プラズマプロセスのリアルタイムモニタ装置。
- 請求項1または2に記載のプラズマプロセスのリアルタイムモニタ装置であって、前記測定ユニットは、前記プラズマプロセス検出センサとしてイオンエネルギーアナライザーを備えることを特徴とする、プラズマプロセスのリアルタイムモニタ装置。
- 請求項1乃至3の何れか1項に記載のプラズマプロセスのリアルタイムモニタ装置であって、前記測定ユニットは、前記プラズマプロセス検出センサとしてマイクロ分光器を備えることを特徴とする、プラズマプロセスのリアルタイムモニタ装置。
- 請求項1に記載のプラズマプロセスのリアルタイムモニタ装置であって、前記エンドポイントモニタは、前記半導体ウエハのプラズマ処理対象部分と同じ構造を有する実パターン部と、前記実パターン部下部に埋め込まれた低抵抗層とを有し、前記実パターン部は、シリコン基板を熱酸化して形成した二酸化シリコン層上に、前記半導体ウエハ上に形成された前記マスクパターンと同じ構造を有するマスクパターンを形成して構成され、前記低抵抗層は前記二酸化シリコン層中の前記シリコン基板に近接する位置に埋め込まれており、さらに前記低抵抗層の一部が露出されてこの露出部に前記発光素子との接続のための電極が形成されていることを特徴とする、プラズマプロセスのリアルタイムモニタ装置。
- 請求項2に記載のプラズマプロセスのリアルタイムモニタ装置であって、前記プラズマ誘起電流測定センサは、二酸化シリコン層と該二酸化シリコン層中に埋め込まれバイアス電圧が印加された電極層とを有することを特徴とする、プラズマプロセスのリアルタイムモニタ装置。
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