JP3836085B2 - 電子部品実装用フィルムキャリアテープおよびその製造方法 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は電子部品を実装する際に実装不良の生じにくい電子部品実装用フィルムキャリアテープおよびその製造方法、ならびに、このような電子部品実装用フィルムキャリアテープを製造する際に使用されるソルダーレジスト塗布用スクリーンに関する。本発明において、電子部品実装用フィルムキャリアテープは、TAB((Tape Automated Bonding)テープ、BGA(Ball Grid Array)、CSP(Chip Size Package)、COF(Chip On Film)、両面配線テープ、多層配線テープなどを含むのである。
【0002】
【発明の技術的背景】
ICなどの電子部品を実装する際に、TABテープ、BGA、CSPなどの電子部品実装用フィルムキャリアテープが使用されている。このような電子部品実装用フィルムキャリアテープは、絶縁フィルム表面に導電性金属からなる配線パターンを形成し、こうして形成された配線の一方の端部(内部端子)に電子部品の端子を接合し、他の端部(外部端子)を電子機器に接続するために使用されている。
【0003】
したがって、配線パターンを形成した後には外部端子および内部端子は、接続のために使用されるので露出している必要があるが、その他の部分は接続には直接的には使用されないので、端子部分を除いてソルダーレジスト層を形成する。このソルダーレジスト層は、通常は熱硬化性樹脂を含有するソルダーレジスト塗布液を、スクリーンマスクを用いて端子部分が露出するように選択的に塗布し、硬化させることにより形成される。ここで使用されるスクリーンマスクは、図7に示すように、枠体101と、この枠体101内に張設された紗102からなり、この紗の表面に所望の形状の塗布液透過部103が形成されており、ソルダーレジスト塗布液は、この塗布液透過部103を透過して配線パターンの表面に塗布されるが、塗布液透過部103が形成されていない部分104ではソルダーレジスト塗布液がマスキングされる。
【0004】
このようなソルダーレジスト塗布用スクリーンマスクの紗は、金属細線などからなる網体であり、この紗を形成する金属細線は、スクリーンマスクに形成される塗布液透過部からソルダーレジスト塗布液が均一に塗布できるように同一の直径を有するステンレス細線などから形成されている。したがって、このようなスクリーンマスクの塗布液透過部を通過するソルダーレジスト塗布液の量は、塗布液透過部のいずれに部分をとってみても同一であることが望ましく、一般に、形成されたソルダーレジスト層の厚さが均一になるようにスクリーンマスクは形成されている。
【0005】
しかしながら、液晶パネルの透明電極と異方性導電膜(ACF)により接合する際や、機能的デバイスと半田付け接合する際などに、フィルムキャリアがわずかにずれて接合部分がわずかにソルダーレジスト層にかかってしまうと、ソルダーレジスト層の厚さによって接合が阻害されるという問題が生ずることがわかった。すなわち、配線パターンを保護するというソルダーレジスト層本来の目的からすれば、ソルダーレジスト層は全体に均一で厚く形成することが望ましいが、ボンディングの際の位置合わせ誤差を考慮すると、端子近傍ではソルダーレジスト層の厚さは薄いことが望ましい。このように端子近傍のソルダーレジスト層の塗布厚を薄くして、他の部分のソルダーレジスト層の塗布厚を厚くするために、最初に薄いソルダーレジスト層を形成し、次いで、端子近傍をマスクしたスクリーンマスクを用いて中心部分にソルダーレジスト塗布液をさらに塗布する方法があるが、この方法ではソルダーレジスト塗布液を2回塗布する必要があり、生産性に劣るという問題がある。さらに、ソルダーレジスト層を一度しか塗布していない端子部分近傍と、二度塗りした部分の境目に段差が形成されてしまい、フィルムキャリアの折り曲げ時に応力が集中し、配線が断線してしまうことがあり、また、折り曲げ自体が困難になることがあった。
【0006】
なお、特許文献1(特開平6-171253号公報)には、紗と乳液からなるスクリーン版において、インクが通過するメッシュの少なくとも一箇所の部分の紗の一部を除去したことを特徴とするスクリーン版の発明およびこのスクリーン版を用いたフィルムキャリアの製造方法が開示されている。
【0007】
