JP3854958B2 - カーボンナノチューブの製造方法 - Google Patents
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Description
図1は本発明の第1の実施の形態に係るカーボンナノチューブの製造方法を説明するための模式的断面図である。図1を参照しながら第1の実施の形態に係るカーボンナノチューブの製造方法を説明する。
図2は本発明の第2の実施の形態に係るカーボンナノチューブの製造方法を説明するための模式的断面図である。図2を参照しながら第2の実施の形態に係るカーボンナノチューブの製造方法を説明する。
図3は本発明の第3の実施の形態に係るカーボンナノチューブを用いた電気二重層キャパシタの構造を示す模式図であり、(a)は模式的平面図、(b)は模式的断面図である。図3を参照しながら第3の実施の形態に係る電気二重層キャパシタの製造方法を説明する。
/PC(プロピレンカーボネート)を用いることができる。電解液の種類は、本例に限定されず、種々の電解液を用いることができる。このようにして、電気二重層キャパシタを作製することができる。
第1または第2の実施の形態に係る製造方法により製造されるカーボンナノチューブは、電気二重層キャパシタの電極に限らず、電気化学デバイス等の種々のカーボンナノチューブデバイスの電極として用いることができる。
(実施例1)
実施例1では、導電性基板1としてTa基板を用いた。
実施例2では、実施例1と同様に導電性基板1としてTa基板を用い、実施例1と同様にしてTa基板を洗浄し、乾燥させた。そのTa基板上に実施例1と同様の方法で厚さ2.5nmのAl層および厚さ2.5nmのFe層を形成した。それにより、Ta基板、Al層およびFe層の積層構造を有する基板を作製した。
実施例3では、実施例1と同様に導電性基板1としてTa基板を用い、実施例1と同様にしてTa基板を洗浄し、乾燥させた。そのTa基板上に実施例1と同様の方法で厚さ10nmのAl層および厚さ10nmのFe層を形成した。それにより、Ta基板、Al層およびFe層の積層構造を有する基板を作製した。
比較例1では、実施例1と同様に導電性基板1としてTa基板を用い、実施例1と同様にしてTa基板を洗浄し、乾燥させた。そのTa基板上に実施例1と同様の方法で厚さ20nmのAl層および厚さ20nmのFe層を形成した。それにより、Ta基板、Al層およびFe層の積層構造を有する基板を作製した。
実施例4では、導電性基板1としてTa基板の代わりにTi基板を用い、実施例1と同様の方法でTi基板上に厚さ5nmのAl層および厚さ5nmのFe層を形成した。それにより、Ti基板、Al層およびFe層の積層構造を有する基板を作製した。
比較例2では、実施例1と同様に導電性基板1としてTa基板を用い、実施例1と同様にしてTa基板を洗浄し、乾燥させた。そのTa基板上に厚さ10nmのFe層のみをスパッタリング装置により形成した。それにより、Ta基板およびFe層の積層構造を有する基板を作製した。
実施例1〜4および比較例1,2の積層構造を有する基板をCVD装置にセットし、1×10-4Pa以下に真空引きした。その後、基板をヒータにより50℃/minで700℃まで昇温し、約1時間700℃で保持した後、自然冷却して容器から取り出した。
実施例1〜3および比較例1,2において作製された基板上の触媒微粒子の状態をSEM(走査型電子顕微鏡)で観察した。観察結果を表2に示す。また、図4に実施例1の基板表面のSEM写真を示し、図5に実施例2の基板表面のSEM写真を示し、図6に実施例3の基板表面のSEM写真を示し、図7に比較例1の基板表面のSEM写真を示し、図8に比較例2の基板表面のSEM写真を示す。
実施例1〜4および比較例1,2の基板をCVD装置にセットし、1×10-4Pa以下に真空引きした。その後、基板をヒータにより50℃/minで700℃まで昇温し、約1時間700℃で保持した。He(ヘリウム)で20%に希釈されたアセチレンガスを15sccmで導入し、容器内の圧力を600Paとした。
図9は実施例1の基板上に形成されたカーボンナノチューブのSEM写真を示す。図9に示すように、実施例1の基板を用いた場合には、基板表面の全体に多層カーボンナノチューブが高密度で均一に形成された。カーボンナノチューブの長さは約30μmであり、直径は20〜30nmである。また、カーボンナノチューブの密度は約1010cm-2となった。
上記の実施例1の基板上に形成したカーボンナノチューブを用いて図3に示した構造を有する電気二重層キャパシタを作製し、充放電特性を測定した。
1a 導電層
2 Al層
3 触媒金属層
5 触媒微粒子
6 カーボンナノチューブ
11 耐熱性基板
21,22 カーボンナノチューブ電極
31,32 ガラス基板
40 セパレータ
51,52 引き出し電極
100 基板
Claims (7)
- 少なくとも一面側に導電性材料からなる導電層を含む基板を用い、前記基板の前記導電層上にアルミニウムおよびカーボンナノチューブの成長を促進する作用を有する触媒金属を供給する工程と、
前記基板に熱処理を行うことにより前記基板上に触媒金属を含む微粒子を形成する工程と、
前記基板上に形成された微粒子に炭素を含むガスを作用させることにより前記基板上にカーボンナノチューブを成長させる工程とを備え、
前記アルミニウムおよび前記触媒金属を供給する工程は、
前記基板の前記導電層上にアルミニウムを主成分とする第1の層および前記触媒金属からなる第2の層を順に形成する工程を含み、
前記第1の層の厚さが1nmよりも大きく20nmよりも小さく、前記第2の層の厚さが1nmよりも大きく20nmよりも小さいことを特徴とするカーボンナノチューブの製造方法。 - 前記導電層は、カーボンナノチューブの成長温度でアルミニウムおよび前記触媒金属と実質的に合金化しない導電性材料により形成されたことを特徴とする請求項1に記載のカーボンナノチューブの製造方法。
- 前記導電性材料は、Ta、W、Ti、V、Cr、Zr、Nb、Mo、Hf、Tc、Ru、Rh、Re、Os、Ir、Pt、Th、PaおよびCよりなる群から選択された1種または2種以上を含むことを特徴とする請求項1または2に記載のカーボンナノチューブの製造方法。
- 前記触媒金属は、Ni、Co、Fe、Y、Rh、Pd、Pt、La、Ce、Pr、Nd、Gd、Tb、Dy、Ho、ErおよびLuよりなる群から選択された1種または2種以上の金属または合金であることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載のカーボンナノチューブの製造方法。
- 前記カーボンナノチューブを成長させる工程は、炭素を含むガス雰囲気中で前記基板をカーボンナノチューブの成長温度に加熱する工程を含むことを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載のカーボンナノチューブの製造方法。
- 前記基板として、前記導電性材料により形成された基板を用いることを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載のカーボンナノチューブの製造方法。
- 前記基板として、耐熱性基板上に前記導電性材料からなる導電層を有する基板を用いることを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載のカーボンナノチューブの製造方法。
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