このように紗の一部を除去したスクリーン版を用いることにより、塗布されるソルダーレジストインクに濃淡を形成することが可能であるが、このように紗の一部を除去することにより、スクリーン版の耐久性が低下するという新たな問題を生ずる。
【0008】
【特許文献1】
特開平6-171253号公報
【0009】
【発明の目的】
本発明は、接続不良の発生を低減した電子部品実装用フィルムキャリアテープを提供することを目的としている。
【0010】
さらに、本発明は、接続不良の発生を低減することができる電子部品実装用フィルムキャリアテープを製造する方法を提供することを目的としている。
【0011】
また、本発明は、上記のようなフィルムキャリアテープを製造する際に使用されるスクリーンを提供することを目的としている。
【0012】
【発明の概要】
本発明の電子部品実装用フィルムキャリアテープは、絶縁フィルム表面に配線パターンが形成され、該配線パターンの接続端子部分を残してソルダーレジスト層が形成された電子部品実装用フィルムキャリアテープにおいて、該ソルダーレジスト層の縁部におけるソルダーレジスト塗布厚が、ソルダーレジスト層の縁部から100〜2000μmの範囲内の幅で、縁部先端に向かって連続的に減少することを特徴としている。
【0013】
本発明の電子部品実装用フィルムキャリアテープは、絶縁フィルム表面に所望の配線パターンを形成した後、該配線パターンの端子部分を残してソルダーレジスト層を塗設する際に、ソルダーレジストを塗布するスクリーンの開口部の縁部のメッシュ幅を、100〜2000μmの範囲内の幅で、段階的にあるいは連続的に減少させたスクリーンを用いて、ソルダーレジスト塗布液を塗布することにより製造することができる。
【0015】
このように本発明の電子部品実装用フィルムキャリアテープでは、端子部分近傍に塗設されているソルダーレジスト層が縁部に向かって塗布厚さが連続的に減少するように形成されているので、ソルダーレジスト層の厚さによってフィルムキャリアと液晶パネルなどの電子機器との電気的接続が損なわれることがない。
【0016】
【発明の具体的説明】
次に本発明の電子部品実装用フィルムキャリアテープおよびその製造方法、ならびに、本発明で使用されるソルダーレジスト塗布用スクリーンについて具体的に説明する。
【0017】
図1は、本発明の電子部品実装用フィルムキャリアテープの製造工程を、各工程におけるフィルムキャリアの断面を用いて説明する断面図であり、図2は、端子部分の断面を拡大して示す断面図である。また、図3は、本発明で使用するスクリーンを模式的に示す図であり、図4は、図3におけるA-A断面を模式的に示す断面図であり、図5は、塗布液透過部の縁部の紗の状態を図である。
【0018】
本発明の電子部品実装用フィルムキャリアテープは、図1(f)に示すように、絶縁フィルム10の表面に導電性金属箔12からなる配線パターン17が形成されており、この配線パターン17の端部にはメッキ層22を有する接続端子18が形成されている。この接続端子18を除いて、本発明の電子部品実装用フィルムキャアリアテープには、配線パターン17を保護するようにソルダーレジスト層20が形成されている。そして、接続端子18を除く配線パターン17上に形成されているソルダーレジスト層20は、接続端子18に向かう縁部が他の部分よりも薄くなるように形成されており、しかも縁部に向かってソルダーレジスト層の塗布厚さが連続的に薄くなるソルダーレジスト傾斜部21が形成されている。
【0019】
このような本発明の電子部品実装用フィルムキャリアテープは、次のようにして製造することができる。
【0020】
図1(a)に示すように、本発明の電子部品実装用フィルムキャリアテープは、絶縁フィルム10の導電性金属層12が形成された複合積層体を使用して形成される。ここで、絶縁フィルム10としては、耐熱性、耐薬品性、湿熱安定性などに優れた合成樹脂フィルムを使用することができる。このような合成樹脂フィルムとしては、ポリイミドフィルム、ポリアミドイミドフィルム、耐熱性ポリエステルフィルム、BTレジンフィルム、フェノール樹脂フィルム、液晶ポリマーフィルムなどを使用することができるが、本発明では卓越した耐熱性、耐薬品性、湿熱安定性特を示すポリイミドフィルムを使用することが好ましい。このようなポリイミドフィルムなどの絶縁フィルム10の少なくとも一方の表面には導電性金属層12が形成されている。ここで使用される導電性金属としては、銅、アルミニウムなどである。この導電性金属層12は、絶縁フィルム10の表面に直接配置されていてもよいし、絶縁フィルム10の表面に接着剤を介して導電性金属箔を貼着することにより形成されたものであってもよい。さらに、本発明では絶縁フィルムの表面にニッケル、クロムなどの金属をスパッタリングし、さらに銅などの金属をスパッタリングした後、メッキ処理により導電性金属を析出させて導電性金属層を絶縁フィルムの表面に直接析出させた複合積層体を使用することもできる。また、絶縁フィルムを形成する樹脂中に金属微粒子を配合して金属微粒子を含有する絶縁フィルムを形成し、この絶縁フィルムを表面処理して含有される金属微粒子を露出させてこの金属微粒子を種粒子としてメッキ技術を利用して導電性金属を析出させて導電性金属層を形成した複合積層体を使用することもできる。
【0021】
上記のような本発明で使用される絶縁フィルムの厚さは、通常は5〜150μm、好ましくは5〜125μmでの範囲内にあり、また導電性金属層の厚さは、通常は1〜35μm、好ましくは8〜35μmの範囲内にある。なお、ここで使用される導電性金属としては、銅が好適に使用される。ここで導電性金属層を形成するのに使用可能は銅箔には、電解銅箔および圧延銅箔があるが、エッチングにより配線パターンを形成する場合には、電解銅箔を使用することが好ましい。
【0022】
なお、本発明においては、導電性金属層12は、絶縁フィルム10の一方の表面に形成されていてもよく、また絶縁フィルム10の両面に形成されていてもよい。また、絶縁フィルム10の幅方向の両縁部には、このフィルムを搬送するためにスプロケットホール14が形成されているが、図1(a)には、スプロケットホール14を形成する絶縁フィルム10の幅方向の縁部には導電性金属層が形成されていないが、絶縁フィルム10の幅いっぱいに導電性金属層12を形成してもよい。この場合に、スプロケットホール14は、通常は導電性金属層12を形成した後、例えばパンチングにより、導電性金属層12と絶縁フィルム10とを一体にして打ち抜くことにより、スプロケットホール14を形成する。このようにスプロケットホール14にまで導電性金属層12を形成することにより、スプロケットホール14が導電性金属層12によって補強されるので、絶縁フィルム10として薄いポリイミドフィルムなどを使用した場合でもスプロケットホール14が変形、破損することを防止することができる。
【0023】
本発明では、上記のようにして絶縁フィルム10の少なくとも一方の表面に配置された導電性金属層12の表面に、図1(b)に示すように、フォトレジストを塗布してフォトレジスト層15を形成し、このフォトレジスト層を露光・現像することにより、図1(c)に示すように、フォトレジストからなる所望のパターン16を形成する。そして、図1(d)に示すように、このフォトレジストからなる所望のパターンをマスキング材として、絶縁フィルム10表面の導電性金属層12をエッチングして、形成したパターン16に対応した形態の配線パターン17を形成する。このようにして形成された配線パターン17の端部は、電子部品の端子(図示なし)、他の部材の端子と接合する端子18である。
【0024】
上記のようにして形成された配線パターン17は、端子18部分を残してソルダーレジスト層20が形成され、配線パターン17の端子18部分を除く配線は、ソルダーレジスト層20により保護される。
【0025】
配線パターン17の保護という点からすれば、このソルダーレジスト層20の厚さは、通常は1〜75μmの範囲内、好ましくは10〜55μmの範囲内にある。ソルダーレジスト層20の厚さを上記のようにすることにより、次の工程であるメッキ工程で、メッキ液がソルダーレジスト層20の下面に浸入することがなく、配線パターン間の絶縁状態が確実に確保される。ところがこのような電子部品実装用フィルムキャリアテープに電子部品を実装する際、あるいは、電子部品が実装されたフィルムキャリアテープを例えば液晶素子の駆動用に接合する場合などにおいては、端子18部分のソルダーレジスト層20の厚さを薄くすることにより、電子部品の実装、あるいは、端子の接合をより確実に行うことができるようになる。
【0026】
そこで、本発明では、確実に保護されるべき部分の配線パターン17は、従来のソルダーレジスト層と同様に、1〜75μmの範囲内、さらには10〜55μmの範囲内に所定厚さのソルダーレジスト層を形成し、他方、端子18近傍にはソルダーレジスト層の傾斜部21を形成する。すなわち、本発明の電子部品実装用フィルムキャリアテープを形成するソルダーレジスト層は、配線パターン17の端部の形成されている端子18部分近傍のソルダーレジスト層の縁部が、端子18方向に連続的にその塗布厚が減少するように形成されている。図2は、この端子18近傍において、ソルダーレジスト層20の縁部における塗布厚さが、端子18に近づくにしたがって連続的に減衰している状態を示す本発明の電子部品実装用フィルムキャリアテープの部分断面の電子顕微鏡写真をトレースした断面図である。この図2および電子顕微鏡写真に示されるように、ソルダーレジスト層20の縁部は、端子18方向に向かった連続的にその塗布厚が減少するソルダーレジスト層の傾斜部21を形成している。この傾斜部21の幅は、このフィルムキャリアの電気的接合が確実に行えるように、この傾斜部21の幅Hは、100〜2000μm、好ましくは300〜2000μm、さらに好ましくは400〜1000μmである。
【0027】
このようなソルダーレジスト層20の縁部に形成される傾斜部21は、ソルダーレジスト塗布用スクリーンを用いて、ソルダーレジスト塗布液の一度塗りにより形成する。
【0028】
本発明で使用するソルダーレジスト塗布用スクリーンは、図3、図4に示されるように、枠体30と、この枠体30内に張設された紗32から形成されており、この紗32の表面に例えば感光性樹脂を塗布し、露光・現像することにより、マスキングがされていない塗布液透過部32を形成する。この塗布液透過部32は、ソルダーレジスト塗布液が通過して、配線パターンの所定の位置にソルダーレジスト層を形成する。他方、この塗布液透過部32が形成されていない紗32の表面は、硬化した感光性樹脂などによってマスキング部分31が形成されており、このマスキング部分31は、ソルダーレジスト塗布液は通過しない。
【0029】
本発明の電子部品実装用フィルムキャリアテープは、端子部分に形成されたソルダーレジスト層20の縁部には、ソルダーレジスト層の傾斜部21が形成されており、ここでソルダーレジスト層20の縁部に形成された傾斜部21の部分の紗の目開を段階的あるいは連続的に変化させることにより、ソルダーレジスト層の傾斜部21を形成することができる。
【0030】
このようなソルダーレジスト塗布用スクリーンにおいて、紗は、金属細線、合成繊維糸などで形成されているが、ソルダーレジスト塗布液が通過する目開を段階的あるいは連続的に小さくすることにより、上記のようなソルダーレジスト塗布液の塗布量を、図2に示すように、傾斜するような量で塗布することができる。
【0031】
このような電子部品実装用フィルムキャリアテープの端子に最も近い部分の紗が露出させるように保護樹脂を塗布し、紗を形成するステンレス細線の表面に例えばメッキ処理を行い、この部分のステンレス細線からなる紗の目開を減少させる。次いで、ここで使用した保護樹脂を除去し、上記露出させてメッキ処理した部分およびその外側も露出するように保護樹脂を塗布して、再びメッキ処理を行い、最初にメッキ処理した部分および今回露出した部分をメッキ処理して、これらの部分のステンレス細線にメッキ処理を施して、紗の目開を減少させる。さらにこのようにして二回目のメッキ処理を行った後、同様に保護フィルムを除去し、同様にして保護樹脂を除去し、さらにその外側に同様にして保護樹脂を塗布してメッキ処理を行い紗のステンレス細線にメッキ層を形成する。上記のようステンレス細線の段階的なメッキを繰り返すことにより、紗の目開を調整することができる。例えば約100μmの目開を有する紗を通常は1〜5回繰り返すことにより、この紗の目開は約50μm程度になり、メッキ条件にもよるが、一回のメッキ処理により、目開は、通常は10〜50μm程度減少する。
【0032】
上記のようにして、最も目開の狭い部分の紗の目開を、通常は30〜70μm、好ましくは30〜50μmの範囲内になり、このように紗の目開が調整された部分の幅が100〜2000μm、好ましくは200〜1000μmになるように上記のような操作を繰り返す。
【0033】
このようにして形成されたスクリーンは図3に示すように、端子部分に近い部分のソルダーレジスト層が傾斜部を形成するように紗の目が詰まっている。
【0034】
図4は、上記のようにして形成されたスクリーンのA-A断面図であり、図5は、このスクリーンのマスキング33近傍の紗32を形成するステンレス細線の状態および目開の状態を模式的に示す図である。
【0035】
図5には、ステンレスメッシュサイズが150メッシュの紗32を形成するステンレス細線の太さは60μmであり、この目開は約109μmである。本発明で使用するスクリーンは、例えば図5に示すように、傾斜部21に対応する部分の紗32を露出させてメッキ処理を行い、さらに、上記にようにマスキングをしながらメッキ処理を行うという操作を繰り返すことにより、マスキング33に近づくにしたがって、ステンレス細線の線径が太くなり、これとは逆に目開は小さくなる。例えば図5に示す例では、ステンレス細線35-9、35-10、35-11、35-12は、通常のステンレスメッシュ(例えばメッシュサイズ150メッシュ)を形成するステンレス細線であり、その線径は、60μmであり、目開きm9、m10、m11は、109μmである。しかしながら、ステンレス細線35-8は、35-9よりもステンレス細線の線径が太くなるようにステンレス細線35-8の表面にニッケルメッキ層が形成されており、ステンレス細線35-7は、35-8よりもニッケルメッキ層が厚く形成されており、同様に35-6、35-5、35-4、35-3、35-2、35-1の順にニッケルメッキ層の厚さを厚く形成する。したがって、マスキング33に近づくにつれて、ステンレス細線の線径は太くなるようにする。そして、このようにメッキにより線径を段階的に変えたステンレス細線を一定の幅で配置した紗32を用いることにより、目開きm8からマスキング33に向かって次第に狭くなり、図5においては、目開m1が最も狭くなる。なお、上記の図5は、ステンレス細線35を中心に説明してきたが、このステンレス細線35と共に紗32を形成する他方のステンレス細線36についても、上記と同様にメッキされる。
【0036】
このように紗を多段階でメッキしてステンレス細線をメッキ処理して、これらのメッキ処理されたステンレス細線によって目開が段階的あるいは連続的に減少したスクリーンを使用することにより、ソルダーレジスト層の端子部において、傾斜部21を有するソルダーレジスト層20を形成することができる。
【0037】
ところで、スクリーンを形成する方法として、直接法、間接法、直間法により形成することができ、上記のようなメッキ法を利用してスクリーンを形成する他に、これらの直接法、間接法、直間法に利用して、本発明の電子部品実装用フィルムキャリアテープを製造することができる。
【0038】
一般に電子部品実装用フィルムキャリアテープのスクリーンにおいて、マスキング33を形成する方法として、直接法、間接法、直間法のいずれの方法で形成することができる。ここで直接法は、紗32に、感光性樹脂を塗布し乾燥させ、その後、この感光性樹脂塗布層の表面に所望の形状に付形したフィルムを密着させて、感光性樹脂塗布層に紫外線を照射して露光・現像して、塗布液透過部34の部分の感光性樹脂を洗い流すことにより、マスキング33を形成する方法である。また、間接法は、フィルムベースの上に感光性樹脂を塗布し、露光・現像して予定のパターンを形成し、このパターンを紗32の表面に転写する方法である。さらに、直間法は、直接法と間接法とを組み合わせた方法であり、予めフィルム状に成型された感光膜を溶剤あるいは接着剤を用いて紗32に貼り付ける方法である。
【0039】
このようにして紗32自体の目開(オープニング)を変えることにより、紗の表面をスキージーを移動させてソルダーレジスト塗布液をかきおとすことにより、紗の目開に応じて塗布するソルダーレジスト塗布液の量が変化し、本発明の電子部品実装用フィルムキャリアテープにおけるように端子18近傍のソルダーレジスト層の厚さを端子18に向かって連続的に減少させることができる。
【0040】
上記のようにしてスクリーンの紗の目開を調整することにより、本発明の電子部品実装用フィルムキャリアテープの端子部分18に接するソルダーレジスト層20の縁に傾斜部21を形成することができるが、本発明の電子部品実装用フィルムキャリアテープは、このような方法に限らず、他の方法でソルダーレジスト層20の縁部に傾斜部21を形成することもできる。
【0041】
例えば、通常使用されているスクリーンを使用し、ソルダーレジスト層20の縁に形成される傾斜部に当接する部分の紗に供給するソルダーレジスト塗布液の量を段階的に減少させることにより、紗を通過するソルダーレジスト塗布液を連続的に減少させてソルダーレジスト層20の傾斜部21を形成することができる。この方法では、例えばマスキング33から塗布液透過部34にいたるソルダーレジスト層20の傾斜部21に当接する紗32の表面に感光性樹脂からなるマスキングを形成するが、この部分のマスキングを図6に示すように、メッシュ状マスキング37にする。しかも、塗布液透過部34に近づくにつれて、そのメッシュの目開38を大きくすることにより、紗32の表面に供給されるソルダーレジスト塗布液の量が多くなるようにする。このような方法で使用されるスクリーンの紗の目開は全体に均一であるから、この紗の表面に供給されるソルダーレジスト塗布液の量の上記のように制御することにより、ソルダーレジスト層20の縁部に傾斜部21を形成することができる。
【0042】
さらに、間接法あるいは直間法により、テープあるいはメッシュを形成し、ソルダーレジスト塗布液の供給量を制御できるように、紗の表面に貼着することにより、紗を透過するソルダーレジスト塗布液の量が、本発明の電子部品実装用フルムキャリアテープにおける傾斜部を有するソルダーレジスト層を形成することができる。
【0043】
本発明の電子部品実装用フィルムキャリアテープは、上記詳述のように端子部分におけるソルダーレジスト層が傾斜部を形成しているが、上記のような傾斜部以外のソルダーレジスト層の厚さは、通常は20〜75μm、好ましくは25〜55μmの範囲内にある。このようにソルダーレジスト層を形成することにより、形成された配線パターンは確実に保護することができる。また、傾斜部においても、配線パターンを良好に保護することができる。
【0044】
上記のようにして塗布されたソルダーレジスト塗布液は、有機溶媒を含有する高粘度塗布液であり、紗を形成する細線の線径などに起因する塗布面の微小な凹凸はこのソルダーレジスト塗布液が硬化までの間に均一化される。
【0045】
このようにして塗布されたソルダーレジスト層塗布液中に含有される樹脂は、通常は熱硬化性樹脂であり、上記のようにソルダーレジスト塗布液を塗布した後、溶剤を除去し、さらに加熱することにより硬化させることができる。
【0046】
このようにしてソルダーレジスト層を形成した後、図1(f)に示すように、ソルダーレジスト層から露出している端子部分にメッキ層22を形成する。
【0047】
ここで形成されるメッキ層22の例としては、スズメッキ層、金メッキ層、ニッケルメッキ層、ニッケル-金メッキ槽、ハンダメッキ層、亜鉛メッキ層、スズ−ビスマスメッキ層などを挙げることができる。このようなメッキ層は、無電解メッキ、電解メッキのいずれの方法でも形成することができる。また、このようなメッキ層の厚さは例えばスズメッキの場合、0.1〜1.0μm、好ましくは0.3〜0.6μmの範囲内にある。
【0048】
なお、上記記載では、メッキ層は、ソルダーレジスト層を形成した後にメッキする態様を示したが、ソルダーレジスト層を形成する前に薄いメッキ層を形成し、次いで、ソルダーレジスト層を形成した後、再度メッキ層を形成してもよい。このようにプレメッキをした後、ソルダーレジスト層を形成し、さらに本メッキをすることにより、ソルダーレジスト層の下面にメッキ液が仮に回り込んだとしても、メッキ液による配線パターンの溶出などが防止できる。特にこの方法はスズメッキ層を形成する場合に有用性が高い。
【0049】
さらに本発明の電子部品実装用フィルムキャリアテープは、端子部分のソルダーレジスト層に端子部分に向かって連続的にその厚さが減少する傾斜部を有するので、この端子部分においてソルダーレジスト層の厚さが端子の電気的接合の障害になりえず、したがって、本発明の電子部品実装用フィルムキャリアテープは、電気的接続安定性に優れている。
【0050】
【発明の効果】
本発明の電子部品実装用フィルムキャリアテープは、端子部分がわずかにずれてこの端子に電気的に接合する電極の一部がソルダーレジスト層上にかかってしまった場合であっても、端子の近傍の形成されているソルダーレジスト層が傾斜部を形成して薄くされているので、ソルダーレジスト層の厚さによって、端部の接合が損なわれることがないので、充分な接続信頼性を確保することができる。
【0051】
しかも、このような傾斜部を有するソルダーレジスト層を一回のソルダーレジスト塗布液の塗布工程で形成することができるので、たいへん優れた生産性を有している。
【0052】
このような電子部品実装用フィルムキャリアテープを製造するために好適に使用されるソルダーレジスト塗布用スクリーンは、紗を通過するソルダーレジスト塗布液の量を、紗を形成する金属細線をメッキ処理することにより紗の目開を調整することによって制御するものであり、このようなソルダーレジスト塗布用スクリーンを用いることにより、本発明の電子部品実装用フィルムキャリアテープを効率よく製造することができる。
【0053】
【実施例】
次に本発明の電子部品実装用フィルムキャリテープ、その製造方法、および、ソルダーレジスト塗布用スクリーンについて実施例を示して具体的に説明するが、本発明はこれらにより限定されるものではない。
【0054】
【実施例1】
線径60μmのステンレス細線を用いてメッシュサイズ150メッシュのスクリーンをアルミニウム製枠体に張設してソルダーレジスト塗布用スクリーンを製造した。
【0055】
このようなスクリーンに感光性樹脂を塗布して所定のパターンに露光・現像してソルダーレジスト塗布液を塗布するための塗布液透過部を形成した。
【0056】
次いで、リードが形成される部分の塗布液透過部の縁から170μmの幅をマスキングして樹脂液透過部を樹脂被覆した。被覆樹脂を硬化させた後、マスキングを除去し、次いで、このスクリーンを無電解ニッケルメッキ液に浸漬して、マスキングされていた幅170μmの部分にある線径60μmのステンレス細線の周囲にニッケルメッキ層を形成した。
【0057】
こうしてマスキングされていた幅170μmの部分にあるステンレス細線の周囲に1回目のニッケルメッキ層を形成した後、このスクリーンをメッキ液から引き上げて塗布液透過部の樹脂被覆を除去した。
【0058】
次いで、このスクリーンのリードが形成される部分の塗布液透過部の縁から340μmの幅(170μm×2=340μm)をマスキングして樹脂液透過部を樹脂被覆した。被覆樹脂を硬化させた後、マスキングを除去し、スクリーンを無電解ニッケルメッキ液に浸漬して、マスキングされていた幅340μmの部分にあるステンレス細線の周囲にニッケルメッキ層を形成した。したがって、ソルダーレジスト塗布液を塗布するための塗布液透過部から170μmの幅のスクリーン細線は2度ニッケルメッキされており、この奥の170μmの幅のスクリーン細線は、1度ニッケルメッキされている。
【0059】
上記のようにしてマスキングされていた幅340μmの部分にあるステンレス細線の周囲にニッケルメッキ層を形成した後、このスクリーンをメッキ液から引き上げて塗布液透過部の樹脂被覆を除去した。
【0060】
さらに、このスクリーンのリードが形成される部分の塗布液透過部の縁から約500μm(170μm×3=510μm)の幅をマスキングして樹脂液透過部を樹脂被覆した。被覆樹脂を硬化させた後、マスキングを除去し、スクリーンを無電解ニッケルメッキ液に浸漬して、マスキングされていた幅約500μmの部分にあるステンレス細線の周囲にニッケルメッキ層を形成した。したがって、ソルダーレジスト塗布液を塗布するための塗布液透過部から170μmの幅のスクリーン細線は3度ニッケルメッキされており、この奥の170μmの幅のスクリーン細線は、2度ニッケルメッキされており、さらにこの奥の約170μmの幅のスクリーン細線は、1度ニッケルメッキされている。
【0061】
上記のようにしてマスキングされていた幅約500μmの部分にあるステンレス細線の周囲にニッケルメッキ層を形成した後、このスクリーンをメッキ液から引き上げて塗布液透過部の樹脂被覆を除去した。
【0062】
このようにして段階的に3回のニッケルメッキ処理を行うことにより、塗布液透過部を形成する硬化した感光性樹脂の縁から170μmの幅にあるステンレス細線は3回ニッケルメッキされており、この部分の目開きは50μmであり、樹脂液透過部の中心部分に向かうにしたがって、その目開きは段階的に大きくなり、被覆樹脂により保護されてメッキ処理されていない部分の目開きは、109μmであった。
【0063】
上記のようにニッケルメッキ処理したスクリーンの状態を図3に模式的に示す。付番32が塗布液透過部であり、図2に付番18で示す端子部分であるアウターリードは、2.0mm露出しており、この露出したアウターリードの後端部からソルダーレジスト傾斜部分21(長さ約500μm)によって配線パターン17が被覆されており、さらにこのソルダーレジスト傾斜部分21(長さ約500μm)に続いて配線パターン17は厚さ44μmのソルダーレジスト層20で被覆されるようになる。すなわち、上記のようにして製造されたソルダーレジスト塗布用スクリーンによってソルダーレジスト塗布液を塗布する電子部品実装用フィルムキャリアテープを製造した。
【0064】
具体的には、図1(a)に示すように、平均厚さ50μmのポリイミドフィルムの一方の面に平均厚さ25μmの銅層が積層された複合フィルムの銅層の表面に、図1(b)に示すように、フォトレジストを塗布し、図1(c)に示すように、このフォトレジストを露光・現像することにより、硬化したフォトレジストからなるパターンを形成した。
【0065】
このようにしてパターンを形成した後、図1(d)に示すように、上記のようにして形成したパターンをマスキング材として、銅層をエッチングして配線パターンを形成した。このようにして形成された配線パターンの両端部は接合端子である。
【0066】
次いで、このようにして形成した配線パターンの上に、図1(e)に示すように、上記のようにして製造したソルダーレジスト塗布用スクリーンを用いてソルダーレジスト塗布液を塗布した。配線パターン上のソルダーレジスト塗布液の塗布厚さ(硬化後の厚さ)は44μmであったが、電子部品実装用フィルムキャリアテープに形成された端子の露出部分(2.0mm)から約500μmは、上述のようにして紗の目開が次第に狭くなり、最終的にはスクリーンに形成されたマスキングの先端部近傍の目開は50μmである。このようなスクリーンを用いることにより端子方向に向かってソルダーレジストの塗布厚が連続的に減少するようにソルダーレジスト塗布液を塗布することができた。
【0067】
その後ソルダーレジストを硬化させた後、この電子部品実装用フィルムキャリアテープを、無電解スズメッキ槽中に連続的に供給して、ソルダーレジスト層から露出した端子部分に平均厚さ0.45μmのスズメッキ層を形成した。
【0068】
上記の電子部品実装用フィルムキャリアテープを用いて実装試験を行ったが、フィルムキャリアのソルダーレジスト層端部と異方性導電膜(ACF)とを重ね試験を行ったが、接合不良による不良品は発生しなかった。
【0069】
なお、従来の電子部品実装用フィルムキャリアテープ(ソルダーレジスト塗布厚が一様に均一で44μmである)では、接合不良による不良品の発生率が1〜20%にも及ぶことがあり、このような高い不良品の発生率では、製品としては供給できない。
【0070】
このように本発明によれば、従来不良品となっていたものであっても、不良品となることはなく、通常の製品と同様に特に問題を生ずることなく使用することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】図1は、本発明の電子部品実装用フィルムキャリアテープの製造工程を、各工程におけるフィルムキャリアの断面の例を用いて説明する断面図である。
【図2】図2は、端子部分の断面の例を拡大して示す断面図である。
【図3】図3は、本発明で使用するスクリーンの例を模式的に示す図である。
【図4】図4は、図3におけるA-A断面を模式的に示す断面図である。
【図5】図5は、塗布液透過部の縁部の紗の状態の例を図である。
【図6】図6は、端子に面するソルダーレジスト層の縁部に位置する紗に供給量を段階的に減少させてソルダーレジスト層の縁部に傾斜部を形成することができるスクリーンの例を模式的に示す図である。
【図7】図7は、従来のソルダーレジスト塗布用スクリーンの例を示す図である。
【符号の説明】
10・・・絶縁フィルム
12・・・導電性金属層
14・・・スプロケットホール
15・・・フォトレジスト層
17・・・配線パターン
18・・・端子部分
20・・・ソルダーレジスト層
21・・・ソルダーレジスト傾斜部分
22・・・メッキ層
30・・・枠体
31・・・塗布液透過部が形成されていない部分(マスキング)
32・・・紗
33・・・マスキング
34・・・塗布液透過部
35・・・ステンレス細線
36・・・他方のステンレス細線
101・・・枠体
102・・・紗
103・・・塗布液透過部
104・・・塗布液透過部が形成されていない部分(マスキング部分)
Claims (3)
- 絶縁フィルム表面に配線パターンが形成され、該配線パターンの接続端子部分を残してソルダーレジスト層が形成された電子部品実装用フィルムキャリアテープにおいて、該ソルダーレジスト層の縁部におけるソルダーレジスト塗布厚が、ソルダーレジスト層の縁部から100〜2000μmの範囲内の幅で、縁部先端に向かって連続的に減少することを特徴とする電子部品実装用フィルムキャリアテープ。
- 絶縁フィルム表面に所望の配線パターンを形成した後、該配線パターンの端子部分を残してソルダーレジスト層を塗設する際に、ソルダーレジストを塗布するスクリーンの開口部の縁部のメッシュ目開を、100〜2000μmの範囲内の幅で、段階的あるいは連続的に減少させたスクリーンを用いることを特徴とする電子部品実装用フィルムキャリアテープの製造方法。
- 上記スクリーンの紗が金属細線で形成されており、該最も目開の狭い部分の紗の目開が、30〜70μmの範囲にあることを特徴とする請求項第2項記載の電子部品実装用フィルムキャリアテープの製造方法。
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